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JPS6223445B2 - - Google Patents
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JPS6223445B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6223445B2
JPS6223445B2 JP59138709A JP13870984A JPS6223445B2 JP S6223445 B2 JPS6223445 B2 JP S6223445B2 JP 59138709 A JP59138709 A JP 59138709A JP 13870984 A JP13870984 A JP 13870984A JP S6223445 B2 JPS6223445 B2 JP S6223445B2
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JP
Japan
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aluminum
aluminum foil
etching
diaphragm
etching solution
Prior art date
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JP59138709A
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Japanese (ja)
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JPS6116509A (en
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Masahiro Sugawara
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Marcon Electronics Co Ltd
Original Assignee
Marcon Electronics Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は電解コンデンサ用電解箔の製造装置の
改良に係る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an improvement in an apparatus for manufacturing electrolytic foil for electrolytic capacitors.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

アルミ箔にエツチングを施すには、塩酸溶液中
にアルミ箔とカーボン電極とを浸漬し、アルミ箔
を陽極とし、カーボン電極を陰極として直流を印
加する。この場合、塩酸の電気分解により生じた
塩素イオンがアルミ箔の表面を浸蝕して、エツチ
ングを施す。また、この時アルミイオンが溶液中
に溶解、拡散する。一方、塩素イオンと同時に生
じた水素イオンはカーボン電極に集り、水素ガス
となる。
To perform etching on aluminum foil, the aluminum foil and a carbon electrode are immersed in a hydrochloric acid solution, and a direct current is applied using the aluminum foil as an anode and the carbon electrode as a cathode. In this case, chlorine ions generated by electrolysis of hydrochloric acid corrode the surface of the aluminum foil, resulting in etching. Also, at this time, aluminum ions are dissolved and diffused into the solution. On the other hand, hydrogen ions generated at the same time as chlorine ions gather on the carbon electrode and become hydrogen gas.

連続エツチング装置内でも同様の状態が生じる
とすれば、エツチング溶液中の塩酸、アルミは、
それぞれ両極間に流れた電気量に比例した重量だ
け減少、増加する。
If a similar situation occurs in a continuous etching device, the hydrochloric acid and aluminum in the etching solution will
The weight decreases or increases in proportion to the amount of electricity flowing between the two poles, respectively.

従つて、エツチング実施中溶液の塩酸濃度、ア
ルミ濃度を一定に保持するためには、増加したア
ルミを希釈して所定のアルミ濃度とするに足る
水、および減少した塩酸を補い得る塩酸を補給す
ることが必要である。
Therefore, in order to keep the hydrochloric acid concentration and aluminum concentration of the solution constant during etching, sufficient water to dilute the increased aluminum to the desired aluminum concentration and hydrochloric acid capable of compensating for the decreased hydrochloric acid are supplied. It is necessary.

