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JPS6228538B2 - - Google Patents
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JPS6228538B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6228538B2
JPS6228538B2 JP53047780A JP4778078A JPS6228538B2 JP S6228538 B2 JPS6228538 B2 JP S6228538B2 JP 53047780 A JP53047780 A JP 53047780A JP 4778078 A JP4778078 A JP 4778078A JP S6228538 B2 JPS6228538 B2 JP S6228538B2
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JP
Japan
Prior art keywords
panel
shadow mask
phosphor
holes
hole
Prior art date
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Expired
Application number
JP53047780A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS54140459A (en
Inventor
Shinji Tanaka
Soji Takahashi
Masamoto Akeyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP4778078A priority Critical patent/JPS54140459A/en
Publication of JPS54140459A publication Critical patent/JPS54140459A/en
Publication of JPS6228538B2 publication Critical patent/JPS6228538B2/ja
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、カラー受像管の製造方法に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a color picture tube.

カラー受像管は、シヤドウマスクとパネルに塗
布された螢光体との位置関係を厳密に規定する必
要がある。
In color picture tubes, it is necessary to strictly define the positional relationship between the shadow mask and the phosphor coated on the panel.

従来のカラー受像管では、螢光膜とシヤドウマ
スクの正確な位置関係を持たせるため、露光時に
パネルとマスクを一対にしてパネル内面に螢光膜
を形成していた。そのため、従来のシヤドウマス
クは、他のマスクとの交換ができないのが現状で
あり、第1図に示されるようにパネル1からの脱
着が可能な構造をとつている。
In conventional color picture tubes, in order to maintain an accurate positional relationship between the fluorescent film and the shadow mask, the panel and mask were paired during exposure to form a fluorescent film on the inner surface of the panel. Therefore, the conventional shadow mask cannot currently be replaced with another mask, and has a structure that allows it to be attached and detached from the panel 1, as shown in FIG.

すなわち、シヤドウマスクとこれを補強するた
めのフレーム6およびスプリング4が熔接などに
より固着され、パネル1にあらかじめ埋込まれて
いるピン5に懸架する固定方式をとつていた。従
つて、従来の方式では、ブラツクコートや各色の
螢光体をパネル内面に形成する毎に、シヤドウマ
スク2をパネル1に取付け、露光後取り外し現
像、装着を何回も繰り返して行わなければならな
いというシヤドウマスクの脱着の煩雑さ、加え
て、その脱着時にシヤドウマスクが変形した場
合、他のマスクで交換できないという不便さを伴
う。
That is, the shadow mask, a frame 6 for reinforcing it, and a spring 4 are fixed by welding or the like, and are suspended from pins 5 embedded in the panel 1 in advance. Therefore, in the conventional method, each time a black coat or phosphor of each color is formed on the inner surface of the panel, the shadow mask 2 must be attached to the panel 1, removed after exposure, developed, and attached many times. In addition to the complexity of putting on and taking off the shadow mask, there is also the inconvenience that if the shadow mask is deformed when it is put on and taken off, it cannot be replaced with another mask.

従つて、上記におけるシヤドウマスクの脱着作
業が省略でき、かつこのようなシヤドウマスクと
螢光体との位置関係が高い精度で達成できれば、
ブラウン管の製造上大幅な人手の削減、効率の向
上が可能となり、原価低減が期待できる。
Therefore, if the work of attaching and detaching the shadow mask described above can be omitted and the positional relationship between the shadow mask and the phosphor can be achieved with high precision,
This makes it possible to significantly reduce manpower and improve efficiency in the production of cathode ray tubes, and is expected to reduce costs.

本発明は、上記の点に着目してなされたもので
あり、シヤドウマスクの脱着作業を省略し、かつ
シヤドウマスクとパネル螢光体を高精度に位置合
せできる安価なカラー受像管を提供することを目
的とするものである。
The present invention has been made with attention to the above points, and an object of the present invention is to provide an inexpensive color picture tube that can omit the work of attaching and detaching the shadow mask and can align the shadow mask and the panel phosphor with high precision. That is.

上記目的を達成するために、本発明によれば、
露光台にあらかじめ基準パターンを設置し、これ
を基準にしてパネル内面に螢光体を塗布する。こ
れによつて、上述した露光時におけるシヤドウマ
スクの脱着の煩雑さを避けることができる。ま
た、相対的に孔の位置ずれの小さいシヤドウマス
クを用いて、これと上記の螢光体塗布完了後のパ
ネルを光学系により高精度に位置合せを行ない、
次いで両者を固定するために熔接を施す。これに
よつて、従来のカラー受像管と同程度以上の性能
を有するカラー受像管を得ることが可能である。
In order to achieve the above object, according to the present invention,
A reference pattern is set up in advance on the exposure table, and the phosphor is applied to the inner surface of the panel using this pattern as a reference. This makes it possible to avoid the trouble of attaching and detaching the shadow mask during exposure as described above. In addition, using a shadow mask with relatively small positional deviation of the holes, this and the panel after the phosphor coating described above are aligned with high precision using an optical system.
Next, welding is applied to fix the two. Thereby, it is possible to obtain a color picture tube having performance comparable to or better than that of conventional color picture tubes.

