JPS6150953B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6150953B2 JPS6150953B2 JP1072976A JP1072976A JPS6150953B2 JP S6150953 B2 JPS6150953 B2 JP S6150953B2 JP 1072976 A JP1072976 A JP 1072976A JP 1072976 A JP1072976 A JP 1072976A JP S6150953 B2 JPS6150953 B2 JP S6150953B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acid
- general formula
- substituted
- amino
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 84
- -1 azidomethyl group Chemical group 0.000 claims description 52
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical group CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 29
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 18
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 claims description 13
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 13
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 11
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 claims description 5
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OBYVIBDTOCAXSN-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylbutan-2-amine Chemical compound CCC(C)NC(C)CC OBYVIBDTOCAXSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XHFGWHUWQXTGAT-UHFFFAOYSA-N n-methylpropan-2-amine Chemical compound CNC(C)C XHFGWHUWQXTGAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 125000004055 thiomethyl group Chemical group [H]SC([H])([H])* 0.000 claims description 3
- SQGSVBHTFQOZDL-UHFFFAOYSA-N (2-Methylpropyl)(propyl)amine Chemical compound CCCNCC(C)C SQGSVBHTFQOZDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloropropane Chemical compound CC(Cl)CCl KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloropropane Chemical compound ClCCCCl YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HRMRQBJUFWFQLX-UHFFFAOYSA-N 1-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyl]pyrrolidine-3-carboxylic acid Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCC(C(O)=O)C1 HRMRQBJUFWFQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SNHZNFDWSYMNDN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylbutan-2-yl)butan-2-amine Chemical compound CCC(C)(C)NC(C)(C)CC SNHZNFDWSYMNDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SPVVMXMTSODFPU-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-(3-methylbutyl)butan-1-amine Chemical compound CC(C)CCNCCC(C)C SPVVMXMTSODFPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NCBKRBDUPKCJEH-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-propylbutan-1-amine Chemical compound CCCNCCC(C)C NCBKRBDUPKCJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005042 acyloxymethyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- VUXINUDYAQGLKJ-UHFFFAOYSA-N n-(2,2-dimethylpropyl)-2,2-dimethylpropan-1-amine Chemical compound CC(C)(C)CNCC(C)(C)C VUXINUDYAQGLKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FNLUJDLKYOWMMF-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylpropan-1-amine Chemical compound CCNCC(C)C FNLUJDLKYOWMMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TZTQUOTYYSUZNA-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-3-methylbutan-1-amine Chemical compound CCNCCC(C)C TZTQUOTYYSUZNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZZJKGVPMLGIOTF-UHFFFAOYSA-N n-pentan-2-ylpentan-2-amine Chemical compound CCCC(C)NC(C)CCC ZZJKGVPMLGIOTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CATWEXRJGNBIJD-UHFFFAOYSA-N n-tert-butyl-2-methylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)NC(C)(C)C CATWEXRJGNBIJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 claims description 2
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims 1
- CCRUHKGZAQXBKC-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCC(C)C CCRUHKGZAQXBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 claims 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 41
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 31
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 21
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 7beta-aminocephalosporanic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C([O-])=O)N2C(=O)[C@@H]([NH3+])[C@@H]12 HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 0.000 description 8
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 8
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 8
- NVIAYEIXYQCDAN-CLZZGJSISA-N 7beta-aminodeacetoxycephalosporanic acid Chemical compound S1CC(C)=C(C(O)=O)N2C(=O)[C@@H](N)[C@@H]12 NVIAYEIXYQCDAN-CLZZGJSISA-N 0.000 description 7
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- CSGFFYNMTALICU-ZWNOBZJWSA-N adipyl-7-aminodesacetoxycephalosporanic acid Natural products CC1=C(N2[C@H](SC1)[C@H](NC(=O)CCCCC(O)=O)C2=O)C(O)=O CSGFFYNMTALICU-ZWNOBZJWSA-N 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 6
- 229930186147 Cephalosporin Natural products 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 5
- 229940047526 cephalexin monohydrate Drugs 0.000 description 5
- 229940124587 cephalosporin Drugs 0.000 description 5
- 150000001780 cephalosporins Chemical class 0.000 description 5
- YGZIWEZFFBPCLN-UHFFFAOYSA-N n,3-bis(2-chloroethyl)-4-hydroperoxy-2-oxo-1,3,2$l^{5}-oxazaphosphinan-2-amine Chemical compound OOC1CCOP(=O)(NCCCl)N1CCCl YGZIWEZFFBPCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 4
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229960000603 cefalotin Drugs 0.000 description 3
- 229940106164 cephalexin Drugs 0.000 description 3
- ZAIPMKNFIOOWCQ-UEKVPHQBSA-N cephalexin Chemical compound C1([C@@H](N)C(=O)N[C@H]2[C@@H]3N(C2=O)C(=C(CS3)C)C(O)=O)=CC=CC=C1 ZAIPMKNFIOOWCQ-UEKVPHQBSA-N 0.000 description 3
- VUFGUVLLDPOSBC-XRZFDKQNSA-M cephalothin sodium Chemical compound [Na+].N([C@H]1[C@@H]2N(C1=O)C(=C(CS2)COC(=O)C)C([O-])=O)C(=O)CC1=CC=CS1 VUFGUVLLDPOSBC-XRZFDKQNSA-M 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 3
