JPS6155526B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
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Description
本発明はS−トリアジンのテトラメチルピペリ
ジン誘導体からなる高分子材料用安定剤に関す
る。 特開昭49−21389号公報には少なくとも1個以
上の2・2・6・6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル基を含むS−トリアジン誘導体が開示されて
いる。これらの化合物は高分子材料とくにポリオ
レフインの光劣化に対し有効な安定剤である。し
かし、使用目的によつてはこれらのトリアジン誘
導体の揮発性及びマイグレーシヨンの傾向が強す
ぎる場合がある。上記の欠点は特にプラスチツク
スを薄層状で使用するとき例えば繊維、フイルム
あるいはラツカーとして使用するとき、また比較
的長期間の安定化が必要である場合に問題とな
る。 以上の理由から、これらのトリアジン−ピペリ
ジン誘導体の分子量を増加させ、それによつて該
誘導体の揮発性および移行性を低下させるこころ
みがされてきた。例えば特開昭52−73886号公報
にはピペリジンで置換されたトリアジン基2〜数
個を例えばポリアミンの様な多価化合物を介して
結合することが提案されている。特開昭52−
71486号公報及び特開昭53−67749号公報には、二
官能性トリアジン誘導体のピペリジンで置換され
た重縮合体が安定剤として開示されている。この
タイプのポリトリアジンも又安定化すべき高分子
材料とともに物理的混合物を形成し使用される。
しかしながら、このようなポリマー化合物からな
る安定剤の製造は、常に均質なものを製造するこ
とが困難である。 本発明の目的はトリアジン−ピペリジン誘導体
は2−ヒドロキシエチル基を有するため、保護す
べき重合体と親密に相容し、マイグレーシヨンや
抽出によつて重合体から除去されることのない安
定剤を提供することにある。 本発明の安定剤は新規な化合物であり、 式 〔式中、 R1は水素原子又はメチル基を示す。 R2は水素原子、炭素原子2乃至18個を有する
アルカノイル基又は3−(3・5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフエニル)プロピオニル基を示
す。 nは1又は2を示す。 nが1のとき、 Xは炭素原子1乃至18個を有するアルキル基、
ベンジル基又は式−CH2CH2OR2(R2は前述した
ものと同じ)の基を示す。そして Yは水素原子 式
ジン誘導体からなる高分子材料用安定剤に関す
る。 特開昭49−21389号公報には少なくとも1個以
上の2・2・6・6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル基を含むS−トリアジン誘導体が開示されて
いる。これらの化合物は高分子材料とくにポリオ
レフインの光劣化に対し有効な安定剤である。し
かし、使用目的によつてはこれらのトリアジン誘
導体の揮発性及びマイグレーシヨンの傾向が強す
ぎる場合がある。上記の欠点は特にプラスチツク
スを薄層状で使用するとき例えば繊維、フイルム
あるいはラツカーとして使用するとき、また比較
的長期間の安定化が必要である場合に問題とな
る。 以上の理由から、これらのトリアジン−ピペリ
ジン誘導体の分子量を増加させ、それによつて該
誘導体の揮発性および移行性を低下させるこころ
みがされてきた。例えば特開昭52−73886号公報
にはピペリジンで置換されたトリアジン基2〜数
個を例えばポリアミンの様な多価化合物を介して
結合することが提案されている。特開昭52−
71486号公報及び特開昭53−67749号公報には、二
官能性トリアジン誘導体のピペリジンで置換され
た重縮合体が安定剤として開示されている。この
タイプのポリトリアジンも又安定化すべき高分子
材料とともに物理的混合物を形成し使用される。
しかしながら、このようなポリマー化合物からな
る安定剤の製造は、常に均質なものを製造するこ
とが困難である。 本発明の目的はトリアジン−ピペリジン誘導体
は2−ヒドロキシエチル基を有するため、保護す
べき重合体と親密に相容し、マイグレーシヨンや
抽出によつて重合体から除去されることのない安
定剤を提供することにある。 本発明の安定剤は新規な化合物であり、 式 〔式中、 R1は水素原子又はメチル基を示す。 R2は水素原子、炭素原子2乃至18個を有する
アルカノイル基又は3−(3・5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフエニル)プロピオニル基を示
す。 nは1又は2を示す。 nが1のとき、 Xは炭素原子1乃至18個を有するアルキル基、
ベンジル基又は式−CH2CH2OR2(R2は前述した
ものと同じ)の基を示す。そして Yは水素原子 式
【式】の基又は
式
【式】の基
(R1及びR2は前述したものと同じ)を示す。
nが2のとき、
Xは炭素原子2乃至6個のアルキレン基、キシ
リレン基又は式
リレン基又は式
【式】(mは1乃至4を
示し、Zは前述した式()の基を示す)の基を
示す。そして Yは水素原子又は前述の式()の基を示
す。〕 式において、R2が水素原子2乃至18個を有
するアルカノイル基を示すとき、例えばアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、ヘキサノイル、オ
クタノイル、ラウロイル、パルミトイル又はステ
アロイルでありえ、とくに炭素原子2乃至4個を
有するアルカノイル基が好ましい。 Xは炭素原子1乃至18個を有するアルキル基を
示すとき、直鎖または枝分れ鎖でもよく、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第三ブチル、ヘキシル、オ
クチル、2−エチルヘキシル、第三オクチル、デ
シル、ドデシル、テトラデシル又はオクタデシル
でありえ、とくに炭素原子8乃至18個を有するア
ルキル基が好ましい。 Xが炭素原子2乃至6個を有するアルキレン基
を示すとき、例えば、1・2−エチレン、1・2
−プロピレン、1・4−ブチル、又は1・6−ヘ
キシレンでありえ、とくに1・6−ヘキシレンが
好ましい。 式で表わされる好ましい化合物は、R1が水
素原子であるもの及びR2が水素原子であるもの
である。さらに好ましい式の化合物は、 (1) R1及びR2が水素原子であり、nが1であ
り、Xが炭素原子8乃至10個を有するアルキル
基であり、Yが水素原子又は2・4−ビス{2
−ヒドロキシ−N−(2・2・6・6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)エチルアミノ}−
1・3・5−トリアジン−6−イル基である化
合物。 (2) R1及びR2が水素原子であり、nが1であ
り、Xが2−ヒドロキシエチル基であり、Yが
2・2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル基である化合物。 (3) R1及びR2が水素原子であり、nが2であ
り、Xが1・6−ヘキシレン基又は式
示す。そして Yは水素原子又は前述の式()の基を示
す。〕 式において、R2が水素原子2乃至18個を有
するアルカノイル基を示すとき、例えばアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、ヘキサノイル、オ
クタノイル、ラウロイル、パルミトイル又はステ
アロイルでありえ、とくに炭素原子2乃至4個を
有するアルカノイル基が好ましい。 Xは炭素原子1乃至18個を有するアルキル基を
示すとき、直鎖または枝分れ鎖でもよく、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第三ブチル、ヘキシル、オ
クチル、2−エチルヘキシル、第三オクチル、デ
シル、ドデシル、テトラデシル又はオクタデシル
でありえ、とくに炭素原子8乃至18個を有するア
ルキル基が好ましい。 Xが炭素原子2乃至6個を有するアルキレン基
を示すとき、例えば、1・2−エチレン、1・2
−プロピレン、1・4−ブチル、又は1・6−ヘ
キシレンでありえ、とくに1・6−ヘキシレンが
好ましい。 式で表わされる好ましい化合物は、R1が水
素原子であるもの及びR2が水素原子であるもの
である。さらに好ましい式の化合物は、 (1) R1及びR2が水素原子であり、nが1であ
り、Xが炭素原子8乃至10個を有するアルキル
基であり、Yが水素原子又は2・4−ビス{2
−ヒドロキシ−N−(2・2・6・6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)エチルアミノ}−
1・3・5−トリアジン−6−イル基である化
合物。 (2) R1及びR2が水素原子であり、nが1であ
り、Xが2−ヒドロキシエチル基であり、Yが
2・2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル基である化合物。 (3) R1及びR2が水素原子であり、nが2であ
り、Xが1・6−ヘキシレン基又は式
【式】
(式中、mは1乃至4であり、Zは2・4−ビ
ス{2−ヒドロキシ−N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジル)エチルアミ
ノ}−1・3・5−トリアジン−6−イル基で
あり、Yが水素原子である化合物。 式において、nが1を表わす化合物の例は次
表のとおりである。
ス{2−ヒドロキシ−N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジル)エチルアミ
ノ}−1・3・5−トリアジン−6−イル基で
あり、Yが水素原子である化合物。 式において、nが1を表わす化合物の例は次
表のとおりである。
【表】
【表】
式において、nが2を表わす化合物の例は次
表のとおりである。
表のとおりである。
【表】
式の化合物は、次の方法で製造できる。
(1) 式において、R1及びR2が水素原子であ
り、Yが水素原子又は2・2・6・6−テトラ
メチル−4−ピペリジル基であり、nが1又は
2である化合物は (a) 塩化シアヌル1モル当量と、少くとも2モ
