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JPS6143795B2 - - Google Patents
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JPS6143795B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6143795B2
JPS6143795B2 JP59010094A JP1009484A JPS6143795B2 JP S6143795 B2 JPS6143795 B2 JP S6143795B2 JP 59010094 A JP59010094 A JP 59010094A JP 1009484 A JP1009484 A JP 1009484A JP S6143795 B2 JPS6143795 B2 JP S6143795B2
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JP
Japan
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word line
circuit
voltage
current
selection
Prior art date
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Application number
JP59010094A
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Japanese (ja)
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JPS59188884A (en
Inventor
Noryuki Honma
Kunihiko Yamaguchi
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS59188884A publication Critical patent/JPS59188884A/en
Publication of JPS6143795B2 publication Critical patent/JPS6143795B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体回路の駆動回路方式に関する。
本発明は、複数個の負荷半導体回路を駆動する駆
動回路の高速化に適用されるものであるが、以下
説明を簡単にするため、特に典型的なメモリ回路
について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a driving circuit system for a semiconductor circuit.
The present invention is applied to increase the speed of a drive circuit that drives a plurality of load semiconductor circuits, but in order to simplify the explanation below, a typical memory circuit will be particularly described.

〔発明の背景〕 従来、フリツプフロツプ型のメモリセルを用い
たバイポーラメモリでは、第1図のような回路構
成をとる例が多い。(例えば、社団法人、日本電
子工業振興協会発行「集積回路(IC技術解説、
内外ICの構造と特性)」資料番号47−M−82)。
[Background of the Invention] Conventionally, bipolar memories using flip-flop type memory cells often have a circuit configuration as shown in FIG. (For example, "Integrated Circuits (IC Technology Explanation)" published by the Japan Electronics Industry Promotion Association,
Structure and Characteristics of Domestic and Foreign ICs)” Material No. 47-M-82).

まず、従来型のメモリセルのマトリクスの動作
を第1図について簡単に説明する。なお同図は、
メモリセルのマトリクスのうちの2行2列を示し
ている。また第2図に、第1図における語線X
0,X1、読出基準電圧端子R、書込信号線W
1,W0、桁選択線Y0,Y1およびメモリセル
のコレクタ電圧の高低の関係を示す。
First, the operation of a conventional memory cell matrix will be briefly described with reference to FIG. In addition, the same figure is
Two rows and two columns of a matrix of memory cells are shown. In addition, Figure 2 shows the word line X in Figure 1.
0, X1, read reference voltage terminal R, write signal line W
1, W0, digit selection lines Y0, Y1, and the relationship between the collector voltages of the memory cells.

ここで、語線X0,X1の電圧は、選択された
語線ではVXH(VXHは第2図に示す電圧レベルを
表わす。以下同様)、非選択の語線ではVXLとな
る。これらの電圧レベルは読出時、書込時とも同
一である。また、読出基準電圧端子Rの電圧は、
読出時にはVRH、書込時はVRLとなる。書込信号
線W1,W0の電圧は、読出時にはVWL、書込時
には書込情報が「1」か「0」かにしたがつて、
W1またはW0のいずれか片方がWWHに、片方が
WLとなる。さらに桁選択線Y0,Y1は、選択
された桁線に対してはVYL、非選択の桁線に対し
てはVYHとなるように駆動される。桁選択線のこ
れらの電圧レベルは読出時、書込み時とも同一で
ある。
Here, the voltages of the word lines X0 and X1 are V XH (V XH represents the voltage level shown in FIG. 2; the same applies hereinafter) for the selected word line, and V XL for the unselected word line. These voltage levels are the same during reading and writing. Moreover, the voltage of the read reference voltage terminal R is
When reading, it becomes V RH and when writing, it becomes V RL . The voltages of the write signal lines W1 and W0 are V WL during reading, and depending on whether the written information is "1" or "0" during writing,
Either W1 or W0 becomes WWH , and the other becomes WWL . Furthermore, the digit selection lines Y0 and Y1 are driven to be V YL for selected digit lines and V YH for unselected digit lines. These voltage levels of the digit selection lines are the same during reading and writing.

