JPS6153632B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はフオトフアブリケーシヨンの一般工程
中、レジスト液を塗布した後の該塗布膜を加熱乾
燥するための均一加熱装置に関するものである。

（従来の技術と問題点） フオトフアブリケーシヨンの一般的な工程は例
えば平坦なガラス板上にクロム等の金属皮膜を積
層した素材上面にレジストを塗布して乾燥したも
のの上に原稿をセツトし、その上から光や電子線
で露光し、これを現像して素材上に原稿による像
を残し、その後でエツチングにより像以外にある
素材の上面金属部分を除去しガラス板上に像を残
すものである。この方式は微細なフアブリケーシ
ヨンに使用されるもので、本発明は上記の工程
中、レジスト液を塗布した後の該塗布膜を加熱乾
燥するための均一加熱装置に関する。この工程
は、レジスト自体の要求を別としてレジスト膜の
均一性と異物混入や付着を防止することが必須の
要件となるので、露光以降の工程または製品の歩
留りに影響を与えるものである。

従来の方式は、スピンコート、デイツプコー
ト、ロールコート等の方式により素材上にレジス
トを塗布後、レジスト塗布膜内の溶媒を蒸発させ
てレジストを乾燥するものである。この乾燥方法
としてはオーブン、またはコンベア炉等の高温雰
囲気中に投入するのが一般的であつた。この方式
ではレジストの表面がまず加熱されて溶媒が蒸発
するので最初に表面が乾燥し、表面に気体を通過
させない硬化膜が形成され、しかるにレジスト内
部または素材表面付近は未だにレジスト液の溶媒
を含んだゲル状を呈している。したがつてこのよ
うな加熱乾燥工程を続けると塗布膜の内部の溶媒
が熱によりガス化したものが内部にとどまるため
内部に気泡が発生し、レジスト表面にうねりが発
生して大切な表面の平坦性が失われ、また先に硬
化した表面を破つて溶媒が蒸発して行つた突出し
た抜け穴等が発生し、さらに表面の平坦性が失わ
れるという問題があり、ついにはフオトフアブリ
ケーシヨンで大切とされるパターン精度を害する
ことになる。この方式では徐々に蒸発を行つて平
坦性を得るが、乾燥に長時間を要し、その間に雰
囲気中の塵埃等がレジスト表面に付着するチヤン
スを増大する。この点を改善するために赤外線照
射による方法と下部加熱方式とが行われて来た。

赤外線方式では赤外線発生源が面源ではなく、
点源に近いため、とくに平面の大きな場合には温
度分布が不均一となり易く、素材とレジストの比
熱差によりそれぞれの温度上昇が不均一となり上
記と同様の問題が生じ易い。

また下部加熱方式ではヒーター等を埋め込んだ
加熱板を複数個用い、その上をコンベアを通しこ
のコンベア上に被加熱物を搬送しつつ加熱乾燥す
るものであるがこの加熱板がコンベアと完全密着
でなく、従つて熱伝導がわるく、被加熱物の温度
の不均一と時間の長期化が生ずる。そのため塵埃
の付着するチヤンスも多くなる等の問題点があ
る。

（発明の目的） 本発明は上述の従来のレジストの加熱乾燥方式
の問題点を解決すべく、レジスト塗布膜の表面お
よび内部または素材上面を同時に均一加熱乾燥す
ることで、レジスト塗布膜の内部に気泡を生じた
り表面にうねりや抜け穴等が発生するのを防止
し、優れたフオトフアブリケーシヨンとするため
のレジストの均一加熱装置を提供することを目的
とするものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明は上述の問題点を解決するもので、レジ
ストの上方からの加熱を遠赤外線加熱と下部加熱
方式の両方を併用して温度の均一な上昇と分布を
求めるものでレジスト塗布後の加熱乾燥におい
て、被加熱処理体を上置して搬送する耐熱性のコ
ンベアベルトの下面に摺接するヒーターを配列
し、かつ上記コンベアベルト上方に、下向きに照
射する赤外線ヒーター光源を設けてなることを要
旨とするものである。

