JPS6155598B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6155598B2 JPS6155598B2 JP57180081A JP18008182A JPS6155598B2 JP S6155598 B2 JPS6155598 B2 JP S6155598B2 JP 57180081 A JP57180081 A JP 57180081A JP 18008182 A JP18008182 A JP 18008182A JP S6155598 B2 JPS6155598 B2 JP S6155598B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chromium
- acid
- complexing agent
- electrolyte
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔序〕
本発明は3価クロム・イオンを含む電解液から
のクロム及びその合金の電気付着に関する。
のクロム及びその合金の電気付着に関する。
工業的には、クロムは6価クロムを含む電解液
から電気メツキされるが、3価クロム塩を含む電
解液を用いた工業的に受け入れられるクロムの電
気メツキ法を開発する多くの試みが過去50年間に
わたつて行なわれて来た。3価クロム塩を含む電
解液を用いる動機は、6価クロムが深刻な健康上
及び環境上の危険を与える事から生じている。例
えば6価クロムは潰瘍の原因となる事が知られて
おり、またガンの原因であると信じられている。
さらに洗浄水及びメツキ浴の配置の費用を含む技
術的限界も存在する。
から電気メツキされるが、3価クロム塩を含む電
解液を用いた工業的に受け入れられるクロムの電
気メツキ法を開発する多くの試みが過去50年間に
わたつて行なわれて来た。3価クロム塩を含む電
解液を用いる動機は、6価クロムが深刻な健康上
及び環境上の危険を与える事から生じている。例
えば6価クロムは潰瘍の原因となる事が知られて
おり、またガンの原因であると信じられている。
さらに洗浄水及びメツキ浴の配置の費用を含む技
術的限界も存在する。
3価クロム・イオンを含む溶液からクロムを電
気メツキする事に伴なう問題は、主に陰極及び陽
極の両者における反応に関係している。工業的な
工程に関して重要な他の因子は、材料、装置及び
操業の費用である。
気メツキする事に伴なう問題は、主に陰極及び陽
極の両者における反応に関係している。工業的な
工程に関して重要な他の因子は、材料、装置及び
操業の費用である。
工業的な工程を達成するために、陰極表面にお
ける水酸化クロム種の析出は、溶解されるクロム
()錯体の充分な供給がメツキ面に存在するよ
うに最小化されなければならず、またクロム・イ
オンの還元が促進されなければならなない。英国
特許明細書第1431639号は電解液がアコ・チオシ
アン酸クロム()錯体を含む3価クロム電気メ
ツキ法を説明している。チオシアン酸配位子はク
ロム・イオンを安定して、メツキ中に陰極表面に
クロム()塩が析出するのを阻止し、またクロ
ム()イオンの還元を促進する。英国特許明細
書第1591051号は、クロム源が硫酸クロムのよう
な安価で且つ容易に得られるクロム()塩であ
るようなチオン酸クロム錯体を含む電解液につい
て述べている。
ける水酸化クロム種の析出は、溶解されるクロム
()錯体の充分な供給がメツキ面に存在するよ
うに最小化されなければならず、またクロム・イ
オンの還元が促進されなければならなない。英国
特許明細書第1431639号は電解液がアコ・チオシ
アン酸クロム()錯体を含む3価クロム電気メ
ツキ法を説明している。チオシアン酸配位子はク
ロム・イオンを安定して、メツキ中に陰極表面に
クロム()塩が析出するのを阻止し、またクロ
ム()イオンの還元を促進する。英国特許明細
書第1591051号は、クロム源が硫酸クロムのよう
な安価で且つ容易に得られるクロム()塩であ
るようなチオン酸クロム錯体を含む電解液につい
て述べている。
効率又はメツキ速度、メツキ範囲及び温度範囲
における改善は、チオシアン酸クロム錯体の配位
子の1つを供給する錯化剤の付加によつて達成さ
れた。英国特許明細書第1596995号で述べられて
いるこれらの錯化剤はグリシン及びアスパラギン
酸等のアミノ酸塩、ギ酸塩、酢酸塩又は次亜リン
酸塩から成つていた。効率の改善は使用された錯
化剤配位子に依存した。錯化剤配位子は、クロム
()種の析出をさらに阻止するための陰極表面
において有効であつた。上記文献において、効率
の改善は工業的な実行可能性を保ちながら電解液
中のクロム・イオンの濃度のかなりの減少を可能
にした事が注意されている。英国特許明細書第
2033427号及び第2038361号に、30mM以下のクロ
ムしか含まれず、チオシアン酸塩及び錯化剤の割
合が減少されている、チオシアン酸クロム錯体か