この場合、メモリセルC0〜C3はそれぞれ交差
結合された2つのトランジスタで構成されてお
り、一方がオン、他方がオフとなつて情報が貯え
られる。メモリセルのオフ側のトランジスタのコ
レクタ電圧VC1、すなわちオン側のトランジスタ
のベース電圧はほぼ語線X0,X1の電圧に等し
く、VXHまたはVXLとなる。また、メモリセルの
オン側のトランジスタのコレクタ電圧VC1、すな
わちオフ側のトランジスタのベース電圧は、語線
X0,X1の電圧から、オンになつているトラン
ジスタに流れる電流Icとコレクタの抵抗RL00
たはRL01等による電圧降下△VN(語線非選択
時)、△VS(語線選択時)だけ低い電圧となつて
いる。
In this case, each of the memory cells C 0 to C 3 is composed of two cross-coupled transistors, and information is stored when one is turned on and the other is turned off. The collector voltage V C1 of the off-side transistor of the memory cell, ie, the base voltage of the on-side transistor, is approximately equal to the voltage of the word lines X0, X1, which is V XH or V XL . In addition, the collector voltage V C1 of the transistor on the on side of the memory cell, that is, the base voltage of the transistor on the off side, is calculated from the voltage of the word lines X0 and X1 by the current I c flowing through the transistor that is on, and the collector resistance R. The voltage is lower by the voltage drop △V N (when word line is not selected) and △V S (when word line is selected) due to L00 or R L01 , etc.

メモリセルの情報の読出は次のようにして行な
う。いま、語線X0がVXH,X1がVXL、桁選択
線Y0がVYL,Y1がVYHにあるとすると、メモ
リセルはC0のみが選択状態にあり、残りのメモ
リセルは非選択状態にある。また、選択状態にあ
るメモリセルC0では、例えばQ00がオン、Q01
オフとなつて情報「0」が貯えられているものと
する。
Reading of information from memory cells is performed as follows. Now, assuming that word line X0 is at V XH , X1 is at V XL , digit selection line Y0 is at V YL , and Y1 is at V YH , only memory cell C0 is in the selected state, and the remaining memory cells are in the unselected state. in a state. Further, it is assumed that in the memory cell C 0 in the selected state, for example, Q 00 is on, Q 01 is off, and information "0" is stored.

電流源QR00を流れる電流QR00は、桁線D00に接
続されているトランジスタのいずれかから流れ
る。この場合、桁線D00に接続されているトラン
ジスタはQ00,Q10,Qref00,QW00,QY00であ
り、それらのベース電圧はそれぞれVXH,VXL
(またはVXL−△VN)、VRH,VWL,VYLで、こ
れらのうち最も高い電圧は、第2図に示すように
XHであるため、IR00はQ00より流れる。したが
つて、Qref00はオフとなり、Qref00のコレクタは
高電位(アース電位)となる。
The current Q R00 flowing through the current source Q R00 flows from one of the transistors connected to the digit line D 00 . In this case, the transistors connected to the digit line D 00 are Q 00 , Q 10 , Q ref00 , Q W00 , and Q Y00 , and their base voltages are V XH and V XL , respectively.
(or V XL -ΔV N ), V RH , V WL , and V YL , and the highest voltage among these is V XH as shown in FIG. 2, so I R00 flows from Q 00 . Therefore, Q ref00 is turned off, and the collector of Q ref00 is at a high potential (earth potential).

一方、QR01を流れる電流IR01は、桁線D01に接
続されているトランジスタQ01,Q11,Qref01,Q
W01,QR01のいずれかにより流れることになる
が、各トランジスタのベース電圧は、VXH−△V
S,VXL(またはVXL−△VN)、VRH,VWL,VY
であり、これらのうち最も高い電圧は第2図に
示すようにVRHである。従つて、このときはIR0
はQref01より流れる。よつて、Qref01のコレクタ
電圧は低電位(約、−IR01×RS01)となる。
On the other hand, the current I R01 flowing through Q R01 is the transistor Q 01 , Q 11 , Q ref01 , Q
The current will flow due to either W01 or Q R01 , and the base voltage of each transistor is V XH −△V
S , V XL (or V XL -△V N ), V RH , V WL , V Y
The highest voltage among these is V RH as shown in FIG . Therefore, at this time I R0
1 flows from Q ref01 . Therefore, the collector voltage of Q ref01 becomes a low potential (approximately -I R01 ×R S01 ).