ル当量の4−(2−ヒドロキシエチルアミ
ノ)−2・2・6・6−テトラメチルピペリ
ジンとを、不活性溶剤中で、塩化水素の固定
剤の存在下あるいは不存在下に、室温ないし
溶剤の沸点の範囲、好ましくは50〜130℃、
で反応させることにより、 式 を有する化合物を製造し、 (b) これに、式
り、Yが水素原子又は2・2・6・6−テトラ
メチル−4−ピペリジル基であり、nが1又は
2である化合物は (a) 塩化シアヌル1モル当量と、少くとも2モ
ル当量の4−(2−ヒドロキシエチルアミ
ノ)−2・2・6・6−テトラメチルピペリ
ジンとを、不活性溶剤中で、塩化水素の固定
剤の存在下あるいは不存在下に、室温ないし
溶剤の沸点の範囲、好ましくは50〜130℃、
で反応させることにより、 式 を有する化合物を製造し、 (b) これに、式
【式】
のアミンを不活性溶剤中又は無溶剤の条件下
で、塩化水素の固定剤の存在下あるいは不存
在下、室温ないし200℃、好ましくは50〜150
℃、で反応させることにより、 式 を有する化合物が製造される。 上記式中、X′は、nが1のとき、C1-18ア
ルキル、ベンジル又は2−ヒドロキシエチル
を示し、nが2のとき、C2-6アルキレン、キ
シリレン又は式
で、塩化水素の固定剤の存在下あるいは不存
在下、室温ないし200℃、好ましくは50〜150
℃、で反応させることにより、 式 を有する化合物が製造される。 上記式中、X′は、nが1のとき、C1-18ア
ルキル、ベンジル又は2−ヒドロキシエチル
を示し、nが2のとき、C2-6アルキレン、キ
シリレン又は式
【式】
(mは1ないし4)の基を示す。
X″は、nが1のとき、X′と同意義の基を
示し、nが2のとき、C2-6アルキレン、キシ
リレン又は式
示し、nが2のとき、C2-6アルキレン、キシ
リレン又は式
【式】
(mは1ないし4)の基を示し、Z′は式に
おいて、R1及びR2が水素原子である基を示
す。 Y′は、水素原子又は2・2・6・6−テ
トラメチル−4−ピペリジル基を示す。 (2) 式においてR1及びR2が水素原子であり、
Yが式においてR1及びR2が水素原子である
基であり、nが1である化合物は、 (a) 式H2NX′のアミン1モル当量と、少なくと
も2モル当量の塩化シアヌルとを、不活性溶
剤中、塩化水素の固定剤の存在下あるいは不
存在下に、氷冷下ないし溶剤の沸点の範囲好
ましくは10〜70℃、で反応させて、 式 を有する化合物を製造し、 (b) これに、4−(2−ヒドロキシエチルアミ
ノ)−2・2・6・6−テトラメチルピペリ
ジンを、前記(1)−(b)の方法と同様の条件で反
応させることにより、式 を有する化合物が製造される。 上記式中、X′はnが1のときの前述した
基と同意義を示す。上記の方法において、反
応溶剤としては、(1)−(a)及び(2)−(a)の方法で
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセト
ン、ジオキサンなどが用いられる。また、(1)
−(b)及び(2)−(b)の方法では、水、ジオキサ
ン、ジエチレングリコール、ジエチルエーテ
ル、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、n−ヘキサン、n−ヘプ
タン、ベンゼン、トルエン、キシレン、無水
ないし含水のメタノール、エタノール、t−
ブタノールのようなアルコール類が用いら
れ、好ましくはアセトン、ベンゼン、キシレ
ン、トルエン又はアルコール類である。 塩化水素の固定剤としては、トリエチルア
ミン、水酸化ナトリウム又はカリウム、炭酸
カリウム、水素化炭酸ナトリウムなどが用い
られる。 (3) 式において、Y′が2・2・6・6−テト
ラメチル−4−ピペリジル基であり、X″が2
−ヒドロキシエチル基である化合物は、(1)−(a)
の方法において4−(2−ヒドロキシエチルア
ミノ)2・2・6・6−テトラメチルピペリジ
ンを多量に用いて、加熱還流することにより、
一挙に製造することもできる。 (4) 式において、R1がメチル基である化合物
は、式のY′が水素原子である場合は式の
化合物に、それ以外の場合は式又は式の化
合物に、ホルムアルデヒド及びギ酸を反応させ
ることにより製造される。 (5) 式において、R2がアシル基である化合物
は、式又は式の化合物に所望のカルボン酸
の低級アルキルエステルを反応させることによ
り製造される。 式で表わされる化合物は大部分の有機性重合
体に容易に溶解し、低濃度を使用によつても劣
化、特に光劣化に対してポリマーを安定化させ
る。通常、光の作用によつて劣化し、式で表わ
される化合物の添加によつて安定化し得る高分子
材料の例は、以下の通りである。 1 モノ−およびジ−オレフインのポリマー、例
えばポリエチレン(架橋されても良い。)ポリ
プロピレン、ポリイソブチレン、ポリメチルブ
ト−1−エン、ポリメチルペント−1−エン、
ポリイソプレンまたはポリブタジエン。 2 (1)にあげたポリマーの混合物、例えばポリプ
ロピレンとポリエチレンまたはポリイソブチレ
ンとの混合物。 3 モノ−およびジ−オレフインのコポリマー、
例えばエチレン/プロピレン コポリマー、プ
ロピレン/プト−1−エン コポリマー、プロ
ピレン/イソブチレン コポリマーおよびエチ
レン/ブト−1−エン コポリマーさらにまた
エチレンとプロピレンおよびヘキサジエン、ジ
シクロペンタジエンまたはエチリデンノルボル
ネン等のジエンとのターポリマー。 4 ポリスチレン。 5 スチレンまたはα−メチルスチレンとジエン
またはアクリル誘導体とのコポリマー、例えば
スチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニ
トリルまたはスチレン/アクリロニトリル/メ
チルアクリレート;スチレンコポリマーおよび
他のポリマーから得られる耐衝撃性樹脂混合
物、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー
またはエチレン/プロピレン/ジエン ターポ
リマー;さらにまたスチレンのブロツクコポリ
マー、例えばスチレン/ブタジエン/スチレ
ン、スチレン/イソブレン/スチレンまたはス
チレン/エチレン−ブチレン/スチレン。 6 スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチ
レンの結合したポリブタジエン、スチレンおよ
びアクリロニトリルの結合したポリブタジエン
およびこれらと5にあげたコポリマーとの
ABSポリマーとして知られる混合樹脂。 7 ハロゲン含有ポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポ
リクロロプレン、塩化ゴムおよびハロゲン含有
コポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリ
デン/酢酸ビニルのコポリマー。 8 α・β−不飽和酸およびその誘導体から誘導
されるポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート、ポリアクリルアミドお
よびポリアクリロニトリル。 9 不飽和アルコールおよびアミンまたはそれ等
のアシル誘導体またはアセタールから誘導され
るポリマー、例えばポリビニルアルコール;ポ
リ酢酸ビニル、ポリステアリン酸ビニル、ポリ
ピニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、
ポリビニルプチラート、ポリアリルフタレー
ト、ポリアリルメラミンおよびそれらと他のビ
ニル化合物とのコポリマー、例えばエチレン/
酢酸ビニル コポリマー。 10 エポキシドのホモポリマーおよびコポリマ
ー、例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピ
レンオキシドまたはそれらとビス−グリシジル
エーテルとのコポリマー。 11 ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン
さらにまたエチレンオキシドをコモノマーとし
て含むポリオキシメチレン。 12 ポリフエニレンオキシド。 13 ポリウレタンおよびポリウレア。 14 ポリカーボネート。 15 ポリスルホン。 16 ジアミンおよびジカルボン酸および/または
アミノカルボン酸または相当するラクタムから
誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、例
えばポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリア
ミド6/10、ポリアミド11およびポリアミド
12。 17 ジカルボン酸およびジアルコールおよび/ま
たはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されるポリエステル、例えばポリ
エチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、およびポリ−1・4−ジメチロ−ル
シクロヘキサンテレフタレートおよび末端水酸
基を有するポリエーテルとジカルボン酸から誘
導されるブロツクポリエーテルエステル。 18 一方でアルデヒド、他方でフエノール、尿素
およびメラミンから誘導される架橋ポリマー、
例えばフエノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン−ホ
ルムアルデヒド樹脂。 19 アルキツド樹脂、例えばグリセロール/フタ
ル酸樹脂およびそのメラミン−ホルムアルデヒ
ド樹脂との混合物。 20 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコ
ールとのビニル化合物を架橋剤とするコポリエ
ステルから誘導される、不飽和ポリエステル樹
脂およびさらにそのハロゲン原子を含む難燃性
の変性樹脂。 21 ポリエポキシ、例えばビス−グリシジルエー
テルまたは脂環式ジエポキシから誘導される架
橋エポキシ樹脂。 本発明の安定剤は、重合体量に対し0.01ないし
5重量%の量を重合体中に添加する。好ましくは
0.02ないし1重量%の量を使用する。本安定剤
は、高分子材料の成形前に添加する。その添加