ら成る実用的な電解液が説明されている。クロム
濃度の減少は2つの好ましい効果を有する。第1
に洗浄水の処理が大幅に単純化され、第2にクロ
ム付着物の色がより明るくなる。
における改善は、チオシアン酸クロム錯体の配位
子の1つを供給する錯化剤の付加によつて達成さ
れた。英国特許明細書第1596995号で述べられて
いるこれらの錯化剤はグリシン及びアスパラギン
酸等のアミノ酸塩、ギ酸塩、酢酸塩又は次亜リン
酸塩から成つていた。効率の改善は使用された錯
化剤配位子に依存した。錯化剤配位子は、クロム
()種の析出をさらに阻止するための陰極表面
において有効であつた。上記文献において、効率
の改善は工業的な実行可能性を保ちながら電解液
中のクロム・イオンの濃度のかなりの減少を可能
にした事が注意されている。英国特許明細書第
2033427号及び第2038361号に、30mM以下のクロ
ムしか含まれず、チオシアン酸塩及び錯化剤の割
合が減少されている、チオシアン酸クロム錯体か
ら成る実用的な電解液が説明されている。クロム
濃度の減少は2つの好ましい効果を有する。第1
に洗浄水の処理が大幅に単純化され、第2にクロ
ム付着物の色がより明るくなる。
陽極におけるクロム及び電解液の他の成分の酸
化は徐々に又は急速にメツキを阻害する事が知ら
れている。さらに、ある電解液は陽極で有毒ガス
を生じる。英国特許明細書第1602404号に述べら
れている、パーフルオリネーテツド陽イオン交換
膜によつて陽極液を陰極液から分離した電気メツ
キ浴はこれらの問題をうまく克服する。あるい
は、クロム又は他の成分に優先して陽極で酸化さ
れる物質を電解液に添加する事ができる。適当な
添加剤は英国特許明細書第2034354号に述べられ
ている。添加剤を用いる事の欠点は継続的な支出
である。
化は徐々に又は急速にメツキを阻害する事が知ら
れている。さらに、ある電解液は陽極で有毒ガス
を生じる。英国特許明細書第1602404号に述べら
れている、パーフルオリネーテツド陽イオン交換
膜によつて陽極液を陰極液から分離した電気メツ
キ浴はこれらの問題をうまく克服する。あるい
は、クロム又は他の成分に優先して陽極で酸化さ
れる物質を電解液に添加する事ができる。適当な
添加剤は英国特許明細書第2034354号に述べられ
ている。添加剤を用いる事の欠点は継続的な支出
である。
英国特許明細書第1488381号は、3価クロム・
イオンを安定化するためにチオ尿素が単独又は他
の化合物と組み合わせて錯化剤として提案されて
いるクロムの電気メツキ用の電解液について述べ
ているが、具体的な例又は実験結果は与えられて
いない。
イオンを安定化するためにチオ尿素が単独又は他
の化合物と組み合わせて錯化剤として提案されて
いるクロムの電気メツキ用の電解液について述べ
ているが、具体的な例又は実験結果は与えられて
いない。
3価の電解液からクロムをメツキする試みに付
随する問題の多くに関して3つの関連する因子が
原因となつている。それらは、メツキ反応に伴な
う水素発生を引き起こす負のメツキ電位、緩やか
な電極、カイネテイツクス及び電極表面に依在す
る高PHの環境中でクロム()が水酸化物として
析出する傾向である。ここで説明する本発明のメ
ツキ電解液の定式化はそれらの因子をいかにして
抑制し得るかの理解に基づいている。
随する問題の多くに関して3つの関連する因子が
原因となつている。それらは、メツキ反応に伴な
う水素発生を引き起こす負のメツキ電位、緩やか
な電極、カイネテイツクス及び電極表面に依在す
る高PHの環境中でクロム()が水酸化物として
析出する傾向である。ここで説明する本発明のメ
ツキ電解液の定式化はそれらの因子をいかにして
抑制し得るかの理解に基づいている。
Cr()イオン配位子Lと多くの錯体を形成
し得る。これは下記の一連の反応によて特徴付け
られる。
し得る。これは下記の一連の反応によて特徴付け
られる。
Cr+LCrL K1
CrL+LCrL2 K2
……
……
等
但し、便宜上、電荷は省略した。K1、K2……
等は安定度定数(錯体を形成する反応の平衡定
数)であつて、次式から計算される。
等は安定度定数(錯体を形成する反応の平衡定
数)であつて、次式から計算される。
K1=〔CrL〕/〔Cr〕〔L〕
K2=〔CrL2〕/〔CrL〕〔L〕
……
等
但し角括弧は濃度を表わしている。数値は(1)
“Stability Constats of Metal―lon
Complexes”、Special Publication No.17、Tte
Chemical Society、London1964―L.G.Sillen
and A.E.Martell;(2)“Stabillty Constants of
Metal―Ion Complexes”、Supplement No.1、
Special Publication No.25、The Chemical
Society、London 1971―L.G.Sillenand A.E.
