JPS6151550B2 - - Google Patents
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- JPS6151550B2 JPS6151550B2 JP54090030A JP9003079A JPS6151550B2 JP S6151550 B2 JPS6151550 B2 JP S6151550B2 JP 54090030 A JP54090030 A JP 54090030A JP 9003079 A JP9003079 A JP 9003079A JP S6151550 B2 JPS6151550 B2 JP S6151550B2
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- printing machine
- patterns
- plate
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は導体パターン、抵抗パターン等の厚膜
法あるいは薄膜法により形成された微細パターン
の修整装置に係わり、特に画線部のカケを修整す
る装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for correcting fine patterns such as conductor patterns and resistor patterns formed by a thick film method or a thin film method, and more particularly to an apparatus for correcting chips in image areas.
近年エレクトロニクス分野における電子部品、
表示装置等の導体パターンあるいは抵抗パターン
等の配線パターンの作製が非常に盛んになつてい
る。そしてこの様な配線パターンはほとんどの場
合、無欠陥を要求される。すなわち画線部のカ
ケ、非画線部の汚れ等があつてはならないもので
ある。ところが往々にして画線部のカケすなわち
断線等を生じ易く修整を行なわざるを得ない現状
である。以下詳述する。 In recent years, electronic components in the electronics field,
2. Description of the Related Art The production of wiring patterns such as conductor patterns or resistance patterns for display devices and the like is becoming very popular. In most cases, such wiring patterns are required to be defect-free. In other words, there must be no chipping in the printed areas, stains in the non-printed areas, etc. However, the current situation is that it is easy to cause chipping or disconnection of the drawing area, which necessitates correction. The details will be explained below.
エレクトロニクス分野における電子部品、表示
装置等の導体パターンあるいは抵抗パターンの作
製方法には厚膜法、薄膜法の2種類がある。まず
厚膜法につき述べる。 There are two types of methods for producing conductor patterns or resistor patterns for electronic components, display devices, etc. in the electronics field: a thick film method and a thin film method. First, we will discuss the thick film method.
厚膜法は一般的にはシルクスクリーン印刷など
で行なわれているが、印刷パターンは通常一般の
印刷に比べて非常に細かく、線幅が100〜200μm
程度のものが多く、空気中のゴミの影響、インキ
中の不純物等の為に無欠陥の印刷物を得る事は困
難であり、特に断線を生じ易い。更に最近はパタ
ーンが一層のフアインライン化を要求され、線幅
50ミクロン、ピツチ100ミクロンのものも印刷さ
れる様になつて来た為、欠陥もより生じ易くなつ
ている。 The thick film method is generally performed using silk screen printing, etc., but the printing pattern is usually much finer than that of regular printing, with a line width of 100 to 200 μm.
It is difficult to obtain defect-free printed matter due to the influence of dust in the air, impurities in the ink, etc., and wire breaks are particularly likely to occur. Furthermore, recently, patterns are required to have even finer lines, and the line width has increased.
As 50 micron and 100 micron pitches are now being printed, defects are becoming more likely to occur.
一方、薄膜法は、基板全面に蒸着法やめつき法
により形成した導電層を、写真エツチング法やリ
フト・オフプロセスにて部分的に除去して微細パ
ターン化する方法であるが、この薄膜法において
も、空気中のゴミ、レジスト中の不純物等により
さらにはまた厚膜法より一層細かいパターニング
を行なう為、断線を生じ易いのである。 On the other hand, the thin film method is a method in which a conductive layer formed on the entire surface of the substrate by vapor deposition or plating is partially removed using a photo etching method or lift-off process to form a fine pattern. However, wire breakage is more likely to occur due to dust in the air, impurities in the resist, etc., and because the patterning is finer than in the thick film method.