本発明の構成は以下のとおりである。 The configuration of the present invention is as follows.

下記工程を有することを特徴とするカラー受像
管の製造方法。
A method for manufacturing a color picture tube, comprising the following steps.

(1) その有効面内に規則正しく配列された複数の
透孔およびその中央のY方向線上すなわち縦方
向線上に配設され前記透孔と形状的に区別でき
る少なくとも二つの基準孔を有するシヤドウマ
スクを準備する工程。
(1) Prepare a shadow mask that has a plurality of regularly arranged through holes in its effective surface and at least two reference holes that are disposed on the central Y direction line, that is, on the vertical line, and can be distinguished in shape from the through holes. The process of doing.

(2) その内面にストライプ状の螢光体パターンを
有し、パネル面の外周に複数個のスプリングが
固着されたパネルを準備する工程。
(2) A process of preparing a panel that has a striped phosphor pattern on its inner surface and a plurality of springs fixed to the outer periphery of the panel surface.

(3) 前記パネルの側壁を複数の支持部材で支持す
ることにより、前記パネルを所定の位置に固定
する工程。
(3) A step of fixing the panel in a predetermined position by supporting the side wall of the panel with a plurality of support members.

(4) 前記(3)の工程により前記パネルが固定された
場合に、前記螢光体パターンのうち中央のもの
がその視野内に入るように、あらかじめ複数の
光学系を所定の位置に準備する工程。
(4) Preparing a plurality of optical systems at predetermined positions so that when the panel is fixed in step (3) above, the central one of the phosphor patterns falls within the field of view. Process.

(5) 前記光学系により、前記基準光および前記螢
光体パターンのうち中央のものとの位置合せを
行い、しかる後、前記スプリングと前記シヤド
ウマスクを固着する工程。
(5) A step of aligning the reference light and the central one of the phosphor patterns using the optical system, and then fixing the spring and the shadow mask.

以下、本発明を図面を参照して詳細に説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

第2図は、本発明の一実施例になるカラー受像
管を構成するシヤドウマスクとパネルの構造を示
す概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the structure of a shadow mask and panel constituting a color picture tube according to an embodiment of the present invention.

本発明によるシヤドウマスク12は、図に示す
如く、マスクの有効面内(受像管にした際画像に
関与する多数の孔が存在する領域)に他の孔と明
らかに区別できる任意の形状の小さい孔が設けら
れており、この小孔がパネル11面に形成された
螢光体13と位置合せする基準孔15となる。基
準孔15は、マスク中央のy方向線上に存在し、
有効面内に出来るかぎり遠ざけて2個(又はそれ
以上の個数)穿孔されている。一方、螢光体は、
前述したように、露光台にてあらかじめ基準パタ
ーンを設置し、これを基準にしてパネル内面に螢
光体を塗布するのであるが、この露光の際にパネ
ル11を位置規制することにより、精度よく塗布
することができる。次いで、アルミニウム
(Al)蒸着が施され、L字型のスプリング14が
精度よく取付けられる。このように、シヤドウマ
スク11とパネル螢光体13は、それぞれ別々に
作製される。
As shown in the figure, the shadow mask 12 according to the present invention has small holes of any shape that can be clearly distinguished from other holes within the effective surface of the mask (an area where there are many holes that are involved in an image when used as a picture tube). is provided, and this small hole serves as a reference hole 15 for alignment with the phosphor 13 formed on the surface of the panel 11. The reference hole 15 exists on the y-direction line at the center of the mask,
Two (or more) holes are drilled as far apart as possible within the effective surface. On the other hand, the phosphor is
As mentioned above, a reference pattern is set in advance on the exposure table, and the phosphor is coated on the inner surface of the panel using this as a reference.By regulating the position of the panel 11 during this exposure, it is possible to accurately coat the inner surface of the panel. Can be applied. Next, aluminum (Al) is vapor-deposited, and the L-shaped spring 14 is attached with high precision. In this way, the shadow mask 11 and the panel phosphor 13 are each manufactured separately.

本発明において基準孔を有効面内に設けたの
は、以下の理由による。すなわち、シヤドウマス
クの穿孔は通常、エツチングにより行なわれてお
り、エツチング穿孔による孔位置の相対的なばら
つきは有効面でも±1〜2μm程度生ずるのが現
状である。有効面外に基準孔を設けた場合にはそ
の付近に孔が存在しないため、常に新しいエツチ
ング液が作用し、過大にエツチングされ孔の大き
さにばらつきを生ずる。その基準孔中心位置は他
の有効面内の孔中心に対して±3〜4μmばらつ
く場合がある。
The reason why the reference hole is provided within the effective surface in the present invention is as follows. That is, the holes in the shadow mask are usually made by etching, and the current situation is that the relative variation in the hole position due to the etching holes is about ±1 to 2 μm even on the effective surface. When a reference hole is provided outside the effective surface, since there are no holes in the vicinity, new etching solution is constantly applied, resulting in excessive etching and variations in hole size. The reference hole center position may vary by ±3 to 4 μm with respect to the hole center in other effective surfaces.