Martell;(3)“Critical Stability Constants”
Vol.1and2、Plenum Press、New York 1975―
R.M.Smith and A.E.Martellから得られる。
“Stability Constats of Metal―lon
Complexes”、Special Publication No.17、Tte
Chemical Society、London1964―L.G.Sillen
and A.E.Martell;(2)“Stabillty Constants of
Metal―Ion Complexes”、Supplement No.1、
Special Publication No.25、The Chemical
Society、London 1971―L.G.Sillenand A.E.
Martell;(3)“Critical Stability Constants”
Vol.1and2、Plenum Press、New York 1975―
R.M.Smith and A.E.Martellから得られる。
メツキ過程の間、表面PHは電流密度、酸性度定
数pKa及び緩衝剤(例えばホウ酸)の濃度によつ
て決定される値にまで上昇し得る。このPHは電解
質のバルク中のPHよりはるかに高く、この様な条
件の下で水酸化クロム種が析出するかもしれな
い。K1、K2……等の値並びにクロム()及び
錯化剤配位子の全濃度は析出の起きる程度を決定
する。即ちK1、K2……等の値が高ければ高い
程、与えられた表面PHにおいて析出はより少なく
なる。メツキがソリユーシヨン・フリーの(即ち
析出されない)クロム種から起きる時は、高いK
値を持つ配位子から、より高いメツキ効率が期待
され得る。
数pKa及び緩衝剤(例えばホウ酸)の濃度によつ
て決定される値にまで上昇し得る。このPHは電解
質のバルク中のPHよりはるかに高く、この様な条
件の下で水酸化クロム種が析出するかもしれな
い。K1、K2……等の値並びにクロム()及び
錯化剤配位子の全濃度は析出の起きる程度を決定
する。即ちK1、K2……等の値が高ければ高い
程、与えられた表面PHにおいて析出はより少なく
なる。メツキがソリユーシヨン・フリーの(即ち
析出されない)クロム種から起きる時は、高いK
値を持つ配位子から、より高いメツキ効率が期待
され得る。
しかしながら第2の考慮すべき問題は、メツキ
過程中に採用される電極電位に関係している。も
しK値が高すぎれば、クロム錯体の熱力学的安定
性によりメツキが阻害されるであろう。従つて安
定度定数並びにクロム及び配位子の濃度の最適範
囲の選択は2つの反対の効果の間の妥協である。
即ち弱い錯化剤は界面に析出を生じ、低い効率を
与える(又は水酸化物によつてメツキを阻止しさ
れる)が、一方では強すぎる錯化剤は過度の安定
性によりメツキを阻害する。
過程中に採用される電極電位に関係している。も
しK値が高すぎれば、クロム錯体の熱力学的安定
性によりメツキが阻害されるであろう。従つて安
定度定数並びにクロム及び配位子の濃度の最適範
囲の選択は2つの反対の効果の間の妥協である。
即ち弱い錯化剤は界面に析出を生じ、低い効率を
与える(又は水酸化物によつてメツキを阻止しさ
れる)が、一方では強すぎる錯化剤は過度の安定
性によりメツキを阻害する。
第3の考慮すべき問題は、水素発生反応
(HER)及びクロム還元の電気化学的カイネテイ
ツクスに関係している。メツキは後者の反応に関
する速いカイネテイツクス及びHERに関する遅
いカイネテイツクスによる有利になる。従つてク
ロムの還元過程を促進するか又はHERを遅らせ
る添加物が効率的なメツキ速度に関して有利であ
る。―C=S基又は―C―S基をする多くのイオ
ウ含有種がクロム()のクロム金属への還元を
加速する事が見い出された。
(HER)及びクロム還元の電気化学的カイネテイ
ツクスに関係している。メツキは後者の反応に関
する速いカイネテイツクス及びHERに関する遅
いカイネテイツクスによる有利になる。従つてク
ロムの還元過程を促進するか又はHERを遅らせ
る添加物が効率的なメツキ速度に関して有利であ
る。―C=S基又は―C―S基をする多くのイオ
ウ含有種がクロム()のクロム金属への還元を
加速する事が見い出された。
本発明は、3価クロム・イオンの源、錯化剤、
緩衝剤及びクロムの付着を促進するための、分子
中に―C=S基又は―C―S基を有する有機化合
物を含むクロム電気メツキ電解液を提供する。錯
剤はクロム錯体の安定度定数K1が108<K1<
1012M-1の範囲内にあるように選ばれる。但しM
はモル濃度を表わす。
緩衝剤及びクロムの付着を促進するための、分子
中に―C=S基又は―C―S基を有する有機化合
物を含むクロム電気メツキ電解液を提供する。錯
剤はクロム錯体の安定度定数K1が108<K1<
1012M-1の範囲内にあるように選ばれる。但しM
はモル濃度を表わす。
K1値が108<K1<1012M-1の範囲内にある錯化
剤配位子としては、例えばアスパラギン酸、イミ
ノジ酸、ニトリロトリ酢酸及び5―スルホサリチ
ル酸が含まれる。
剤配位子としては、例えばアスパラギン酸、イミ
ノジ酸、ニトリロトリ酢酸及び5―スルホサリチ