従来この様な欠陥はパターンニング作製後の検
査行程で発見され、細かい筆を用いてルーペなど
でのぞきながら、手で修整を行なつていた。この
様な手作業による修正法では、筆先を線幅なみに
細くし、インキを適量筆先に付着させ(インキが
少なすぎるとカスれて描けず、多いと太すぎる線
となり隣りの線まで達して短絡してしまう)ねば
ならず、また筆先のインキ量は非常に微量なので
素早く修整しないと筆先が乾いてしまう等非常に
困難であり、労力と時間と熟練を要したものであ
つた。例えば第1図aに示すような断線20を従
来法で修整すると修整部21は第1図bに示すよ
うな形態となり、第1図cに示すようなすつきり
とした理想的な形態の修整部22にはとてもなら
ないものであつた。 Conventionally, such defects were discovered during the inspection process after patterning was made, and were corrected by hand using a fine brush and looking through a magnifying glass. In this manual correction method, the tip of the brush is made as thin as the line width, and an appropriate amount of ink is applied to the tip of the brush (too little ink will cause it to smear and you will not be able to draw it, and if there is too much ink, the line will be too thick and may not reach the next line). Furthermore, since the amount of ink at the tip of the brush was very small, the tip of the brush would dry out if it was not corrected quickly, making it extremely difficult and requiring effort, time, and skill. For example, when a broken wire 20 as shown in FIG. 1a is repaired using the conventional method, the repair portion 21 becomes a shape as shown in FIG. It was hardly suitable for Section 22.
更には修整に使用するインキも筆書きに適した
ものにするため、厚膜法のパターン印刷に用いた
インキと異なる修整インキを使用せざるを得ない
場合も多く、修整部の基板に対する密着性も不十
分になり易かつた。また、第2図の如く、厚く盛
りがちであるため、後工程で、例えば絶縁層をオ
ーバーコートする際に絶縁不良のような欠陥が生
じる原因となる場合もあつた。そして修整したと
ころを再修整しなければならない場合も多く、能
率の面でも、信頼性の面でも問題があつた。 Furthermore, in order to make the ink used for retouching suitable for brush writing, it is often necessary to use a retouching ink that is different from the ink used for pattern printing using the thick film method, and the adhesion of the retouched area to the substrate may be affected. was also likely to be inadequate. Furthermore, as shown in FIG. 2, since the layer tends to be thick, it may cause defects such as poor insulation when overcoating an insulating layer in a later process. In many cases, it was necessary to retouch the areas that had been corrected, which caused problems in terms of efficiency and reliability.
本発明は上記欠点を解消する為に案出されたも
のであり、微細パターンの断線部分等のパターン
の欠落部分を発見すると共に修整するものであ
り、顕微鏡と印刷機を組合せた装置を使用して印
刷法によつて修整を行なうものである。本発明に
よれば熟練を要さずに、労力と時間をあまり使わ
ずに能率良く、正確な信頼性のある修整を行なえ
るものである。また特に厚膜法による微細パター
ンにおいてはインキは配線パターン作製と同じイ
ンキを使用する事ができるので、密着性などに問
題はなく、また修整個所の仕上りも第1図cの様
な理想的な形状に近い修整を行なえる。もちろん
オーバーラツプ部で若干の重なりを生じて膜厚も
厚くなるが、この程度の厚さムラは後工程で問題
をほとんど生じない。 The present invention was devised to eliminate the above-mentioned drawbacks, and is intended to detect and repair missing parts of patterns such as broken lines in fine patterns, and uses a device that combines a microscope and a printing machine. Corrections are made using the printing method. According to the present invention, it is possible to efficiently, accurately and reliably perform corrections without requiring skill and without using much labor and time. In addition, especially for fine patterns made using the thick film method, the same ink used for making wiring patterns can be used, so there is no problem with adhesion, and the finish of the repaired areas is ideal as shown in Figure 1c. You can make corrections close to the shape. Of course, there will be some overlap at the overlapped portion, resulting in a thicker film, but this level of thickness unevenness will hardly cause any problems in subsequent processes.