さらにメモリセルC0の情報が「1」、すなわち
Q00がオフでQ01がオンのときは、Qref00のコレク
タ低電位となり、Qref001のコレクタが高電位と
なる。このように、メモリセルC0の情報は、ト
ランジスタQref00,Qref01のコレクタ電圧として
読出される。
Furthermore, the information of memory cell C 0 is "1", that is,
When Q 00 is off and Q 01 is on, the collector of Q ref00 has a low potential and the collector of Q ref001 has a high potential. In this way, the information of the memory cell C 0 is read out as the collector voltage of the transistors Q ref00 and Q ref01 .

一方、非選択の桁線D10,D11に対しては、桁選
択線Y1は印加される電位はVXHとなり、他のど
のトランジスタのベース電圧よりも高いので、Q
R10,QR11を流れる電流IR10,IR11はそれぞれQ
Y10,QY11より流れる。したがつて、Qref10,Qre
f11には電流が流れず、これらのトランジスタの
コレクタは共に高電位となり、メモリセルの情報
の読出は行なわれない。
On the other hand, for the unselected digit lines D 10 and D 11 , the potential applied to the digit selection line Y1 is V XH , which is higher than the base voltage of any other transistor, so Q
The currents I R10 and I R11 flowing through R10 and Q R11 are respectively Q
Y10 , Q Flows from Y11 . Therefore, Q ref10 , Q re
No current flows through f11 , the collectors of these transistors both have a high potential, and no information is read from the memory cell.

メモリセルの書込は次のようにして行なわれ
る。いま、桁選択線Y0がVYL,Y1がVYH、語
線X0がVXH、X1がVXLとなり、メモリセル
C0が選択され、このセルに「1」を書込む場合
を考える。このためには書込信号線はW0をWWH
とし、W1をVWLとする。VWHは選択されたメモ
リセルC0の2つのトランジスタのベース電圧よ
りも高く、またVWLは上記のベース電圧よりも低
いから、QR00を流れる電流はメモリセルの情報
の如何にかかわらずQW00から流れ、QR01を流れ
る電流はQ01から流れる。ここで、IRはVstより
も大きく、したがつてトランジスタのオン、オフ
はIRにより決定されるので、メモリセルC0のト
ランジスタQ00がオフ、Q01がオンとなつて
「1」が書込まれる。
Writing to a memory cell is performed as follows. Now, digit selection line Y0 is V YL , Y1 is V YH , word line X0 is V XH , X1 is V XL , and the memory cell
Consider the case where C 0 is selected and "1" is written to this cell. For this purpose, write signal line W0 is W WH
and let W 1 be V WL . Since V WH is higher than the base voltage of the two transistors of the selected memory cell C 0 and V WL is lower than the above base voltage, the current flowing through Q R00 is Q regardless of the information in the memory cell. The current that flows from W00 and flows through Q R01 flows from Q 01 . Here, I R is larger than V st , so the on/off state of the transistor is determined by I R , so the transistor Q 00 of memory cell C 0 is turned off and Q 01 is turned on, resulting in "1". is written.

また、「0」を書込む場合には、W1,W0を
それぞれVWH,VWLとして同様にQ00をオン、
Q11をオフの状態にする。非選択の桁において
は、QY10,QY11のベースがVYHとなつている。
このとき第2図より、VYHは桁線に接続されるト
ランジスタのベース電圧のうちで最も高電位であ
るので、QR10,QR11を流れる電流はそれぞれQY
10,QY11より流れるのでセルの状態は変化しな
い。
In addition, when writing "0", set W1 and W0 to V WH and V WL respectively, and turn on Q 00 in the same way.
Turn Q 11 off. In non-selected digits, the base of Q Y10 and Q Y11 is V YH .
At this time, from Figure 2, V YH is the highest potential among the base voltages of the transistors connected to the digit line, so the currents flowing through Q R10 and Q R11 are respectively Q Y
10 , Q flows from Y11 , so the state of the cell does not change.