ル酸が含まれる。
―C=S基を有する有機化合物は、チオ尿素、
N―モノアリル・チオ尿素、N―モノ―p―トリ
ル・チオ尿素、チオアセトアミド、テトラメチ
ル・チウラム・モノサルフアイド、テトラエチ
ル・チウラム・ジサルフアイドル及びエチルジチ
オカ―ボネートから選択され得る。―C―S基を
有する有機化合物はメルカプト酢酸及びメチルカ
プトプロピオン酸から選択され得る。
N―モノアリル・チオ尿素、N―モノ―p―トリ
ル・チオ尿素、チオアセトアミド、テトラメチ
ル・チウラム・モノサルフアイド、テトラエチ
ル・チウラム・ジサルフアイドル及びエチルジチ
オカ―ボネートから選択され得る。―C―S基を
有する有機化合物はメルカプト酢酸及びメチルカ
プトプロピオン酸から選択され得る。
3価クロム・イオンの還元を促進するために非
常に低い濃度の有機化合物が必要である。また電
解液のメツキ効率が比較的高いので、工業的な3
価クロム電解液は5mM程度の低濃度のクロムを
有し得る。従つてメツキ電解液から引き出される
クロムの量が常に低いので高価な洗浄水処理をす
る必要はない。
常に低い濃度の有機化合物が必要である。また電
解液のメツキ効率が比較的高いので、工業的な3
価クロム電解液は5mM程度の低濃度のクロムを
有し得る。従つてメツキ電解液から引き出される
クロムの量が常に低いので高価な洗浄水処理をす
る必要はない。
一般に電解液中の成分の濃度は次の通りであ
る。
る。
クロム()イオン 10-3〜1M
有機化合物 10-5〜10-2M
実用的なクロム/錯化剤配位子の比はほぼ1:
1である。
1である。
受け入れられるメツキ速度に必要な最小径の濃
度以上では、電解液中のクロムの濃度に比例して
有機化合物の量を増加させる必要がある。過剰の
有機化合物はメツキ過程に有害ではないかもしれ
ないが、クロム金属と共に付着するイオウの量が
増加する可能性がある。これは2つの効果を有す
る。即ち第1に付着物が徐々に暗くなり、第2に
付着物の延性が大きくなる。
度以上では、電解液中のクロムの濃度に比例して
有機化合物の量を増加させる必要がある。過剰の
有機化合物はメツキ過程に有害ではないかもしれ
ないが、クロム金属と共に付着するイオウの量が
増加する可能性がある。これは2つの効果を有す
る。即ち第1に付着物が徐々に暗くなり、第2に
付着物の延性が大きくなる。
3価クロムの好ましい源は硫酸クロムである。
これはタニング・リカーあるいはクロムタンとし
て知られている、市販の硫酸クロムを硫酸ナトリ
ウムの混合物の形で得られる。硫酸塩よりも高価
ではあるが、他の3価クロムを用いる事もでき
る。それらには塩化クロム、炭酸クロム、及び過
塩素酸クロムが含まれる。
これはタニング・リカーあるいはクロムタンとし
て知られている、市販の硫酸クロムを硫酸ナトリ
ウムの混合物の形で得られる。硫酸塩よりも高価
ではあるが、他の3価クロムを用いる事もでき
る。それらには塩化クロム、炭酸クロム、及び過
塩素酸クロムが含まれる。
バルクの電解液のPHを維持するために使われる
好ましい緩衝剤は、高濃度即ち飽和濃度に近いホ
ウ酸から成る。電解液の典型的なPH範囲は2.5〜
4.5である。
好ましい緩衝剤は、高濃度即ち飽和濃度に近いホ
ウ酸から成る。電解液の典型的なPH範囲は2.5〜
4.5である。
電解液の導電度は、電圧及び電力消費の両者を
最小化するために、出来るだけ高い方が良い。電
圧は実際のメツキ環境においてしばしば決定的で
ある。というのはしばしば整流器が例えば8ボル
トといつた低い電圧に制限されるからである。硫
酸クロムが3価クロム・イオンの源であるような
電解液において、硫酸ナトリウム及び硫酸カリウ
ムの混合物が最適である。そのような混合物は英
国特許明細書第2071151号に記載されている。
最小化するために、出来るだけ高い方が良い。電
圧は実際のメツキ環境においてしばしば決定的で
ある。というのはしばしば整流器が例えば8ボル
トといつた低い電圧に制限されるからである。硫
酸クロムが3価クロム・イオンの源であるような
電解液において、硫酸ナトリウム及び硫酸カリウ
ムの混合物が最適である。そのような混合物は英
国特許明細書第2071151号に記載されている。
湿潤剤は用いる事が望ましく、適当な湿潤剤は
3M社のFC98である。しかしながらスルホスクシ
ネート(sulphosuccinate)あるいはアルコー
ル・スルフエート(alcohol sulphate)等の他の
湿潤剤を用いてもよい。
3M社のFC98である。しかしながらスルホスクシ
ネート(sulphosuccinate)あるいはアルコー
ル・スルフエート(alcohol sulphate)等の他の
湿潤剤を用いてもよい。
英国特許明細書第1602404号に記載されている
ように、陽極をメツキ電解液から分離するために
パーフルオリネーテツド陽イオン交換膜を使用す
る事が好ましい。適当な陽イオン交換膜はデユポ
ン社の製品Mafion(商標)である。陰極液がク
ロム源として硫酸クロムを用いる時、硫酸イオン
を有する陽極液を用いる事が特に有利である。と
いうのは安価な鉛又は鉛合金の陽極を用いる事が
できるからである。硫酸塩陽極液中では、陽極上
に薄い導電性の酸化鉛の膜が形成される。陰極液