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GVVFCAFBYHYGEE-OGFXRTJISA-N (2r)-2-amino-2-phenylacetyl chloride;hydron;chloride Chemical compound Cl.ClC(=O)[C@H](N)C1=CC=CC=C1 GVVFCAFBYHYGEE-OGFXRTJISA-N 0.000 description 2
- HJSGHKMSDOLGJJ-IOJJLOCKSA-N (6r)-7-amino-3-[(5-methyl-1,3,4-thiadiazol-2-yl)sulfanylmethyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C)=NN=C1SCC1=C(C(O)=O)N2C(=O)C(N)[C@H]2SC1 HJSGHKMSDOLGJJ-IOJJLOCKSA-N 0.000 description 2
- XUTQHTOXGKVJPN-SVGQVSJJSA-N (6r,7r)-7-amino-3-[(1-methyltetrazol-5-yl)sulfanylmethyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound CN1N=NN=C1SCC1=C(C(O)=O)N2C(=O)[C@@H](N)[C@H]2SC1 XUTQHTOXGKVJPN-SVGQVSJJSA-N 0.000 description 2
- VMZCDNSFRSVYKQ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylacetyl chloride Chemical compound ClC(=O)CC1=CC=CC=C1 VMZCDNSFRSVYKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- ZGUNAGUHMKGQNY-UHFFFAOYSA-N alpha-phenylglycine Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=CC=C1 ZGUNAGUHMKGQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 229960003012 cefamandole Drugs 0.000 description 2
- MLYYVTUWGNIJIB-BXKDBHETSA-N cefazolin Chemical compound S1C(C)=NN=C1SCC1=C(C(O)=O)N2C(=O)[C@@H](NC(=O)CN3N=NN=C3)[C@H]2SC1 MLYYVTUWGNIJIB-BXKDBHETSA-N 0.000 description 2
- 229960001139 cefazolin Drugs 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 description 1
- DLDIEAJVIRFDHY-OGFXRTJISA-N (2r)-2-amino-2-cyclohexa-1,4-dien-1-ylacetyl chloride;hydrochloride Chemical compound Cl.ClC(=O)[C@H](N)C1=CCC=CC1 DLDIEAJVIRFDHY-OGFXRTJISA-N 0.000 description 1
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001359 1,2,3-triazol-4-yl group Chemical group [H]N1N=NC([*])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001305 1,2,4-triazol-3-yl group Chemical group [H]N1N=C([*])N=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004509 1,3,4-oxadiazol-2-yl group Chemical group O1C(=NN=C1)* 0.000 description 1
- 125000004521 1,3,4-thiadiazol-2-yl group Chemical group S1C(=NN=C1)* 0.000 description 1
- PRPINYUDVPFIRX-UHFFFAOYSA-N 1-naphthaleneacetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)O)=CC=CC2=C1 PRPINYUDVPFIRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUOSAFNJURLEMX-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-1,2,4-triazol-5-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC=1N=CNN=1 BUOSAFNJURLEMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRWAIJBHBCCLGS-UHFFFAOYSA-N 2-(tetrazol-1-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CN1C=NN=N1 GRWAIJBHBCCLGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVHOFJBFYVRQOH-UHFFFAOYSA-N 2-(tetrazol-1-yl)acetyl chloride Chemical compound ClC(=O)CN1C=NN=N1 NVHOFJBFYVRQOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBJJTCGQCRGNOL-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-cyclohexa-1,4-dien-1-ylacetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CCC=CC1 JBJJTCGQCRGNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUICXMXDTICQOZ-UHFFFAOYSA-N 2-azido-2-phenylacetic acid Chemical compound [N-]=[N+]=NC(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 XUICXMXDTICQOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAKFRZBXTKUFIW-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-2-phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Br)C1=CC=CC=C1 WAKFRZBXTKUFIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKSGIGXOKHZCQZ-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2-phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)C1=CC=CC=C1 QKSGIGXOKHZCQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAHFOUZXHOFVOY-UHFFFAOYSA-N 2-formamido-2-(4-hydroxyphenyl)acetic acid Chemical compound O=CNC(C(=O)O)C1=CC=C(O)C=C1 SAHFOUZXHOFVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZTYHYHSDPMHRA-UHFFFAOYSA-N 2-formamido-2-phenylacetic acid Chemical compound O=CNC(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 AZTYHYHSDPMHRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFRDJVJDAXMXSQ-UHFFFAOYSA-N 2-formyloxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O=COC(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 YFRDJVJDAXMXSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYSRZETUSAOIMP-UHFFFAOYSA-N 2-furanacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CO1 VYSRZETUSAOIMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPWZFAUHXAPBFF-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-thiophen-2-ylacetic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C1=CC=CS1 WPWZFAUHXAPBFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxynaphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(Cl)=O)C(O)=CC=C21 WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEPIKYPNVRIQJA-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfanyl-2-phenylacetic acid Chemical compound CSC(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 XEPIKYPNVRIQJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCJYMOBWVJQGV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthyloxyacetic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OCC(=O)O)=CC=C21 RZCJYMOBWVJQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIWRVUADKUVEGU-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-2-thiophen-2-ylacetic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)C1=CC=CS1 GIWRVUADKUVEGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- SMJRBWINMFUUDS-UHFFFAOYSA-N 2-thienylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CS1 SMJRBWINMFUUDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJYXPNIENRLELY-UHFFFAOYSA-N 2-thiophen-2-ylacetyl chloride Chemical compound ClC(=O)CC1=CC=CS1 AJYXPNIENRLELY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQWZSLKTMTMSK-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxy-3-oxo-2-phenylpropanoic acid Chemical compound CCOC(=O)C(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 INQWZSLKTMTMSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- SAIKULLUBZKPDA-UHFFFAOYSA-N Bis(2-ethylhexyl) amine Chemical compound CCCCC(CC)CNCC(CC)CCCC SAIKULLUBZKPDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQLLWWBDSUHNEB-CZUORRHYSA-N Cefaprin Chemical compound N([C@H]1[C@@H]2N(C1=O)C(=C(CS2)COC(=O)C)C(O)=O)C(=O)CSC1=CC=NC=C1 UQLLWWBDSUHNEB-CZUORRHYSA-N 0.000 description 1
