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JPS6154878B2 - - Google Patents
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JPS6154878B2 - - Google Patents

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JPS6154878B2
JPS6154878B2 JP9002984A JP9002984A JPS6154878B2 JP S6154878 B2 JPS6154878 B2 JP S6154878B2 JP 9002984 A JP9002984 A JP 9002984A JP 9002984 A JP9002984 A JP 9002984A JP S6154878 B2 JPS6154878 B2 JP S6154878B2
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JP
Japan
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nozzle
mask
separator
partial plating
plated
Prior art date
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JP9002984A
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Japanese (ja)
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JPS60234991A (en
Inventor
Yasuo Shimazu
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SONITSUKUSU KK
Original Assignee
SONITSUKUSU KK
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Publication date
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、マルチ方式の噴射式部分メツキ手段
であつて、例えば通信機器用コンタクタ等電気部
品の接点やIC用リードフレームのボンデイング
エリア等を部分メツキする際に、第3の部材であ
るセパレータによりメツキ液噴射ノズル及びマス
ク穴の配置間隔をその被メツキ部の間隔に対応し
て自在に可変設定できるようにしたセパレータ利
用の部分メツキ方法及びその装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is a multi-type injection partial plating means, which is used for partial plating of contacts of electrical components such as contactors for communication equipment, bonding areas of lead frames for ICs, etc. The present invention relates to a partial plating method using a separator and an apparatus therefor, in which the spacing between plating liquid spray nozzles and mask holes can be freely and variably set according to the spacing between the parts to be plated using the separator, which is a member of No. 3.

一般に、通信機器用交換器等に使用されるコン
タクトやプリント基板のリード部、或いはICリ
ードフレームのボンデイングエリアや、多極接続
用のコネクター等の電気接点部は、通常フープ状
にスリツトされた銅又は銅合金素材をプレス加工
によつて打抜き曲加工した後、部分メツキ手段に
よりその先端コンタクト部に金や銀、白金、パラ
ジウム等の貴金属を部分メツキ処理するものであ
る。
In general, electrical contacts such as contacts used in communication equipment exchangers, lead parts of printed circuit boards, bonding areas of IC lead frames, and connectors for multi-pole connections are usually made of hoop-shaped copper slits. Alternatively, after punching and bending a copper alloy material by press working, the tip contact portion is partially plated with a noble metal such as gold, silver, platinum, palladium, etc. using a partial plating means.

例えば第1図に図示の如く通信機器に用いられ
ているコンタクタ1は、材厚が0.1〜0.5mm程度の
タフピツチ銅板を幅員1.0〜3.0mm程度の側面U字
形状にプレス加工してコンタクタ本体2を形成
し、その曲面底部3に厚さ数μ、面積0.3〜数mm2
の極微小部分メツキ層4を処理できれば機能上充
分である。
For example, as shown in FIG. 1, a contactor 1 used in communication equipment is made by pressing a tough pitch copper plate with a thickness of about 0.1 to 0.5 mm into a U-shaped side surface with a width of about 1.0 to 3.0 mm. The curved bottom part 3 has a thickness of several μ and an area of 0.3 to several mm 2
It is functionally sufficient if the microscopic partial plating layer 4 can be processed.

処が在来の部分メツキ手段は、第2図に図示の
如くアノード極に設定したノズル5から加圧され
たメツキ液をカソード極に設定したワーク(この
場合はコンタクタ本体2の曲面底部3)に向けて
噴射させ電解メツキ処理するものであり、被メツ
キ部の設定はメツキパターンに対応した開口部を
有するマスク6によりマスキングするものである
が、そのメツキ精度及び品位は極めて高度を要す
る処から、メツキ設備製作上にかなり問題があつ
た。
However, in the conventional partial plating means, as shown in FIG. 2, a pressurized plating liquid is applied to the cathode from a nozzle 5 set at the anode of the workpiece (in this case, the curved bottom part 3 of the contactor body 2). The electrolytic plating process is performed by spraying the plating toward the plating area, and the part to be plated is masked using a mask 6 having openings corresponding to the plating pattern, but the plating accuracy and quality are extremely high. There were quite a few problems with the manufacturing of the metsuki equipment.

例えば上記コンタクタ1の場合、現物は加工間
隔P0が2.54mmであり、且つこれを40本同時に部分
メツキする必要があるため、第3図に図示の如く
各ワークに、対応してノズル5も40本も同じ間隔
で配設しなければならず、又、マスク6も同間隔
で微細なマスク穴7を穿設加工しなければならな
い。
For example, in the case of the above-mentioned contactor 1, the actual machining interval P 0 is 2.54 mm, and it is necessary to partially plate 40 pieces at the same time, so the nozzle 5 is also applied to each workpiece as shown in Fig. 3. The 40 masks must be arranged at the same intervals, and the masks 6 must also have minute mask holes 7 drilled at the same intervals.

つまりワークの種類毎に専用化したノズル5及
びマスク7から成るメツキ装置を必要とするの
で、ワークの数だけ専用メツキ装置を予め準備し
なければならないことになる。
In other words, since a plating device consisting of a nozzle 5 and a mask 7 dedicated to each type of work is required, it is necessary to prepare in advance as many dedicated plating devices as there are workpieces.

而かも、上記メツキ装置は、マスク6及びノズ
ル5共、耐熱性、耐薬品性及び耐久性を具備する
素材、例えばセラミツクやステンレス鋼材等に微
小精密加工をしなければならないので、装置製造
コストが嵩む上、ワークに対応してその都度ノズ
ル5やマスク6を交換し調整する必要があるか
ら、段取り工数が多大である。
Moreover, in the plating device, both the mask 6 and the nozzle 5 must be made of heat-resistant, chemical-resistant, and durable materials, such as ceramics and stainless steel, through micro-precision machining, so the manufacturing cost of the device is low. In addition to being bulky, it is necessary to replace and adjust the nozzle 5 and mask 6 each time depending on the workpiece, which requires a large number of setup steps.

又、ワークの被メツキ部間隔P0が接近している
とノズル5の外径寸法も規制されるので、微小間
隔の部分メツキが不可能な場合もある。
Furthermore, if the interval P 0 between the parts to be plated on the workpiece is close, the outer diameter of the nozzle 5 is also restricted, so partial plating at minute intervals may not be possible.

