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JPS6224238B2 - - Google Patents
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JPS6224238B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6224238B2
JPS6224238B2 JP21176782A JP21176782A JPS6224238B2 JP S6224238 B2 JPS6224238 B2 JP S6224238B2 JP 21176782 A JP21176782 A JP 21176782A JP 21176782 A JP21176782 A JP 21176782A JP S6224238 B2 JPS6224238 B2 JP S6224238B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
manipulator
work table
air purification
purification box
turntable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP21176782A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59102581A (en
Inventor
Kazunari Imahashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
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Publication of JPS6224238B2 publication Critical patent/JPS6224238B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は半導体の製造工程におけるワークス
テーシヨンに関し、かつ各工程間を姿勢制御しな
がら正確に移送することのできるマニピユレータ
を持つたワークステーシヨンを提供せんとするも
にである。
[Detailed Description of the Invention] "Industrial Application Field" The present invention relates to a workstation in a semiconductor manufacturing process, and provides a workstation equipped with a manipulator that can accurately move between each process while controlling its posture. This is what I want to do.

「従来の技術」 従来、半導体ウエハの加工工程においては、化
学的及び物理的な表面処理、フオトリソグラフ処
理におけるフオトレジスト塗布および現像等が何
回となく行なわれる。この各工程はそれぞれの処
理装置を組合せて製造ラインを構成し、製造ライ
ンは全体をクリーンルーム(無塵室)に収納して
いる。上記製造ラインにおける各処理装置間は、
各入力部分を直線状に配置し、その上部に配設し
た搬送用レールに導かれるウエハハンドラーによ
つて接続され、1つの処理装置からの半導体ウエ
ハをピツクアツプし、これをウエハハンドラーに
よつて他の処理装置に搬送入力する。
"Prior Art" Conventionally, in the processing of semiconductor wafers, chemical and physical surface treatments, photoresist coating and development in photolithographic processing, etc. are performed many times. Each process consists of a manufacturing line by combining respective processing equipment, and the entire manufacturing line is housed in a clean room (dust-free room). Between each processing device in the above production line,
Each input section is arranged in a straight line and connected by a wafer handler that is guided by a transport rail installed above the input section, and a semiconductor wafer from one processing device is picked up and transferred to another by the wafer handler. Transport input to processing equipment.

「発明が解決しようとする問題点」 しかしながら上記装置においては、上記搬送用
レール部分から塵芥が発生し、各処理工程の雰囲
気に悪影響を及ぼす。また生産速度を向上させる
ための、各処理工程間を接続するウエハハンドラ
−の増大に対応できない。
"Problems to be Solved by the Invention" However, in the above-mentioned apparatus, dust is generated from the transport rail portion, which adversely affects the atmosphere in each processing step. Furthermore, it is not possible to cope with an increase in the number of wafer handlers connecting each processing process in order to improve production speed.

「問題を解決するための手段」 そこで本発明は、この自動化に適した半導体製
造工程に応じたワークステーシヨンを提供せんと
するもので、指令により駆動する走行機能を有す
る基台と、基台上に昇降自在に保持された作業テ
ーブルと、作業テーブル上に支持されたターンテ
ーブルと、このターンテーブルと相対的に回転す
るよう作業テーブル上に軸支され、互いに摺動し
て伸縮自在である複数の筒状体で構成されたマニ
ピユレータと、上記ターンテーブルを底面とし、
マニピユレータを収納できる空気浄化ボツクスと
を有することを特徴とするものである。
"Means for Solving the Problem" Therefore, the present invention aims to provide a workstation suitable for semiconductor manufacturing processes that is suitable for automation. a work table held movably up and down; a turntable supported on the work table; and a plurality of turntables that are pivotally supported on the work table to rotate relative to the turntable and are extendable and retractable by sliding on each other. A manipulator consisting of a cylindrical body and the turntable as the bottom surface,
It is characterized by having an air purification box that can house a manipulator.

「実施例」 以下図面に基いて本発明の一実施例を説明する
と、1は走行用の駆動機構を内蔵した基台で、上
面には4隅に支柱2が立設されている。3は、支
柱2に外嵌されるシリンダ4を下面に開口するよ
う取設した作業テーブルである。この作業テーブ
ル3は、上記シリンダ4に作用する油圧、空圧あ
るいはステツピングモータ等によりその昇降を自
在に制御される。
``Embodiment'' An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Reference numeral 1 denotes a base having a built-in drive mechanism for traveling, and pillars 2 are erected at the four corners of the upper surface. Reference numeral 3 denotes a work table on which a cylinder 4 fitted onto the support column 2 is installed so as to be open on the bottom surface. The work table 3 is freely controlled to be raised or lowered by hydraulic pressure, pneumatic pressure, a stepping motor, etc. applied to the cylinder 4.