- GNWUOVJNSFPWDD-XMZRARIVSA-M Cefoxitin sodium Chemical compound [Na+].N([C@]1(OC)C(N2C(=C(COC(N)=O)CS[C@@H]21)C([O-])=O)=O)C(=O)CC1=CC=CS1 GNWUOVJNSFPWDD-XMZRARIVSA-M 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHJKEJPPPVBHIZ-UHFFFAOYSA-N [N-]=[N+]=[N-].I Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].I HHJKEJPPPVBHIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005910 alkyl carbonate group Chemical class 0.000 description 1
- PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N alpha-phenylbenzeneacetic acid Natural products C=1C=CC=CC=1C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USNMCXDGQQVYSW-UHFFFAOYSA-N alpha-sulfophenylacetic acid Chemical compound OC(=O)C(S(O)(=O)=O)C1=CC=CC=C1 USNMCXDGQQVYSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 1
- 125000003460 beta-lactamyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- RRYMAQUWDLIUPV-BXKDBHETSA-N cefacetrile Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C(O)=O)N2C(=O)[C@@H](NC(=O)CC#N)[C@@H]12 RRYMAQUWDLIUPV-BXKDBHETSA-N 0.000 description 1
- OLVCFLKTBJRLHI-AXAPSJFSSA-N cefamandole Chemical compound CN1N=NN=C1SCC1=C(C(O)=O)N2C(=O)[C@@H](NC(=O)[C@H](O)C=3C=CC=CC=3)[C@H]2SC1 OLVCFLKTBJRLHI-AXAPSJFSSA-N 0.000 description 1
- 229960004350 cefapirin Drugs 0.000 description 1
- 229960002682 cefoxitin Drugs 0.000 description 1
- JFPVXVDWJQMJEE-IZRZKJBUSA-N cefuroxime Chemical compound N([C@@H]1C(N2C(=C(COC(N)=O)CS[C@@H]21)C(O)=O)=O)C(=O)\C(=N/OC)C1=CC=CO1 JFPVXVDWJQMJEE-IZRZKJBUSA-N 0.000 description 1
- 229960001668 cefuroxime Drugs 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- CBVJWBYNOWIOFJ-UHFFFAOYSA-N chloro(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](Cl)(OC)OC CBVJWBYNOWIOFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQKYMDXABOCBE-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)OC GYQKYMDXABOCBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWSNMQUTBVZKHY-UHFFFAOYSA-N chloro-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)Cl AWSNMQUTBVZKHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- QEHKWLKYFXJVLL-UHFFFAOYSA-N dichloro(dimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](Cl)(Cl)OC QEHKWLKYFXJVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)Cl QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006345 epimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XQXPVVBIMDBYFF-UHFFFAOYSA-N para-hydroxyphenylacetic acid Natural products OC(=O)CC1=CC=C(O)C=C1 XQXPVVBIMDBYFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 1
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004523 tetrazol-1-yl group Chemical group N1(N=NN=C1)* 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N thioacetamide Natural products CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 150000003952 β-lactams Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
この発明は、アミノ−β−ラクタムカルボン酸
類をアシル化する際の改良法に関する。 より詳しくはこの発明は、7−アミノセフアロ
スポラン酸またはその3位置換体をアシル化する
に先だち、不活性有機溶媒中でシリル化剤と処理
して前記化合物の少なくともカルボキシル基を保
護する際に、特定の第2アミンを使用する方法に
関する。 7−アミノセフアロスポラン酸もしくはその3
位置換体にトリエチルアミンのような第3アミン
の存在下または非存在下にシリル化剤を反応させ
て、該原料物質のカルボキシル基および/または
アミノ基を保護してアシル化する方法が提案され
ている。しかしこれらの方法ではかなり過剰のシ
リル化剤を使用することが必要であり、しかも溶
液化に熱と時間を要するという欠点があつた。 そのため、たとえば7−アミノセフアロスポラ
ン酸またはその3位置換体誘導体では二重結合の
移動(△3→△2)が一部認められ、目的物の抗
菌力価、純度、収率の低下等をきたした。 かかる事情のもとにこの発明の発明者らは種々
のアミノ−β−ラクタムカルボン酸の不活性有機
溶媒中での溶液化の条件等について検討した結
果、pKb3.20以下で且つ総炭素数4〜16個で少な
くとも1個の分枝炭素鎖を有する第2アミンを用
いれば極めて良好な結果が得られることを見い出
した。 この知見に基いてなされたこの発明は、公知の
方法に比べて以下に述べるような種々の利点を有
し、セフアロスポリン類の製造法として工業的に
優れたものであると考えられる。 すなわち、 (i) この発明による第2アミンは、少過剰量の使
用のみでアミノ−β−ラクタムカルボン酸類を
有機溶媒へ可溶化さすことができる。 (ii) 特にセフアロスポリン系の原料物質に第2ア
ミンを使用したときは、使用量が少ないことや
0℃程度の低温でも短時間に溶液を得ることが
できるので、溶解の際に二重結合の移動やエピ
メリ化を殆ど伴わない。 (iii) 第2アミンを少過剰しか使用しないため、過
剰分のアミンによるβ−ラクタム環への悪影響
がなく、また特殊な場合を除いて過剰アミンの
除去の必要がないので除去工程の省略ならびに
除去工程で起りうる目的物の純度や収率への悪
影響がなく経済的である。 (iv) 第2アミンとしては、立体障害のあるカサ高
いものを使用するので、かりに過剰量がアシル
化反応時に存在しても酸ハライドのようなアシ
ル化剤と反応し難く、アシル化剤の浪費が避け
られる。 また (v) この発明ではシリル化剤によるアミノ−β−
ラクタムカルボン酸のカルボキシ基(およびア
ミノ基)の保護を低温で容易に行うことができ
る。更にシリル化剤の使用量が少なくてすみ且
つ目的とするセフアロスポリンを高純度で高収
率で得ることができる。 かくして本発明は一般式() 〔式中、Yは水素原子またはメトキシ基のような
なアルコキシ基;Qは水素原子、ハロゲン原子、
メチル基、メトキシメチル基、アジドメチル基、
低級アシロキシメチル基、カルパモイルオキシメ
チル基、あるいは置換基を有するかまたは有しな
い複素環チオメチル基を示す。〕 で表わされるアミノ−β−ラクタムカルボン酸に
不活性有機溶媒中シリル化剤を反応させ、得られ
る生成物をアシル化剤で処理してアシルアミド化
合物を得るに際し、一般式()の化合物を不活
性有機溶媒に溶解さすためにpKb3.20以下で且つ
総炭素数4〜16個で少なくとも1個の分枝状炭素
鎖を有する第2アミンを使用することを特徴とす
るアシルアミド化合物の製造方法に関する。 上記一般式()において、記号Q中の複素環
チオメチル基に於ける複素環の代表例としては、
次のものを挙げることができる。 すなわち1・3・4−チアジアゾール−2−イ
ル基、5−メチル−1・3・4−チアジアゾール
−2−イル基、1・2・3−トリアゾール−4−
イル基、1・2・4−トリアゾール−3−イル
基、3−メチル−1・2・3−トリアゾール−4
−イル基、5−メチル−1・2・4−トリアゾー
ル−3−イル基、4−メチル−1・2・4−トリ
アゾール−3−イル基、4・5−ジメチル−1・
2・4−トリアゾール−3−イル基、1−メチル
−1H−1・2・3・4−テトラゾール−5−イ
ル基、1・3・4−オキサジアゾール−2−イル
基、5−メチル−1・3・4−オキサジアゾール
−2−イル基、5−メチル−1・2−オキサゾー
ル−4−イル基、5−メチル−1・2−チアゾー
ル−4−イル基などが挙げられる。 また以上に説明したようなアミノ−β−ラクタ
ムカルボン酸誘導体()の他に、以下に説明す
るこの発明のアミンで有機溶媒に溶解するもの
は、全てこの発明の原料として含まれると理解さ
るべきである。 この発明におけるシリル化剤とは、当該分野で
現在使用しうることが公知のもの並びに将来同様
の目的に使用することが見出されるものの何れで
あつてもよい。 例えばトリアルキルハロゲノシラン、トリアル
コキシハロゲノシラン、トリアラルキルハロゲノ
シラン、ジアルキル(アルコキシ)ハロゲノシラ
ン、ジアルコキシ(アルキル)シランなどのトリ
置換ハロゲノシラン類;ヘキサアルキルジシラザ
ン、ヘキサアリールジシラザンのようなジシラザ
ン類;ジアルキルジハロゲノシラン、アルキルア
ルコキシジシハロゲノシラン、ジアルコキシジハ
ロゲノシラン、アルキレンジオキシジハロゲノシ
ランのようなジ置換ジハロゲノシラン類が挙げら
れる。これらの中で更に好ましい化合物の具体名
を挙げれば、トリメチルクロルシラン、ジメチル
(メトキシ)クロルシラン、メチルジメトキシク
ロルシラン、トリメトキシクロルシランなど、お
よびジメチルジクロルシラン、メチルメトキシジ
クロルシラン、ジメトキシジクロルシラン、ジク
ロルプロピレンジオキシシランなどがある。 この発明に用いうるアシル化剤となるべき原料
酸は、次の一般式()で表わすことができる。 R−COOH () 式中Rは有機残基である。 特定の原料酸の一つのクラスは、次の一般式
()で表わされる。 式中R1は置換されていてもよいアルキル基、
アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、
シクロアルケニル基、シクロアルキル基、複素環
残基、複素環チオ基、シアノ基またはハロゲノア
ルキルチオ基;R2は水素原子、カルボキシ基も
しくはそれに変換しうる基(たとえばエステル化
されたカルボキシ基、塩にしたカルボキシ基)、
スルホ基もしくはそれに変換しうる基(たとえば