中の塩化物塩は避けるべきである。というのは塩
化物陰イオンは充分に小さいのでかなりの量が膜
を通過して、陽極で塩素を発生させ且つ鉛又は鉛
金の陽極上で高低抗の塩化鉛の膜を形成するから
である。陽イオン交換膜は硫酸塩電解液中でさら
に別の利点を有する。即ち陰極における水素の発
生によつて陰極液のPHの増加を補償するように膜
を経由するイオンの輪送を許するように陽極液の
PHを調整する事によつて陰極液のPHが安定化され
る事である。膜並びに硫酸をベースにして陽極液
及び陰極液の組み合せを用いて、メツキ浴はPH調
整なしに40Amp時/リツトル以上操業された。
ように、陽極をメツキ電解液から分離するために
パーフルオリネーテツド陽イオン交換膜を使用す
る事が好ましい。適当な陽イオン交換膜はデユポ
ン社の製品Mafion(商標)である。陰極液がク
ロム源として硫酸クロムを用いる時、硫酸イオン
を有する陽極液を用いる事が特に有利である。と
いうのは安価な鉛又は鉛合金の陽極を用いる事が
できるからである。硫酸塩陽極液中では、陽極上
に薄い導電性の酸化鉛の膜が形成される。陰極液
中の塩化物塩は避けるべきである。というのは塩
化物陰イオンは充分に小さいのでかなりの量が膜
を通過して、陽極で塩素を発生させ且つ鉛又は鉛
金の陽極上で高低抗の塩化鉛の膜を形成するから
である。陽イオン交換膜は硫酸塩電解液中でさら
に別の利点を有する。即ち陰極における水素の発
生によつて陰極液のPHの増加を補償するように膜
を経由するイオンの輪送を許するように陽極液の
PHを調整する事によつて陰極液のPHが安定化され
る事である。膜並びに硫酸をベースにして陽極液
及び陰極液の組み合せを用いて、メツキ浴はPH調
整なしに40Amp時/リツトル以上操業された。
詳細な例を参照しながら本発明を説明する。各
例においてNafon陽イオン交換膜によつて陽極液
が陰極液から分離された浴が用いられる。陽極液
は体積濃度2%の硫酸水溶液(PH1.6)から成
る。陽極は6価クロムのメツキ工程で通常用いら
れている型の鉛合金の平坦な棒である。
例においてNafon陽イオン交換膜によつて陽極液
が陰極液から分離された浴が用いられる。陽極液
は体積濃度2%の硫酸水溶液(PH1.6)から成
る。陽極は6価クロムのメツキ工程で通常用いら
れている型の鉛合金の平坦な棒である。
各例に関する陰極液は基礎電解液を作り、適当
な量のクロム()、錯化剤及び有機化合物を添
加する事によつて調整された。
な量のクロム()、錯化剤及び有機化合物を添
加する事によつて調整された。
クロム源としては、クロムタンと呼ばれる硫酸
クロムと硫酸ナトリウムの混合物を用いた。
クロムと硫酸ナトリウムの混合物を用いた。
基礎電解液は1リツトルの水に以下の成分を溶
解したものから成る。
解したものから成る。
硫酸カリウム 1M
硫酸ナトリウム 0.5M
ホウ酸 1M
湿潤剤FC98 0.1g
例 1
以下の成分が基礎電解液中に溶解された。
クロム() 10mM
DLアスパラギン酸 0mM
チオ尿素 1mM
PH 3.5
普通の使用状態で平衡は急速に生じるが、検出
可能なスペクトルの変化が存在しなくなるまで最
初に電解質が平衡化される事が好ましい。浴は25
〜60℃の温度範囲にわたつて働く事が見い出され
た。5〜800mA/cm2の電流密度範囲にわたつて
良好な明るいクロムの付着物が得られた。
可能なスペクトルの変化が存在しなくなるまで最
初に電解質が平衡化される事が好ましい。浴は25
〜60℃の温度範囲にわたつて働く事が見い出され
た。5〜800mA/cm2の電流密度範囲にわたつて
良好な明るいクロムの付着物が得られた。
例 2
以下の成分が基礎電解液に溶解された。
クロム() 10mM
イミノジ酢酸 10mM
チオ尿素 1mM
PH 3.5
電解液はスペクトル変化が存在しなくなるまで
平衡化される事が好ましい。浴は25〜60℃の温度
範囲にわたつて働く事が見い出された。良好な明
るいクロム付着物が得られた。
平衡化される事が好ましい。浴は25〜60℃の温度
範囲にわたつて働く事が見い出された。良好な明
るいクロム付着物が得られた。
例 3
以下の成分が基礎電解液に溶解された。
クロム() 100mM
DLアスパラギン酸 100mM
メルカプト酢酸 1mM
PH 3.5
電解液はスペクトル変化が存在しなくなるまで
平衡化されるのが好ましい。浴は25〜60℃の温度
範囲で働く事が見い出された。良好な明るい付着
物が得られた。
平衡化されるのが好ましい。浴は25〜60℃の温度
範囲で働く事が見い出された。良好な明るい付着
物が得られた。
例 4
以下の成分が基礎電解液に溶解された。
クロム() 100mM
DLアスパラギン酸 100mM
チオ尿素 1mM
PH 3.5
電解液はスペクトル変化が存在しなくなるまで
平衡化される事が好ましい。浴は25〜65℃の温度
範囲で働く事が見い出された。10〜800mA/cm2
の電流密度範囲にわたつて良好な明るい付着物が
得られた。
平衡化される事が好ましい。浴は25〜65℃の温度
範囲で働く事が見い出された。10〜800mA/cm2
の電流密度範囲にわたつて良好な明るい付着物が
得られた。
この例において錯化剤のアスパラギン酸が、安