作業テーブル3上には、作業テーブル3に内蔵
したモータで駆動されるターンテーブル5が、回
転自在に支承されている。このターンテーブル5
上には、半導体ウエハを収納したキヤリアを載置
するスペース6が、所定の間隔で複数箇所設けら
れている。
A turntable 5 driven by a motor built into the work table 3 is rotatably supported on the work table 3. This turntable 5
On the top, a plurality of spaces 6 are provided at predetermined intervals for placing carriers containing semiconductor wafers.

上記作業テーブル3上にはまた、ターンテーブ
ル5と相対的に回転するようマニピユレータ7が
軸支され、これは上記ターンテーブル5を底面と
する空気浄化ボツクス8内に収容され、空気浄化
ボツクス8と一体的に回転する。マニピユレータ
7は、油圧、空圧、あるいはステツピングモータ
等により伸縮及び回転を自在に制御され、伸長し
た際には空気浄化ボツクス8に設けた開放窓9か
ら突出し、最小の長さに縮めたときは空気浄化ボ
ツクス8内にコンパクトに収容される。その際マ
ニピユレータ7の先端ハンドリング部10は、上
記ターンテーブル5のスペース6上に位置してい
る。このマニピユレータ7は、複数の筒状体で形
成され、他端は排気ダクト11として空気浄化ボ
ツクス8外に開口している。しかしてマニピユレ
ータ7には、内部の中空部12に作用する吸気装
置が付設され、上記他端から空気浄化ボツクス8
外に排気されて、マニピユレータ7の作動中に塵
芥が空気浄化ボツクス8内に散逸することを防止
している。
A manipulator 7 is also pivotally supported on the work table 3 so as to rotate relative to the turntable 5, and this manipulator 7 is housed in an air purification box 8 having the turntable 5 as a bottom surface. rotates as one. The manipulator 7 is freely controlled to expand, contract, and rotate by hydraulic pressure, pneumatic pressure, or a stepping motor, and when it is extended, it protrudes through an open window 9 provided in the air purification box 8, and when it is shortened to its minimum length, it protrudes from the open window 9 provided in the air purification box 8. is compactly housed in the air purification box 8. At this time, the tip handling part 10 of the manipulator 7 is located above the space 6 of the turntable 5. This manipulator 7 is formed of a plurality of cylindrical bodies, and the other end is opened to the outside of the air purification box 8 as an exhaust duct 11. Therefore, the manipulator 7 is provided with an air intake device that acts on the internal hollow part 12, and the air purifying box 8 is connected to the manipulator 7 from the other end.
This prevents dust from dissipating into the air purification box 8 while the manipulator 7 is in operation.

また、上記ハンドリング部10の先端には、前
記した半導体ウエハ用のキヤリアを認識するため
のセンサを付設した、把持部13が取付けられて
いる。
Furthermore, a gripping part 13 is attached to the tip of the handling part 10, and is equipped with a sensor for recognizing the carrier for the semiconductor wafer described above.

空気浄化ボツクス8は円筒状の側壁を有し、マ
ニピユレータ7を収納した際に適宜の手段で開放
窓9を遮蔽される。例えば図示したように、作業
テーブル3上に固定扉14を立設し、空気浄化ボ
ツクス8を回転して開放窓9をこの固定扉14に
対面させ、気密性を有するよう遮蔽すれば良い。
この空気浄化ボツクス8は、高性能のエアフイル
タ等を用いて常法により常時清浄な空気を供給さ
れ、外気よりもやや内圧を高く保持している。し
たがつて空気浄化ボツクス8の開放窓9が開放状
態にあつても、すなわちマニピユレータ7が空気
浄化ボツクス8外で作業している場合であつて
も、塵芥が空気浄化ボツクス8内に進入してくる
ことはない。
The air purification box 8 has a cylindrical side wall, and when the manipulator 7 is housed, the open window 9 is covered by an appropriate means. For example, as shown in the figure, a fixed door 14 may be erected on the work table 3, and the air purification box 8 may be rotated so that the open window 9 faces the fixed door 14 to be shielded so as to be airtight.
This air purification box 8 is constantly supplied with clean air using a high-performance air filter or the like in a conventional manner, and maintains an internal pressure slightly higher than the outside air. Therefore, even when the open window 9 of the air purification box 8 is in the open state, that is, even when the manipulator 7 is working outside the air purification box 8, there is no possibility that dust will enter into the air purification box 8. It never comes.

空気浄化ボツクス8は従来のクリーンルームと
異つて非常に小型化され得る。また上述のように
排気ダクト11は空気浄化ボツクス8外に開口し
ており、マニピユレータ7内に吸気作用が働いて
いることと相まつて、空気浄化ボツクス8のクリ
ーン度は飛躍的に高められる。
Unlike conventional clean rooms, the air purification box 8 can be made very compact. Furthermore, as described above, the exhaust duct 11 is open to the outside of the air purification box 8, and together with the intake action working in the manipulator 7, the cleanliness of the air purification box 8 is dramatically increased.