（作 用） 本発明は上述の構成となつているので素材上に
塗布されたレジストはコンベアベルトにより下方
が先に加熱され溶剤の蒸発は液体を通して行われ
下方から乾燥が始まり次いで赤外線照射位置で上
方から加熱されるのでレジストは均一に、しかも
表面が平坦に乾燥され、下方からの加熱はヒータ
ーがコンベアベルトに摺接しているので熱伝導効
率が極めて良好となる。

（実施例） 本発明のレジストの均一加熱装置について図示
の実施例によつて説明する。第１図は本発明の均
一加熱装置の断面を示す説明図であり、また第２
図は同じくその部分拡大図である。１はコンベア
ベルトで、例えば耐熱性のある金属例えばステン
レスステイール製、あるいは耐熱性合成樹脂製の
もので、図では左端より間歇的に前工程にガラ
ス、金属、半導体等素材２にレジスト塗膜３が施
された被処理体４が搬送されて来る。ここにおい
て上方より（遠）赤外線ヒーターの光源５が上記
コンベアベルト１に沿つて配置され、また被処理
体４を搬送しているコンベアベルト１の下側にこ
れに摺接して加熱ヒーター９を配列してなるもの
で、このようにすることにより加熱ヒーター９の
熱はコンベアベルト１に摺接しているので熱伝導
性が良好な状態で、コンベアベルト１から被処理
体基板２を通して塗膜３の下側を加温する。また
赤外線ヒーター５はレジスト塗膜を上方から浸透
的に加熱するので下側加熱ヒーター９と共働して
塗膜の一加熱が実現する。なお６は赤外線ヒータ
ー５のカバーであり、７は友輪、８は駆動輪、１
０は誘導輪である。

（効 果） 本発明の均一加熱装置はとくにレジストを素材
（基板）に塗布後、これを加熱乾燥する装置であ
り、従来の上記の方法の欠点を改善するものであ
つて、コンベアベルトの下面に摺動するように加
熱ヒーターが配列されているので熱伝導効率よく
レジスト基材下方から加熱すると同時にコンベア
ベルトの上方に配列された赤外線ヒーターにより
レジストの上方から加熱することになるので、レ
ジストの基板の下から先ずコンベアベルトからの
効率のよい熱伝導が行われ、加熱乾燥はレジスト
の下面から始まつて硬化してゆき、赤外線ヒータ
ーのレジスト上面からの照射によつて上方からも
均一に加熱されレジストの表面が乾燥硬化する前
にレジストの下方から上方に向つて乾燥が進行す
るので、レジスト塗布後の内部に気泡が生じて表
面にうねりを発生したり、気泡の抜け穴が生ずる
ことがない。故にレジスト表面は平坦に仕上が
り、乾燥も熱効率がよく、速かに行われるので短
時間で行われ、従つてその間に雰囲気中の塵埃等
が混入したり付着するチヤンスも少く、高いパタ
ーン精度を要求されるフオトフアブリケーシヨン
に適する優れたレジスト膜が形成できるようにな
つた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の均一加熱装置の説明図、第２
図はその部分断面図である。 １……コンベアベルト、２……被処理体の基板
（素材）、３……レジスト塗膜、４……被処理体、
５……赤外線ヒーター、６……赤外線ヒーターの
カバー、７……友輪、８……駆動輪、９……加熱
ヒーター、１０……誘導輪。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ フオトフアブリケーシヨンの一般工程中、レ
   ジスト塗布後の加熱乾燥において、被加熱処理体
   を上置して搬送する耐熱性のコンベアベルトの下
   面に摺接するヒーターを配列し、かつ上記コンベ
   アベルト上方に下向きに照射する赤外線ヒーター
   光源を設けてなることを特徴とする均一加熱装
   置。