このような問題は、前記した通信機器用コンタ
クタ1を処理する場合に特に影響が大きい。
Such problems have a particularly large effect when processing the contactor 1 for communication equipment described above.

即ち、被メツキ物であるコンタクタ本体2は、
多品種多量生産する物であり、その各品種毎の形
態は相似的なものや、被メツキ域間隔だけの相
違、或いは被メツキ面積だけが異なるものが多
い。又、加工に際しては第4図に図示の如くフー
プ材にパイロツト穴8及びコンタクタ本体2の外
形を例えば前記したように2.54mm間隔で打抜いた
後、先端を曲加工した段階でその曲面底部3に部
分メツキ処理を行ない、次いで切断工程に廻すの
が一般的である。
That is, the contactor body 2, which is the object to be plated, is
These products are produced in large quantities in a wide variety of varieties, and the shapes of each variety are often similar, or differ only in the spacing of the areas to be plated, or in the area to be plated. In addition, during processing, as shown in FIG. 4, after punching out the outer shape of the pilot hole 8 and the contactor body 2 in the hoop material at intervals of 2.54 mm, for example, as described above, the curved bottom part 3 It is common to perform a partial plating process first, and then proceed to a cutting process.

従つて、マスク6は第5図に図示したように単
発的なマスク穴7を連設したり、或いはクシ形に
マスク穴用切欠部9を連設したマスク板10A
に、平板状の側板10Bを添設したマスク6(第
6図参照)を利用することができるが、これらの
製造コストはかなり嵩む上、コンタクタ1の種類
毎に準備しなければならない。
Therefore, the mask 6 can be made of a mask plate 10A having continuous single mask holes 7 as shown in FIG. 5, or a mask plate 10A having continuous comb-shaped mask hole cutouts 9.
Alternatively, a mask 6 (see FIG. 6) with a flat plate-shaped side plate 10B attached thereto can be used, but the manufacturing cost of this increases considerably and it must be prepared for each type of contactor 1.

一方、ノズル5の方はマスク穴7に対応した個
別のノズル穴を加工するか、数個〜数十個のマス
ク穴7をカバーする長溝状のノズル穴5Aを穿設
する。(第7図参照) この製造コストもマスク6以上に高くなる上、
コンタクタ1の種類毎に準備する必要がある。而
かもメツキに際しては、メツキ液流が干渉した
り、乱流や渦流の発生及びマスキング部分での滞
留現象によつて電流密度が著しく劣化し、又マス
キング部分のメツキ液浸潤によるハレーシヨンと
相俟つてメツキ品位や効率が極端に低下する惧れ
があり、歩留りの低下と、段取り工数及び処理工
数の多大化と、設備費の嵩みが相俟つてメツキ処
理コストが高くなると云う問題があつた。
On the other hand, for the nozzle 5, individual nozzle holes corresponding to the mask holes 7 are machined, or long groove-shaped nozzle holes 5A covering several to several dozen mask holes 7 are bored. (See Figure 7) This manufacturing cost is also higher than Mask 6, and
It is necessary to prepare for each type of contactor 1. Moreover, during plating, the current density is significantly degraded due to interference of the plating liquid flow, generation of turbulent flow and eddy current, and retention phenomenon in the masking part, and combined with halation due to plating liquid infiltration in the masking part. There is a risk that the plating quality and efficiency will be extremely reduced, and there is a problem that the plating processing cost increases due to a combination of a decrease in yield, an increase in the number of setup and processing steps, and an increase in equipment costs.

本発明は叙上の諸問題点に鑑み成されたもの
で、その第1の目的とする処は、ワークの種類に
対応して任意数の部分的マスキング域を自在に可
変設定できるようにし、且つノズルからのメツキ
液流束も各部分的マスキング域毎に対応する状態
に分けるようにしてマルチ式部分メツキを可能な
らしめ、メツキ処理段取り工数やメツキ処理工数
を大巾に低減させたセパレータ利用の部分メツキ
方法の提供にある。又、本発明の他の目的とする
処は、単にスリツトや長溝穴を形成しただけのマ
スクと、このスリツトや長溝穴と対峙したノズル
の開口面に第3の部材であるセパレータを立設
し、且つ該セパレータをマスクとノズルで挾持す
るようにして、マスクは固よりノズルに対する複
雑且つ精密な加工を要せずに多数の部分メツキを
同時処理可能とし、単一の装置で多種のワークに
対応できるようにした低廉な部分メツキ装置の提
供にある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its first purpose is to enable any number of partial masking areas to be freely and variably set in accordance with the type of workpiece. In addition, the flux of plating liquid from the nozzle is divided into states corresponding to each partial masking area, making multi-type partial plating possible, and using a separator that greatly reduces the plating process setup time and plating process man-hours. The purpose of this invention is to provide a partial plating method. Another object of the present invention is to provide a mask in which slits or elongated holes are simply formed, and a separator as a third member erected on the opening surface of the nozzle facing the slits or elongated holes. In addition, by holding the separator between the mask and the nozzle, the mask is rigid and it is possible to simultaneously process a large number of partial platings without requiring complicated and precise machining of the nozzle, and a single device can handle a wide variety of workpieces. The purpose of the present invention is to provide an inexpensive partial plating device that can be used for various purposes.

更に、本発明の他の目的とする処は、被メツキ
物に当接したマスク乃至マスクホルダーと外套凾
によつて密閉空間を形成し、且つこの中にノズル
を配設すると共に負圧状態を保持せしめ、上記セ
パレータの介装と相俟つて高品位の部分メツキを
廉価に処理し得るようにした部分メツキ装置の提
供にある。
Furthermore, another object of the present invention is to form a sealed space by the mask or mask holder in contact with the object to be plated and the mantle, and to arrange a nozzle in the space and create a negative pressure state. An object of the present invention is to provide a partial plating device which, together with the interposition of the separator, can perform high quality partial plating at a low cost.