ところで、第1図に示したような従来型のセル
では、非選択状態での情報の保持は、例えば、Q
ST0,QST1のような定電流源トランジスタを流れ
る定電流(保持電流Vst)で行なわれる。一方、
読出、書込は、たとえばQR00〜QR11を流れる定
電流(読出・書込電流IR)により行なわれる。
stは全メモリセル(N個)を流れるのに対し、
Rはメモリセル・マトリクスの1辺に対応する
個数(列の個数(α√個)だけ流れればよいの
で、メモリセル・マトリクスに流れる全電流は、 Itptal=NIst+α√IR となる。但し、αはマトリクスの縦横比で定まる
定数(マトリクスが正方形のときは、α=2)で
ある。
By the way, in a conventional cell as shown in FIG.
This is performed using a constant current (holding current V st ) flowing through constant current source transistors such as ST0 and Q ST1 . on the other hand,
Reading and writing are performed, for example, by a constant current (read/write current I R ) flowing through Q R00 to Q R11 .
While I st flows through all memory cells (N),
Since I R only needs to flow in the number corresponding to one side of the memory cell matrix (the number of columns (α√), the total current flowing in the memory cell matrix is I tptal = NI st + α√I R However, α is a constant determined by the aspect ratio of the matrix (when the matrix is square, α=2).

通常、Itptalは、パツケージの放熱の点から上
限が定められているので、メモリのビツト容量N
が大きくなると、Ist,IRは小さくせざるを得
ず、特に、IstはNに逆比例して小さくせざるを
得ない。そのため、語線X0,X1等および保持
電流線Xst0,Xst1等に流れる電流はNが大き
くなるに従つて、約1/√で少なくなる。
Normally, the upper limit of I tptal is set from the viewpoint of heat dissipation of the package, so the bit capacity of the memory N
When N becomes large, I st and I R must be made small, and in particular, I st has no choice but to be made small in inverse proportion to N. Therefore, as N increases, the current flowing through the word lines X0, X1, etc. and the holding current lines X st 0, X st 1, etc. decreases by approximately 1/√.

一方、語線X0等に接続されるメモリセルの個
数は√に比例して増加するので、負荷容量が√
に比例して増大する。その結果、X0,Xst
等の信号の切換わり速度、特に立下り時間は概略
Nに比例して増加する。その1例を第3図に、語
線X0の信号波形をN小の場合とN大の場合に対
して示す。Xst0等のラインも、同様な傾向でN
が大になると信号の立上り、立下りが遅れる。こ
のことが原因で、メモリ回路のアクセス時間が大
きくなつてしまう。
On the other hand, the number of memory cells connected to the word line X0 etc. increases in proportion to √, so the load capacitance increases
increases in proportion to As a result, X0, X st 0
The switching speed, especially the falling time, of such signals increases approximately in proportion to N. An example of this is shown in FIG. 3, which shows the signal waveforms of the word line X0 for the case of N small and for the case of N large. The line of X st 0 etc. has a similar tendency and N
When becomes large, the rising and falling edges of the signal are delayed. This increases the access time of the memory circuit.

この場合立上りの遅れることは、エミツタホロ
ワ・トランジスタのベース抵抗rbb′等の改善
(すなわち、デバイスのレイアウト上の改善)で
行なえる。しかし、立下り側は本質的に電流値I
stとこの補助電流線に接続されている負荷とによ
つて決まるので、電流値を大きくすることが本質
的な解決策となる。
In this case, the delay in rising can be achieved by improving the base resistance r bb ' of the emitter follower transistor (that is, by improving the layout of the device). However, on the falling side, the current value is essentially I
Since it is determined by st and the load connected to this auxiliary current line, the essential solution is to increase the current value.

語線X0の電流増加は、特開昭48−61036号明
細書のように読出し電流IRを増加させることに
よつても行なうことができる。しかし、第1図の
ような回路の場合は、上側の語線X0の立下りを
早くすることは可能であるが、下側の語線Xst
等の立下りを改善することができず、情報破壊に
つながる可能性が強い。
The current in the word line X0 can also be increased by increasing the read current I R as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 48-61036. However, in the case of the circuit shown in FIG. 1, although it is possible to make the upper word line X0 fall faster, the lower word line X st 0
etc. cannot be improved, and there is a strong possibility that this will lead to information destruction.