エステル化されたスルホ基)、アシルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ホルミルオキシ
基、置換または非置換カルバモイルオキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールカルボニル基、複素環カルボニル基、アミ
ノ基、容易に除去しうる保護基で保護されたアミ
ノ基、アシルアミノ基、ホルミルアミノ基、モノ
(またはジ)アルキルアミノ基またはモノ(また
はジ)アリールアミノ基、アジド基、ハロゲン原
子を意味する。 一般式()に含まれる更に興味ある原料酸
は、次の一般式()で表わされる。 R3−CH2−COOH () 式中R3はハロゲン原子、トリハロゲノメチル
チオ基、複素環残基、複素環チオ基またはシアノ
基を意味する。 一般式()に含まれる別の興味ある原料酸は
次の一般式()で表わされる。 式中R4はフエニル基、ヒドロキシ置換フエニ
ル基、ヒドロキシ−アルコキシ置換フエニル基、
ヒドロキシ−アルキル置換フエニル基、ヒドロキ
シ−ハロゲン置換フエニル基、カルボキシ基もし
くはそれに変換しうる基で置換されたフエニル
基、複素環残基またはシクロアルケニル基を示
し、R5は容易に除去しうる保護基で保護された
アミノ基を意味する。一般式()の中で、フエ
ニル基上の置換分であるヒドロキシ基、カルボキ
シ基もしくはそれに変換しうる基は3位または4
位に存在するのが好ましい。 さらに特定の原料酸の他のクラスは次の一般式
()で表わされる。 R6−CO−COOH () 式中R6は置換されていてもよいアリール基ま
たは複素環残基を意味する。 また特定の原料酸の他のクラスは次の一般式
()で表わされる。 R7−COOH () 式中R7は3−(ハロゲン置換または非置換フエ
ニル)−5−メチルイソオキサゾール−4−イル
基を意味する。 一般式()〜()における複素環残基また
は複素環チオ基の複素環とは、2−チエニル、3
−チエニル、テトラゾール−1−イル、ピリジン
−4−イル、フリル基などが好ましい例である。 このようなアシル化剤の原料酸の具体例として
は、例えばフエニル酢酸、α−フエノオキシ酢
酸、α−フエノオキシプロピオン酸、α−フエノ
オキシ酪酸、ジフエノオキシ酢酸、ジフエニル酢
酸、ナフチル酢酸、ナフトオキシ酢酸、α−アミ
ノフエニル酢酸、α−クロロフエニル酢酸、α−
ブロモフエニル酢酸、α−アジドフエニル酢酸、
マンデル酸、α−アシルオキシフエニル酢酸、α
−メチルチオフエニル酢酸、α−エトオキシカル
ボニルフエニル酢酸、α−アリールオキシカルボ
ニルフエニル酢酸、チエニル酢酸、フリル酢酸、
(1・2・4−トリアゾール−3−イル)酢酸、
(1H−1・2・3・4−テトラゾール−1−イ
ル)酢酸、α−オキソフリール酢酸、α−オキソ
チエニル酢酸、α−ヒドロキシチエニル酢酸、α
−ホルミルオキシチエニル酢酸、α−ホルミルオ
キシフエニル酢酸、α−オキシカルボニルフエニ
ル酢酸、α−スルホフエニル酢酸、α−アミノ−
(2・5−シクロヘキサジエン−2−イル)酢
酸、α−クロロメトキシカルボニルアミノ−p−
ヒドロキシフエニル酢酸、α−N−(4−オキソ
−4H−ピラン−3−イル−カルボニルアミノ)−
p−ヒドロキシフエニル酢酸、α−N−(4−オ
キソ−4H−チオピラン−3−イル−カルボニル
アミノ)−p−ヒドロキシフエニル酢酸、α−N
−(4−オキソ−4H−チオピラン−3−イル−カ
ルボニルアミノ)−フエニル酢酸、α−N−(4−
ヒドロキシニコチノイルアミノ)−p−ヒドロキ
シフエニル酢酸、α−N−(4−ヒドロキシニコ
チノイルアミノ)フエニル酢酸、α−(ホルミル
アミノ)−p−ヒドロキシフエニル酢酸、α−ホ
ルミルアミノフエニル酢酸、α−ホルミルアミノ
−(2・5−シクロヘキサジエン−2−イル)酢
酸などが挙げられる。 これらの原料酸は、通常混合酸無水物、酸ハラ
イド、酸活性エステル、酸アジド、酸シアニド、
酸活性アミドなどのような反応性誘導体の形でア
シル化剤として使用される。好ましいアシル化剤
としては酸塩化物、混合酸無水物などが挙げられ
る。 さらに混合酸無水物としては、例えば置換酢
酸、アルキル炭酸、アリール炭酸、アラルキル炭
酸との混合酸無水物が挙げられる。活性エステル
としては、例えばシアノメチルエステル、置換フ
エニルエステル、置換ベンジルエステル、置換チ
エニルエステルなどが挙げられる。また酸活性ア
ミドとしては、例えば、N−アシルサツカリン、
N−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾイル
アミド、N・N−ジシクロヘキシル−N−アシル
尿素、N−アシルスルホンアミドなどがあげられ
る。 なお容易に除去しうる保護基で保護されたアミ
ノ基における保護基の好適な例として、1−N・
N−ジメチルカルバモイルプロペン−2−イル、
1−モルホリノカルボニルプロペン−2−イル、
1−メトキシカルボニルプロペン−2−イル、1
−エトキシカルバモイルプロペン−2−イル、1
−アセチル−プロペン−2−イル、2・2・2−
トリクロルエトキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、クロロアセチル、ブロモアセチル、ホ
ルミルなどが挙げられる。 次いでこの発明に使用されるpKb3.20以下でか
つ総炭素数4〜16個で少なくとも1個の分枝炭素
を有する第2アミノンは、この発明の基本となる
べき重要なものである。ここで“分枝炭素鎖”と
は、例えばイソプロピル基やシクロヘキシル基に
おける分枝炭素鎖を意味する。このアミンは対称
アミンであつても混成アミンであつてもよい。 その具体例としては、ジイソプロピルアミン、
ジ−sec−ブチルアミン、ジ−t−ブチルアミ
ン、ジ−(1−メチルブチル)アミン、ジ−t−
アミルアミン、ジイソアミルアミン、ジネオペン
チルアミン、ジオクチルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミン、メチル−イソプロピルアミン、メチル
−イソアミルアミン、エチル−イソブチルアミ
ン、エチル−イソアミルアミン、プロピル−イソ
ブチルアミン、プロピル−イソアミルアミン、ブ
チル−イソブチルアミンなどが挙げられる。この
うち特に好ましいものはジシクロヘキシルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、ジ−sec−ブチルア
ミンまたはジオクチルアミンである。 以上のようなアミンの使用量は、アミノ−β−
ラクタムカルボン酸類()の1モルに対し、
1.05〜3モル、特に1.1〜2.0モルであるのが好ま
しい。化合物()は、この使用量によつて下記
のような不活性有機溶媒に溶解し、その溶液はシ
リル化剤との混合酸無水物の形成および続いて行
うアシル化反応の目的を達するのに用いることが
できる。ここで若干過剰のアミンが存在するが、
これアシル化剤の酸受容体として役立つであろ
う。 不活性有機溶媒としては、塩化メチレン、塩化
エチレン、塩化プロピレン、塩化トリメチレン、
クロロホルム、テトラクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、酢酸エチル、アセトニトリル、クロ
ルベンゼンなどが挙げられる。これらの有機溶媒
は、例えば塩化メチレンとテトラヒドロフラン、
クロロホルムとジオキサンの組合せのような混合
系であつてもよい。またこれらの有機溶媒は無水
にして使用される。 さらに有機溶媒の使用量は、アミノ−β−ラク
タムカルボン酸類()の種類およびこの発明に
よる前記アミンの種類によつて変るが、通常
()に対して10〜50倍容量でこの発明の目的を
達することができる。 この発明の反応は通常、アミノ−β−ラクタム
カルボン酸類()を好ましくは微粉末に粉砕し
て乾燥し、これに前述の如き有機溶媒と所定量の
アミンとを加えて冷時撹拌して溶液とし、この溶
液をそのままシリル化剤と反応させる。しかしア
ミノ−β−ラクタムカルボン酸類()の種類に
ついては、この溶液は溶媒を減圧で除去し化合物
()とアミンとの塩を形成させ、所望の有機溶
媒に再溶解して使用してもよい。可溶化は室温、
好ましくは0〜20℃、より好ましくは0〜10℃の
温度で行い、反応時間は10〜30分である。 このようにして得られた化合物()の塩の溶
液を室温または氷冷下、好ましくは−20〜30℃の
温度でシリカゲル化剤を反応さす。この反応は乾
燥窒素気流中で行うのが望ましい。シリル化剤の
使用量はアシル化剤の種類により多少異なる。ア
シル化剤が酸ハライドの場合原料化合物()の
1モルに対し、トリ置換ハロゲノシラン類は1.2
〜3.0モル好ましくは1.3〜1.8モルで、ジ置換ジハ
ロゲノシラン類はその半分モル比である。また酸
無水物の場合は、トリ置換ハロゲノシラン類で
1.8〜3.0モル好ましくは2.0〜2.5モルであり、ジ
置換ジハロゲノシラン類はその半分モルである。 一方アシル化剤は原料のカルボン酸を使用直前
に前記の如き反応性誘導体に導いて作られる事が
多い。その際前記のような有機溶媒を用いてアシ
ル化剤を調整し、そのままアシル化反応に用いる
のが好都合である。この発明のアシル化反応は−
40〜40℃、好ましくは−30〜30℃の温度で1〜6
時間行われる。このアシル化反応は、酸結合剤を
添加して行うのが好ましい。その例としてはピリ
ジン及びその同族体、N・N−ジメチルアニリン
及びその同族体、キノリン及びその同族体等が挙
げられる。尚以上の反応は無水条件で行う必要が
ある。次いでこれに室温又は冷却下で水又はアル
コール類、たとえばメチルアルコール、エチルア
ルコール、プロピルアルコール、ブタノール等を
添加してシリル基を分解させることによつて所望
の目的物を高収率で得ることができる。 この生成物が例えば保護されたアミノ基を有す
る場合はそれ自体公知の方法で保護基の除去を行
えば、遊離アミノ基を有する化合物に導くことが
できる。また例えば原料のカルボン酸のフエニル
基上の置換分が易分解性のエステル化されたカル
ボキシ基である化合物、カルボン酸の2位の置換
分が易分解性のアシルオキシ基である化合物など
は、当該分野で公知の方法でエステル部分、アシ
ル部分を除去することができる。 なおセフアロスポリン類の種類によつては、こ
の発明の反応を行つた後、例えば3位の置換反応
に付して有用な化合物とすることができる。 さらにこの発明で得られる目的物は常法により
対応する塩、特に医薬的に受容な塩に導くことが
できる。 以上説明したようなこの発明の方法は、目的物
が高収率で得られ、使用する試剤が比較的安価で
あり、且つ反応後の後処理が簡単であるなどの利
点を有し、工業的に極めて価値ある方法であると
考えられる。 この発明の方法に従つて得ることができる代表
的なセフアロスポリンとしては例えばセフアロチ
ン、セフアゾリン、セフアトリジン、セフアセト
リール、セフアピリン、セフアマンドール、O−
ホルミル−セフアマンドール、セフロキシム、セ
フラジン、セフアレキシン、セホキチン、セフア
ノン等が挙げられる。 次にこの発明の方法を参考例および実施例によ
つて説明する。 参考例 乾燥した微粉末の7−アミノセフアロスポラン
酸(7−ACA)、7−アミノデアセトキシセフア
ロスポラン酸(7−ACA)および7−アミノ−
3−(5−メチル−1・3・4−チアジアゾール
−2−イル−チオメチル)−3−セフエム−4−
カルボン酸(7−AMTCA)の各1ミリモルを新
しく精製した塩化メチレン5mlにそれぞれ懸濁
し、代表的な塩基とマグネテイツクスターラーで
撹拌し、溶解に要した時間を測定した。その結果
を表1に示す。但し、7−ACA、7−ADCAお
よび7−AMTCAは0℃で行つた。 なお比較対象の塩基としてトリエチルアミンを
使用した。
類をアシル化する際の改良法に関する。 より詳しくはこの発明は、7−アミノセフアロ
スポラン酸またはその3位置換体をアシル化する
に先だち、不活性有機溶媒中でシリル化剤と処理
して前記化合物の少なくともカルボキシル基を保
護する際に、特定の第2アミンを使用する方法に
関する。 7−アミノセフアロスポラン酸もしくはその3
位置換体にトリエチルアミンのような第3アミン
の存在下または非存在下にシリル化剤を反応させ
て、該原料物質のカルボキシル基および/または
アミノ基を保護してアシル化する方法が提案され
ている。しかしこれらの方法ではかなり過剰のシ
リル化剤を使用することが必要であり、しかも溶
液化に熱と時間を要するという欠点があつた。 そのため、たとえば7−アミノセフアロスポラ
ン酸またはその3位置換体誘導体では二重結合の
移動(△3→△2)が一部認められ、目的物の抗
菌力価、純度、収率の低下等をきたした。 かかる事情のもとにこの発明の発明者らは種々
のアミノ−β−ラクタムカルボン酸の不活性有機
溶媒中での溶液化の条件等について検討した結
果、pKb3.20以下で且つ総炭素数4〜16個で少な
くとも1個の分枝炭素鎖を有する第2アミンを用
いれば極めて良好な結果が得られることを見い出
した。 この知見に基いてなされたこの発明は、公知の
方法に比べて以下に述べるような種々の利点を有
し、セフアロスポリン類の製造法として工業的に
優れたものであると考えられる。 すなわち、 (i) この発明による第2アミンは、少過剰量の使
用のみでアミノ−β−ラクタムカルボン酸類を
有機溶媒へ可溶化さすことができる。 (ii) 特にセフアロスポリン系の原料物質に第2ア
ミンを使用したときは、使用量が少ないことや
0℃程度の低温でも短時間に溶液を得ることが
できるので、溶解の際に二重結合の移動やエピ