更には従来法ではせいぜい40〜50μ線幅のもの
しか修整できなかつたが、本発明によれば10μ程
度の修整も行なえるものである。 Further, while the conventional method could only modify a line width of 40 to 50 microns at most, the present invention allows modification of a line width of about 10 microns.
以下本発明による装置の詳細な説明を行なう。
第3図および第4図は、本発明による微細パター
ンの修正装置である。まず配線などの微細パター
ンが形成された物(以下“被修整物1”と称す
る)を検査台2の上に置き、顕微鏡5で観察しな
がら検査を行なう。 A detailed explanation of the apparatus according to the present invention will be given below.
3 and 4 show a fine pattern correction apparatus according to the present invention. First, an object on which a fine pattern such as wiring is formed (hereinafter referred to as "object to be repaired 1") is placed on an inspection table 2, and inspected while being observed with a microscope 5.
この際移動台6は、その左端を検査用当てピン
7に押し当てられ、正確に位置決めされている。
検査台2はX方向移動ステージ3とY方向移動ス
テージ4とを備えているものであり、それぞれ検
査台X方向移動ハンドル16、検査台Y方向移動
ハンドル17を有している。被修整物1は例えば
真空吸引等の手段でX方向移動ステージ3上で動
かぬよう固定されている。 At this time, the left end of the movable table 6 is pressed against the inspection abutment pin 7, and the movable table 6 is accurately positioned.
The inspection table 2 includes an X-direction movement stage 3 and a Y-direction movement stage 4, each of which has an examination table X-direction movement handle 16 and an examination table Y-direction movement handle 17. The object to be repaired 1 is fixed so as not to move on the X-direction moving stage 3 by means such as vacuum suction.
顕微鏡5はズーム付きの双眼顕微鏡が便利で、
図の実施例ではズーム式双眼実体顕微鏡(株)オリン
パス製modelszを用いている。欠陥の検出を能率
良く行なう為には倍率の比較的低いところで広い
面積を観察し、欠陥を見つけたら大きさ、形状を
確認する為にその部分を拡大する事が好ましい。
顕微鏡5の視野には第5図aに示すような形状の
スケール線11を具えてなり、検査台2上の被修
整物1をX,Y方向に移動させて観察し、欠陥を
発見したならば、第5図bに示すように欠陥個所
をスケール線11の交点の位置に合わせて(この
時、移動台6の左端はもちろん検査用当てピン7
に当接している)、しかる後X方向移動ステージ
3およびY方向移動ステージ4を動かないように
ロツク機構で固定する。 Microscope 5 is conveniently a binocular microscope with a zoom.
In the example shown in the figure, a zoom binocular stereomicroscope modelsz manufactured by Olympus Co., Ltd. is used. In order to efficiently detect defects, it is preferable to observe a wide area at a relatively low magnification, and when a defect is found, to enlarge the area to confirm the size and shape.
The field of view of the microscope 5 is equipped with a scale line 11 having a shape as shown in FIG. For example, as shown in FIG.
After that, the X-direction moving stage 3 and the Y-direction moving stage 4 are fixed by a lock mechanism so that they do not move.
本発明の修整装置にあつては、顕微鏡5のスケ
ール線11の交線の位置は次工程における修整用
印刷版のインキ付着物と合致するように、予めそ
の位置を設定してあるので、配線パターンの欠陥
個所をスケール線11の交線に合わせることは、
とりもなおさず、次工程の修整印刷の修整パター
ンと欠陥個所の見当合わせを行なつたことを意味
する。 In the retouching device of the present invention, the position of the intersection line of the scale line 11 of the microscope 5 is set in advance so that it coincides with the ink deposits on the retouching printing plate in the next step. Aligning the defective part of the pattern with the intersection of the scale lines 11 is as follows:
This simply means that the defective area has been registered with the correction pattern for the next process of correction printing.