したがつて語線X0,Xst0等の立下りを改善
する方法は、Istそのものを大きくすることであ
る。しかし、全てのIstを大きくるには、前述し
たように消費電力の点で無理である。この点を解
決する技術は、特開昭50−126335号に述べられて
いるIstの集中技術、すなわち選択された語線に
のみIstを多く流す方法である。この方法を使用
した場合の語線X0の電圧変化の波形を第4図に
示す。ここで、42がその波形を示し、全ての語
線に同一のIstを流した場合の波形41に比べ、
確かに立下りが早くなつている。しかし、立下り
の途中から41と平行になつてしまい、結局あま
り高速化されない。この公知技術は選択された語
線にのみ、かつ、選択時のみIstを流すものであ
り、立下がり時にはIstが集中的に流されていな
いため、立下がりの高速化にはほとんど寄与しな
いことは当然である。
Therefore, the way to improve the falling of the word lines X0, X st 0, etc. is to increase I st itself. However, increasing all I st is impossible in terms of power consumption as described above. A technique for solving this problem is the I st concentration technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 126335/1983, that is, a method of flowing a large amount of I st only to selected word lines. FIG. 4 shows the waveform of the voltage change on the word line X0 when this method is used. Here, 42 shows the waveform, and compared to the waveform 41 when the same I st is applied to all word lines,
It is true that the decline is becoming faster. However, it becomes parallel to 41 from the middle of the fall, and the speed is not increased much after all. This known technique flows I st only to the selected word line and only when selected, and since I st is not flowed intensively at the falling edge, it hardly contributes to speeding up the falling edge. Of course.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、メモリ回路の語線および保持
電流線の立下りを高速化して、メモリ回路のアク
セス時間を短縮することである。
An object of the present invention is to speed up the fall of word lines and holding current lines of a memory circuit, thereby shortening the access time of the memory circuit.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、上記目的を達成するため、選択電圧
を上側語線に印加した後、少なくともその語線を
非選択的に切換えてから上記上側語線の電圧が非
選択電圧になるまでの過渡期間中は上記上側語線
の電流を非選択時よりも大きくする電流印加回路
を設けたものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides at least a transient period after applying a selection voltage to an upper word line and from when the word line is non-selectively switched until the voltage on the upper word line becomes a non-selection voltage. The middle one is provided with a current applying circuit that makes the current in the upper word line larger than when it is not selected.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

次に、実施例を参照しながら本発明を説明す
る。第5図は、本発明の基本概念の説明図で、1
00はメモリセル、110,111は語線であ
る。選択された語線のレベルVXは、前述のよう
に低レベルVXLから高レベルVXHに切換わる。次
いで、VXは選択(VXH)から非選択(VXL)へ
と切換わる。この切換わりを回路101で検出す
る。なお第5図では、この切換わりをVXそのも
のから検出するように描かれているが、後述する
実施例にもあるように、VX発生回路のどこかの
点からの信号で上記切換を検出するようにしても
よい。
Next, the present invention will be explained with reference to examples. FIG. 5 is an explanatory diagram of the basic concept of the present invention.
00 is a memory cell, and 110 and 111 are word lines. The level VX of the selected word line switches from the low level VXL to the high level VXH as described above. V X then switches from selected (V XH ) to non-selected (V XL ). This switching is detected by the circuit 101. Although FIG. 5 shows that this switching is detected from the V It may also be detected.

検出された信号は回路102で適当に遅延ない
しパルス幅を広げられると共に適当なレベルに変
えられ、電流スイツチ回路103に送られる。回
路102の出力は、語線110が完全に保持レベ
ルに落着くまで、その出力レベルを保持する。し
たがつて、電流スイツチ回路103は、少くとも
Xが選択から非選択に切換つた瞬間から、VX
充分低レベルに落着くまでの間、電流を流し続け
る。この電流は、第5図ではIst電流源121と
並列に流れるように図示されているが、回路によ
つては語線110から直接流すようにしてもよ
い。
The detected signal is appropriately delayed or widened in pulse width by circuit 102, changed to an appropriate level, and sent to current switch circuit 103. The output of circuit 102 holds its output level until word line 110 completely settles to the holding level. Therefore, current switch circuit 103 continues to supply current at least from the moment VX switches from selection to non-selection until VX settles to a sufficiently low level. Although this current is shown in FIG. 5 as flowing in parallel with I st current source 121, it may also flow directly from word line 110 in some circuits.