以下に本発明の実施例を第8図以下に基づき説
明する。先ずワーク11の被メツキ域をマスキン
グするマスク12Aは、マスクホルダー13によ
り保持させてあり、該マスクホルダー13の下段
には、メツキ液を噴射するノズル14Aを保持し
且つメツキ液排除穴15を有するノズルホルダー
16を設け、更に該ノズルホルダー16の下段に
配置され上記メツキ液排除穴15と連通するチヤ
ンバー17を有し且つ底部に連通孔18を有する
外套凾19と、該外套凾19の下段に連設され上
記連通孔18と連通する気液分離器20と、この
気液分離器20に連結し、上記マスクホルダー1
3及びノズルホルダー16乃至外套凾19のチヤ
ンバー17内を負圧状態に保持する吸引機構21
とから成るものであり、気液分離器20は図示し
ないメツキ液タンクにも接続し、このメツキ液タ
ンクに回収されたメツキ液は上記ノズル14Aに
再供給されるようにしてある。(以上第8図参
照) 尚、上記装置に於いて、外套凾19及び気液分
離器20や吸引機構21は固定式とし、ノズルホ
ルダー16及びマスクホルダー13は着脱交換自
在としてある。次に上記各部の構造を詳述する。
Embodiments of the present invention will be described below based on FIG. 8 and subsequent figures. First, a mask 12A for masking the area to be plated of the workpiece 11 is held by a mask holder 13, and the lower part of the mask holder 13 holds a nozzle 14A for spraying plating liquid and has a plating liquid discharge hole 15. A mantle 19 is provided with a nozzle holder 16, and a mantle 19 is disposed at the lower stage of the nozzle holder 16 and has a chamber 17 that communicates with the plating liquid discharge hole 15 and has a communication hole 18 at the bottom; a gas-liquid separator 20 that is arranged in series and communicates with the communication hole 18; and a gas-liquid separator 20 that is connected to the gas-liquid separator 20 and that
3 and a suction mechanism 21 that maintains the chamber 17 of the nozzle holder 16 to the mantle 19 in a negative pressure state.
The gas-liquid separator 20 is also connected to a plating liquid tank (not shown), and the plating liquid collected in this plating liquid tank is supplied again to the nozzle 14A. (See FIG. 8 above.) In the above device, the mantle 19, gas-liquid separator 20, and suction mechanism 21 are fixed, and the nozzle holder 16 and mask holder 13 are detachable and replaceable. Next, the structure of each part mentioned above will be explained in detail.

先ずマスクホルダー13は第9図で示されるよ
うに、ステンレス鋼等の素材で平形凾状に形成さ
れ、その表面側には凹部22が形成され、且つ該
凹部22の中央に所定幅員の長溝23が形成され
ている。又、内面側は空胴で上記長溝23の処は
第8図に図示の如く逆テーパー状に形成されてい
る。
First, as shown in FIG. 9, the mask holder 13 is made of a material such as stainless steel and is formed into a flat cap shape, with a recess 22 formed on the front surface thereof, and a long groove 23 of a predetermined width in the center of the recess 22. is formed. The inner surface is hollow, and the long groove 23 is formed in a reverse tapered shape as shown in FIG.

又、該マスクホルダー13の凹部22には、ア
ルミニウム等の金属で成形し且つその外表面全域
をフツ素樹脂等の絶縁物でコーテイングしたも
の、或いはガラスやセラミツク又は硬質ゴム等の
非導電性素材で成形された薄平板状のマスク本体
24を複数並設して嵌入し、両マスク本体24の
中央部に被メツキパターンの幅員に対応する幅員
W1のスリツト25が形成されるようにしてあ
る。
The recess 22 of the mask holder 13 may be made of a metal such as aluminum and coated on the entire outer surface with an insulating material such as fluororesin, or a non-conductive material such as glass, ceramic, or hard rubber. A plurality of thin flat plate-shaped mask bodies 24 molded with are arranged side by side and fitted, and a width corresponding to the width of the pattern to be plated is formed in the center of both mask bodies 24.
A slit 25 of W1 is formed.

即ち、両マスク本体24の一方は平帯板状に形
成され、且つ他方は上記スリツト25の幅員W1
に相当するコ字形の切欠部が形成されていて、両
者を継合わせるとこの切欠部分がスリツト25に
なる。
That is, one of both mask bodies 24 is formed into a flat plate shape, and the other is formed with the width W 1 of the slit 25.
A U-shaped notch corresponding to this is formed, and when the two are joined together, this notch becomes a slit 25.

尚、このマスク本体24のスリツト25もその
底部を逆テーパー状と成し、マスクホルダー13
の長溝23のテーパー部と連続する形態にしてあ
る。
The slit 25 of the mask body 24 also has a reversely tapered bottom, so that the mask holder 13
The long groove 23 is continuous with the tapered part of the long groove 23.

一方、ノズルホルダー16は上記マスクホルダ
ー13と連結可能な平枠状に形成されていて、そ
の中央には長溝23と対応する長方形有底凾状の
液供給溝26が形成され、該液供給溝26はその
側壁に穿設されたメツキ液供給穴27と連通する
ようにしてあり、又液供給溝26の両側に長方形
状のメツキ液排除穴15を形成してある。
On the other hand, the nozzle holder 16 is formed in the shape of a flat frame that can be connected to the mask holder 13, and a rectangular bottomed liquid supply groove 26 corresponding to the long groove 23 is formed in the center of the nozzle holder 16. 26 communicates with a plating liquid supply hole 27 formed in the side wall thereof, and rectangular plating liquid discharge holes 15 are formed on both sides of the liquid supply groove 26.

更に、このノズルホルダー16に組込むノズル
14Aは、平板状の側板28と、前記マスク本体
24のスリツト25と対応する長さの噴射溝29
が形成された平面コ字状のノズル本体30から成
り、両者を合体しビス等により緊締し、該噴射溝
29と前記液供給溝26とを連通する状態でノズ
ル14Aをノズルホルダー16に連結固定する。
Furthermore, the nozzle 14A assembled into this nozzle holder 16 has a flat side plate 28 and an injection groove 29 having a length corresponding to the slit 25 of the mask body 24.
The nozzle 14A is connected and fixed to the nozzle holder 16 in a state where the injection groove 29 and the liquid supply groove 26 are communicated with each other by combining the two and tightening them with screws or the like. do.