メリ化を殆ど伴わない。 (iii) 第2アミンを少過剰しか使用しないため、過
剰分のアミンによるβ−ラクタム環への悪影響
がなく、また特殊な場合を除いて過剰アミンの
除去の必要がないので除去工程の省略ならびに
除去工程で起りうる目的物の純度や収率への悪
影響がなく経済的である。 (iv) 第2アミンとしては、立体障害のあるカサ高
いものを使用するので、かりに過剰量がアシル
化反応時に存在しても酸ハライドのようなアシ
ル化剤と反応し難く、アシル化剤の浪費が避け
られる。 また (v) この発明ではシリル化剤によるアミノ−β−
ラクタムカルボン酸のカルボキシ基(およびア
ミノ基)の保護を低温で容易に行うことができ
る。更にシリル化剤の使用量が少なくてすみ且
つ目的とするセフアロスポリンを高純度で高収
率で得ることができる。 かくして本発明は一般式() 〔式中、Yは水素原子またはメトキシ基のような
なアルコキシ基;Qは水素原子、ハロゲン原子、
メチル基、メトキシメチル基、アジドメチル基、
低級アシロキシメチル基、カルパモイルオキシメ
チル基、あるいは置換基を有するかまたは有しな
い複素環チオメチル基を示す。〕 で表わされるアミノ−β−ラクタムカルボン酸に
不活性有機溶媒中シリル化剤を反応させ、得られ
る生成物をアシル化剤で処理してアシルアミド化
合物を得るに際し、一般式()の化合物を不活
性有機溶媒に溶解さすためにpKb3.20以下で且つ
総炭素数4〜16個で少なくとも1個の分枝状炭素
鎖を有する第2アミンを使用することを特徴とす
るアシルアミド化合物の製造方法に関する。 上記一般式()において、記号Q中の複素環
チオメチル基に於ける複素環の代表例としては、
次のものを挙げることができる。 すなわち1・3・4−チアジアゾール−2−イ
ル基、5−メチル−1・3・4−チアジアゾール
−2−イル基、1・2・3−トリアゾール−4−
イル基、1・2・4−トリアゾール−3−イル
基、3−メチル−1・2・3−トリアゾール−4
−イル基、5−メチル−1・2・4−トリアゾー
ル−3−イル基、4−メチル−1・2・4−トリ
アゾール−3−イル基、4・5−ジメチル−1・
2・4−トリアゾール−3−イル基、1−メチル
−1H−1・2・3・4−テトラゾール−5−イ
ル基、1・3・4−オキサジアゾール−2−イル
基、5−メチル−1・3・4−オキサジアゾール
−2−イル基、5−メチル−1・2−オキサゾー
ル−4−イル基、5−メチル−1・2−チアゾー
ル−4−イル基などが挙げられる。 また以上に説明したようなアミノ−β−ラクタ
ムカルボン酸誘導体()の他に、以下に説明す
るこの発明のアミンで有機溶媒に溶解するもの
は、全てこの発明の原料として含まれると理解さ
るべきである。 この発明におけるシリル化剤とは、当該分野で
現在使用しうることが公知のもの並びに将来同様
の目的に使用することが見出されるものの何れで
あつてもよい。 例えばトリアルキルハロゲノシラン、トリアル
コキシハロゲノシラン、トリアラルキルハロゲノ
シラン、ジアルキル(アルコキシ)ハロゲノシラ
ン、ジアルコキシ(アルキル)シランなどのトリ
置換ハロゲノシラン類;ヘキサアルキルジシラザ
ン、ヘキサアリールジシラザンのようなジシラザ
ン類;ジアルキルジハロゲノシラン、アルキルア
ルコキシジシハロゲノシラン、ジアルコキシジハ
ロゲノシラン、アルキレンジオキシジハロゲノシ
ランのようなジ置換ジハロゲノシラン類が挙げら
れる。これらの中で更に好ましい化合物の具体名
を挙げれば、トリメチルクロルシラン、ジメチル
(メトキシ)クロルシラン、メチルジメトキシク
ロルシラン、トリメトキシクロルシランなど、お
よびジメチルジクロルシラン、メチルメトキシジ
クロルシラン、ジメトキシジクロルシラン、ジク
ロルプロピレンジオキシシランなどがある。 この発明に用いうるアシル化剤となるべき原料
酸は、次の一般式()で表わすことができる。 R−COOH () 式中Rは有機残基である。 特定の原料酸の一つのクラスは、次の一般式
()で表わされる。 式中R1は置換されていてもよいアルキル基、
アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、
シクロアルケニル基、シクロアルキル基、複素環
残基、複素環チオ基、シアノ基またはハロゲノア
ルキルチオ基;R2は水素原子、カルボキシ基も
しくはそれに変換しうる基(たとえばエステル化
されたカルボキシ基、塩にしたカルボキシ基)、
スルホ基もしくはそれに変換しうる基(たとえば
エステル化されたスルホ基)、アシルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ホルミルオキシ
基、置換または非置換カルバモイルオキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールカルボニル基、複素環カルボニル基、アミ
ノ基、容易に除去しうる保護基で保護されたアミ
ノ基、アシルアミノ基、ホルミルアミノ基、モノ
(またはジ)アルキルアミノ基またはモノ(また
はジ)アリールアミノ基、アジド基、ハロゲン原
子を意味する。 一般式()に含まれる更に興味ある原料酸
は、次の一般式()で表わされる。 R3−CH2−COOH () 式中R3はハロゲン原子、トリハロゲノメチル
チオ基、複素環残基、複素環チオ基またはシアノ
基を意味する。 一般式()に含まれる別の興味ある原料酸は
次の一般式()で表わされる。 式中R4はフエニル基、ヒドロキシ置換フエニ
ル基、ヒドロキシ−アルコキシ置換フエニル基、
ヒドロキシ−アルキル置換フエニル基、ヒドロキ
シ−ハロゲン置換フエニル基、カルボキシ基もし
くはそれに変換しうる基で置換されたフエニル
基、複素環残基またはシクロアルケニル基を示
し、R5は容易に除去しうる保護基で保護された
アミノ基を意味する。一般式()の中で、フエ
ニル基上の置換分であるヒドロキシ基、カルボキ
シ基もしくはそれに変換しうる基は3位または4
位に存在するのが好ましい。 さらに特定の原料酸の他のクラスは次の一般式
()で表わされる。 R6−CO−COOH () 式中R6は置換されていてもよいアリール基ま
たは複素環残基を意味する。 また特定の原料酸の他のクラスは次の一般式
()で表わされる。 R7−COOH () 式中R7は3−(ハロゲン置換または非置換フエ
ニル)−5−メチルイソオキサゾール−4−イル
基を意味する。 一般式()〜()における複素環残基また
は複素環チオ基の複素環とは、2−チエニル、3
−チエニル、テトラゾール−1−イル、ピリジン
−4−イル、フリル基などが好ましい例である。 このようなアシル化剤の原料酸の具体例として
は、例えばフエニル酢酸、α−フエノオキシ酢
酸、α−フエノオキシプロピオン酸、α−フエノ
オキシ酪酸、ジフエノオキシ酢酸、ジフエニル酢
酸、ナフチル酢酸、ナフトオキシ酢酸、α−アミ
ノフエニル酢酸、α−クロロフエニル酢酸、α−
ブロモフエニル酢酸、α−アジドフエニル酢酸、
マンデル酸、α−アシルオキシフエニル酢酸、α
−メチルチオフエニル酢酸、α−エトオキシカル
ボニルフエニル酢酸、α−アリールオキシカルボ
ニルフエニル酢酸、チエニル酢酸、フリル酢酸、
(1・2・4−トリアゾール−3−イル)酢酸、
(1H−1・2・3・4−テトラゾール−1−イ
ル)酢酸、α−オキソフリール酢酸、α−オキソ
チエニル酢酸、α−ヒドロキシチエニル酢酸、α
−ホルミルオキシチエニル酢酸、α−ホルミルオ
キシフエニル酢酸、α−オキシカルボニルフエニ
ル酢酸、α−スルホフエニル酢酸、α−アミノ−
(2・5−シクロヘキサジエン−2−イル)酢
酸、α−クロロメトキシカルボニルアミノ−p−
ヒドロキシフエニル酢酸、α−N−(4−オキソ
−4H−ピラン−3−イル−カルボニルアミノ)−
p−ヒドロキシフエニル酢酸、α−N−(4−オ
キソ−4H−チオピラン−3−イル−カルボニル
アミノ)−p−ヒドロキシフエニル酢酸、α−N
−(4−オキソ−4H−チオピラン−3−イル−カ
ルボニルアミノ)−フエニル酢酸、α−N−(4−
ヒドロキシニコチノイルアミノ)−p−ヒドロキ
シフエニル酢酸、α−N−(4−ヒドロキシニコ
チノイルアミノ)フエニル酢酸、α−(ホルミル
アミノ)−p−ヒドロキシフエニル酢酸、α−ホ
ルミルアミノフエニル酢酸、α−ホルミルアミノ
−(2・5−シクロヘキサジエン−2−イル)酢
酸などが挙げられる。 これらの原料酸は、通常混合酸無水物、酸ハラ
イド、酸活性エステル、酸アジド、酸シアニド、
酸活性アミドなどのような反応性誘導体の形でア
シル化剤として使用される。好ましいアシル化剤
としては酸塩化物、混合酸無水物などが挙げられ
る。 さらに混合酸無水物としては、例えば置換酢
酸、アルキル炭酸、アリール炭酸、アラルキル炭
酸との混合酸無水物が挙げられる。活性エステル
としては、例えばシアノメチルエステル、置換フ
エニルエステル、置換ベンジルエステル、置換チ
エニルエステルなどが挙げられる。また酸活性ア
ミドとしては、例えば、N−アシルサツカリン、
N−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾイル
アミド、N・N−ジシクロヘキシル−N−アシル
尿素、N−アシルスルホンアミドなどがあげられ
る。 なお容易に除去しうる保護基で保護されたアミ
ノ基における保護基の好適な例として、1−N・
N−ジメチルカルバモイルプロペン−2−イル、
1−モルホリノカルボニルプロペン−2−イル、
1−メトキシカルボニルプロペン−2−イル、1
−エトキシカルバモイルプロペン−2−イル、1
−アセチル−プロペン−2−イル、2・2・2−
トリクロルエトキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、クロロアセチル、ブロモアセチル、ホ
ルミルなどが挙げられる。 次いでこの発明に使用されるpKb3.20以下でか
つ総炭素数4〜16個で少なくとも1個の分枝炭素
を有する第2アミノンは、この発明の基本となる
べき重要なものである。ここで“分枝炭素鎖”と
は、例えばイソプロピル基やシクロヘキシル基に
おける分枝炭素鎖を意味する。このアミンは対称
アミンであつても混成アミンであつてもよい。 その具体例としては、ジイソプロピルアミン、
ジ−sec−ブチルアミン、ジ−t−ブチルアミ
ン、ジ−(1−メチルブチル)アミン、ジ−t−
アミルアミン、ジイソアミルアミン、ジネオペン
チルアミン、ジオクチルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミン、メチル−イソプロピルアミン、メチル
−イソアミルアミン、エチル−イソブチルアミ
ン、エチル−イソアミルアミン、プロピル−イソ
ブチルアミン、プロピル−イソアミルアミン、ブ
チル−イソブチルアミンなどが挙げられる。この
うち特に好ましいものはジシクロヘキシルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、ジ−sec−ブチルア
ミンまたはジオクチルアミンである。 以上のようなアミンの使用量は、アミノ−β−
ラクタムカルボン酸類()の1モルに対し、
1.05〜3モル、特に1.1〜2.0モルであるのが好ま
しい。化合物()は、この使用量によつて下記
のような不活性有機溶媒に溶解し、その溶液はシ
リル化剤との混合酸無水物の形成および続いて行
うアシル化反応の目的を達するのに用いることが
できる。ここで若干過剰のアミンが存在するが、
これアシル化剤の酸受容体として役立つであろ
う。 不活性有機溶媒としては、塩化メチレン、塩化
エチレン、塩化プロピレン、塩化トリメチレン、
クロロホルム、テトラクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、酢酸エチル、アセトニトリル、クロ
ルベンゼンなどが挙げられる。これらの有機溶媒
は、例えば塩化メチレンとテトラヒドロフラン、
クロロホルムとジオキサンの組合せのような混合
系であつてもよい。またこれらの有機溶媒は無水
にして使用される。 さらに有機溶媒の使用量は、アミノ−β−ラク
タムカルボン酸類()の種類およびこの発明に
よる前記アミンの種類によつて変るが、通常
()に対して10〜50倍容量でこの発明の目的を
達することができる。 この発明の反応は通常、アミノ−β−ラクタム
カルボン酸類()を好ましくは微粉末に粉砕し
て乾燥し、これに前述の如き有機溶媒と所定量の
アミンとを加えて冷時撹拌して溶液とし、この溶
液をそのままシリル化剤と反応させる。しかしア
ミノ−β−ラクタムカルボン酸類()の種類に
ついては、この溶液は溶媒を減圧で除去し化合物
()とアミンとの塩を形成させ、所望の有機溶
媒に再溶解して使用してもよい。可溶化は室温、
好ましくは0〜20℃、より好ましくは0〜10℃の
温度で行い、反応時間は10〜30分である。 このようにして得られた化合物()の塩の溶
液を室温または氷冷下、好ましくは−20〜30℃の
温度でシリカゲル化剤を反応さす。この反応は乾
燥窒素気流中で行うのが望ましい。シリル化剤の
使用量はアシル化剤の種類により多少異なる。ア
シル化剤が酸ハライドの場合原料化合物()の
1モルに対し、トリ置換ハロゲノシラン類は1.2
〜3.0モル好ましくは1.3〜1.8モルで、ジ置換ジハ
ロゲノシラン類はその半分モル比である。また酸
無水物の場合は、トリ置換ハロゲノシラン類で
1.8〜3.0モル好ましくは2.0〜2.5モルであり、ジ
置換ジハロゲノシラン類はその半分モルである。 一方アシル化剤は原料のカルボン酸を使用直前