次に第6図は、第5図の概念を実現する本発明
の一実施例である。
Next, FIG. 6 shows an embodiment of the present invention that implements the concept of FIG. 5.

この例では、エミツタホロワQ201が、語線11
0が高レベルにあるかどうかを検出する。この信
号は、抵抗R201による電圧降下で適当なレベルと
なつて、エミツタホロワQ203のベースに印加され
る。Q203のベース電圧は、電流源トランジスタ
Q202のベース電圧VCSおよびエミツタ抵抗R2 02
適当な値にとることにより任意に変えられる。エ
ミツタホロワQ203の出力は電流源トランジスタ
Q204に印加され、このトランジスタをオンにす
る。
In this example, Emitsuta follower Q 201 is word line 11.
Detect whether 0 is at high level. This signal is applied to the base of the emitter follower Q 203 at an appropriate level due to the voltage drop across the resistor R 201 . The base voltage of Q 203 is the current source transistor
It can be changed arbitrarily by setting the base voltage V CS of Q 202 and the emitter resistance R 2 02 to appropriate values. The output of Emitsuta Follower Q 203 is a current source transistor
Q applied to 204 , turning on this transistor.

本実施例では、R203またはR201に適当な値を選
ぶことにより、信号の遅延時間を適当に選ぶこと
ができ、その結果、Q203の出力は、VXが低レベ
ルに切換つた後も適当な時間だけ保持され、その
間Q204に電流が流れ続ける。この電流は、遅延さ
れている間だけは2本の語線に流れる可能性があ
るが、基本的には選択された語線にしか流れない
ので、Istに比べて充分に大きくできる。したが
つて、VXはすばやく立下ることができるように
なる。そのため、第4図で遅延回路を挿入しない
場合には、曲線42で示される程度にしか高速化
されなかつたものが、第6図の回路を使用すると
曲線43で示した波形のように高速化される。
In this embodiment, by choosing an appropriate value for R 203 or R 201 , the signal delay time can be appropriately selected, so that the output of Q 203 remains constant even after V X switches to a low level. It is held for an appropriate amount of time, during which current continues to flow through Q 204 . This current may flow to two word lines only while being delayed, but basically it flows only to the selected word line, so it can be made sufficiently larger than I st . Therefore, VX can fall quickly. Therefore, when no delay circuit is inserted in Figure 4, the speed is increased only to the extent shown by curve 42, but when the circuit in Figure 6 is used, the speed is increased as shown by the waveform shown by curve 43. be done.

なお第6図では、Q203およびR201は、遅延作用
をもたせるために抵抗値を大きめに選ぶため、こ
の回路で消費される電力は極めて僅かでよい。ま
た、語線の立上り時にはす早くQ204をオンにさ
せ、特開昭50−126335号に述べたように動作マー
ジンを拡大し、語線の立下り時にのみ遅延作用を
もたせて高速化を図ろうとする場合にはR201を小
さくし、R203のみを大きくして遅延作用をもたせ
ればよい。この場合、エミツタホロワQ203は立上
り時はす早く応答するが、立下り時の応答は非常
に遅くなり、目的を達することができる。
Note that in FIG. 6, the resistance values of Q 203 and R 201 are selected to be large in order to provide a delay effect, so that the power consumed in this circuit can be extremely small. In addition, Q204 is turned on quickly at the rising edge of a word line, expanding the operating margin as described in JP-A-50-126335, and providing a delay effect only at the falling edge of the word line to increase speed. If this is desired, R 201 should be made small and only R 203 should be made large to provide a delay effect. In this case, the Emitsuta Follower Q 203 responds quickly at the rising edge, but responds very slowly at the falling edge, which can accomplish the purpose.