又、上記ノズル14Aとマスクホルダー13と
の間には、ガラスやセラミツク又は硬質ゴム等の
絶縁物製剛体、或いは、アルミニウム等の金属の
外表面にフツ素樹脂等の絶縁物をコーテイングし
た素材により正面凸形に成形されたセパレータ3
1Aを第10図に図示の如く介装してあつて、該
セパレータ31Aの頂部32の幅員W0は前記マ
スク13のスリツト25内に臨ませることができ
る寸法であり、又底部33は前記ノズル14の噴
射溝29を跨架できる幅員としてある。尚、セパ
レータ31Aの肩部31A′はマスクホルダー1
3で押さえ付けられた状態となる。
Further, between the nozzle 14A and the mask holder 13, there is a rigid body made of an insulating material such as glass, ceramic, or hard rubber, or a material made of a metal such as aluminum whose outer surface is coated with an insulating material such as fluororesin. Separator 3 molded in a convex shape from the front
1A is interposed as shown in FIG. 10, the width W 0 of the top part 32 of the separator 31A is a size that allows it to face into the slit 25 of the mask 13, and the bottom part 33 is the size that allows the top part 32 of the separator 31A to face the inside of the slit 25 of the mask 13. The width is such that it can straddle 14 injection grooves 29. Note that the shoulder portion 31A' of the separator 31A is attached to the mask holder 1.
3, it will be in a pressed state.

上記セパレータ31Aは、ワーク11の被メツ
キ部数に応じた数量だけ使用するもので、その配
置間隔を被メツキ部の間隔に対応させ、ノズル1
4Aとマスク12Aとの間にシリコンゴム等のシ
ール材(図示せず)を介して挾持させるが、接着
剤を用いてノズル14Aに接着固定するか、或い
はビス止め等の機械的手段によりノズル14Aに
固着しても良い。
The separators 31A are used in an amount corresponding to the number of parts to be plated of the workpiece 11, and their arrangement intervals are made to correspond to the intervals between the parts to be plated, and the nozzle 1
4A and the mask 12A through a sealing material (not shown) such as silicone rubber, and the nozzle 14A is fixed to the nozzle 14A using an adhesive or by mechanical means such as screwing. It may be fixed to.

特に本発明にあつては、ノズル14A,14
B,14Cとワーク11との極間距離を接近させ
た方が良く、セパレータ31A,31B,31
C,31Dの固持の確実化は勿論であるが、この
極間距離を1mm以下にすることで高電界強度が得
られ、極微小部分メツキが可能となる。
In particular, in the present invention, the nozzles 14A, 14
It is better to make the distance between the poles of B, 14C and the workpiece 11 closer, and the separators 31A, 31B, 31
It goes without saying that the fixation of C and 31D can be ensured, but by setting the distance between the poles to 1 mm or less, a high electric field strength can be obtained and plating of extremely small parts becomes possible.

又、このセパレータ31Aにより仕切られたノ
ズル開口部面積は、同じく該セパレータ31Aで
以つて仕切られたマスク開口部面積より大として
ある。つまり、マスク12Aのスリツト25の幅
員W1と、ノズル14Aの噴射溝29の幅員W2
は、W1<W2の関係がある。
Further, the nozzle opening area partitioned by the separator 31A is larger than the mask opening area also partitioned by the separator 31A. That is, the width W 1 of the slit 25 of the mask 12A and the width W 2 of the injection groove 29 of the nozzle 14A have a relationship of W 1 <W 2 .

次に外套凾19は、前記した如くそのチヤンバ
ー17の底部に設けられた連通孔18乃至気液分
離器20を介して真空ポンプ等の吸引機構21に
接続され、該吸引機構21の駆動により前記マス
クホルダー13乃至ノズルホルダー16のメツキ
液排除穴15及び外套凾19のチヤンバー17内
を所定の負圧状態にすることができるようにして
ある。
Next, the outer mantle 19 is connected to a suction mechanism 21 such as a vacuum pump through the communication hole 18 provided at the bottom of the chamber 17 and the gas-liquid separator 20 as described above, and the suction mechanism 21 is driven to The plating liquid discharge holes 15 of the mask holder 13 to the nozzle holder 16 and the chamber 17 of the mantle 19 can be brought into a predetermined negative pressure state.

尚、上記気液分離器20の底部に連結されたメ
ツキ液タンクは、図示しないパイプ及び加圧用ポ
ンプ機構を介して前記ノズルホルダー16のメツ
キ液供給穴27に接続してあつて、メツキ液給送
閉回路を構成してあり、メツキ液の循環使用を可
能にしてある。
The plating liquid tank connected to the bottom of the gas-liquid separator 20 is connected to the plating liquid supply hole 27 of the nozzle holder 16 via a pipe and a pressurizing pump mechanism (not shown). A sending/closing circuit is configured to enable the plating liquid to be used in circulation.

叙上の構成に於いて、メツキ処理に先立ち、先
ずワーク11の被メツキパターンに応じて必要数
のセパレータ31Aを前記した手段によりノズル
ホルダー16に配設し、ノズル開口部の設定とマ
スキングを同時に完了させる一方、ワーク11を
カソード極側とし、又、ノズル14Aをアノード
極側にして夫々に所定の直流電圧を印加する。
In the above configuration, prior to the plating process, first, the required number of separators 31A are placed in the nozzle holder 16 according to the plating pattern of the workpiece 11 by the above-described means, and the nozzle opening setting and masking are performed simultaneously. While completing the process, a predetermined DC voltage is applied to each of the workpiece 11 on the cathode side and the nozzle 14A on the anode side.

次いでワーク11をマスク12Aに密着配置し
た後、吸引機構21を作動させマスクホルダー1
3内及び外套凾19のチヤンバー17内を負圧状
態にする一方、メツキ液加圧用のポンプ機構の駆
動によつて、メツキ液をノズルホルダー16のメ
ツキ液供給穴27乃至液供給溝26を経てセパレ
ータ31Aによつて仕切られた各ノズル開口部か
ら噴射させる。この時セパレータ31Aの頂部3
2はワーク11のガイドとなり、又側壁面が空気
遮断する状態となる。而してメツキ液はワーク1
1の被メツキ部に衝突し電解メツキが行なわれる
が、使用済及び余剰のメツキ液は負圧により強制
排除されるため、ノズル14A及びマスク13の
近傍で滞留し背圧状態になることを完全に防止
し、且つメツキ液の強制吸引排除によりメツキ液
は常に新鮮な状態であるから、メツキ電流密度が
上昇し高効率でメツキ処理が行なえる上、マスキ
ング部に於いてメツキ液がワーク11とマスク1
2Aの間に浸潤するのを防止できるのでハレーシ
ヨンの無い高品位のメツキ層が得られる。
Next, after placing the workpiece 11 in close contact with the mask 12A, the suction mechanism 21 is activated to remove the mask holder 1.
3 and the chamber 17 of the mantle 19, the plating liquid is supplied through the plating liquid supply hole 27 of the nozzle holder 16 and the liquid supply groove 26 by driving the pump mechanism for pressurizing the plating liquid. The liquid is ejected from each nozzle opening partitioned by a separator 31A. At this time, the top 3 of the separator 31A
2 serves as a guide for the work 11, and the side wall surface blocks air. Therefore, the plating liquid is work 1.
Electrolytic plating is performed by colliding with the part to be plated in No. 1, but since the used and surplus plating liquid is forcibly removed by negative pressure, it is completely possible to prevent it from staying near the nozzle 14A and mask 13 and creating a back pressure state. In addition, the plating liquid is always kept in a fresh state by forced suction and removal, so the plating current density increases and plating can be performed with high efficiency. mask 1
Since infiltration during the 2A period can be prevented, a high-quality plating layer without halation can be obtained.