は、粉体物質のドライブレンドによりあるいは溶
液状または溶融状ポリマーとの混合により行な
う。安定剤は、プレポリマーまたはその溶液中へ
混合することもできる。その様なプレポリマー
は、特に表面塗料用樹脂、塗料用組成物または成
形中あるいは成形後に初めて架橋して高分子状に
変換する圧縮成形用組成物として使用される。 本発明安定剤の添加と同時に、プラスチツク加
工に通常使用される他の添加剤を混合することも
可能である。その様な添加剤としては、例えば顔
料、充填剤、可塑剤、洗剤、ガラス繊維、螢光増
白剤、他の安定剤、難燃剤または帯電防止剤があ
げられる。 他の公知の安定剤を併用する場合、相乗効果が
得られる場合があり、その様な補助安定剤効果
は、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフエノン
またはニツケル化合物をベースとする光安定剤に
よつて得られる。 この様にして安定化されたプラスチツクは、非
常に広範な形態で、例えばフイルム、繊維、テー
プ、圧縮成形材料、塗料組成物またはペイントと
して使用できる。 以下に実施例により本発明組成物の説明を行な
うが、本発明はこれらの実施例のみに限定される
ものではない。 実施例 1 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−6−n−オクチルアミノ−
1・3・5−トリアジン 4−(2−ヒドロキシエチルアミノ)−2・2・
6・6−テトラメチルピペリジン66gをジオキサ
ン600mlに溶かした溶液を30〜40℃に保ち、この
溶液に塩化シアヌル27.8gをジオキサン200mlに
溶かした溶液を滴下した。滴下後35〜40℃で1時
間反応させた後、さらに2時間還流下に反応させ
た。析出した結晶を取して氷−アンモニア水中
に投入し、クロロホルムで抽出した。抽出液を硫
酸マグネシウムで乾燥したのち、クロロホルムを
留去して白色結晶をえ、これを熱酢酸エチルで洗
つたのち、乾燥してmp.206〜207℃の2.4−ビス
{2−ヒドロキシ−N−(2・2・6・6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)エチルアミノ}−6−
クロロ−1・3・5−トリアジンを得た。 次に、この化合物7.7gとn−オクチルアミン
3.0gをジオキサン200mlに溶解し、4時間加熱還
流して反応させた。反応終了後、ジオキサンを留
去して得た残査を5%水酸化ナトリウム水溶液に
投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸ナ
トリウムで乾燥し、酢酸エチルを留去して得た白
色結晶をn−ヘキサンから再結晶してmp.117〜
119℃の目的を得た。 実施例 2 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−3−n−デシルアミノ−1・
3・5−トリアジン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン3.0gとn−デシルアミン1.5gとをジオキサ
ン70mlに溶解し、炭酸カリウム1.0gを添加した
のち、かきまぜながら5時間加熱還流して反応さ
せた。反応終了後ジオキサンを留去して得た残査
をリグロインから再結晶してmp.160〜107℃の白
色結晶として目的物を得た。 実施例 3 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−6−n−ドデシルアミノ−
1・3・5−トリアジン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン5.2gとドデシルアミン2.8gとを実施例1と
同様に反応させて油状物を得た。これをアルミナ
カラムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エチ
ル:メタノール=10:1)に付し、得られた結晶
をn−ヘキサンで再結晶してmp.107〜109℃の白
色結晶として目的物を得た。 実施例 4 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−6−n−オクタデシルアミノ
−1・3・5−トリアジン 実施例3の方法に準じて、mp104〜107℃の白
色結晶として目的物を得た。 実施例 5 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−6−ベンジルアミノ−1・
3・5−トリアジン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン5.0gとベンジルアミン25.0gとを150〜160
℃で8時間30分加熱して反応させた。反応混合物
をアンモニア水に投入し、クロロホルムで抽出
し、無水炭酸カリウムで乾燥後、クロロホルムを
留去して残査を得た。これをシリカゲルクロマト
グラフイー(溶離剤=酢酸エチル:トリエチルア
ミン:エタノール=10:12:3)に付し、得られ
た結晶をシクロヘキサンから再結晶してmp.88℃
の白色結晶として目的物を得た。 実施例 6 N・N′−ビス〔2・4−ビス{2−ヒドロキ
シ−N−(2・2・6・6−テトラメチル−4
−ピペリジル)エチルアミノ}−1・3・5−
トリアジン−6−イル〕−ヘキサメチレンジア
ミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン2.7gとヘキサメチレンジアミン0.3gとをメ
タノール100mlに溶解し、炭酸カリウム2.0gを添
加して8時間加熱還流して反応させた。反応混合
物からメタノールを留去して得られた結晶をn−
ヘキサンから再結晶してmp.165〜168℃の白色結
晶として目的物を得た。 実施例 7 N・N′−ビス〔2・4−ビス{2−ヒドロキ
シ−N−(2・2・6・6−テトラメチル−4
−ピペリジル)エチルアミノ}−1・3・5−
トリアジン−6−イル〕−p−キシリレンジア
ミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン15.4gとp−キシリレンジアミン1.4gとを
キシレン50mlに溶解し、5時間加熱還流して反応
させた。反応混合物を水中に投入し、炭酸カリウ
ムで飽和した後、ベンゼン300ml、クロロホルム
500mlの混合溶媒で抽出した。抽出液を無水炭酸
カリウムで乾燥した後、ベンゼン、クロロホルム
を留去し残査を得た。この残査をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エチル:ト
リエチルアミン:エタノール=3:1:1)に付
し、得られた結晶をシクロヘキサンから再結晶し
てmp.151〜156℃の目的物を得た。 実施例 8 N・N′−ビス(2・2・6・6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−N・N′−ビス〔2・4
−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・2・6・
6−テトラメチル−4−ピペリジル)エチルア
ミノ)−1・3・5−トリアジン−6−イル)−
ヘキサメチレンジアミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン10.9gとN・N′−ビス(2・2・6・6−テ
トラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレン
ジアミン4.0gとをキシレン60mlに溶解し、16時
間30分加熱還流して反応させた。反応混合物にn
−ヘキサンを加え、析出する結晶を取した。こ
の結晶をアンモニア水に投入し、クロロホルムで
抽出し、無水炭酸カリウムで乾燥した後、クロロ
ホルムを留去して残査を得た。この残査をアルミ
ナカラムクロマトグラフイー(溶離剤:酢酸エチ
ル:トリエチルアミン:クロロホルム:エタノー
ル=10:10:5:5)に付し、得られた結晶をシ
クロヘキサン、さらに酢酸エチルから2回再結晶
してmp.180〜186℃の白色結晶として目的物を得
た。 実施例 9 N・N′・N″−トリス〔2・4−ビス{2−ヒ
ドロキシ−N−(2・2・6・6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)エチルアミノ}−1・
3・5−トリアジン−6−イル〕ジエチレント
リアミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン16.8gとジエチレントリアミン1.0gとをキ
シレン300mlに溶解し12時間加熱還流して反応さ
せた。反応混合物からキシレンを留去した後、実
施例5と同様に処理し得られた残査をシリカゲル
カラムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エチ
ル:トリエチルアミン:エタノール=3:3:
5)に付し、得られた結晶を酢酸エチルから再結
晶してmp.190〜193℃の白色結晶として目的物を
得た。 実施例 10 N・N′・N″・N−テトラキス〔2・4−ビ
ス{2−ヒドロキシ−N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジン)エチルアミ
ノ}−1・3・5−トリアジン−6−イル〕−ト
リエチレンテトラミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピベリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン8.0gとトリエチレンテトラミン0.5gとをジ
オキサン100mlに溶解し、水酸化ナトリウム0.7g
を水10mlに溶解した水溶液を加え、6時間加熱還
流して反応させた。反応混合物からジオキサンを
留去し、残査をベンゼンで抽出し、これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エ
チル:ベンゼン:エタノール:トリエチルアミン
=20:4:2:1)に付し、mp.158℃の白色結
晶として目的物を得た。 実施例 11 N・N′・N″・N・N〓・N〓−ヘキサ
