JPS6157120B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6157120B2 JPS6157120B2 JP2895578A JP2895578A JPS6157120B2 JP S6157120 B2 JPS6157120 B2 JP S6157120B2 JP 2895578 A JP2895578 A JP 2895578A JP 2895578 A JP2895578 A JP 2895578A JP S6157120 B2 JPS6157120 B2 JP S6157120B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- welding
- welding chamber
- electron beam
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 46
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 12
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子ビーム溶接装置に関し、特にワ
ークを収容する溶接室の改良に関する。
ークを収容する溶接室の改良に関する。
近年、電子ビーム溶接機は、量産部品の溶接用
に量産機として使用されている。従来の電子ビー
ム溶接機においては、量産機として使用する際、
溶接時に発生する金属ベイパーやスパツタ類が溶
接部近傍に付着してしまい、溶接治具が該スパツ
タ等により正常に動作しないため、正常な溶接が
行なえないとか、真空シール面に推積して真空不
良を引起す事などのため、これらのスパツタ、推
積物の清掃に多大の時間を費やさねばならず、装
置の稼動率を低下させる原因となつていた。
に量産機として使用されている。従来の電子ビー
ム溶接機においては、量産機として使用する際、
溶接時に発生する金属ベイパーやスパツタ類が溶
接部近傍に付着してしまい、溶接治具が該スパツ
タ等により正常に動作しないため、正常な溶接が
行なえないとか、真空シール面に推積して真空不
良を引起す事などのため、これらのスパツタ、推
積物の清掃に多大の時間を費やさねばならず、装
置の稼動率を低下させる原因となつていた。
本発明の目的は、上記のようなスパツタ、推積
物により障害の起り易い溶接室の一部を簡単に交
換可能とし、前記清掃の手間を少くして稼動率を
上げることのできる電子ビーム溶接装置を提供す
るにある。
物により障害の起り易い溶接室の一部を簡単に交
換可能とし、前記清掃の手間を少くして稼動率を
上げることのできる電子ビーム溶接装置を提供す
るにある。
次に図面を使用して本発明の一実施例を説明す
る。図中1は電子ビーム発生部であり、電子ビー
ムはこの部分で発生される。2は上部真空室であ
り真空排気ポンプ(図示せず)と連結されてい
る。3は真空弁で上部真空室2と、ワーク11が
収容される溶接室4との間を気密に分離してい
る。溶接室4は、上部溶接室5と下部溶接室6と
に分割され、上部溶接室5は、上部真空室2の下
側に設けられている案内溝7により、図の紙面上
方から取付け、取外しできるようになつている。
また、上部溶接室5の天井部には、ワークの浮き
上りを防止しするための治具8およびスパツタの
飛散をできるだけ押えるためのスパツタキヤツチ
ヤ9が取りつけられている。更に、上部溶接室5
の上面には、真空シール材10が取付けられてい
る。上部溶接室5は、図の紙面上方から案内溝7
を介して取付けられる際には、真空シール材10
と上部真空室2の底面と離れているので、シール
材10を損傷することが防止されている。下部溶
接室6内には、ワーク11が取りつけられる治具
台12が下部溶接室6の底部を気密に貫通する回
転モータ13の軸の先端に取付けられており、ま
た、下部溶接室6は昇降装置14により上下に昇
降できるようになつている。
る。図中1は電子ビーム発生部であり、電子ビー
ムはこの部分で発生される。2は上部真空室であ
り真空排気ポンプ(図示せず)と連結されてい
る。3は真空弁で上部真空室2と、ワーク11が
収容される溶接室4との間を気密に分離してい
る。溶接室4は、上部溶接室5と下部溶接室6と
に分割され、上部溶接室5は、上部真空室2の下
側に設けられている案内溝7により、図の紙面上
方から取付け、取外しできるようになつている。
また、上部溶接室5の天井部には、ワークの浮き
上りを防止しするための治具8およびスパツタの
飛散をできるだけ押えるためのスパツタキヤツチ
ヤ9が取りつけられている。更に、上部溶接室5
の上面には、真空シール材10が取付けられてい
る。上部溶接室5は、図の紙面上方から案内溝7
を介して取付けられる際には、真空シール材10
と上部真空室2の底面と離れているので、シール
材10を損傷することが防止されている。下部溶
接室6内には、ワーク11が取りつけられる治具
台12が下部溶接室6の底部を気密に貫通する回
転モータ13の軸の先端に取付けられており、ま
た、下部溶接室6は昇降装置14により上下に昇
降できるようになつている。
ワーク11の取付けを行なう際には、下降した
位置にて作業できる。そしてワーク11の取付を
終えた後、昇降装置14により下部溶接室6を上