尚、ワーク11の種類がリードフレームのイン
ナーリードのボンデイングエリア等であつて極微
小部分メツキで済む場合は、被メツキ面とノズル
14Aの間隔を1mm以下に極接近させてメツキ液
を噴射させるが、この場合でもこのわづかな隙間
に滞留し易い余剰メツキ液も負圧の為瞬間的に吸
引排除され、被メツキ面には新鮮なメツキ液が供
給されるので、例えばメツキ面積が0.3〜1.0mm2
メツキ厚1μ程度のメツキ処理が可能である。
In addition, if the type of workpiece 11 is a bonding area of the inner lead of a lead frame, and only a very small part needs to be plated, the plating liquid is sprayed with the distance between the surface to be plated and the nozzle 14A extremely close to 1 mm or less. Even in this case, the excess plating liquid that tends to stay in this small gap is instantly suctioned away due to the negative pressure, and fresh plating liquid is supplied to the surface to be plated, so that, for example, the plating area is 0.3 to 1.0. Plating with a plating thickness of about 1 μm is possible with mm 2 .

上記の余剰乃至用済のメツキ液は、気液混合状
態で外套凾19のチヤンバー17を経て気液分離
器20に流入し、そこで分離されたメツキ液はメ
ツキ液タンクに回収される。
The above-mentioned surplus or used plating liquid flows into the gas-liquid separator 20 through the chamber 17 of the mantle 19 in a gas-liquid mixed state, and the separated plating liquid there is collected in the plating liquid tank.

勿論、ワーク11の順送とメツキ液加圧ポンプ
機構とは共に連動させることで、上記部分メツキ
を高速で連続処理できる上、ワーク11の種類を
変更する場合は、セパレータ31Aの数及び配置
間隔を適宜変更配設するだけで済むので、段取り
工数が大巾に低減できる。而かもマスク本体24
やノズル14A及びセパレータ31Aの構造が極
めて簡素化され且つ加工精度も緩和できるのでそ
の製造コスト及びメンテナンスコストが極めて廉
価になり、メツキ効率の向上と相俟つてメツキ処
理費の大巾な低廉化が可能となる。
Of course, by interlocking the progressive feeding of the work 11 and the plating liquid pressurizing pump mechanism, the partial plating can be performed continuously at high speed, and when changing the type of the work 11, the number and arrangement interval of the separators 31A can be changed. Since it is only necessary to change and arrange the parts as appropriate, the number of setup steps can be greatly reduced. Maybe the mask body 24
The structures of the nozzle 14A and the separator 31A are extremely simplified, and the processing precision can be relaxed, so the manufacturing and maintenance costs are extremely low, and together with the improvement of plating efficiency, the plating processing cost can be significantly reduced. It becomes possible.

次に、本発明の他の実施例について説明する。 Next, other embodiments of the present invention will be described.

先ずマスク14Bは、平板状のマスク板41に
長方形のマスク穴42を穿設し、これを前記セパ
レータ31A乃至後述のセパレーターの頂部で所
定間隔に仕切り被メツキ域を夫々正確にマスキン
グするようにしてある。(第11図参照) 他方第2実施例に係るノズル14Bは、予め被
メツキ部の配置間隔に対応して切欠溝51を所定
数連設したノズル本体52と、その切欠溝51を
閉塞可能な側板53とから成り、両者を連結固定
する構造である。(第12図参照) 又、第3実施例に係るノズル14Cは、ノズル
本体54に同じく被メツキ部の配置間隔に対応し
てノズル穴55を所定数連設してあり、必要に応
じてノズル本体54の両側壁面に直線状のガイド
溝56を刻設してある。(第13図参照) 更に、前記第1実施例に係るノズル14Aは、
セパレータ31Aを装備させる際にこれを固定し
易くするため、ノズル本体30及び側板28に
夫々所定間隔で平行なホールド溝57を多数形成
しても良い。(第14図参照) 勿論、これは第2実施例及び第3実施例の両ノ
ズル14B,14Cにも適用可能で、例えば第1
5図に図示のように個別に形成されたノズル穴5
5の両隣りにホールド溝57を穿設したノズル1
4C′としても良い。
First, for the mask 14B, rectangular mask holes 42 are bored in a flat mask plate 41, and these are partitioned into predetermined intervals at the tops of the separators 31A and the separators described later, so that each area to be plated can be accurately masked. be. (See FIG. 11) On the other hand, the nozzle 14B according to the second embodiment includes a nozzle main body 52 in which a predetermined number of notched grooves 51 are arranged in a row corresponding to the arrangement interval of the parts to be plated, and a nozzle body 52 in which the notched grooves 51 can be closed. It consists of a side plate 53, and has a structure that connects and fixes both. (See FIG. 12) In addition, the nozzle 14C according to the third embodiment has a predetermined number of nozzle holes 55 arranged in a row in the nozzle body 54 corresponding to the arrangement interval of the parts to be plated, and the nozzle holes 55 can be opened as needed. Linear guide grooves 56 are cut into both side wall surfaces of the main body 54. (See FIG. 13) Furthermore, the nozzle 14A according to the first embodiment is
In order to make it easier to fix the separator 31A when it is installed, a large number of parallel holding grooves 57 may be formed at predetermined intervals in the nozzle main body 30 and the side plate 28, respectively. (See FIG. 14) Of course, this can also be applied to both the nozzles 14B and 14C of the second and third embodiments, for example, the first nozzle.
Nozzle holes 5 individually formed as shown in Fig. 5
Nozzle 1 with hold grooves 57 bored on both sides of Nozzle 5
It may also be 4C'.