〔2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−1・3・5−トリアジン−6
−イル〕−ペンタエチレンヘキサミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン3.7gとベンタエチレンヘキサミン0.2gとを
ジオキサン70mlに溶解し、炭酸カリウム4.0gを
添加して10時間加熱還流して反応させた。反応混
合物からジオキサンを留去して得られた残査を5
%水酸化ナトリウム水溶液に投入し、酢酸エチル
で抽出し、無水炭酸カリウムで乾燥した。酢酸エ
チルを留去して得た結晶を酢酸エチル:ベンゼン
=1:1の混合溶媒から再結晶してmp.185〜195
℃の白色結晶として目的物を得た。 実施例 12 N・N−ビス〔2・4−ビス{2−ヒドロキシ
−N(2・2・6・6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)エチルアミノ}−1・3・5−トリ
アジン−6−イル〕−n−ドデシルアミン 塩化シアヌル38.0gをアセトン350mlに溶解し
た溶液に、ドデシルアミン18.5gをアセトン40ml
に懸濁した溶液を10℃で滴下した。滴下後、同温
度で4時間かくはんして反応させた。反応混合物
を水2中に投入し、酢酸エチルで抽出した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、酢酸エチルを留去し
て得た油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(溶離剤=ベンゼン:n−ヘキサン=4:
1)に付して精製するとmp.50〜53℃の白色結晶
としてN・N−ビス(2・4−ジクロロ−1・
3・5−トリアジン−6−イル)−n−ドデシル
アミンを得た。 この化合物4.8gと4−(2−ヒドロキシエチル
アミノ)−2・2・6・6−テトラメチルピペリ
ジン10.0gとをジオキサン200mlに溶解し、水酸
化ナトリウム2.0gを水20mlに溶解した水溶液を
加えて15時間加熱還流して反応させた。反応混合
物からジオキサンを留去し、残査を酢酸エチルで
抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、酢酸エチルを留去して得た結晶をアルミナ
カラムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エチ
ル:メタノール=10:1)に付して精製すると
mp.106〜110℃の白色結晶として目的物を得た。 実施例 13 2・4・6−トリス{2−ヒドロキシ−N−
(2・2・6・6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)エチルアミノ}−1・3・5−トリアジ
ン 塩化シアヌル3.0gと4−(2−ヒドロキシエチ
ルアミノ)−2・2・6・6−テトラメチルピペ
リジン12.0gとをジオキサンに溶解し、炭酸カリ
ウム10.0gとを加えて1時間室温でかくはんした
後、さらに8時間加熱還流して反応させた。反応
混合物よりジオキサンを留去した後、得られた白
色結晶をベンゼン:n−ヘキサン=2:1の混合
溶媒から再結晶するとmp.176〜178℃の白色結晶
として目的物を得た。 実施例 14 2・4・6−トリス{N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−2−ラウロ
イルオキシエチルアミノ}−1・3・5−トリ
アジン 実施例13で得られた化合物2.0gとラウリン酸
メチル3.0gとをキシレン300mlに溶解し、リチウ
ムアミド0.5gを加えて8時間加熱還流して反応
させた。この間生成するメタノールをキシレンと
共に少量づつ留去する一方で、留去するメタノー
ル及びキシレンの量に相当するキシレンを加えて
反応内容物を一定量に保持した。反応混合物を水
洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、キシレンを留去
して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフイー(溶離剤=酢酸エチル:ベンゼン:エ
タノール:トリエチルアミン=20:4:2:1)
に付して精製すると無色粘稠な油状物として目的
物を得た。本化合物はシリカゲルを用いた薄層ク
ロマトグラフイー(展開溶剤=酢酸エチル:ベン
ゼン:エタノール:トリエチルアミン=20:4:
2:1)でRf値が0.42を示した。 実施例 15 2・4・6−トリス{N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−2−ステア
ロイルオキシエチルアミノ}−1・3・5−ト
リアジン 実施例14の方法に準じて、無色ロウ状固体とし
て目的物を得た。本化合物はシリカゲルを用いた
薄層クロマトグラフイ(展開溶剤=酢酸エチル:
ベンゼン:エタノール:トリエチルアミン=20:
4:2:1)でRf値が0.41を示した。 実施例 16 2・4・6−トリス〔N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−2−{3−
(3・5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフエ
ニル)プロピオニルオキシ}エチルアミノ〕−
1・3・5−トリアジン 実施例14の方法に準じて、粘稠な油状物を得、
これをシリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶
離剤=酢酸エチル:トリエチルアミン=5:1)
に付して精製するとmp.97〜100℃の淡黄色結晶
として目的物を得た。 実施例 17 未安定化ポリプロピレン粉末(MFI〜18)100
部、酸化防止剤としてステアリル3−(3・5−
ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロピ
オネート0.2部及び本発明の安定剤0.25部をプラ
ベンダープラストグラフ中で200℃で10分間混練
して均質にした。得られた塊を実験用プレス機で
2〜3mm厚のシートに圧縮した。このシートの一
部を油圧プレス機により260℃で6分間加圧し、
次いで直ちに冷水中に投入して0.5mm厚のフイル
ムを得た。同様の方法によつて、0.5mm厚のフイ
ルムから0.1mm厚のフイルムを成形した。このフ
イルムを50×120mmの試験片に切断した。 この試験片をサンシヤイン・ウエザー・メータ
ー中黒板温度63±3℃で光に曝した。照射された
試料を周期的に引張試験を行い、伸びが初期の50
%になるまでの時間を求めた。試験結果は試料の
伸びが50%に達するまでの時間と本発明の安定剤
を無添加の対照試料の破断時の伸びが50%に達す
るまでの時間との比率で表1に示す。なお化合物
番号は前述の化合物例に示した化合物を表す。表
2及び表3においても同じ。
おいて、R1及びR2が水素原子である基を示
す。 Y′は、水素原子又は2・2・6・6−テ
トラメチル−4−ピペリジル基を示す。 (2) 式においてR1及びR2が水素原子であり、
Yが式においてR1及びR2が水素原子である
基であり、nが1である化合物は、 (a) 式H2NX′のアミン1モル当量と、少なくと
も2モル当量の塩化シアヌルとを、不活性溶
剤中、塩化水素の固定剤の存在下あるいは不
存在下に、氷冷下ないし溶剤の沸点の範囲好
ましくは10〜70℃、で反応させて、 式 を有する化合物を製造し、 (b) これに、4−(2−ヒドロキシエチルアミ
ノ)−2・2・6・6−テトラメチルピペリ
ジンを、前記(1)−(b)の方法と同様の条件で反
応させることにより、式 を有する化合物が製造される。 上記式中、X′はnが1のときの前述した
基と同意義を示す。上記の方法において、反
応溶剤としては、(1)−(a)及び(2)−(a)の方法で
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセト
ン、ジオキサンなどが用いられる。また、(1)
−(b)及び(2)−(b)の方法では、水、ジオキサ
ン、ジエチレングリコール、ジエチルエーテ
ル、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、n−ヘキサン、n−ヘプ
タン、ベンゼン、トルエン、キシレン、無水
ないし含水のメタノール、エタノール、t−
ブタノールのようなアルコール類が用いら
れ、好ましくはアセトン、ベンゼン、キシレ
ン、トルエン又はアルコール類である。 塩化水素の固定剤としては、トリエチルア
ミン、水酸化ナトリウム又はカリウム、炭酸
カリウム、水素化炭酸ナトリウムなどが用い
られる。 (3) 式において、Y′が2・2・6・6−テト
ラメチル−4−ピペリジル基であり、X″が2
−ヒドロキシエチル基である化合物は、(1)−(a)
の方法において4−(2−ヒドロキシエチルア
ミノ)2・2・6・6−テトラメチルピペリジ
ンを多量に用いて、加熱還流することにより、
一挙に製造することもできる。 (4) 式において、R1がメチル基である化合物
は、式のY′が水素原子である場合は式の
化合物に、それ以外の場合は式又は式の化
合物に、ホルムアルデヒド及びギ酸を反応させ
ることにより製造される。 (5) 式において、R2がアシル基である化合物
は、式又は式の化合物に所望のカルボン酸
の低級アルキルエステルを反応させることによ
り製造される。 式で表わされる化合物は大部分の有機性重合
体に容易に溶解し、低濃度を使用によつても劣
化、特に光劣化に対してポリマーを安定化させ
る。通常、光の作用によつて劣化し、式で表わ
される化合物の添加によつて安定化し得る高分子
材料の例は、以下の通りである。 1 モノ−およびジ−オレフインのポリマー、例
えばポリエチレン(架橋されても良い。)ポリ
プロピレン、ポリイソブチレン、ポリメチルブ
ト−1−エン、ポリメチルペント−1−エン、
ポリイソプレンまたはポリブタジエン。 2 (1)にあげたポリマーの混合物、例えばポリプ
ロピレンとポリエチレンまたはポリイソブチレ
ンとの混合物。 3 モノ−およびジ−オレフインのコポリマー、
例えばエチレン/プロピレン コポリマー、プ
ロピレン/プト−1−エン コポリマー、プロ