に前記の如き反応性誘導体に導いて作られる事が
多い。その際前記のような有機溶媒を用いてアシ
ル化剤を調整し、そのままアシル化反応に用いる
のが好都合である。この発明のアシル化反応は−
40〜40℃、好ましくは−30〜30℃の温度で1〜6
時間行われる。このアシル化反応は、酸結合剤を
添加して行うのが好ましい。その例としてはピリ
ジン及びその同族体、N・N−ジメチルアニリン
及びその同族体、キノリン及びその同族体等が挙
げられる。尚以上の反応は無水条件で行う必要が
ある。次いでこれに室温又は冷却下で水又はアル
コール類、たとえばメチルアルコール、エチルア
ルコール、プロピルアルコール、ブタノール等を
添加してシリル基を分解させることによつて所望
の目的物を高収率で得ることができる。 この生成物が例えば保護されたアミノ基を有す
る場合はそれ自体公知の方法で保護基の除去を行
えば、遊離アミノ基を有する化合物に導くことが
できる。また例えば原料のカルボン酸のフエニル
基上の置換分が易分解性のエステル化されたカル
ボキシ基である化合物、カルボン酸の2位の置換
分が易分解性のアシルオキシ基である化合物など
は、当該分野で公知の方法でエステル部分、アシ
ル部分を除去することができる。 なおセフアロスポリン類の種類によつては、こ
の発明の反応を行つた後、例えば3位の置換反応
に付して有用な化合物とすることができる。 さらにこの発明で得られる目的物は常法により
対応する塩、特に医薬的に受容な塩に導くことが
できる。 以上説明したようなこの発明の方法は、目的物
が高収率で得られ、使用する試剤が比較的安価で
あり、且つ反応後の後処理が簡単であるなどの利
点を有し、工業的に極めて価値ある方法であると
考えられる。 この発明の方法に従つて得ることができる代表
的なセフアロスポリンとしては例えばセフアロチ
ン、セフアゾリン、セフアトリジン、セフアセト
リール、セフアピリン、セフアマンドール、O−
ホルミル−セフアマンドール、セフロキシム、セ
フラジン、セフアレキシン、セホキチン、セフア
ノン等が挙げられる。 次にこの発明の方法を参考例および実施例によ
つて説明する。 参考例 乾燥した微粉末の7−アミノセフアロスポラン
酸(7−ACA)、7−アミノデアセトキシセフア
ロスポラン酸(7−ACA)および7−アミノ−
3−(5−メチル−1・3・4−チアジアゾール
−2−イル−チオメチル)−3−セフエム−4−
カルボン酸(7−AMTCA)の各1ミリモルを新
しく精製した塩化メチレン5mlにそれぞれ懸濁
し、代表的な塩基とマグネテイツクスターラーで
撹拌し、溶解に要した時間を測定した。その結果
を表1に示す。但し、7−ACA、7−ADCAお
よび7−AMTCAは0℃で行つた。 なお比較対象の塩基としてトリエチルアミンを
使用した。
【表】
【表】
実施例 1
乾燥した微粉末の7−アミノセフアロスポラン
酸(純度98%)1.09g(4ミリモル)を塩化メチ
レン30mlに懸濁し、氷冷下ジイソプロピルアミン
0.65g(6.4ミリモル)を加え撹拌して溶液にし
た。 これにジメチルアニリン0.58g(4.8ミリモ
ル)を加え、ついでトリメチルクロルシラン0.69
g(6.4ミリモル)を含む塩化メチレン5mlの溶
液を滴下し氷冷下約1時間撹拌してほぼ均一な溶
液を得た。 これに2−チエニルアセチルクロリド0.71g
(4.4ミリモル)を含む塩化メチレン10mlの溶液を
滴下し、0℃で30分間、ついで徐々に昇温させ20
〜30℃で約3時間撹拌した。薄層クロマトグラフ
イー(ブタノール:酢酸:水=4:1:1、沃化
アジド液噴霧後加熱)で反応の進行状況を追跡し
た。 反応終了後は、減圧下で大部分の溶媒を留去
し、酢酸エチル20mlを加え、2規定塩酸でPH2.0
に調整した。有機層を分取し、水層は数回酢酸エ
チルで抽出した。有機層を合せ、少量の食塩水で
数回洗い、乾燥した。この溶液は、減圧下で濃縮
し、約5分の1量とした。残液に酢酸ナトリウム
0.33g(4ミリモル)を含む濃厚水溶液を加えて
撹拌すると白色結晶が析出した。 結晶を集め、常法により含水アセトンから再結
晶して、7−(2−チエニルアセタミド)−3−ア
セトキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(セフアロチン)のナトリウム塩1.61g(96%)
を得た。 このものゝ遊離酸はmp156℃(分解)で、その
赤外部及び紫外線部吸収スペクトルは標品と一致
した。 上記の反応で塩化メチレンの代りに、無水クロ
ロホルムを用いてもほぼ同様の結果を得た。 実施例 2 実施例1におけるトリメチルクロルシラン0.69
g(6.4ミリモル)の代りに、下記の試薬を用い
実施例1に従つて反応させ処理した。セフアロチ
ンのナトリウム塩の収率を下表に示す。
酸(純度98%)1.09g(4ミリモル)を塩化メチ
レン30mlに懸濁し、氷冷下ジイソプロピルアミン
0.65g(6.4ミリモル)を加え撹拌して溶液にし
た。 これにジメチルアニリン0.58g(4.8ミリモ
ル)を加え、ついでトリメチルクロルシラン0.69
g(6.4ミリモル)を含む塩化メチレン5mlの溶
液を滴下し氷冷下約1時間撹拌してほぼ均一な溶
液を得た。 これに2−チエニルアセチルクロリド0.71g
(4.4ミリモル)を含む塩化メチレン10mlの溶液を
滴下し、0℃で30分間、ついで徐々に昇温させ20
〜30℃で約3時間撹拌した。薄層クロマトグラフ
イー(ブタノール:酢酸:水=4:1:1、沃化
アジド液噴霧後加熱)で反応の進行状況を追跡し
た。 反応終了後は、減圧下で大部分の溶媒を留去
し、酢酸エチル20mlを加え、2規定塩酸でPH2.0
に調整した。有機層を分取し、水層は数回酢酸エ
チルで抽出した。有機層を合せ、少量の食塩水で
数回洗い、乾燥した。この溶液は、減圧下で濃縮
し、約5分の1量とした。残液に酢酸ナトリウム
0.33g(4ミリモル)を含む濃厚水溶液を加えて
撹拌すると白色結晶が析出した。 結晶を集め、常法により含水アセトンから再結
晶して、7−(2−チエニルアセタミド)−3−ア
セトキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
(セフアロチン)のナトリウム塩1.61g(96%)
を得た。 このものゝ遊離酸はmp156℃(分解)で、その
赤外部及び紫外線部吸収スペクトルは標品と一致
した。 上記の反応で塩化メチレンの代りに、無水クロ
ロホルムを用いてもほぼ同様の結果を得た。 実施例 2 実施例1におけるトリメチルクロルシラン0.69
g(6.4ミリモル)の代りに、下記の試薬を用い
実施例1に従つて反応させ処理した。セフアロチ
ンのナトリウム塩の収率を下表に示す。
【表】
実施例 3
実施例1におけるジイソプロピルアミン6.4ミ
リモル(0.65g)の代りに同ミリモルのジシクロ
ヘキシルアミン(1.16g)およびジイソオクチル
アミン(1.54g)をそれぞれ用い、実施例1に従
つて反応させ処理した。その際のセフアロチンの
ナトリウム塩の収率はそれぞれ94%、85%であつ
た。 実施例 4 乾燥した微粉末の7−アミノ−3−(5−メチ
ル−1・3・4−チアジアゾール−2−イル−チ
オメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸1.38
gを塩化メチレン30mlに懸濁し、ジイソプロピル
アミン0.61gを加え氷冷下撹拌した。得られた溶
液にN・N−ジメチルアニリン0.58gとトリメチ
ルクロルシラン0.69gを加えて、0℃で20分間、
ついで室温で約30分間撹拌してほぼ均一な溶液と
した。 この溶液を氷冷し、(1H−1・2・3・4−テ
トラゾール−1−イル)アセチルクロリド0.64g
を含む塩化メチレン5mlの溶液を加え、0℃で30
分間室温で約2時間撹拌した。反応の進行状況は
実施例1と同様に薄層クロマトグラフイーで追跡
した。 反応終了液は、氷冷し、減圧下で大部分の溶媒
を留去し、酢酸エチル30mlを加え、ついで氷冷下
撹拌しつつ2規定塩酸でPH2.0に調整した。有機
層を分取し、水層は酢酸エチルで数回抽出した。
有機層を合せて、少量の食塩水で洗い、乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去し、溶液量を約2分の1
とし、これに酢酸ナトリウム0.33g含有の濃厚水
溶液を加え、撹拌すると結晶が析出した。 析出結晶を含水アセトンから再結晶して、7−
〔(1H−1・2・3・4−テトラゾール−1−イ
ル)−アセタミド〕−3−(5−メチル−1・3・
4−チアジアゾール−2−イル−チオメチル)−
3−セフエム−4−カルボン酸(セフアゾリン)
のナトリウム塩1.81g(95%)を得た。 このものゝ遊離酸はmp178℃(分解)で、その
赤外部及び紫外部吸収スペクトルならびに薄層ク
ロマトグラムは標品と一致した。 実施例 5 乾燥した微粉末の7−アミノデアセトキシセフ
アロスポラン酸(純度99%)0.86gを塩化メチレ
ン20mlに懸濁し、氷冷下ジイソプロピルアミン
1.00gを加え、撹拌して溶解し、減圧下で溶媒を
留去した。 残渣は氷冷下塩化メチレンに再溶解し、ジイソ
プロピルアミン0.20gとN・N−ジメチルアニリ
ン0.58gを加えた。これにトリメチルクロルシラ
ン0.74gを含む塩化メチレン5mlの溶液を滴下
し、氷冷下20分間ついで室温で30分間撹拌してほ
ぼ均一な溶液を得た。 この溶液に氷冷下撹拌しつゝフエニルアセチル
クロリド0.71gを含む塩化メチレン5mlの溶液を
滴下する。氷冷下で30分間、ついで徐々に昇温さ
せて室温で約2時間撹拌して反応させた。反応進
行状況は薄層クロマトグラフイーで追跡した。 反応終了液は氷水10mlと酢酸エチル20mlを加
え、6規定の塩酸でPH2.0に調整し、有機層を分
取した。水層は塩化メチレンで数回抽出した。有
機層を合せ、食塩水で洗い、乾燥し、溶媒を減圧
留去して固体を得た。 本品を酢酸エチル5mlに溶解し、酢酸ナトリウ
ム0.33gを含む濃厚水溶液を加え撹拌すると白色
結晶が析出した。これを含水アセトンから再結晶
し、7−フエニルアセタミド−3−メチル−3−
セフエム−4−カルボン酸のナトリウム塩1.26g
(95%)を得た。 このものゝ遊離酸はmp191〜193℃(分解)
で、その薄層クロマトグラム、ならびに赤外部お
よび紫外部吸収スペクトルは標品と一致した。 上記の反応でトリメチルクロルシラン0.74gの
代りに、ジメチルジクロルシラン0.46gを用いる
と収率93%であつた。 実施例 6 7−アミノデアセトキシセフアロスポラン酸
0.86gから導いたジイソプロピルアミン塩を氷冷
下塩化メチレン30mlに溶解し、N・N−ジメチル
アニリン0.97gとトリメチルシリルクロリド0.70
gを加え、常法により溶液にした。 これに新しく精製した微粉末のD−α−アミノ
−フエニルアセチルクロリド塩酸塩(純度98%)
0.91gを一度に加え、0℃で20分間、ついで徐々
に昇温させて20〜30℃で約2時間反応させた。反
応は薄層クロマトグラフイーで追跡した。 反応終了後は、氷冷し、撹拌下にメタノール20
mlを加え、6規定塩酸でPH2.3に調整した。弱い
減圧で溶媒を約3分の1量まで濃縮した。不溶物
を除き、トリエチルアミンでPH5.0に調整し氷室
に1夜置いた。析出した固体を集め、メタノール
ついでアセトンで洗い乾燥して、セフアレキシン
の1水和物の粗結晶1.36g(93%)を得た。 本品をメタノール中で塩酸を用いて溶かし、ト
リエチルアミンで析出させ精製し、1.23g(84
%)を得た。このものゝ薄層クロマトグラムなら
びに赤外部および紫外部吸収スペクトルは標品と
一致した。 全ての母液を集め、水20mlを加え、有機溶媒の
大部分を減圧で留去し、6規定塩酸でPH4.0に調
整後少量のアセトンとキノリン0.15gを加え氷冷
下撹拌した。析出した結晶を集め、含水アセト
ン、アセトンの順に洗い、乾燥してセフアレキシ
ンのキノリン付加物(1:1として)0.23g(12
%)を得た。合計収率は96%であつた。 実施例 7 実施例6におけるD−α−アミノフエニルアセ
チルクロリド塩酸塩の代りにD−α−アミノ−
1・4−シクロヘキサジエニルアセチルクロリド
塩酸塩を用いて、実施例6に従つて反応させ処理
して7−(D−α−アミノ−1・4−シクロヘキ
サジエニルアセタミド)−3−メチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(セフラジン)を収率81
%、キノリン付加物14%、合計収率95%で得た。 本品の薄層クロマトグラム、赤外部および紫外
部吸収スペクトルは標品と一致した。 実施例 8 7−アミノデアセトキシセフアロスポラン酸
0.86gをジイソプロピルアミン0.93gとN・N−
ジメチルアニリン0.24gと共に塩化メチレン30ml
に加え、氷冷下撹拌して溶液とした。 これにトリメチルクロルシラン1.00gを塩化メ
チレン5mlに溶かした溶液を撹拌下に滴下した。
0℃で10分間、ついで20〜30℃で約30分間撹拌し
てほぼ均一な溶液を得た。 一方乾燥した、微粉末のD−N−(N′−モルホ
リノ−カルボニル−プロペン−2−イル)−α−
アミノフエニル酢酸のナトリウム塩1.43gを塩化
メチレン20mlに懸濁し、−40℃に冷却した後、N
−メチルモルホリン2滴を加え、ついでクロル炭
酸エチル0.48gを含む塩化メチレン5mlの溶液を
滴下した。さらに同温度で90分間撹拌して混合酸
無水物を作つた。 この溶液に上記の調整した溶液を滴下した。−