「発明の効果」 この発明のワークステーシヨンは以上のように
構成したので、半導体製造工程における半導体ウ
エハの移送等のためのハンドリングに好適に使用
され、かつ各工程間をキヤリアの姿勢を制御しな
がら正確に移送することができる。
"Effects of the Invention" Since the workstation of the present invention is configured as described above, it can be suitably used for handling such as transferring semiconductor wafers in the semiconductor manufacturing process, and can be used while controlling the attitude of the carrier between each process. Can be transferred accurately.

また、大量に塵芥を発生する作業者や搬送装置
をなくすことができるため、従来のクリーンルー
ムと併用することにより半導体製造装置全体のク
リーン度を飛躍的に向上させることができた。
In addition, since it is possible to eliminate workers and transport equipment that generate large amounts of dust, the cleanliness of the entire semiconductor manufacturing equipment can be dramatically improved by using it in conjunction with a conventional clean room.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は本発明のワークステーシヨンの一実施例
を示し、第1図はその斜視図、第2図は作業テー
ブル3を降下させた状態の側面図、第3図は作業
中の断面図、第4図はマニピユレータ7収納時の
断面図、第5図はその平面図、第6図は作業中の
平面図である。 1……基台、3……作業テーブル、4……シリ
ンダ、5……ターンテーブル、7……マニピユレ
ータ、8……空気浄化ボツクス、9……開放窓、
11……排気ダクト、12……中間部、14……
固定扉。
The drawings show one embodiment of the workstation of the present invention, and FIG. 1 is a perspective view thereof, FIG. 2 is a side view with the work table 3 lowered, FIG. 3 is a sectional view during work, and FIG. The figure is a sectional view of the manipulator 7 when it is stored, FIG. 5 is a plan view thereof, and FIG. 6 is a plan view of the manipulator 7 during operation. 1... Base, 3... Work table, 4... Cylinder, 5... Turntable, 7... Manipulator, 8... Air purification box, 9... Open window,
11... Exhaust duct, 12... Middle part, 14...
Fixed door.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 指令により駆動する走行機能を有する基台
と、基台上に昇降自在に保持された作業テーブル
と、作業テーブル上に支持されたターンテーブル
と、このターンテーブルと相対的に回転するよう
作業テーブル上に軸支され、互い摺動して伸縮自
在である複数の筒状体で構成されたマニピユレー
タと、上記ターンテーブルを底面とし、マニピユ
レータを収納できる空気浄化ボツクスとを有する
ことを特徴とするワークステーシヨン。 2 作業テーブルが、下面に開口するシリンダを
上面に立設され、基台上に立設した複数本の支柱
に上記シリンダを嵌挿することにより、基台上に
昇降自在に保持されてなる特許請求の範囲第1項
記載のワークステーシヨン。 3 空気浄化ボツクスが、マニピユレータと一体
的に回転するとともに、ターンテーブルを底面と
して気密を保持し得るようにした特許請求の範囲
第1項または第2項記載のワークステーシヨン。 4 空気浄化ボツクスが、マニピユレータが出没
可能で、作業テーブル上に立設した固定扉に対面
した時に閉じるようにした、開放窓を形成してな
る特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか
に記載のワークステーシヨン。 5 マニピユレータが、内部に中空部を有すると
ともに、この中空部を空気浄化ボツクス外に開口
する排気ダクトに連結してなる特許請求の範囲第
1項ないし第4項のいずれかに記載のワークステ
ーシヨン。
[Scope of Claims] 1. A base having a traveling function driven by a command, a work table held on the base so as to be movable up and down, a turntable supported on the work table, and a device relative to the turntable. A manipulator is comprised of a plurality of cylindrical bodies that are pivotably supported on a work table so as to rotate, and are extendable and retractable by sliding on each other; and an air purification box that has the turntable as a bottom surface and can accommodate the manipulator. A workstation characterized by: 2. A patent in which a work table has a cylinder that opens on the bottom and is erected on the top surface, and is held movably up and down on the base by fitting the cylinder into a plurality of pillars set up on the base. A workstation according to claim 1. 3. The workstation according to claim 1 or 2, wherein the air purification box rotates integrally with the manipulator and is airtight with the turntable as the bottom surface. 4. Any one of claims 1 to 3, wherein the air purification box forms an open window through which a manipulator can move in and out and which closes when facing a fixed door set up on the work table. Workstation described in Crab. 5. The workstation according to any one of claims 1 to 4, wherein the manipulator has a hollow part inside and is connected to an exhaust duct that opens to the outside of the air purification box.
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JPH072316B2 (en) * 1986-05-23 1995-01-18 東京エレクトロン株式会社 Transfer method by transfer robot for dust-free room
US4986715A (en) * 1988-07-13 1991-01-22 Tokyo Electron Limited Stock unit for storing carriers

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