ピレン/イソブチレン コポリマーおよびエチ
レン/ブト−1−エン コポリマーさらにまた
エチレンとプロピレンおよびヘキサジエン、ジ
シクロペンタジエンまたはエチリデンノルボル
ネン等のジエンとのターポリマー。 4 ポリスチレン。 5 スチレンまたはα−メチルスチレンとジエン
またはアクリル誘導体とのコポリマー、例えば
スチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニ
トリルまたはスチレン/アクリロニトリル/メ
チルアクリレート;スチレンコポリマーおよび
他のポリマーから得られる耐衝撃性樹脂混合
物、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー
またはエチレン/プロピレン/ジエン ターポ
リマー;さらにまたスチレンのブロツクコポリ
マー、例えばスチレン/ブタジエン/スチレ
ン、スチレン/イソブレン/スチレンまたはス
チレン/エチレン−ブチレン/スチレン。 6 スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチ
レンの結合したポリブタジエン、スチレンおよ
びアクリロニトリルの結合したポリブタジエン
およびこれらと5にあげたコポリマーとの
ABSポリマーとして知られる混合樹脂。 7 ハロゲン含有ポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポ
リクロロプレン、塩化ゴムおよびハロゲン含有
コポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリ
デン/酢酸ビニルのコポリマー。 8 α・β−不飽和酸およびその誘導体から誘導
されるポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート、ポリアクリルアミドお
よびポリアクリロニトリル。 9 不飽和アルコールおよびアミンまたはそれ等
のアシル誘導体またはアセタールから誘導され
るポリマー、例えばポリビニルアルコール;ポ
リ酢酸ビニル、ポリステアリン酸ビニル、ポリ
ピニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、
ポリビニルプチラート、ポリアリルフタレー
ト、ポリアリルメラミンおよびそれらと他のビ
ニル化合物とのコポリマー、例えばエチレン/
酢酸ビニル コポリマー。 10 エポキシドのホモポリマーおよびコポリマ
ー、例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピ
レンオキシドまたはそれらとビス−グリシジル
エーテルとのコポリマー。 11 ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン
さらにまたエチレンオキシドをコモノマーとし
て含むポリオキシメチレン。 12 ポリフエニレンオキシド。 13 ポリウレタンおよびポリウレア。 14 ポリカーボネート。 15 ポリスルホン。 16 ジアミンおよびジカルボン酸および/または
アミノカルボン酸または相当するラクタムから
誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、例
えばポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリア
ミド6/10、ポリアミド11およびポリアミド
12。 17 ジカルボン酸およびジアルコールおよび/ま
たはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されるポリエステル、例えばポリ
エチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、およびポリ−1・4−ジメチロ−ル
シクロヘキサンテレフタレートおよび末端水酸
基を有するポリエーテルとジカルボン酸から誘
導されるブロツクポリエーテルエステル。 18 一方でアルデヒド、他方でフエノール、尿素
およびメラミンから誘導される架橋ポリマー、
例えばフエノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン−ホ
ルムアルデヒド樹脂。 19 アルキツド樹脂、例えばグリセロール/フタ
ル酸樹脂およびそのメラミン−ホルムアルデヒ
ド樹脂との混合物。 20 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコ
ールとのビニル化合物を架橋剤とするコポリエ
ステルから誘導される、不飽和ポリエステル樹
脂およびさらにそのハロゲン原子を含む難燃性
の変性樹脂。 21 ポリエポキシ、例えばビス−グリシジルエー
テルまたは脂環式ジエポキシから誘導される架
橋エポキシ樹脂。 本発明の安定剤は、重合体量に対し0.01ないし
5重量%の量を重合体中に添加する。好ましくは
0.02ないし1重量%の量を使用する。本安定剤
は、高分子材料の成形前に添加する。その添加
は、粉体物質のドライブレンドによりあるいは溶
液状または溶融状ポリマーとの混合により行な
う。安定剤は、プレポリマーまたはその溶液中へ
混合することもできる。その様なプレポリマー
は、特に表面塗料用樹脂、塗料用組成物または成
形中あるいは成形後に初めて架橋して高分子状に
変換する圧縮成形用組成物として使用される。 本発明安定剤の添加と同時に、プラスチツク加
工に通常使用される他の添加剤を混合することも
可能である。その様な添加剤としては、例えば顔
料、充填剤、可塑剤、洗剤、ガラス繊維、螢光増
白剤、他の安定剤、難燃剤または帯電防止剤があ
げられる。 他の公知の安定剤を併用する場合、相乗効果が
得られる場合があり、その様な補助安定剤効果
は、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフエノン
またはニツケル化合物をベースとする光安定剤に
よつて得られる。 この様にして安定化されたプラスチツクは、非
常に広範な形態で、例えばフイルム、繊維、テー
プ、圧縮成形材料、塗料組成物またはペイントと
して使用できる。 以下に実施例により本発明組成物の説明を行な
うが、本発明はこれらの実施例のみに限定される
ものではない。 実施例 1 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−6−n−オクチルアミノ−
1・3・5−トリアジン 4−(2−ヒドロキシエチルアミノ)−2・2・
6・6−テトラメチルピペリジン66gをジオキサ
ン600mlに溶かした溶液を30〜40℃に保ち、この
溶液に塩化シアヌル27.8gをジオキサン200mlに
溶かした溶液を滴下した。滴下後35〜40℃で1時
間反応させた後、さらに2時間還流下に反応させ
た。析出した結晶を取して氷−アンモニア水中
に投入し、クロロホルムで抽出した。抽出液を硫
酸マグネシウムで乾燥したのち、クロロホルムを
留去して白色結晶をえ、これを熱酢酸エチルで洗
つたのち、乾燥してmp.206〜207℃の2.4−ビス
{2−ヒドロキシ−N−(2・2・6・6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)エチルアミノ}−6−
クロロ−1・3・5−トリアジンを得た。 次に、この化合物7.7gとn−オクチルアミン
3.0gをジオキサン200mlに溶解し、4時間加熱還
流して反応させた。反応終了後、ジオキサンを留
去して得た残査を5%水酸化ナトリウム水溶液に
投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸ナ
トリウムで乾燥し、酢酸エチルを留去して得た白
色結晶をn−ヘキサンから再結晶してmp.117〜
119℃の目的を得た。 実施例 2 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−3−n−デシルアミノ−1・
3・5−トリアジン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン3.0gとn−デシルアミン1.5gとをジオキサ
ン70mlに溶解し、炭酸カリウム1.0gを添加した
のち、かきまぜながら5時間加熱還流して反応さ
せた。反応終了後ジオキサンを留去して得た残査
をリグロインから再結晶してmp.160〜107℃の白
色結晶として目的物を得た。 実施例 3 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−6−n−ドデシルアミノ−
1・3・5−トリアジン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン5.2gとドデシルアミン2.8gとを実施例1と
同様に反応させて油状物を得た。これをアルミナ
カラムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エチ
ル:メタノール=10:1)に付し、得られた結晶
をn−ヘキサンで再結晶してmp.107〜109℃の白
色結晶として目的物を得た。 実施例 4 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−6−n−オクタデシルアミノ
−1・3・5−トリアジン 実施例3の方法に準じて、mp104〜107℃の白
色結晶として目的物を得た。 実施例 5 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−6−ベンジルアミノ−1・
3・5−トリアジン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン5.0gとベンジルアミン25.0gとを150〜160
℃で8時間30分加熱して反応させた。反応混合物
をアンモニア水に投入し、クロロホルムで抽出
し、無水炭酸カリウムで乾燥後、クロロホルムを
留去して残査を得た。これをシリカゲルクロマト
グラフイー(溶離剤=酢酸エチル:トリエチルア
ミン:エタノール=10:12:3)に付し、得られ
た結晶をシクロヘキサンから再結晶してmp.88℃
の白色結晶として目的物を得た。 実施例 6 N・N′−ビス〔2・4−ビス{2−ヒドロキ