なお、直流エツチングにおいては、エツチング
溶液中のアルミ濃度が低い程、エツチング拡大率
が高いことはよく知られているが、上記のような
補給によつてこれを実現するには膨大な量の水、
塩酸の補給が必要である。
In DC etching, it is well known that the lower the aluminum concentration in the etching solution, the higher the etching expansion rate. ,
Replenishment of hydrochloric acid is required.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上記の事情に基きなされたもので、エ
ツチング溶液中のアルミ濃度をできるだけ零に近
づけ、且つ酸の補給量を電気量相当だけにして、
エツチング拡大率の大きなエツチングを施し得る
電解コンデンサ用電解箔の製造装置を得ることを
目的としている。
The present invention was made based on the above-mentioned circumstances, and consists of bringing the aluminum concentration in the etching solution as close to zero as possible, and reducing the amount of acid supplied to only the amount of electricity.
The object of the present invention is to obtain an apparatus for manufacturing electrolytic foil for an electrolytic capacitor that can perform etching with a large etching expansion rate.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の電解コンデンサ用電解箔の製造装置
は、エツチング液中にあるカーボン電極に対向さ
せてアルミ箔を走行させ、アルミ箔を正極、カー
ボン電極を負極として直流を印加し、アルミ箔に
エツチングを施すものにおいて、アルミ箔カーボ
ン電極間に陽イオン透過性の隔膜を配置したこと
を特徴とする。
The apparatus for manufacturing electrolytic foil for electrolytic capacitors of the present invention runs an aluminum foil facing a carbon electrode in an etching solution, applies direct current to the aluminum foil with the aluminum foil as a positive electrode and the carbon electrode as a negative electrode, and etches the aluminum foil. The method is characterized in that a cation-permeable diaphragm is disposed between the aluminum foil carbon electrodes.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第3図は本発明の原料を示す。陽極であるアル
ミ箔1と陰極であるカーボン電極2との間には、
特殊な隔膜3が介在されている。この隔膜は、水
素イオン、アルミイオンのような陽イオンを透過
させるが、塩素イオンのような陰イオンは透過さ
せない特性を有するものとする。前記の各電極お
よび隔膜3を塩酸溶液中に浸漬し、直流を印加す
ると、アルミ箔1から出て隔膜3を透過し、カー
ボン電極に向つたアルミイオンや、電極分解によ
り発生し隔膜3を透過し、カーボン電極に向つた
水素は、隔膜3とアルミ箔1との間にあるエツチ
ング液A中に対流によつて拡散されることはな
い。而して、隔膜3とカーボン電極2との間にあ
るエツチング液Bはアルミ濃度の高いものとな
る。なお、エツチング液Aは電気量に応じて塩酸
が減少するが、前記のようにアルミ濃度が低い状
態に保持されているので、電気量に相当した塩酸
を補給するだけでよい。
Figure 3 shows the raw material of the present invention. Between the aluminum foil 1 which is the anode and the carbon electrode 2 which is the cathode,
A special diaphragm 3 is interposed. This diaphragm has the property of allowing cations such as hydrogen ions and aluminum ions to pass therethrough, but not allowing anions such as chloride ions to pass therethrough. When each electrode and diaphragm 3 described above are immersed in a hydrochloric acid solution and a direct current is applied, aluminum ions exit from the aluminum foil 1 and pass through the diaphragm 3, heading toward the carbon electrode, and aluminum ions generated by electrode decomposition pass through the diaphragm 3. However, the hydrogen directed toward the carbon electrode is not diffused into the etching solution A between the diaphragm 3 and the aluminum foil 1 by convection. Thus, the etching solution B between the diaphragm 3 and the carbon electrode 2 has a high aluminum concentration. Although the amount of hydrochloric acid in the etching solution A decreases according to the amount of electricity, since the aluminum concentration is maintained at a low level as described above, it is only necessary to replenish the amount of hydrochloric acid corresponding to the amount of electricity.

第1図は前記の原理により構成した本発明の一
実施例を示す。エツチング装置の筐体10内に
は、アルミ箔を通過させる複数のスリツト11を
有するカーボン電極の支持板12が設けてあり、
支持板12上にはスリツト11をはさんでカーボ
ン電極13が支持されている。支持板12下方お
よびカーボン電極13上方には、それぞれガイド
ローラ14,15が設けられている。アルミ箔1
6は、ガイドローラ15,16で折返される折返
し通路を通つて走行するが、各ガイドローラは、
アルミ箔の上行、下行の各走部が隣接するカーボ
ン電極の間に形成される位置に設けてある。ま
た、アルミ箔16はスリツト11を通過して走行
する。また、アルミ箔16の上行、下行各走部と
カーボン電極との中間には、隔膜3と同様の隔膜
17が設けてある。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention constructed according to the principle described above. A carbon electrode support plate 12 having a plurality of slits 11 through which aluminum foil passes is provided in the casing 10 of the etching device.
A carbon electrode 13 is supported on the support plate 12 with a slit 11 in between. Guide rollers 14 and 15 are provided below the support plate 12 and above the carbon electrode 13, respectively. Aluminum foil 1
6 travels through a folded path that is folded back by guide rollers 15 and 16, and each guide roller
The upper and lower running portions of the aluminum foil are provided at positions formed between adjacent carbon electrodes. Further, the aluminum foil 16 passes through the slit 11 and runs. Further, a diaphragm 17 similar to the diaphragm 3 is provided between the upper and lower running portions of the aluminum foil 16 and the carbon electrode.