次に第2実施例に係るセパレータ31Bは、材
質も硬質塩化ビニル樹脂やポリカーボネイト樹脂
製で平坦な頂部61を有し底部62はノズル14
A,14B,14Cに跨設状態で装着可能として
あり、装着すると頂部61がマスク12A,12
Bのマスキング面と同一面になるようにしてあつ
て、その側壁面63で空気遮断を行なうようにし
てある。(第16図参照) 又、第3実施例に係るセパレータ31Cは、頂
部64が突出しておりその頂部側面をテーパー面
65としてワーク11の移送案内し易いようにし
てあり、且つ底部に脚部66を形成してあつて、
ノズル14A,14B,14Cに嵌め込むことが
できるようにしてある。(第17図参照) 勿論、上記テーパー面65は必要不可欠なもの
では無く、平板状でも良い。
Next, the separator 31B according to the second embodiment is made of hard vinyl chloride resin or polycarbonate resin, has a flat top part 61, and a bottom part 62 that is connected to the nozzle 14.
A, 14B, 14C can be installed in a state where it straddles, and when installed, the top part 61 becomes the mask 12A, 12
It is made to be flush with the masking surface of B, and its side wall surface 63 is designed to block air. (See FIG. 16) Furthermore, the separator 31C according to the third embodiment has a protruding top portion 64, and has a tapered surface 65 on the side surface of the top portion to facilitate transport and guide of the work 11, and has leg portions 66 at the bottom. is formed,
It is arranged so that it can be fitted into the nozzles 14A, 14B, and 14C. (See FIG. 17) Of course, the tapered surface 65 is not essential, and may be flat.

更に第4実施例に係るセパレータ31Dは、平
坦な頂部67を有し底部には脚部68を突設させ
その内側にはリブ69を形成し、前記ノズル14
Cのガイド溝56に該リブ69を挿入しスライド
させるようにしてある。(第18図参照) 以上説明したマスク12A,12Bとノズル1
4A,14B,14C及びセパレータ31A,3
1B,31C,31Dの各組合せは、ワーク11
の種類に応じて適宜決定するものであつて、例え
ば前記したコンタクタ1の場合は、第1、第3実
施例のセパレータ31A,31Cを用いて、ワー
ク11のガイド及び位置決めを正確に設定する一
方、IC等のリードフレームのボンデイングエリ
ア等にメツキする場合は、第2、第4実施例のセ
パレータ31B,31Dを使用することになる。
Furthermore, the separator 31D according to the fourth embodiment has a flat top part 67, a leg part 68 protruding from the bottom part, and a rib 69 formed inside the leg part, and the nozzle 14
The rib 69 is inserted into the guide groove 56 of C and slid. (See Figure 18) Masks 12A, 12B and nozzle 1 explained above
4A, 14B, 14C and separators 31A, 3
Each combination of 1B, 31C, and 31D is the workpiece 11
For example, in the case of the contactor 1 described above, the separators 31A and 31C of the first and third embodiments are used to accurately guide and position the workpiece 11. When plating bonding areas of lead frames of ICs, etc., the separators 31B and 31D of the second and fourth embodiments are used.

尚、ノズルホルダー16も第1実施例のそれに
特定されるものではなく、例えば第19図に図示
の如く、長方体状の凾状のホルダー本体71に、
メツキ液給送口72を穿設する一方、上部に前記
ノズル14Bの切欠溝51や、ノズル14Cのノ
ズル穴55に対応した透孔73を連設したものを
16′とし、これを外套凾19に取付け、ホルダ
ー本体71の外周空間部をメツキ液排除通路74
としても良い。
Note that the nozzle holder 16 is not limited to that of the first embodiment; for example, as shown in FIG.
A plating liquid supply port 72 is drilled, and a through hole 73 corresponding to the notch groove 51 of the nozzle 14B and the nozzle hole 55 of the nozzle 14C is continuously provided at the upper part, and this is called 16'. The outer peripheral space of the holder body 71 is connected to the plating liquid removal passage 74.
It's good as well.

又、前記ノズル14A,14B,14Cをノズ
ルホルダー16,16′に装着する場合、その表
面にビス止めや接着する以外に、ノズルホルダー
16,16′へ埋設するように嵌入しても良い。
Further, when the nozzles 14A, 14B, 14C are mounted on the nozzle holders 16, 16', instead of screwing or gluing them onto the surface thereof, they may be embedded in the nozzle holders 16, 16'.

尚、上記各実施例共、マスク及びマスクホルダ
ーは、完全密閉構造であり外気を遮断している
が、マスク及び/又はマスクホルダーに外気導入
溝を形成して、そこから流入する外気流によりマ
スク近傍のメツキ液の飛散を防止したり、余剰メ
ツキ液の強制排除等をしても良い。又、外套凾と
マスク及びマスクホルダーで形成した密閉空間内
を負圧にしているが、これも、絶対必要条件では
なく、該密閉空間内を通常の大気圧の状態にして
も良いことは勿論である。
In each of the above embodiments, the mask and mask holder have a completely sealed structure to block outside air. It is also possible to prevent the plating liquid from scattering in the vicinity, or to forcibly remove excess plating liquid. Also, although the inside of the sealed space formed by the cloak, mask, and mask holder is kept under negative pressure, this is not an absolute requirement, and it is of course possible to keep the inside of the closed space at normal atmospheric pressure. It is.

以上述べたように本発明によれば、ワークの被
メツキ部をマスキングするマスクには、スリツト
や長方形のマスク穴等極めて簡単な加工のみを行
ない、該スリツトやマスク穴をワークに対応して
所定間隔及び面積に仕切るセパレータをノズルに
装着し、且つこれによつて各被メツキ部夫々のメ
ツキ液噴射流路も形成するようにしてあるから、
メツキ装置の製造コストが廉価で済み、メツキ処
理時の段取り工数の大巾削減が可能となり、又、
メツキ精度や品位の高度維持ができるので歩留り
も向上するためメツキ処理コストの低廉化が期し
得る。
As described above, according to the present invention, only extremely simple processing such as slits and rectangular mask holes is performed on the mask for masking the part to be plated of the workpiece, and the slits and mask holes are set in a predetermined manner corresponding to the workpiece. Since the nozzle is equipped with a separator that partitions the parts at intervals and areas, and this also forms the plating liquid injection flow path for each part to be plated.
The manufacturing cost of plating equipment is low, and it is possible to greatly reduce the number of setup steps during plating processing, and
Since the plating accuracy and quality can be maintained at a high level, the yield is improved, and the cost of plating processing can be expected to be reduced.