シ−N−(2・2・6・6−テトラメチル−4
−ピペリジル)エチルアミノ}−1・3・5−
トリアジン−6−イル〕−ヘキサメチレンジア
ミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン2.7gとヘキサメチレンジアミン0.3gとをメ
タノール100mlに溶解し、炭酸カリウム2.0gを添
加して8時間加熱還流して反応させた。反応混合
物からメタノールを留去して得られた結晶をn−
ヘキサンから再結晶してmp.165〜168℃の白色結
晶として目的物を得た。 実施例 7 N・N′−ビス〔2・4−ビス{2−ヒドロキ
シ−N−(2・2・6・6−テトラメチル−4
−ピペリジル)エチルアミノ}−1・3・5−
トリアジン−6−イル〕−p−キシリレンジア
ミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン15.4gとp−キシリレンジアミン1.4gとを
キシレン50mlに溶解し、5時間加熱還流して反応
させた。反応混合物を水中に投入し、炭酸カリウ
ムで飽和した後、ベンゼン300ml、クロロホルム
500mlの混合溶媒で抽出した。抽出液を無水炭酸
カリウムで乾燥した後、ベンゼン、クロロホルム
を留去し残査を得た。この残査をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エチル:ト
リエチルアミン:エタノール=3:1:1)に付
し、得られた結晶をシクロヘキサンから再結晶し
てmp.151〜156℃の目的物を得た。 実施例 8 N・N′−ビス(2・2・6・6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−N・N′−ビス〔2・4
−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・2・6・
6−テトラメチル−4−ピペリジル)エチルア
ミノ)−1・3・5−トリアジン−6−イル)−
ヘキサメチレンジアミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン10.9gとN・N′−ビス(2・2・6・6−テ
トラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレン
ジアミン4.0gとをキシレン60mlに溶解し、16時
間30分加熱還流して反応させた。反応混合物にn
−ヘキサンを加え、析出する結晶を取した。こ
の結晶をアンモニア水に投入し、クロロホルムで
抽出し、無水炭酸カリウムで乾燥した後、クロロ
ホルムを留去して残査を得た。この残査をアルミ
ナカラムクロマトグラフイー(溶離剤:酢酸エチ
ル:トリエチルアミン:クロロホルム:エタノー
ル=10:10:5:5)に付し、得られた結晶をシ
クロヘキサン、さらに酢酸エチルから2回再結晶
してmp.180〜186℃の白色結晶として目的物を得
た。 実施例 9 N・N′・N″−トリス〔2・4−ビス{2−ヒ
ドロキシ−N−(2・2・6・6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)エチルアミノ}−1・
3・5−トリアジン−6−イル〕ジエチレント
リアミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン16.8gとジエチレントリアミン1.0gとをキ
シレン300mlに溶解し12時間加熱還流して反応さ
せた。反応混合物からキシレンを留去した後、実
施例5と同様に処理し得られた残査をシリカゲル
カラムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エチ
ル:トリエチルアミン:エタノール=3:3:
5)に付し、得られた結晶を酢酸エチルから再結
晶してmp.190〜193℃の白色結晶として目的物を
得た。 実施例 10 N・N′・N″・N−テトラキス〔2・4−ビ
ス{2−ヒドロキシ−N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジン)エチルアミ
ノ}−1・3・5−トリアジン−6−イル〕−ト
リエチレンテトラミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピベリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン8.0gとトリエチレンテトラミン0.5gとをジ
オキサン100mlに溶解し、水酸化ナトリウム0.7g
を水10mlに溶解した水溶液を加え、6時間加熱還
流して反応させた。反応混合物からジオキサンを
留去し、残査をベンゼンで抽出し、これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エ
チル:ベンゼン:エタノール:トリエチルアミン
=20:4:2:1)に付し、mp.158℃の白色結
晶として目的物を得た。 実施例 11 N・N′・N″・N・N〓・N〓−ヘキサ
〔2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)
エチルアミノ}−1・3・5−トリアジン−6
−イル〕−ペンタエチレンヘキサミン 2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−(2・
2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル)エ
チルアミノ}−6−クロロ−1・3・5−トリア
ジン3.7gとベンタエチレンヘキサミン0.2gとを
ジオキサン70mlに溶解し、炭酸カリウム4.0gを
添加して10時間加熱還流して反応させた。反応混
合物からジオキサンを留去して得られた残査を5
%水酸化ナトリウム水溶液に投入し、酢酸エチル
で抽出し、無水炭酸カリウムで乾燥した。酢酸エ
チルを留去して得た結晶を酢酸エチル:ベンゼン
=1:1の混合溶媒から再結晶してmp.185〜195
℃の白色結晶として目的物を得た。 実施例 12 N・N−ビス〔2・4−ビス{2−ヒドロキシ
−N(2・2・6・6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)エチルアミノ}−1・3・5−トリ
アジン−6−イル〕−n−ドデシルアミン 塩化シアヌル38.0gをアセトン350mlに溶解し
た溶液に、ドデシルアミン18.5gをアセトン40ml
に懸濁した溶液を10℃で滴下した。滴下後、同温
度で4時間かくはんして反応させた。反応混合物
を水2中に投入し、酢酸エチルで抽出した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、酢酸エチルを留去し
て得た油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(溶離剤=ベンゼン:n−ヘキサン=4:
1)に付して精製するとmp.50〜53℃の白色結晶
としてN・N−ビス(2・4−ジクロロ−1・
3・5−トリアジン−6−イル)−n−ドデシル
アミンを得た。 この化合物4.8gと4−(2−ヒドロキシエチル
アミノ)−2・2・6・6−テトラメチルピペリ
ジン10.0gとをジオキサン200mlに溶解し、水酸
化ナトリウム2.0gを水20mlに溶解した水溶液を
加えて15時間加熱還流して反応させた。反応混合
物からジオキサンを留去し、残査を酢酸エチルで
抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、酢酸エチルを留去して得た結晶をアルミナ
カラムクロマトグラフイー(溶離剤=酢酸エチ
ル:メタノール=10:1)に付して精製すると
mp.106〜110℃の白色結晶として目的物を得た。 実施例 13 2・4・6−トリス{2−ヒドロキシ−N−
(2・2・6・6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)エチルアミノ}−1・3・5−トリアジ
ン 塩化シアヌル3.0gと4−(2−ヒドロキシエチ
ルアミノ)−2・2・6・6−テトラメチルピペ
リジン12.0gとをジオキサンに溶解し、炭酸カリ
ウム10.0gとを加えて1時間室温でかくはんした
後、さらに8時間加熱還流して反応させた。反応
混合物よりジオキサンを留去した後、得られた白
色結晶をベンゼン:n−ヘキサン=2:1の混合
溶媒から再結晶するとmp.176〜178℃の白色結晶
として目的物を得た。 実施例 14 2・4・6−トリス{N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−2−ラウロ
イルオキシエチルアミノ}−1・3・5−トリ
アジン 実施例13で得られた化合物2.0gとラウリン酸
メチル3.0gとをキシレン300mlに溶解し、リチウ
ムアミド0.5gを加えて8時間加熱還流して反応
させた。この間生成するメタノールをキシレンと
共に少量づつ留去する一方で、留去するメタノー
ル及びキシレンの量に相当するキシレンを加えて
反応内容物を一定量に保持した。反応混合物を水
洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、キシレンを留去
して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフイー(溶離剤=酢酸エチル:ベンゼン:エ
タノール:トリエチルアミン=20:4:2:1)
に付して精製すると無色粘稠な油状物として目的
物を得た。本化合物はシリカゲルを用いた薄層ク
ロマトグラフイー(展開溶剤=酢酸エチル:ベン
ゼン:エタノール:トリエチルアミン=20:4:
2:1)でRf値が0.42を示した。 実施例 15 2・4・6−トリス{N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−2−ステア
ロイルオキシエチルアミノ}−1・3・5−ト
リアジン 実施例14の方法に準じて、無色ロウ状固体とし
て目的物を得た。本化合物はシリカゲルを用いた
薄層クロマトグラフイ(展開溶剤=酢酸エチル:
ベンゼン:エタノール:トリエチルアミン=20:
4:2:1)でRf値が0.41を示した。 実施例 16 2・4・6−トリス〔N−(2・2・6・6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−2−{3−
(3・5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフエ
ニル)プロピオニルオキシ}エチルアミノ〕−
1・3・5−トリアジン 実施例14の方法に準じて、粘稠な油状物を得、
これをシリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶
離剤=酢酸エチル:トリエチルアミン=5:1)
に付して精製するとmp.97〜100℃の淡黄色結晶
として目的物を得た。 実施例 17 未安定化ポリプロピレン粉末(MFI〜18)100
部、酸化防止剤としてステアリル3−(3・5−
ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロピ
オネート0.2部及び本発明の安定剤0.25部をプラ
ベンダープラストグラフ中で200℃で10分間混練
して均質にした。得られた塊を実験用プレス機で
2〜3mm厚のシートに圧縮した。このシートの一
部を油圧プレス機により260℃で6分間加圧し、
次いで直ちに冷水中に投入して0.5mm厚のフイル
ムを得た。同様の方法によつて、0.5mm厚のフイ
ルムから0.1mm厚のフイルムを成形した。このフ
イルムを50×120mmの試験片に切断した。 この試験片をサンシヤイン・ウエザー・メータ
ー中黒板温度63±3℃で光に曝した。照射された
試料を周期的に引張試験を行い、伸びが初期の50
%になるまでの時間を求めた。試験結果は試料の
伸びが50%に達するまでの時間と本発明の安定剤
を無添加の対照試料の破断時の伸びが50%に達す
るまでの時間との比率で表1に示す。なお化合物
番号は前述の化合物例に示した化合物を表す。表
2及び表3においても同じ。
【表】
実施例 18
ポリスチレン ペレツト(商品名:スタロイロ
ン666、旭ダウ(株)製品)100部に本発明の安定剤
0.25部を加え、ブラベンダー プラストグラフ
中、200℃で5分間混練して均質にした。得られ
た塊を直ちにプレス機で2〜3mm厚のプレートに
圧縮した。このプレートを180℃で2分間圧縮成
形して1.5mm厚のプレートにした。得られたプレ
ートをASTM G26のBH型キセノン・ウエーザー
オーメター(アトラス社製の65WR型)中、黒板
温度63±3℃で1500時間照射した。照射したプレ
ートの黄色度をASTM D1925の方法により測定
した。結果を表2に示す。
ン666、旭ダウ(株)製品)100部に本発明の安定剤
0.25部を加え、ブラベンダー プラストグラフ
中、200℃で5分間混練して均質にした。得られ
た塊を直ちにプレス機で2〜3mm厚のプレートに
圧縮した。このプレートを180℃で2分間圧縮成
形して1.5mm厚のプレートにした。得られたプレ
ートをASTM G26のBH型キセノン・ウエーザー
オーメター(アトラス社製の65WR型)中、黒板
温度63±3℃で1500時間照射した。照射したプレ
ートの黄色度をASTM D1925の方法により測定
した。結果を表2に示す。
【表】
実施例 19
熱可塑型ポリウレタン(商品名:パラプレンペ
レツト22S、日本ポリウレタン工業(株)製品)100
部及び本発明の安定剤0.25部をジメチルホルムア
ミド300部に均一に溶解した。得られた溶液をガ
ラス板上に約0.4mm厚の層に流した。これを60℃
で20分間、次いで120℃で15分間乾燥すると、約
0.1mm厚のフイルムが得られた。得られたフイル
ムをサンシヤイン・カーボンアーク灯ウエザーメ
ーター中、黒板温度63±3℃で水スプレーなしで
300時間照射した。照射したフイルムの黄変度を
ASTM D1925の方法により測定した。結果を表
3に示す。
レツト22S、日本ポリウレタン工業(株)製品)100
部及び本発明の安定剤0.25部をジメチルホルムア
ミド300部に均一に溶解した。得られた溶液をガ
ラス板上に約0.4mm厚の層に流した。これを60℃
で20分間、次いで120℃で15分間乾燥すると、約
0.1mm厚のフイルムが得られた。得られたフイル
ムをサンシヤイン・カーボンアーク灯ウエザーメ
ーター中、黒板温度63±3℃で水スプレーなしで
300時間照射した。照射したフイルムの黄変度を
ASTM D1925の方法により測定した。結果を表
3に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、 R1は水素原子又はメチル基を示す。 R2は水素原子、炭素原子2乃至18個を有する
アルカノイル基又は3−(3・5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフエニル)プロピオニル基を示
す。 nは1又は2を示す。 nが1のとき、 Xは炭素原子1乃至18個を有するアルキル基、
ベンジル基又は式、−CH2CH2OR2(R2は前述し
たものと同じ)の基を示す。そして Yは水素原子、 式 【式】の基又は 式 【式】 の基 (R1及びR2は前述したものと同じ)を示す。 nが2のとき、 Xは炭素原子2乃至6個のアルキレン基、キシ
リレン基又は式【式】 (mは1乃至4を示し、zは前述の式の基を示
す)の基を示す。そして Yは水素原子又は前述の式()の基を示
す。〕で示されるS−トリアジン誘導体からなる
高分子材料用安定剤。 2 R1が水素原子である式()の化合物から
なる特許請求の範囲第1項記載の安定剤。 3 R2が水素原子である式()の化合物から
なる特許請求の範囲第1項記載の安定剤。 4 R1及びR2が水素原子であり、nが1であ
り、Xが炭素原子8乃至18個を有するアルキル基
であり、Yが水素原子又は2・4−ビス{2−ヒ
ドロキシ−N−(2・2・6・6−テトラメチル
−4−ピペリジル)エチルアミノ}−1・3・5
−トリアジン−6−イル基である式()の化合
物からなる特許請求の範囲第1項記載の安定剤。 5 R1及びR2が水素原子であり、nが1であ
り、Xが2−ヒドロキシエチル基であり、Yが
2・2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジル
基である式()の化合物からなる特許請求の範
囲第1項記載の安定剤。 6 R1及びR2が水素原子であり、nが2であ
り、Xが1・6−ヘキシレン基又は式
【式】(mは1乃至4を 示し、Zは2・4−ビス{2−ヒドロキシ−N−
(2・2・6・6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)エチルアミノ}−1・3・5−トリアジン−
6−イル基であり、Yが水素原子である式()
の化合物からなる特許請求の範囲第1項記載の安
定剤。 7 高分子材料がポリオレフイン、ポリスチレン
又はポリウレタンである特許請求の範囲第1項記
載の安定剤。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7941979A JPS564639A (en) | 1979-06-23 | 1979-06-23 | Stabilizer for high-molecular material |
| US06/156,020 US4321374A (en) | 1979-06-23 | 1980-06-03 | Triazine derivatives |
| EP80810202A EP0022080A1 (en) | 1979-06-23 | 1980-06-17 | Synthetic polymer compositions containing triazine derivatives as light stabilizers and novel triazine derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7941979A JPS564639A (en) | 1979-06-23 | 1979-06-23 | Stabilizer for high-molecular material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS564639A JPS564639A (en) | 1981-01-19 |
| JPS6155526B2 true JPS6155526B2 (ja) | 1986-11-28 |
Family
ID=13689339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7941979A Granted JPS564639A (en) | 1979-06-23 | 1979-06-23 | Stabilizer for high-molecular material |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4321374A (ja) |
| EP (1) | EP0022080A1 (ja) |
| JP (1) | JPS564639A (ja) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2944729A1 (de) * | 1979-11-06 | 1981-05-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Neue triazinstabilisatoren |
| DE3022896A1 (de) * | 1980-06-19 | 1981-12-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Polytriazinylamine, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als stabilisatoren fuer synthetische polymere |
| CH652713A5 (de) * | 1981-01-28 | 1985-11-29 | Sandoz Ag | 4-aminomethyl-polymethylpiperidine. |