なお、図中矢符18として1箇のみを示した
が、隔膜17とカーボン電極13との間のアルミ
濃度の高くなつたエツチング液(第3図エツチン
グ液B)は、排出管を経て適宜排出される。ま
た、アルミ箔とスリツト11との間隙から漏出し
たエツチング液はアルミ濃度が殆んど零に近いエ
ツチング液(第3図エツチング液A)であるか
ら、筐体底部に滴下し貯溜したエツチング液を図
示19の回収管で回収してエツチングに再び使用
する。
Although only one part is shown as arrow 18 in the figure, the etching liquid with a high aluminum concentration between the diaphragm 17 and the carbon electrode 13 (etching liquid B in Fig. 3) is appropriately discharged through the discharge pipe. Ru. In addition, since the etching solution leaking from the gap between the aluminum foil and the slit 11 is an etching solution with an aluminum concentration close to zero (etching solution A in Fig. 3), the etching solution dropped and stored at the bottom of the casing is removed. It is collected with a collection tube 19 shown in the figure and used again for etching.

上記の如く本発明によれば、直接にアルミ箔に
エツチングを施すエツチング液のアルミ濃度を極
度に低く保ち得るので、エツチング拡大率を向上
させることができる。また、アルミ濃度の高くな
つたエツチング液は排出されるがアルミ濃度の低
い電解液に対しては電気量に応じた塩酸を補給す
るのみでよく、さらにスリツトから漏出したエツ
チング液を回収して使用することができるので、
アルミ箔のコストを低下させることができる。
As described above, according to the present invention, the aluminum concentration of the etching solution that directly etches the aluminum foil can be kept extremely low, so that the etching expansion rate can be improved. In addition, the etching solution with a high aluminum concentration is discharged, but the electrolytic solution with a low aluminum concentration only needs to be replenished with hydrochloric acid according to the amount of electricity, and the etching solution leaking from the slit is collected and used. Because you can
The cost of aluminum foil can be reduced.

前記第3図に示した構成からなる場合は、隔膜
3に対してA室内のアルミイオンの移動は水素イ
オンの移動に比して遅いのでアルミイオンを速や
かに移動させ、A室内のアルミイオンをできるだ
け少く保つためには、A室内の液を強制的にまた
速やかに移動させる必要がある。
In the case of the configuration shown in FIG. 3, the movement of aluminum ions in chamber A with respect to the diaphragm 3 is slower than the movement of hydrogen ions, so the aluminum ions in chamber A are moved quickly. In order to keep the amount as low as possible, it is necessary to forcefully and quickly move the liquid in chamber A.

第4図は上記の点に留意して構成された本発明
の他の実施例の原理を示す。アルミ箔1とカーボ
ン電極2との間には、カーボン電極2側に陽イオ
ンのみを透過させる第1の隔膜3、アルミ箔1側
に陰イオンのみを透過させる第2の隔膜4が設け
てある。第2の隔膜4とアルミ箔1との間の空間
Aには、エツチング液を強制的に流過させ、この
エツチング液は第1、第2の隔膜3,4間の空間
Bに送り込む。
FIG. 4 shows the principle of another embodiment of the present invention constructed with the above points in mind. A first diaphragm 3 that allows only cations to pass through to the carbon electrode 2 side, and a second diaphragm 4 that allows only anions to pass to the aluminum foil 1 side are provided between the aluminum foil 1 and the carbon electrode 2. . An etching solution is forced to flow through the space A between the second diaphragm 4 and the aluminum foil 1, and this etching solution is sent into the space B between the first and second diaphragms 3 and 4.