昇させ、やがて上部溶接室5をも押し上げ、シー
ル材10が上部真空室2の底部壁に押しつけられ
る。この動作により上部溶接室5と下部溶接室6
は一体となり真空室4を形成する。その後真空弁
3を開き、上部真空室2および溶接室4を真空に
排気し、所定の真空圧力に達したならばワーク1
1の溶接部に電子ビームを照射し溶接を行なう。
位置にて作業できる。そしてワーク11の取付を
終えた後、昇降装置14により下部溶接室6を上
昇させ、やがて上部溶接室5をも押し上げ、シー
ル材10が上部真空室2の底部壁に押しつけられ
る。この動作により上部溶接室5と下部溶接室6
は一体となり真空室4を形成する。その後真空弁
3を開き、上部真空室2および溶接室4を真空に
排気し、所定の真空圧力に達したならばワーク1
1の溶接部に電子ビームを照射し溶接を行なう。
溶接の際に発生する金属ベイパーおよびスパツ
タ類は、その大半が上部溶接室5に推積する。こ
のため、上部溶接室5内には比較的短時間にてス
パツタが推積するが、その場合、下部溶接室6を
下降させた状態で上部溶接室5を図の紙面上方へ
取外し、代わりの上部溶接室を取付けることによ
り簡単に元の正常な状態を回復させることができ
る。上部溶接室5は、通常行なう気密保持の為の
ボルト締など行なう必要がないため、取付けに要
する時間もわずかですみ、装置の停止時間はほと
んど無視できる程度で済み、装置の稼動率を著し
く高めることができる。
タ類は、その大半が上部溶接室5に推積する。こ
のため、上部溶接室5内には比較的短時間にてス
パツタが推積するが、その場合、下部溶接室6を
下降させた状態で上部溶接室5を図の紙面上方へ
取外し、代わりの上部溶接室を取付けることによ
り簡単に元の正常な状態を回復させることができ
る。上部溶接室5は、通常行なう気密保持の為の
ボルト締など行なう必要がないため、取付けに要
する時間もわずかですみ、装置の停止時間はほと
んど無視できる程度で済み、装置の稼動率を著し
く高めることができる。
この様に本発明に係わる交換可能の上部溶接室
を使用することにより、装置の稼動率を高めるこ
とができ、且つ、上部溶接室内に推積したスパツ
タ等の清掃も容易であるから、その実用的効果は
大なるものがある。
を使用することにより、装置の稼動率を高めるこ
とができ、且つ、上部溶接室内に推積したスパツ
タ等の清掃も容易であるから、その実用的効果は
大なるものがある。
図面は本発明の一実施例を示す断面図である。
1……電子ビーム発生部、2……上部真空室、
3……真空弁、4……溶接室、5……上部溶接
室、6……下部溶接室、7……案内溝、9……ス
パツタキヤツチヤー、10……シール材、11…
…ワーク、12……治具台、13……治具台回転
モータ、14……昇降装置。
3……真空弁、4……溶接室、5……上部溶接
室、6……下部溶接室、7……案内溝、9……ス
パツタキヤツチヤー、10……シール材、11…
…ワーク、12……治具台、13……治具台回転
モータ、14……昇降装置。
Claims (1)
- 1 電子ビーム発生部と、この電子ビーム発生部
の下側に取付けられた上部真空室と、この真空室
の下部に配設されたワークを収容する溶接室とを
有する電子ビーム溶接装置において、前記溶接室
は上部溶接室と下部溶接室に分割され、上部溶接
室の上端部が前記真空室の下側に設けられた案内
溝に挿入して取付けられていることを特徴とする
電子ビーム溶接装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2895578A JPS54121250A (en) | 1978-03-13 | 1978-03-13 | Electron beam welder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2895578A JPS54121250A (en) | 1978-03-13 | 1978-03-13 | Electron beam welder |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54121250A JPS54121250A (en) | 1979-09-20 |
| JPS6157120B2 true JPS6157120B2 (ja) | 1986-12-05 |
Family
ID=12262827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2895578A Granted JPS54121250A (en) | 1978-03-13 | 1978-03-13 | Electron beam welder |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54121250A (ja) |
-
1978
- 1978-03-13 JP JP2895578A patent/JPS54121250A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54121250A (en) | 1979-09-20 |
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