定度定数K1が108よりも小さなクエン酸で置き換
えられた時、メツキ効率はアスパラギン酸を用い
た場合の半分以下になつた。
定度定数K1が108よりも小さなクエン酸で置き換
えられた時、メツキ効率はアスパラギン酸を用い
た場合の半分以下になつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 3価クロム・イオン、錯化剤、緩衝剤並びに
チオ尿素、N―モノアリル・チオ尿素、N―モノ
―p―トリル・チオ尿素、チオアセトアミド、テ
トラメチル・チウラム・モノサルフアイド、テト
ラエチル・チウラム・ジサルフアイド、ジエチル
ジチオカーボネート、メルカプト酢酸及びメルカ
プトプロピオン酸より成る群から選択された化合
物を含み、上記錯化剤の1分子が3価クロムに配
位して錯体を形成する反応の平衝定数K1が
108M-1<K1<1012M-1の範囲内であるように上記
錯化剤が選択されたクロム電気メツキ液。 2 上記錯化剤がアスパラギン酸、イミノジ酢
酸、ニトリロトリ酢酸及び5―スルホサリチル酸
から選ばれた特許請求の範囲第1項記載のクロム
電気メツキ液。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB34776/81 | 1981-11-18 | ||
| GB08134776A GB2109815B (en) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | Electrodepositing chromium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5887290A JPS5887290A (ja) | 1983-05-25 |
| JPS6155598B2 true JPS6155598B2 (ja) | 1986-11-28 |
Family
ID=10525978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57180081A Granted JPS5887290A (ja) | 1981-11-18 | 1982-10-15 | クロム電気メツキ液 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4502927A (ja) |
| EP (1) | EP0079768B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5887290A (ja) |
| AT (1) | ATE15238T1 (ja) |
| AU (1) | AU556162B2 (ja) |
| CA (1) | CA1209088A (ja) |
| DE (1) | DE3265888D1 (ja) |
| GB (1) | GB2109815B (ja) |
| ZA (1) | ZA828365B (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4948474A (en) * | 1987-09-18 | 1990-08-14 | Pennsylvania Research Corporation | Copper electroplating solutions and methods |
| US4786746A (en) * | 1987-09-18 | 1988-11-22 | Pennsylvania Research Corporation | Copper electroplating solutions and methods of making and using them |
| ES2669050T3 (es) * | 2006-03-31 | 2018-05-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Depósito de cromo cristalino |
| DE102006035871B3 (de) * | 2006-08-01 | 2008-03-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Abscheidung von Chromschichten als Hartverchromung, Galvanisierungsbad sowie hartverchromte Oberflächen und deren Verwendung |
| BRPI0817924B1 (pt) | 2007-10-02 | 2019-02-12 | Atotech Deutschland Gmbh | Depósito de liga de cromo funcional cristalino eletrodepositado, banho de eletrodeposição para eletrodepositar um depósito de liga de cromo funcional cristalinonanogranular, e processo para eletrodepositar um depósito de liga de cromo cristalino funcional nanogranular em um substrato |