次に基台8上の移動台6をガードレール10に
そつて移動させて移動台6の右端を印刷用当てビ
ン9に正確に押し当てる。これで修整印刷のため
の位置決めが完了したことになる。 Next, the moving table 6 on the base 8 is moved along the guardrail 10, and the right end of the moving table 6 is accurately pressed against the printing press bottle 9. This completes the positioning for correction printing.
修整印刷機としては、スクリーン印刷機、グラ
ビアオフセツト印刷機、タコ印刷機等が採用でき
る。ここでグラビアオフセツト印刷機とは円筒形
のオフセツト胴を用いるものを指している。画線
の形状の美しさ、より細い線を印刷できる事、安
定性、精度からグラビアオフセツト印刷機、タコ
印刷機がスクリーン印刷機より好ましくさらには
機構の簡便さからはタコ印刷機が好ましい。 As the correction printing machine, a screen printing machine, a gravure offset printing machine, an octopus printing machine, etc. can be adopted. Here, the gravure offset printing machine refers to one that uses a cylindrical offset cylinder. Gravure offset printing machines and tacho printing machines are preferable to screen printing machines because of the beauty of the line shapes, the ability to print thinner lines, stability, and accuracy, and the tacho printing machines are more preferable from the viewpoint of the simplicity of the mechanism.
修整パターン用の版としては、線幅10〜200ミ
クロン、長さ50〜300ミクロンの範囲にある各段
階のパターンを各種取りそろえて、必要ならば、
これら修整パターンの30度、45度、60度、90度の
方向のものを用意すれば、ほぼ全ての欠陥に対し
て適用できる。この修整パターンで覆い切れない
欠陥部に対しては、上記修整パターンを2〜3回
繰り返して印刷することによつて完全に修整する
ことができるが、このようなことはまず稀であ
る。ひとつの版に対して、形状に共通性のある修
整パターンを複数個形成しておくか、あるいはひ
とつのパターンのみ形成しておくかは当事者の自
由である。 As plates for retouching patterns, we have a variety of patterns at each stage with a line width of 10 to 200 microns and a length of 50 to 300 microns, and if necessary,
If these repair patterns are prepared in directions of 30 degrees, 45 degrees, 60 degrees, and 90 degrees, they can be applied to almost all defects. Defects that cannot be completely covered by this correction pattern can be completely corrected by repeating the above correction pattern two or three times, but this rarely happens. It is up to the parties concerned whether to form a plurality of correction patterns having a common shape or only one pattern for one plate.
印刷機としてタコ印刷機を用いた場合を、第3
図および第4図にもどつて、さらに詳細に説明す
る。 The third example shows the case where an octopus printing machine is used as a printing machine.
Referring back to the figures and FIG. 4, this will be explained in more detail.
すなわち、修整用の印刷機において、移動台6
上に据えられた版台12にはX方向移動ステージ
13Y方向移動ステージ14が設置されている。
版台X方向移動ハンドル18および版台Y方向移
動ハンドル19により、版台12はXY方向に移
動できる。 In other words, in a printing press for retouching, the movable table 6
An X-direction moving stage 13 and a Y-direction moving stage 14 are installed on the printing table 12 placed above.
The plate table 12 can be moved in the XY direction by the plate table X direction movement handle 18 and plate table Y direction movement handle 19.
X方向移動ステージ13上に版15をセツトす
る。さらにこの版台12の上方にタコパツド23
を上下させる様にする。本装置において、移動台
6の左端を検査用当てピン7に当てて検査し、欠
陥部を発見すると版15上にインキング及びドク
タリングを行ない、タコパツト23を押し下げて
版15上の画線部のインキをタコパツド上に転写
せしめる。 The plate 15 is set on the X-direction moving stage 13. Furthermore, above this printing table 12, there is a tachopad 23.
so that it moves up and down. In this device, the left end of the movable table 6 is placed against the inspection pin 7 for inspection, and if a defective part is found, inking and doctoring are performed on the plate 15, and the tacho pad 23 is pushed down to remove the image area on the plate 15. Transfer the ink onto the tacopad.