第7図は、本発明の他の実施例を示す。なお
Q405,Q406はVX発生回路を構成している。Q405
のコレクタから取出された信号(VXとは逆相)
は抵抗R401を経てpnpトランジスタQ401のベ
ースに印加され、導通させる。Q401が導通すると
そのコレクタに信号が現われ、電流源トランジス
タQ402をオンにする。本実施例では、信号の遅延
はR201とC401(C401,C402は浮遊容量または外付
容量)またはR403とC402により行われる。実際の
回路では、これらのうち片方のみで充分であるこ
とは言うまでもない。またpnpトランジスタQ401
として、積極的に応答の遅いトランジスタ(たと
えばラテラルpnpトランジスタ)を使用すれば、
RとCによる遅延を用いる必要はなくなる。
FIG. 7 shows another embodiment of the invention. In addition
Q 405 and Q 406 constitute a V X generation circuit. Q405
signal extracted from the collector of (opposite phase to V
is applied to the base of the pnp transistor Q401 through the resistor R401, making it conductive. When Q 401 conducts, a signal appears at its collector, turning on current source transistor Q 402 . In this embodiment, signal delay is performed by R 201 and C 401 (C 401 and C 402 are floating capacitances or external capacitances) or R 403 and C 402 . Needless to say, in an actual circuit, only one of these is sufficient. Also pnp transistor Q 401
As such, if you use a transistor with aggressively slow response (e.g. a lateral pnp transistor),
There is no need to use delays due to R and C.

以上の実施例では、選択された語線には、選択
されている間および非選択に切換つてからしばら
くの間、語線に電流が流れ続けるようになつてい
る。しかし、立下りを高速化するだけであれば、
選択から非選択に切換つた直後からVXが充分低
くなるまでの間だけ、電流を増加すればよい。そ
のような一実施例を第8図aに示す。
In the embodiments described above, current continues to flow through the selected word line while it is selected and for some time after it is switched to non-selection. However, if you just want to speed up the fall,
It is only necessary to increase the current from immediately after switching from selection to non-selection until V X becomes sufficiently low. One such embodiment is shown in Figure 8a.

ここで、Q603とQ604はVX発生回路を構成して
いる。語線110に加わるVXは遅延回路603
により時間tdだけ遅延されて、ANDゲート60
4の入力605に印加される。一方、VXの逆相
信号はエミツタホロワQ601を経て、ANDゲート
604の入力601に印加される。入力601お
よび605に現われる波形を第8図bに示す。
ANDゲート604は、図示のようにtdの間だけ
出力606を送出し、電流スイツチとして用いた
トランジスタQ602をオンにして電流を流し、VX
の立下りを高速化する。
Here, Q 603 and Q 604 constitute a V X generation circuit. V X applied to word line 110 is applied to delay circuit 603
AND gate 60 is delayed by a time t d by
4 input 605. On the other hand, the negative phase signal of VX is applied to the input 601 of the AND gate 604 via the emitter follower Q601. The waveforms appearing at inputs 601 and 605 are shown in Figure 8b.
AND gate 604 delivers an output 606 for only t d as shown, turns on transistor Q 602 , used as a current switch, and conducts current to V
Speed up the fall of .