40〜−30℃で3時間、ついで−30〜−20℃で30分
間撹拌しながら反応させた。これにトリエチルア
ミン0.60gを含むメタノール20mlを加え、−20℃
で約30分間撹拌した。 析出結晶を集め、少量のメタノールで洗つた。
中間体をメタノール15mlに懸濁し、氷冷下6規定
塩酸を用いPH2.0に調整しながら30分間撹拌し
た。不溶物を除き、トリエチルアミンで等電点に
調整しセフアレキシンの1水和物1.14g(収率78
%)を得た。 実施例 9 乾燥した微粉末の7−アミノ−3−(5−メチ
ル−1・3・4−チアジアゾール−2−イル−チ
オメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸1.38
gを氷冷下塩化メチレン20mlに懸濁し、ジイソプ
ロピルアミン0.89gとN・N−ジメチルアニリン
0.24gを加え、撹拌して溶液にした。 これにトリメチルクロルシラン1.00gを含む塩
化メチレン5mlの溶液を加え、0℃で20分間、つ
いで室温で約30分間反応させてほぼ均一な溶液を
得た。 一方D−α−(4−オキソ−4H−チアピラン−
3−イル−カルボニルアミノ)−p−ヒドロキシ
フエニル酢酸1.22gをテトラヒドロフラン30mlに
溶解し、N−メチルモルホリン0.44gを加え撹拌
した。これを−10℃に冷し、クロル炭酸エチル
0.46gを含む塩化メチレン5mlの溶液を滴下し、
−10℃で90分間撹拌して混合酸無水物を作り−40
℃に冷した。 この溶液に前記のシリル化合物の溶液を加え、
−40℃で2時間ついで−30〜−20℃で1時間撹拌
して反応させた。反応の進行状況は薄層クロマト
グラフイーで追跡した。 反応終了後、溶媒を減圧で留去して残渣に酢酸
エチル20mlと氷水10mlを加え、撹拌下5規定塩酸
でPH2.0に調整した。有機層を分取し、食塩水で
洗い乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、7−〔D
−α−(4−オキソ−4H−チアピラン−3−イル
−カルボニルアミノ)−p−ヒドロキシフエニル
アセタミド〕−3−(5−メチル−1・3・4−チ
アジアゾール−2−イル−チオメチル)−3−セ
フエム−4−カルボン酸の粗結晶2.32g(92%)
を得た。 本品の赤外吸収スペクトル:1775cm-1(β−ラ
クタム)、紫外部吸収スペクトルλmax284mμ
(エタノール)。 実施例 10 7−アミノデアセトキシセフアロスポラン酸
0.86gとジイソプロピルアミンとを塩化メチレン
20mlに加え、氷冷下撹拌して溶液にした。これに
ヘキサメチルジシラザン0.65gを加え、氷冷下1
時間撹拌後、減圧濃縮した。残渣にN・N−ジメ
チルアニリンと塩化メチレン20mlを加え氷冷下振
りまぜて溶液にした。この溶液にフエニルアセチ
ルクロリドの塩化メチレン5mlの溶液を撹拌下滴
下した。0℃で20分、室温で約2時間反応させ
た。後は常法に従い処理して、7−フエニルアセ
タミド−3−メチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸のナトリウム塩を収率94%で得た。 実施例 11 7−アミノデアセトキシセフアロスポラン酸
0.86g(4ミリモル)とN・N−ジメチルアニリ
ン0.79g(5.2ミリモル)とジイソプロピルアミ
ン0.52g(5.2ミリモル)を乾燥窒素ガス気流
中、氷冷下、塩化メチレン20ml中で約20分間撹拌
した。これにトリメチルシリルクロリド0.70g
(6.4ミリモル)を含む塩化メチレン5mlの溶液を
加え、氷冷下で10分間、次いで徐々に昇温させ、
終わりに短時間40℃で撹拌して均一な溶液にし
た。応応液は氷冷し撹拌しながらD−α−アミノ
−フエニルアセチルクロリド塩酸塩0.91g(4.4
ミリモル)を一度に投入し、次いで昇温させ室温
(20〜30℃)で約2時間反応させた。全工程は窒
素ガス気流中で行つた。薄層クロマトグラフイー
で反応を追跡する。反応終了後、反応液は常法に
従つて処理し、セフアレキシンの粗結晶を得た。
これを常法により精製してセフアレキシン1水和
物1.24g(85%)を得た。 結晶母液はすべて集め、キノリン付加物として
回収した。収率11%合計収率96%。 上記の反応でトリメチルシリルクロリド(6.4
ミリモル)のかわりにジメチルシリルジクロリド
(3.3ミリモル)を用いて反応させ処理するとセフ
アレキシン1水和物を収率84%、キノリン付加物
を収率11%で得た。
リモル(0.65g)の代りに同ミリモルのジシクロ
ヘキシルアミン(1.16g)およびジイソオクチル
アミン(1.54g)をそれぞれ用い、実施例1に従
つて反応させ処理した。その際のセフアロチンの
ナトリウム塩の収率はそれぞれ94%、85%であつ
た。 実施例 4 乾燥した微粉末の7−アミノ−3−(5−メチ
ル−1・3・4−チアジアゾール−2−イル−チ
オメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸1.38
gを塩化メチレン30mlに懸濁し、ジイソプロピル
アミン0.61gを加え氷冷下撹拌した。得られた溶
液にN・N−ジメチルアニリン0.58gとトリメチ
ルクロルシラン0.69gを加えて、0℃で20分間、
ついで室温で約30分間撹拌してほぼ均一な溶液と
した。 この溶液を氷冷し、(1H−1・2・3・4−テ
トラゾール−1−イル)アセチルクロリド0.64g
を含む塩化メチレン5mlの溶液を加え、0℃で30
分間室温で約2時間撹拌した。反応の進行状況は
実施例1と同様に薄層クロマトグラフイーで追跡
した。 反応終了液は、氷冷し、減圧下で大部分の溶媒
を留去し、酢酸エチル30mlを加え、ついで氷冷下
撹拌しつつ2規定塩酸でPH2.0に調整した。有機
層を分取し、水層は酢酸エチルで数回抽出した。
有機層を合せて、少量の食塩水で洗い、乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去し、溶液量を約2分の1
とし、これに酢酸ナトリウム0.33g含有の濃厚水
溶液を加え、撹拌すると結晶が析出した。 析出結晶を含水アセトンから再結晶して、7−
〔(1H−1・2・3・4−テトラゾール−1−イ
ル)−アセタミド〕−3−(5−メチル−1・3・
4−チアジアゾール−2−イル−チオメチル)−
3−セフエム−4−カルボン酸(セフアゾリン)
のナトリウム塩1.81g(95%)を得た。 このものゝ遊離酸はmp178℃(分解)で、その
赤外部及び紫外部吸収スペクトルならびに薄層ク
ロマトグラムは標品と一致した。 実施例 5 乾燥した微粉末の7−アミノデアセトキシセフ
アロスポラン酸(純度99%)0.86gを塩化メチレ
ン20mlに懸濁し、氷冷下ジイソプロピルアミン
1.00gを加え、撹拌して溶解し、減圧下で溶媒を
留去した。 残渣は氷冷下塩化メチレンに再溶解し、ジイソ
プロピルアミン0.20gとN・N−ジメチルアニリ
ン0.58gを加えた。これにトリメチルクロルシラ
ン0.74gを含む塩化メチレン5mlの溶液を滴下
し、氷冷下20分間ついで室温で30分間撹拌してほ
ぼ均一な溶液を得た。 この溶液に氷冷下撹拌しつゝフエニルアセチル
クロリド0.71gを含む塩化メチレン5mlの溶液を
滴下する。氷冷下で30分間、ついで徐々に昇温さ
せて室温で約2時間撹拌して反応させた。反応進
行状況は薄層クロマトグラフイーで追跡した。 反応終了液は氷水10mlと酢酸エチル20mlを加
え、6規定の塩酸でPH2.0に調整し、有機層を分
取した。水層は塩化メチレンで数回抽出した。有
機層を合せ、食塩水で洗い、乾燥し、溶媒を減圧
留去して固体を得た。 本品を酢酸エチル5mlに溶解し、酢酸ナトリウ
ム0.33gを含む濃厚水溶液を加え撹拌すると白色
結晶が析出した。これを含水アセトンから再結晶
し、7−フエニルアセタミド−3−メチル−3−
セフエム−4−カルボン酸のナトリウム塩1.26g
(95%)を得た。 このものゝ遊離酸はmp191〜193℃(分解)
で、その薄層クロマトグラム、ならびに赤外部お
よび紫外部吸収スペクトルは標品と一致した。 上記の反応でトリメチルクロルシラン0.74gの
代りに、ジメチルジクロルシラン0.46gを用いる
と収率93%であつた。 実施例 6 7−アミノデアセトキシセフアロスポラン酸
0.86gから導いたジイソプロピルアミン塩を氷冷
下塩化メチレン30mlに溶解し、N・N−ジメチル
アニリン0.97gとトリメチルシリルクロリド0.70
gを加え、常法により溶液にした。 これに新しく精製した微粉末のD−α−アミノ
−フエニルアセチルクロリド塩酸塩(純度98%)
0.91gを一度に加え、0℃で20分間、ついで徐々
に昇温させて20〜30℃で約2時間反応させた。反
応は薄層クロマトグラフイーで追跡した。 反応終了後は、氷冷し、撹拌下にメタノール20
mlを加え、6規定塩酸でPH2.3に調整した。弱い
減圧で溶媒を約3分の1量まで濃縮した。不溶物
を除き、トリエチルアミンでPH5.0に調整し氷室
に1夜置いた。析出した固体を集め、メタノール
ついでアセトンで洗い乾燥して、セフアレキシン
の1水和物の粗結晶1.36g(93%)を得た。 本品をメタノール中で塩酸を用いて溶かし、ト
リエチルアミンで析出させ精製し、1.23g(84
%)を得た。このものゝ薄層クロマトグラムなら
びに赤外部および紫外部吸収スペクトルは標品と
一致した。 全ての母液を集め、水20mlを加え、有機溶媒の
大部分を減圧で留去し、6規定塩酸でPH4.0に調
整後少量のアセトンとキノリン0.15gを加え氷冷
下撹拌した。析出した結晶を集め、含水アセト
ン、アセトンの順に洗い、乾燥してセフアレキシ
ンのキノリン付加物(1:1として)0.23g(12
%)を得た。合計収率は96%であつた。 実施例 7 実施例6におけるD−α−アミノフエニルアセ
チルクロリド塩酸塩の代りにD−α−アミノ−
1・4−シクロヘキサジエニルアセチルクロリド
塩酸塩を用いて、実施例6に従つて反応させ処理
して7−(D−α−アミノ−1・4−シクロヘキ
サジエニルアセタミド)−3−メチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(セフラジン)を収率81
%、キノリン付加物14%、合計収率95%で得た。 本品の薄層クロマトグラム、赤外部および紫外
部吸収スペクトルは標品と一致した。 実施例 8 7−アミノデアセトキシセフアロスポラン酸
0.86gをジイソプロピルアミン0.93gとN・N−
ジメチルアニリン0.24gと共に塩化メチレン30ml
に加え、氷冷下撹拌して溶液とした。 これにトリメチルクロルシラン1.00gを塩化メ
チレン5mlに溶かした溶液を撹拌下に滴下した。
0℃で10分間、ついで20〜30℃で約30分間撹拌し
てほぼ均一な溶液を得た。 一方乾燥した、微粉末のD−N−(N′−モルホ
リノ−カルボニル−プロペン−2−イル)−α−
アミノフエニル酢酸のナトリウム塩1.43gを塩化
メチレン20mlに懸濁し、−40℃に冷却した後、N
−メチルモルホリン2滴を加え、ついでクロル炭
酸エチル0.48gを含む塩化メチレン5mlの溶液を
滴下した。さらに同温度で90分間撹拌して混合酸
無水物を作つた。 この溶液に上記の調整した溶液を滴下した。−
40〜−30℃で3時間、ついで−30〜−20℃で30分
間撹拌しながら反応させた。これにトリエチルア
ミン0.60gを含むメタノール20mlを加え、−20℃
で約30分間撹拌した。 析出結晶を集め、少量のメタノールで洗つた。
中間体をメタノール15mlに懸濁し、氷冷下6規定
塩酸を用いPH2.0に調整しながら30分間撹拌し
た。不溶物を除き、トリエチルアミンで等電点に
調整しセフアレキシンの1水和物1.14g(収率78
%)を得た。 実施例 9 乾燥した微粉末の7−アミノ−3−(5−メチ
ル−1・3・4−チアジアゾール−2−イル−チ
オメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸1.38
gを氷冷下塩化メチレン20mlに懸濁し、ジイソプ
ロピルアミン0.89gとN・N−ジメチルアニリン
0.24gを加え、撹拌して溶液にした。 これにトリメチルクロルシラン1.00gを含む塩
化メチレン5mlの溶液を加え、0℃で20分間、つ
いで室温で約30分間反応させてほぼ均一な溶液を
得た。 一方D−α−(4−オキソ−4H−チアピラン−
3−イル−カルボニルアミノ)−p−ヒドロキシ
フエニル酢酸1.22gをテトラヒドロフラン30mlに
溶解し、N−メチルモルホリン0.44gを加え撹拌
した。これを−10℃に冷し、クロル炭酸エチル
0.46gを含む塩化メチレン5mlの溶液を滴下し、
−10℃で90分間撹拌して混合酸無水物を作り−40
℃に冷した。 この溶液に前記のシリル化合物の溶液を加え、
−40℃で2時間ついで−30〜−20℃で1時間撹拌
して反応させた。反応の進行状況は薄層クロマト
グラフイーで追跡した。 反応終了後、溶媒を減圧で留去して残渣に酢酸
エチル20mlと氷水10mlを加え、撹拌下5規定塩酸
でPH2.0に調整した。有機層を分取し、食塩水で
洗い乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、7−〔D
−α−(4−オキソ−4H−チアピラン−3−イル
−カルボニルアミノ)−p−ヒドロキシフエニル
アセタミド〕−3−(5−メチル−1・3・4−チ
アジアゾール−2−イル−チオメチル)−3−セ
フエム−4−カルボン酸の粗結晶2.32g(92%)