次にタコパツド23を押し上げた後移動台6を
移動させ、その右端を印刷用当てピン9に当てた
後、タコパツド23を押し下げて該パツド上のイ
ンキを被修整物1に転写して修整を行なうもので
ある。もちろん修整に移る前にあらかじめ版台の
XY方向移動ステージのどの位置に版15をセツ
トした時版上のどのパターンが顕微鏡のスケール
内の所定の位置に印刷されるかを読取つておく。 Next, after pushing up the tacho pad 23, the moving table 6 is moved and its right end is brought into contact with the printing pin 9, and then the tacho pad 23 is pushed down to transfer the ink on the pad to the object 1 to be retouched. It is something. Of course, before moving on to retouching,
At which position on the XY direction moving stage the plate 15 is set, which pattern on the plate will be printed at a predetermined position within the scale of the microscope is read.
タコパツドの形状としては、特に限定するもの
ではないが、カマボコ型、防錘型等が好ましく、
またその硬度は40゜(JISスプリング式硬さ試験
A形)以下が好ましく、材質としてはゼラチン、
ウレタン、シリコーンゴム等の樹脂が望ましい。 The shape of the octopus pad is not particularly limited, but preferably a semicylindrical shape, an anti-weight shape, etc.
In addition, its hardness is preferably 40° or less (JIS spring type hardness test type A), and the material is gelatin,
Resins such as urethane and silicone rubber are preferable.
以上説明した様に、本発明によれば特に熟練を
必要とせず、機械操作だけ覚えれば誰でも簡便に
修整をすることができ、労力と時間をあまり使わ
ずに能率良く、正確な信頼性のある修整を行なえ
るものである。また修整用インキも、筆用インキ
と異なり、基板に対する密着性、強度等の優れた
インキを用いることができるから問題を生ずるこ
となく、その修整された形状もほぼ理想的なもの
に近いと言える修整を行なえ、修整可能な画線幅
も10μ程度まで行なえるものである。 As explained above, according to the present invention, no special skill is required, and anyone can easily perform repairs by simply learning how to operate the machine. It is possible to make certain adjustments. Also, unlike brush ink, ink for retouching can be used with excellent adhesion to the substrate, strength, etc., so there are no problems, and the retouched shape can be said to be close to ideal. It can be retouched, and the line width that can be retouched can be up to about 10μ.
なお、本発明は既述した様に配線パターンの修
整に有用であるが、エツチングレジストの修整等
にも有用なものである。すなわち、例えばライン
プリンターの文字等をエツチングにより作成する
場合、文字のカケ等は許されないものであるが、
この様な場合の修整にも本発明は有用なものであ
る。 The present invention is useful for modifying wiring patterns as described above, but it is also useful for modifying etching resists and the like. In other words, when creating characters, etc. for a line printer by etching, for example, it is unacceptable for the characters to be missing, etc.
The present invention is also useful for correction in such cases.
第1図は修整の様子を示す平面図であり、aは
修正前の状態、bは従来法により修正された部分
cは理想的に修正された部分を示し、第2図は従
来法により修正された部分を示す断面図であり、
第3図は本発明による微細パターンの修整装置の
一実施例を示す正面図、第4図は同じく平面図で
あり、第5図は、修整の位置合せの様子を示す説
明図である。
1……被修整物、2……検査台、3……X方向
移動ステージ、4……Y方向移動ステージ、5…
…顕微鏡、6……移動台、7……検査用当てピ
ン、8……基台、9……印刷用当てピン、10…
…ガードレール、11……スケール線、12……
版台、13……X方向移動ステージ、14……Y
方向移動ステージ、15……版、16……検査台
X方向移動用ハンドル、17……検査台Y方向移
動用ハンドル、18……版台X方向移動用ハンド
ル、19……版台Y方向移動用ハンドル。
Fig. 1 is a plan view showing the state of the correction, where a shows the state before correction, b shows the part corrected by the conventional method, and c shows the ideally corrected part, and Fig. 2 shows the part corrected by the conventional method. FIG.