| US7780840B2 (en) * | 2008-10-30 | 2010-08-24 | Trevor Pearson | Process for plating chromium from a trivalent chromium plating bath |
| US9765437B2 (en) | 2009-03-24 | 2017-09-19 | Roderick D. Herdman | Chromium alloy coating with enhanced resistance to corrosion in calcium chloride environments |
| US8273235B2 (en) | 2010-11-05 | 2012-09-25 | Roshan V Chapaneri | Dark colored chromium based electrodeposits |
| WO2015177315A1 (en) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Tata Steel Ijmuiden B.V. | Method for manufacturing chromium-chromium oxide coated substrates and coated substrates produced thereby |
| KR20200052588A (ko) | 2018-11-07 | 2020-05-15 | 윤종오 | 3가 크롬 합금 도금액, Cr-Ti-Au 합금 도금액, Cr-Ti-Ni 합금 도금액, Cr-Ti-Co 합금 도금액 및 도금 제품 |
| CN109652827A (zh) * | 2019-01-16 | 2019-04-19 | 陈建平 | 一种硫酸盐三价铬电镀液及其的制作工艺和电镀工艺 |
| CN115838947B (zh) * | 2023-02-20 | 2023-05-26 | 山东裕航特种合金装备有限公司 | 电镀铬镍合金的电镀液及其制备方法 |
| GB202409943D0 (en) | 2024-07-09 | 2024-08-21 | Macdermid Inc | Trivalent chromium plating bath and method of electroplating an article |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL110737C (ja) * | 1953-09-19 | |||
| US2822326A (en) * | 1955-03-22 | 1958-02-04 | Rockwell Spring & Axle Co | Bright chromium alloy plating |
| NL274211A (ja) * | 1961-02-02 | |||
| US3238112A (en) * | 1962-07-03 | 1966-03-01 | Du Pont | Electroplating of metals using mercapto-metal complex salts |
| US3706641A (en) * | 1971-02-19 | 1972-12-19 | Du Pont | Chromium plating with chromic compound and organic additive |
| US4062737A (en) * | 1974-12-11 | 1977-12-13 | International Business Machines Corporation | Electrodeposition of chromium |
| GB1488381A (en) * | 1975-09-01 | 1977-10-12 | Bnf Metals Tech Centre | Trivalent chromium plating bath |
| US4161432A (en) * | 1975-12-03 | 1979-07-17 | International Business Machines Corporation | Electroplating chromium and its alloys |
| GB1591051A (en) * | 1977-01-26 | 1981-06-10 | Ibm | Electroplating chromium and its alloys |
| GB1602404A (en) * | 1978-04-06 | 1981-11-11 | Ibm | Electroplating of chromium |
| GB2033427B (en) * | 1978-11-11 | 1982-05-06 | Ibm | Chromium electroplating |