上記の如くすることにより、空間A内のエツチ
ング液のアルミイオン濃度は低く押えられ、空間
Bのエツチング液から隔膜4を透過して供給され
る塩素イオンにより拡大率の大きなエツチングが
なされる。アルミイオンは3価であり、水素イオ
ンは1価である。而して1価のイオンの方が角膜
3を透過し易いため、空間Bのエツチング液内で
はアルミイオン濃度がゆるやかに増大する。アル
ミイオン濃度がある値に達するとアルミイオンは
隔膜3を通過して、隔膜3とカーボン電極2との
間の空間Cに入る。空間Cのエツチング液は、ア
ルミイオン濃度が高くなつたところで排出され
る。
By doing as described above, the aluminum ion concentration of the etching solution in the space A is kept low, and the chlorine ions supplied from the etching solution in the space B through the diaphragm 4 perform etching with a large enlargement ratio. Aluminum ions are trivalent, and hydrogen ions are monovalent. Since monovalent ions more easily permeate the cornea 3, the concentration of aluminum ions in the etching solution in space B increases gradually. When the aluminum ion concentration reaches a certain value, the aluminum ions pass through the diaphragm 3 and enter the space C between the diaphragm 3 and the carbon electrode 2. The etching solution in space C is discharged when the aluminum ion concentration becomes high.

第2図は前記の原料に基く第2の実施例の概略
図である。図中、第1図と同一部分には同一符号
が付され20は第2の隔膜を示す。強制的に流過
される空間Aのエツチング液は、スリツト11か
ら流過し筐体10底部に貯溜する。これをポンプ
により管路21を介して空間Bの下部に供給す
る。
FIG. 2 is a schematic diagram of a second embodiment based on the raw materials described above. In the figure, the same parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals, and 20 indicates the second diaphragm. The etching solution in the space A, which is forced to flow through, flows through the slit 11 and is stored at the bottom of the casing 10. This is supplied to the lower part of the space B via the pipe line 21 by a pump.

この実施例によつても第1の実施例と同様の効
果が得られる。
This embodiment also provides the same effects as the first embodiment.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、エツチング拡大率の大きなエ
ツチングを施した電解箔を、電気量相当だけの酸
の補給量によつて製造することができるので、良
質な電解箔を安価に供給することができる。
According to the present invention, an electrolytic foil etched with a large etching expansion rate can be manufactured by replenishing an amount of acid equivalent to the amount of electricity, so a high-quality electrolytic foil can be supplied at a low cost. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の第1の実施例の概略断面図、
第2図は第2の実施例の同様の図、第3図は第1
の実施例の原理を示す図、第4図は第2の実施例
の同様の図である。 13……カーボン電極、16……アルミ箔、1
7……第1の隔膜、20……第2の隔膜。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a first embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a similar diagram of the second embodiment, and FIG. 3 is a similar diagram of the first embodiment.
FIG. 4 is a similar diagram of the second embodiment. 13...Carbon electrode, 16...Aluminum foil, 1
7...first diaphragm, 20...second diaphragm.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 エツチング液中にあるカーボン電極に対向さ
せてアルミ箔を走行させ、アルミ箔を正極、カー
ボン電極を負極として直流を印加し、アルミ箔に
エツチングを施すものにおいて、アルミ箔カーボ
ン電極間に陽イオン透過性の隔膜を配置したこと
を特徴とする電解コンデンサ用電解箔の製造装
置。
1. In etching the aluminum foil by running the aluminum foil opposite the carbon electrode in the etching solution and applying direct current with the aluminum foil as the positive electrode and the carbon electrode as the negative electrode, cations are generated between the aluminum foil and carbon electrodes. An apparatus for producing electrolytic foil for electrolytic capacitors, characterized by having a permeable diaphragm arranged therein.
JP59138709A 1984-07-03 1984-07-03 Apparatus for producing electrolytic foil for electrolytic condenser Granted JPS6116509A (en)

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JPH0788175B2 (en) * 1988-12-28 1995-09-27 日産自動車株式会社 Method for strengthening injection of resin into car body structural member and damming structure for injected resin

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