FIG. 3 is a front view showing an embodiment of the fine pattern retouching apparatus according to the present invention, FIG. 4 is a plan view thereof, and FIG. 5 is an explanatory view showing the state of alignment for retouching. 1...Object to be repaired, 2...Inspection table, 3...X direction moving stage, 4...Y direction moving stage, 5...
...Microscope, 6...Movement table, 7...Putting pin for inspection, 8...Base, 9...Putting pin for printing, 10...
...Guardrail, 11...Scale line, 12...
Plate stand, 13...X direction moving stage, 14...Y
Directional movement stage, 15... Plate, 16... Handle for moving the inspection table in the X direction, 17... Handle for moving the inspection table in the Y direction, 18... Handle for moving the plate table in the X direction, 19... Handle for moving the plate table in the Y direction. handle.
Claims (1)
行なう装置において、(A)該微細パターンの欠陥部
を発見するための顕微鏡、(B)微細パターンを有す
る被修整物を乗せてX,Y方向に移動し該欠陥部
の位置を正観に設定することができる検査台、(C)
該欠陥部を修整するのに適当な各種の修整パター
ンを有する版を乗せてX,Y方向に移動し版の位
置を正確に設定することができる版台、(D)被修整
物の欠陥部に対して適合する修整パターンを選択
して印刷できる印刷機、(E)前記の検査台および版
台を乗せて顕微鏡と印刷機の間を往復できる移動
台、 上記(A)〜(E)を具備することを特徴とする微細パ
ターンの修整装置。 2 印刷機がスクリーン印刷機である特許請求の
範囲第1項記載の微細パターンの修整装置。 3 印刷機がグラビアオフセツト印刷機である特
許請求の範囲第1項記載の微細パターンの修整装
置。 4 印刷機がタコ印刷機である特許請求の範囲第
1項記載の微細パターンの修整装置。[Scope of Claims] 1. An apparatus for reprinting defective parts such as disconnected parts of fine patterns, which includes: (A) a microscope for discovering defective parts of the fine patterns; (B) an object to be repaired having fine patterns. (C) An inspection table that can move in the X and Y directions to position the defective part in a normal view.
(D) A plate stand on which a plate having various repair patterns suitable for repairing the defective part can be placed and moved in the X and Y directions to accurately set the position of the plate; (D) the defective part of the object to be repaired; (E) A movable table that can carry the above-mentioned inspection table and printing plate and move back and forth between the microscope and the printing press; (A) to (E) above; A fine pattern correction device comprising: 2. The fine pattern retouching device according to claim 1, wherein the printing machine is a screen printing machine. 3. The fine pattern retouching device according to claim 1, wherein the printing machine is a gravure offset printing machine. 4. The fine pattern retouching device according to claim 1, wherein the printing machine is an octopus printing machine.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9003079A JPS5613172A (en) | 1979-07-16 | 1979-07-16 | Retouching device for minute pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9003079A JPS5613172A (en) | 1979-07-16 | 1979-07-16 | Retouching device for minute pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5613172A JPS5613172A (en) | 1981-02-09 |
| JPS6151550B2 true JPS6151550B2 (en) | 1986-11-10 |
Family
ID=13987265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9003079A Granted JPS5613172A (en) | 1979-07-16 | 1979-07-16 | Retouching device for minute pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5613172A (en) |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPH01160548U (en) * | 1988-04-21 | 1989-11-08 |
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Family Cites Families (1)
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-
1979
- 1979-07-16 JP JP9003079A patent/JPS5613172A/en active Granted
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|---|---|
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