| GB2034354B (en) * | 1978-11-11 | 1982-12-01 | Ibm | Elimination of anode hydrogen cyanide formation in trivalent chromium plating |
| GB2038361B (en) * | 1978-11-11 | 1983-08-17 | Ibm | Trivalent chromium plating bath |
| GB2071151B (en) * | 1980-03-10 | 1983-04-07 | Ibm | Trivalent chromium electroplating |
| GB2093861B (en) * | 1981-02-09 | 1984-08-22 | Canning Materials W Ltd | Bath for electrodeposition of chromium |
-
1981
- 1981-11-18 GB GB08134776A patent/GB2109815B/en not_active Expired
-
1982
- 1982-10-15 JP JP57180081A patent/JPS5887290A/ja active Granted
- 1982-11-01 US US06/437,989 patent/US4502927A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-11-11 AT AT82306018T patent/ATE15238T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-11-11 EP EP82306018A patent/EP0079768B1/en not_active Expired
- 1982-11-11 DE DE8282306018T patent/DE3265888D1/de not_active Expired
- 1982-11-12 CA CA000415396A patent/CA1209088A/en not_active Expired
- 1982-11-15 ZA ZA828365A patent/ZA828365B/xx unknown
- 1982-11-17 AU AU90679/82A patent/AU556162B2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5887290A (ja) | 1983-05-25 |
| GB2109815A (en) | 1983-06-08 |
| AU556162B2 (en) | 1986-10-23 |
| EP0079768B1 (en) | 1985-08-28 |
| US4502927A (en) | 1985-03-05 |
| ATE15238T1 (de) | 1985-09-15 |
| CA1209088A (en) | 1986-08-05 |
| GB2109815B (en) | 1985-09-04 |
| DE3265888D1 (en) | 1985-10-03 |
| AU9067982A (en) | 1983-05-26 |
| EP0079768A1 (en) | 1983-05-25 |
| ZA828365B (en) | 1983-09-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4473448A (en) | Electrodeposition of chromium | |
| JPS6155598B2 (ja) | ||
| US4157945A (en) | Trivalent chromium plating baths | |
| US4448648A (en) | Trivalent chromium electroplating baths | |
| US4448649A (en) | Trivalent chromium electroplating baths | |
| EP0035667B1 (en) | Trivalent chromium electroplating solution and bath | |
| US4472250A (en) | Bath and process for the electrodeposition of chromium | |
| EP0085771B1 (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
| US4141803A (en) | Method and composition for electroplating chromium and its alloys and the method of manufacture of the composition | |
| CA1214426A (en) | Trivalent chromium electroplating solution and bath | |
| CS198967B1 (cs) | Způsob elektrolytického vylučování slitin železa |