| DE3111209A1 (de) * | 1981-03-21 | 1982-09-30 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Hochmolekulare piperidingruppenhaltige ester und urethane, verfahren zu ihrer herstellung, ihre verwendung als stabilisatoren fuer polymere sowie diese verbindungen enthaltende polymere |
| DE3113455A1 (de) * | 1981-04-03 | 1982-10-21 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Poly-bis-triazinylimide, ihre herstellung, ihre verwendung als lichtschutzmittel fuer polymere sowie die mit ihnen stabilisierten polymeren |
| IT1198355B (it) * | 1982-02-10 | 1988-12-21 | Apital Prod Ind | Derivati piperidinici e loro uso come stabilizzanti per polimeri |
| JPS58194931A (ja) * | 1982-05-07 | 1983-11-14 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 合成樹脂組成物 |
| US5260362A (en) * | 1982-09-30 | 1993-11-09 | Ciba-Geigy Corporation | Polyolefines which have been stabilized with bis-(polyalkypiperidiny(amino)-1,3,5-triazines or tris-(polyalkylpiperidinyl(amino)-1,3,5-triazines |
| DE3382687D1 (de) * | 1982-09-30 | 1993-07-01 | Ciba Geigy Ag | Mit bis-(polyalkylpiperidinyl-amino)-1,3,5-triazinen stabilisierte polyolefine. |
| DE3375431D1 (en) * | 1982-11-18 | 1988-02-25 | Ciba Geigy Ag | Colour-photographic recording material |
| JPS59122487A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-14 | Sankyo Co Ltd | ピペリジル−トリアジン−トリアミン誘導体及び高分子材料用安定剤 |
| US4696959A (en) * | 1983-09-26 | 1987-09-29 | Ppg Industries, Inc. | Modified piperidines as ultraviolet light stabilizers |
| JPS6181441A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-25 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 高分子材料組成物 |
| US4960593A (en) * | 1985-01-30 | 1990-10-02 | Hilmont Incorporated | Process for preparing thermally stable olefinic polymers |
| JPS6218443A (ja) * | 1985-07-17 | 1987-01-27 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 安定化高分子材料組成物 |
| ES2058309T3 (es) * | 1987-10-30 | 1994-11-01 | Sankyo Co | Derivados de piperidiltriazina y su utilizacion como agentes estabilizadores para polimeros. |
| IT1217742B (it) * | 1988-05-31 | 1990-03-30 | Ciba Geigy Spa | Poliammine parzialmente sostituite con piperidin triazine |
| US4981964A (en) * | 1988-12-15 | 1991-01-01 | Ici Americas Inc. | Oligomeric polyesters and polyamides containing dipiperidyl triazine groups |
| IT1230968B (it) * | 1989-07-03 | 1991-11-08 | Mini Ricerca Scient Tecnolog | Composizioni polimeriche autoestinguenti. |
| IT1240690B (it) * | 1990-04-30 | 1993-12-17 | Ciba Geigy Ag | Composti piperdin-triazinici atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici |
| IT1246170B (it) * | 1990-07-24 | 1994-11-16 | Ciba Geigy Spa | Composizione stabilizzante per polipropilene comprendente composti triazinici contenenti gruppi piperidinici e composti metallici |
| DE4032744A1 (de) * | 1990-10-16 | 1992-04-23 | Basf Ag | Polyalkylpiperidin-derivate |
| JPH05293306A (ja) * | 1992-04-22 | 1993-11-09 | Purantetsukusu:Kk | 脱泡装置 |
| CN110452223B (zh) * | 2019-07-29 | 2021-06-08 | 宿迁联盛科技股份有限公司 | 一种复合型光稳定剂的制备方法 |
| TR202001552A2 (tr) * | 2020-02-03 | 2021-08-23 | Aksa Akrilik Kimya Sanayii Anonim Sirketi | Güneş ışığına karşı stabilize edilmiş akrilik ve modakrilik elyaf |
| CN111875584A (zh) * | 2020-08-07 | 2020-11-03 | 宿迁市振兴化工有限公司 | 一种多功能光稳定剂的制备方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1393551A (en) * | 1972-04-21 | 1975-05-07 | Ciba Geigy Ag | Piperidine derivatives |
| US4028334A (en) * | 1973-04-11 | 1977-06-07 | Ciba-Geigy Corporation | Piperidine derivatives |
| IT1052501B (it) * | 1975-12-04 | 1981-07-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti politriazinici utilizzabili per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
| IT1060458B (it) * | 1975-12-18 | 1982-08-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti piperidil triazinici adatti per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
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| DE2862264D1 (en) * | 1977-12-30 | 1983-07-07 | Ciba Geigy Ag | New polyalkylpiperidine derivatives of s-triazines, their use in the stabilisation of plastics and plastics stabilized in this way |
-
1979
- 1979-06-23 JP JP7941979A patent/JPS564639A/ja active Granted
-
1980
- 1980-06-03 US US06/156,020 patent/US4321374A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-06-17 EP EP80810202A patent/EP0022080A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4321374A (en) | 1982-03-23 |
| JPS564639A (en) | 1981-01-19 |
| EP0022080A1 (en) | 1981-01-07 |
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