更に、コンタクタやリードフレーム等のように
多種多様性を有し且つ多量に高速処理を要するワ
ークに対して、その対応性に優れる上、メンテナ
ンスやランニングコストの点でも極めて有効的で
ある等幾多の著効を奏するものである。
Furthermore, it is highly adaptable to workpieces such as contactors and lead frames that have a wide variety and require high-speed processing in large quantities, and is extremely effective in terms of maintenance and running costs. It is highly effective.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は部分メツキのワークの1つであるコン
タクタの部分拡大斜視図、第2図は同上コンタク
タに部分メツキする場合の在来手段を示す要部拡
大縦断面説明図、第3図はマルチ式部分メツキの
在来手段を示す部分縦断説明図、第4図はマルチ
式部分メツキの対象物品の1つであるコンタクタ
のプレス加工状態を示す部分斜視図、第5図はマ
ルチ式部分メツキに使用する在来のマスクの平面
図、第6図は同上マスクの他の実施態様を示す斜
視図、第7図はマルチ式部分メツキに多用される
在来のノズルを示す部分斜視図である。第8図以
下はいずれも本発明の部分メツキ装置の実施例に
係るもので、第8図は部分メツキ装置の概要構成
を示す縦断面図、第9図は同上部分メツキ装置の
分解斜視図、第10図は同部分メツキ装置のセパ
レータの装着態様を示す部分斜視図、第11図は
第2実施例に係るマスクの斜視図、第12図は第
2実施例のノズルの斜視図、第13図は第3実施
例のノズルの斜視図、第14図は第1実施例に係
るノズルの他の実施態様を示すノズルの要部斜視
図、第15図は同上第2実施例に係るノズルの他
の実施態様を示すノズルの要部斜視図、第16図
はセパレータの第2実施例を示す拡大斜視図、第
17図はセパレータの第3実施例を示す拡大斜視
図、第18図はセパレータの第4実施例を示す拡
大斜視図、第19図はノズルホルダーの他の実施
例を示す斜視図である。 11……ワーク、12A,12B……マスク、
13……マスクホルダー、14A,14B,14
C……ノズル、16,16′……ノズルホルダ
ー、17……チヤンバー、19……外套凾、24
……マスク本体、25……スリツト、29……噴
射溝、30,52……ノズル本体、31A,31
B,31C,31D……セパレータ、41……マ
スク板、42……マスク穴、53……側板、55
……ノズル穴、56……ガイド溝、57……ホー
ルド溝、71……ホルダー本体。
Fig. 1 is a partially enlarged perspective view of a contactor, which is one of the workpieces for partial plating, Fig. 2 is an enlarged longitudinal cross-sectional view of the main part showing a conventional means for partially plating the same contactor, and Fig. 3 is a multi-layer Fig. 4 is a partial perspective view showing the state of press working of a contactor, which is one of the target articles of multi-type partial plating, and Fig. 5 is a partial longitudinal explanatory view showing the conventional means of multi-type partial plating. FIG. 6 is a plan view of a conventional mask used, FIG. 6 is a perspective view showing another embodiment of the same mask, and FIG. 7 is a partial perspective view showing a conventional nozzle often used in multi-type partial plating. Figure 8 and subsequent figures all relate to embodiments of the partial plating apparatus of the present invention, in which Figure 8 is a vertical sectional view showing the general configuration of the partial plating apparatus, and Figure 9 is an exploded perspective view of the same partial plating apparatus. FIG. 10 is a partial perspective view showing how the separator is attached to the plating device, FIG. 11 is a perspective view of a mask according to the second embodiment, FIG. 12 is a perspective view of the nozzle of the second embodiment, and FIG. The figure is a perspective view of a nozzle according to the third embodiment, FIG. 14 is a perspective view of main parts of the nozzle showing another embodiment of the nozzle according to the first embodiment, and FIG. 15 is a perspective view of a nozzle according to the second embodiment. FIG. 16 is an enlarged perspective view showing a second embodiment of the separator; FIG. 17 is an enlarged perspective view showing a third embodiment of the separator; FIG. 18 is an enlarged perspective view of the separator. FIG. 19 is an enlarged perspective view showing the fourth embodiment of the nozzle holder, and FIG. 19 is a perspective view showing another embodiment of the nozzle holder. 11...Work, 12A, 12B...Mask,
13...Mask holder, 14A, 14B, 14
C... Nozzle, 16, 16'... Nozzle holder, 17... Chamber, 19... Overcoat, 24
... Mask body, 25 ... Slit, 29 ... Injection groove, 30, 52 ... Nozzle main body, 31A, 31
B, 31C, 31D...Separator, 41...Mask plate, 42...Mask hole, 53...Side plate, 55
... Nozzle hole, 56 ... Guide groove, 57 ... Hold groove, 71 ... Holder body.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 マスクとノズルの間に第3の部材である絶縁
物製のセパレータを任意数介装し、マスクにより
マスキングされた広域被メツキ部を所定数に区割
してその各々を部分被メツキ部に設定し、且つノ
ズルから噴射されるメツキ液流束も所定数に分け
てその夫々が上記部分被メツキ部をターゲツトと
するメツキ液流となるようにしたことを特徴とす
るセパレータ利用の部分メツキ方法。 2 被メツキ物に密着するマスクに、広域範囲を
包括してマスキングするためのスリツトや長溝穴
等を形成し、メツキ液を噴射するノズル側には絶
縁物製のセパレータを任意数立設し、該セパレー
タをマスクとノズルにより挾持せしめた部分メツ
キ装置。 3 セパレータは、その頂部をマスクの長溝等か
ら突出せしめ、部分メツキ域の設定とワークのガ
イドとを兼備せしめたことを特徴とする特許請求
の範囲第2項記載の部分メツキ装置。 4 セパレータは、その頂部を平坦に形成し、且
つ該平坦面をマスクの長溝等内のみに臨ませ、平
面的なワークに密着せしめて部分被メツキ域を設
定するようにしたことを特徴とする特許請求の範
囲第2項記載の部分メツキ装置。 5 セパレータは、その底部を平坦に形成しノズ
ル開口部表面に載置固定するようにしたことを特
徴とする特許請求の範囲第2項記載の部分メツキ
装置。 6 セパレータは、その底部にノズルの幅員より
広い間隔で複数の脚部を突設し、ノズル開口部に
跨設せしめ固定するようにしたことを特徴とする
特許請求の範囲第2項記載の部分メツキ装置。 7 マスクは、複数の長方形平板状マスク板を所
定の間隙を残して並設し、該間隙で被メツキ部の
全域を包括してマスキングするようにしたことを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載の部分メツ
キ装置。 8 マスクは、平板状のマスク本体に、被メツキ
部の広域が包括してマスキング可能な長溝穴を穿
設したことを特徴とする特許請求の範囲第2項記
載の部分メツキ装置。 9 ノズルは、上記広域包括マスキング範囲より
稍々長いコ字形切欠部が形成されたノズル本体
に、平板状の側板を添合して長溝穴状のノズル穴
を形成せしめたことを特徴とする特許請求の範囲
第2項記載の部分メツキ装置。 10 ノズルは、所定数の狭幅コ字形状切欠溝が
クシ形に連設されたノズル本体に、平板状の側板
を添合して多数のノズル穴を連設せしめたことを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載の部分メツ
キ装置。 11 ノズルは、一体的に成形されたノズル本体
に、任意数のノズル穴を連設して穿設させたこと
を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の部分メ
ツキ装置。 12 ノズルには、前記セパレータが嵌合可能な
ホールド溝を任意数連設させたことを特徴とする