なお以上の説明では、本発明をバイポーラメモ
リを例として行なつてきたが、本発明はこれに限
定されることなく、広く半導体メモリ一般に適用
できるものであり、その効果はきわめて大きいも
のである。
In the above description, the present invention has been described using a bipolar memory as an example, but the present invention is not limited to this, but can be widely applied to semiconductor memories in general, and its effects are extremely large.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、選択時に選択電圧が印加され
る語線の非選択電圧への立下りを高速化すること
ができ、メモリ回路のアクセス時間を短縮でき
る。
According to the present invention, it is possible to speed up the fall of a word line to which a selection voltage is applied during selection to a non-selection voltage, and it is possible to shorten the access time of a memory circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はメモリ装置の回路図、第2図は第1図
の回路動作を説明するための電圧レベルを示す説
明図、第3図は第1図の回路の特性を示す波形
図、第4図は従来回路および本発明回路の特性を
示す波形図、第5図は本発明の概念を説明するた
めの構成図、第6図第7図および第8図aは本発
明の各実施例の構成図、第8図bは同図aの要部
の電圧の波形図である。 100:メモリセル、101:立下り検出回
路、102:遅延またはパルス拡大回路、10
3:電流スイツチ回路、110,111:語線、
121:電流源。
FIG. 1 is a circuit diagram of the memory device, FIG. 2 is an explanatory diagram showing voltage levels to explain the circuit operation of FIG. 1, FIG. 3 is a waveform diagram showing the characteristics of the circuit in FIG. 1, and FIG. The figures are waveform diagrams showing the characteristics of the conventional circuit and the circuit of the present invention. Fig. 5 is a configuration diagram for explaining the concept of the present invention. The configuration diagram, FIG. 8b, is a voltage waveform diagram of the main parts of FIG. 8a. 100: Memory cell, 101: Fall detection circuit, 102: Delay or pulse expansion circuit, 10
3: Current switch circuit, 110, 111: Word line,
121: Current source.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 (イ) 複数の語線対であつて、各語線対がそれ
ぞれ1対の上側語線と下側語線からなる複数の
語線対と、 (ロ) 上記語線対内の語線間に接続された複数のメ
モリセルと、 (ハ) 上記複数の語線対の1つの対の上側語線に選
択的に選択電圧を印加する手段、 とを有する半導体回路において、上記電圧印加手
段により選択された語線対内の上側語線に選択電
圧を印加した後、少なくともその語線を非選択に
切換えてから上記上側語線の電圧が非選択電圧に
なるまでの過渡期間中全てにおいて、上記上側語
線に対応する下側語線の電流を非選択時よりも大
きくする電流印加回路を設けたことを特徴とする
電流印加回路を設けたことを特徴とする半導体回
路。 2 特許請求の範囲第1項記載の半導体回路にお
いて、上記電流印加回路は、上記各語線対の上側
語線の選択状態から非選択状態への切換わりを検
出する回路と、定電流源および上記検出回路によ
り上記切換わりの検出された上側語線に対する下
側語線に選択的に上記定電流源からの電流を流す
スイツチ回路を含むことを特徴とする半導体回
路。 3 特許請求の範囲第1項記載の半導体回路にお
いて、上記電圧印加手段による選択信号を遅延す
る回路と、定電流源と、上記遅延回路出力により
制限された上記選択された語線対の下側語線に上
記定電源からの電流を所定時間流すスイツチ回路
とを含むことを特徴とする半導体回路。 4 特許請求の範囲第3項記載の半導体回路にお
いて、上記遅延回路を、上記選択信号が入力され
上記選択信号とほぼ同じ立上がり時間でもつて立
上がり、上記選択信号の立下がり時間よりも大き
な立下がり時間でもつて立下がる信号を発生する
回路により構成したことを特徴とする半導体回
路。
[Scope of Claims] 1. (a) A plurality of word line pairs, each word line pair consisting of a pair of upper and lower word lines, and (b) The above words. In a semiconductor circuit comprising: a plurality of memory cells connected between word lines in a line pair; and (c) means for selectively applying a selection voltage to an upper word line of one of the plurality of word line pairs. , after applying a selection voltage to the upper word line in the word line pair selected by the voltage applying means, a transient period from at least switching that word line to non-selection until the voltage of the upper word line becomes the non-selection voltage; A semiconductor circuit characterized by being provided with a current application circuit that makes the current of the lower word line corresponding to the upper word line larger than when not selected throughout the period. . 2. In the semiconductor circuit according to claim 1, the current applying circuit includes a circuit for detecting switching from a selected state to a non-selected state of the upper word line of each word line pair, a constant current source, and A semiconductor circuit comprising a switch circuit that selectively causes a current from the constant current source to flow through a lower word line with respect to an upper word line whose switching is detected by the detection circuit. 3. The semiconductor circuit according to claim 1, including a circuit for delaying the selection signal by the voltage applying means, a constant current source, and a lower side of the selected word line pair limited by the output of the delay circuit. A semiconductor circuit comprising: a switch circuit that causes a current from the constant power source to flow through the word line for a predetermined period of time. 4. The semiconductor circuit according to claim 3, wherein the delay circuit is configured such that when the selection signal is input, the delay circuit rises with approximately the same rise time as the selection signal, and has a fall time larger than the fall time of the selection signal. What is claimed is: 1. A semiconductor circuit comprising a circuit that generates a signal that rises and then falls.
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