を得た。 本品の赤外吸収スペクトル:1775cm-1(β−ラ
クタム)、紫外部吸収スペクトルλmax284mμ
(エタノール)。 実施例 10 7−アミノデアセトキシセフアロスポラン酸
0.86gとジイソプロピルアミンとを塩化メチレン
20mlに加え、氷冷下撹拌して溶液にした。これに
ヘキサメチルジシラザン0.65gを加え、氷冷下1
時間撹拌後、減圧濃縮した。残渣にN・N−ジメ
チルアニリンと塩化メチレン20mlを加え氷冷下振
りまぜて溶液にした。この溶液にフエニルアセチ
ルクロリドの塩化メチレン5mlの溶液を撹拌下滴
下した。0℃で20分、室温で約2時間反応させ
た。後は常法に従い処理して、7−フエニルアセ
タミド−3−メチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸のナトリウム塩を収率94%で得た。 実施例 11 7−アミノデアセトキシセフアロスポラン酸
0.86g(4ミリモル)とN・N−ジメチルアニリ
ン0.79g(5.2ミリモル)とジイソプロピルアミ
ン0.52g(5.2ミリモル)を乾燥窒素ガス気流
中、氷冷下、塩化メチレン20ml中で約20分間撹拌
した。これにトリメチルシリルクロリド0.70g
(6.4ミリモル)を含む塩化メチレン5mlの溶液を
加え、氷冷下で10分間、次いで徐々に昇温させ、
終わりに短時間40℃で撹拌して均一な溶液にし
た。応応液は氷冷し撹拌しながらD−α−アミノ
−フエニルアセチルクロリド塩酸塩0.91g(4.4
ミリモル)を一度に投入し、次いで昇温させ室温
(20〜30℃)で約2時間反応させた。全工程は窒
素ガス気流中で行つた。薄層クロマトグラフイー
で反応を追跡する。反応終了後、反応液は常法に
従つて処理し、セフアレキシンの粗結晶を得た。
これを常法により精製してセフアレキシン1水和
物1.24g(85%)を得た。 結晶母液はすべて集め、キノリン付加物として
回収した。収率11%合計収率96%。 上記の反応でトリメチルシリルクロリド(6.4
ミリモル)のかわりにジメチルシリルジクロリド
(3.3ミリモル)を用いて反応させ処理するとセフ
アレキシン1水和物を収率84%、キノリン付加物
を収率11%で得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式(): 〔式中、Yは水素原子またはメトキシ基のような
アルコキシ基;Qは水素原子、ハロゲン原子、メ
チル基、メトキシメチル基、アジドメチル基、低
級アシロキシメチル基、カルバモイルオキシメチ
ル基、あるいは置換基を有するかまたは有しない
複素環チオメチル基を示す〕 で表わされるアミノ−β−ラクタムカルボン酸に
不活性有機溶媒中シリル化剤を反応させ、得られ
る生成物をアシル化剤で処理してアシルアミド化
合物を得るに際し、一般式()の化合物を不活
性有機溶媒に溶解さすためにpKb3.20以下で且つ
総炭素数4〜16個で少なくとも1個の分枝炭素鎖
を有する第2アミンを使用することを特徴とする
アシルアミド化合物の製造方法。 2 第2アミンがジイソプロピルアミン、ジ−
sec−ブチルアミン、ジ−t−ブチルアミン、ジ
−(1−メチルブチル)アミン、ジ−t−アミル
アミン、ジイソアミルアミン、ジネオペンチルア
ミン、ジオクチルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、メチル−イソプロピルアミン、メチル−イソ
アミルアミン、エチル−イソブチルアミン、エチ
ル−イソアミルアミン、プロピル−イソブチルア
ミン、プロピル−イソアミルアミンまたはブチル
−イソブチルアミンである特許請求の範囲第1項
記載の方法。 3 第2アミンがジシクロヘキシルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、ジ−sec−ブチルアミンまた
はジオクチルアミンである特許請求の範囲第2項
記載の方法。 4 アシル化剤が一般式() 〔式中R1は置換されていてもよいアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アリールオキシ基、シ
クロアルケニル基、シクロアルキル基、複素環残
基、複素環チオ基、シアノ基またはハロゲノアル
キルチオ基;R2は水素原子、カルボキシ基もし
くはそれに変換しうる基(たとえばエステル化さ
れたカルボキシ基、塩にしたカルボキシ基)、ス
ルホ基もしくはそれに変換しうる基(たとえばエ
ステル化されたスルホ基)、アシルオキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基、ホルミルオキシ
基、置換または非置換カルバモイルオキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールカルボニル基、複素環カルボニル基、アミ
ノ基、容易に除去しうる保護基で保護されたアミ
ノ基、アシルアミノ基、ホルミルアミノ基、モノ
(またはジ)アルキルアミノ基またはモノ(また
はジ)アリールアミノ基、アジド基またはハロゲ
ン原子を示す〕 の反応性誘導体である特許請求の範囲第1項また
は第2項記載の方法。 5 アシル化剤が一般式() R3−CH2−COOH () (式中、R3はハロゲン原子、トリハロゲノメチル
チオ基、複素環残基、複素環チオ基またはシアノ
基を示す) の反応性誘導体である特許請求の範囲第4項記載
の方法。 6 アシル化剤が一般式() (式中、R4はフエニル基、ヒドロキシ置換フエニ
ル基、ヒドロキシ−アルコキシ置換フエニル基、
ヒドロキシ−アルキル置換フエニル基、ヒドロキ
シ−ハロゲン置換フエニル基、カルボキシ基もし
くはそれに変換しうる基で置換されたフエニル
基、複素環残基またはシクロアルケニル基を示
し、R5は容易に除去しうる保護基で保護された
アミノ基を示す。) の反応性誘導体である特許請求の範囲第4項記載
の方法。 7 アシル化剤が一般式() R6−CO−COOH () (式中、R6は置換されていてもよいアリール基ま
たは複素環残基を示す。) の反応性誘導体である特許請求の範囲第1項また
は第2項記載の方法。 8 アシル化剤が一般式() R7−COOH () (式中、R7は3−(ハロゲン置換または非置換フ
エニル)−5−メチルイソオキサゾール−4−イ
ル基を示す。) の反応性誘導体である特許請求の範囲第1項また
は第2項記載の方法。 9 有機溶媒として塩化メチレン、塩化エチレ
ン、塩化プロピレン、塩化トリメチレン、クロロ
ホルム、テトラクロルエタン、トリクロルエチレ
ン、テトラクロルエチレン、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエー
テル、酢酸エチル、アセトニトリル、クロルベン
ゼンまたはそれらの混合溶媒を用いる特許請求の
範囲第1項から第8項までのいずれかに記載の方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1072976A JPS5293791A (en) | 1976-02-02 | 1976-02-02 | Preparation of acylamides |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1072976A JPS5293791A (en) | 1976-02-02 | 1976-02-02 | Preparation of acylamides |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9128784A Division JPS59219290A (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | アシルアミド化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5293791A JPS5293791A (en) | 1977-08-06 |
| JPS6150953B2 true JPS6150953B2 (ja) | 1986-11-06 |
Family
ID=11758374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1072976A Granted JPS5293791A (en) | 1976-02-02 | 1976-02-02 | Preparation of acylamides |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5293791A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020213129A1 (ja) * | 2019-04-18 | 2020-10-22 | 三菱電機株式会社 | デバッグ支援装置、デバッグ支援方法、デバッグ支援プログラム |
-
1976
- 1976-02-02 JP JP1072976A patent/JPS5293791A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020213129A1 (ja) * | 2019-04-18 | 2020-10-22 | 三菱電機株式会社 | デバッグ支援装置、デバッグ支援方法、デバッグ支援プログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5293791A (en) | 1977-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3302369B2 (ja) | セファロスポリン合成 | |
| CS247081B2 (en) | Production method of cefemderivatives | |
| JPS5857387A (ja) | セフアロスポリン・キノリニウム・ベタイン類 | |
| US4714760A (en) | Cephalosporin intermediates | |
| EP0043546B1 (en) | 7-oxo-cephalosporins and 6-oxo-penicillins, their analogues and process for their preparation | |
| US4406898A (en) | Oxazole and oxadiazole cephalosporins | |
| US4245088A (en) | Novel 3-acyloxymethyl-cephem compounds useful as intermediates for preparing cephalosporin antibiotics | |
| EP0082498A2 (en) | Beta-lactam compounds and process for the preparation thereof | |
| US4382931A (en) | 3'-Substituted quinolinium cephalosporins | |
| GB2178032A (en) | Cephalosporanic acid derivatives | |
| US4247461A (en) | Esterification process using methoxymethyl-P-toluenesulfonate | |
| US4145540A (en) | 7β-Phosphoramido-7α-methoxycephalosporanic acid derivatives | |
| EP0051824B1 (en) | Improvement in the method for producing 7-aminocephem compounds | |
| JPS6150953B2 (ja) | ||
| US4868294A (en) | Process for preparing cephalosporin intermediates | |
| JP2662176B2 (ja) | 3−ビニルセファロスポリンの製造法 | |
| US4224441A (en) | Derivatives of 7-aminocephalosporanic acid | |
| JPH0521912B2 (ja) | ||
| US4323676A (en) | Process for preparing cephalosporins | |
| US5162522A (en) | Method for producing cephem compounds | |
| US4166178A (en) | 3-acyloxymethyl-cephem compounds | |
| JPS6150952B2 (ja) | ||
| CA1064478A (en) | 7-methoxycephalosporin derivatives | |
| EP0382268B1 (en) | New amino carboxylic acid derivatives | |
| EP0048169A2 (en) | Bis-tetrazoylmethyl substituted cephalosporin antibiotics, their preparation and pharmaceutical formulations containing them |