特許請求の範囲第2項記載の部分メツキ装置。 13 ノズルには、その側壁面に水平直線状のガ
イド溝を形成し、且つセパレータの脚部内側には
該ガイド溝に係入するリブを突設させたことを特
徴とする特許請求の範囲第6項記載の部分メツキ
装置。 14 セパレータは、ガラス又はセラミツク等の
絶縁性剛体素材で成形させたことを特徴とする特
許請求の範囲第3項乃至第6項のいづれかに記載
した部分メツキ装置。 15 セパレータは、金属製素材で成形し且つそ
の外表面全部をフツ素樹脂等の耐熱耐薬品性素材
によりコーテイングしたことを特徴とする特許請
求の範囲第3項乃至第6項のいづれかに記載した
部分メツキ装置。 16 ワークに密着させ広域の被メツキ域が設定
可能なマスクを着脱交換自在に保持するマスクホ
ルダーと、メツキ液噴射ノズルを固定保持し、且
つメツキ液排除部を有し上記マスクホルダーに連
結可能なノズルホルダーと、該ノズルホルダーと
連結され前記マスクホルダーと相俟つて密閉空間
を形成する外套凾と、該外套凾に連通し上記密閉
空間内を所定の負圧値に維持する吸引機構とを具
備し、且つ前記ノズルとマスクの間に任意数のセ
パレータを立設挾持させて成る部分メツキ装置。
[Scope of Claims] 1. An arbitrary number of separators made of an insulating material as a third member are interposed between the mask and the nozzle, and the wide area to be plated masked by the mask is divided into a predetermined number, and each is set at the part to be partially plated, and the plating liquid flux injected from the nozzle is also divided into a predetermined number of parts, each of which is a plating liquid flow targeting the part to be plated. Partial plating method using separators. 2. Form slits, long slots, etc. to cover a wide area in the mask that comes into close contact with the object to be plated, and install any number of insulating separators upright on the nozzle side that sprays the plating liquid. A partial plating device in which the separator is held between a mask and a nozzle. 3. The partial plating device according to claim 2, wherein the separator has its top projected from the long groove of the mask, and serves both to set the partial plating area and to guide the workpiece. 4. The separator is characterized in that the top part thereof is formed flat, and the flat surface is exposed only to the long grooves of the mask, etc., and is brought into close contact with the flat workpiece to set the area to be partially plated. A partial plating device according to claim 2. 5. The partial plating device according to claim 2, wherein the separator has a flat bottom and is placed and fixed on the surface of the nozzle opening. 6. The part according to claim 2, characterized in that the separator has a plurality of legs protruding from its bottom at intervals wider than the width of the nozzle, and is fixed so as to straddle the nozzle opening. Metsuki device. 7. The mask is characterized in that a plurality of rectangular flat mask plates are arranged side by side with a predetermined gap left, and the gap covers the entire area of the part to be plated. Partial plating device described in section. 8. The partial plating device according to claim 2, wherein the mask has a flat mask main body with a long slot hole that can cover a wide area of the part to be plated and mask it. 9. A patent characterized in that the nozzle has a nozzle body in which a U-shaped cutout slightly longer than the wide-area comprehensive masking range is formed, and a flat side plate is attached to form a long slot-shaped nozzle hole. A partial plating device according to claim 2. 10 A patent characterized in that the nozzle has a nozzle body in which a predetermined number of narrow U-shaped notched grooves are successively arranged in a comb shape, and a flat plate-like side plate is attached to the nozzle body so that a large number of nozzle holes are successively provided. A partial plating device according to claim 2. 11. The partial plating device according to claim 2, wherein the nozzle has an integrally molded nozzle body with an arbitrary number of nozzle holes formed in series. 12. The partial plating device according to claim 2, wherein the nozzle is provided with an arbitrary number of holding grooves into which the separator can fit. 13. Claim No. 1, characterized in that the nozzle has a horizontal linear guide groove formed on its side wall surface, and a rib that engages in the guide groove is provided on the inside of the leg of the separator. The partial plating device according to item 6. 14. The partial plating device according to any one of claims 3 to 6, wherein the separator is formed of an insulating rigid material such as glass or ceramic. 15. The separator is characterized in that it is formed of a metal material and its entire outer surface is coated with a heat-resistant and chemical-resistant material such as fluororesin. Partial plating device. 16 A mask holder that removably holds a mask in close contact with a workpiece and capable of setting a wide area to be plated, and a mask holder that fixedly holds a plating liquid spray nozzle and has a plating liquid removal part and can be connected to the mask holder. A nozzle holder, a mantle connected to the nozzle holder and forming a sealed space together with the mask holder, and a suction mechanism that communicates with the mantle and maintains the inside of the sealed space at a predetermined negative pressure value. and a partial plating device comprising an arbitrary number of separators erected and held between the nozzle and the mask.
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