すなわち、有効面内には穿孔されるべき孔が多
数存在するので、この孔および有効面内に形成さ
れる基準孔は、エツチングで劣化したエツチング
液とエツチング新生液との混合液によりエツチン
グされる。従つて、エツチング新生液のみでエツ
チングする場合よりも、この混合液でエツチング
する場合の方が、エツチング速度は遅くなる。
That is, since there are many holes to be drilled in the effective surface, these holes and the reference holes to be formed in the effective surface are etched by a mixture of the etching solution degraded by etching and the new etching solution. . Therefore, the etching speed is slower when etching is performed using this mixed solution than when etching is performed using only the new etching solution.

これに対し、基準孔を有効面外に形成しようと
する場合には、基準孔の近傍には他に穿孔される
べき孔が存在しないので、基準孔形成中にはその
部分に常に新生液が過剰に供給されることとな
る。従つて、有効面外に基準孔を形成しようとす
ると、有効面内に基準孔を形成する場合よりも、
エツチング速度が大きくなる。
On the other hand, when the reference hole is to be formed outside the effective surface, there is no other hole to be drilled near the reference hole, so new liquid is always present in that area while the reference hole is being formed. There will be an excess supply. Therefore, if you try to form a reference hole outside the effective surface, it will be more difficult to form a reference hole than in the effective surface.
Etching speed increases.

また、通常のシヤドウマスクのエツチングは流
れ作業で行われるので、エツチング液のよどみが
生じたり、エツチング新生液のシヤドウマスク表
面への注入角度が時々刻々変化する。従つて、シ
ヤドウマスクに形成される孔は孔中心軸に対して
必ずしも軸対称にエツチングされるとは限らず、
多少の偏りを持つた孔となる。これがエツチング
穿孔による孔位置の相対的なばらつきの原因とな
る。
Further, since etching of a normal shadow mask is carried out in an assembly line operation, the etching solution may stagnate, and the injection angle of the new etching solution onto the surface of the shadow mask may change from time to time. Therefore, the holes formed in the shadow mask are not necessarily etched axially symmetrically with respect to the central axis of the hole.
The hole will be slightly biased. This causes relative variations in hole position due to etching.

ここで、有効面外に基準孔を設けようとする
と、前述の理由により、有効面内に基準孔を設け
る場合に比べてエツチング速度が大きくなる。従
つてエツチング穿孔により基準孔を形成する場
合、基準孔位置の相対的なバラツキの大きさ(エ
ツチングの偏りに比例する)は、それを有効面外
に形成する場合の方が、有効面内に形成する場合
より大きくなる。
If it is attempted to provide the reference hole outside the effective surface, the etching rate will be higher than when the reference hole is provided within the effective surface for the reasons mentioned above. Therefore, when forming a reference hole by etching, the relative variation in the position of the reference hole (proportional to the etching bias) is smaller than when it is formed outside the effective surface. It becomes larger than when forming.

なお、前述の孔位置の相対的なばらつきの大き
さ(有効面内;±1〜2μm、有効面外;±3〜
4μm)は実測値である。
Note that the above-mentioned relative variation in hole position (within the effective surface: ±1 to 2 μm, outside the effective surface: ±3 to
4 μm) is an actual measured value.

以上から明らかなように、基準孔を有効面内に
設ければエツチングによる孔位置のばらつきを上
記±1〜2μm程度に軽減でき、螢光体との目合
せの際の精度を向上させることが可能であるから
である。
As is clear from the above, if the reference hole is provided within the effective surface, the variation in hole position due to etching can be reduced to about ±1 to 2 μm, and the accuracy when aligning with the phosphor can be improved. Because it is possible.

第3図は、螢光膜がストライプ状に形成される
所謂ストライプ型のシヤドウマスクの例を示すも
ので、シヤドウマスク12の有効面17内(図に
おいて点線部分は有効面境界を示す。)に他の規
則正しく配列された透孔16と明らかに区別でき
る小さい孔の基準孔15がマスク中央の長孔方向
線上に穿設される。
FIG. 3 shows an example of a so-called stripe-type shadow mask in which a fluorescent film is formed in stripes. A small reference hole 15 that can be clearly distinguished from the regularly arranged through holes 16 is bored in the center of the mask in the direction of the long hole.

次に、シヤドウマスク孔とパネル螢光体の位置
合せについて、第4図を参照して詳述する。
Next, the alignment of the shadow mask hole and the panel phosphor will be described in detail with reference to FIG. 4.

上記のような工程を経て作製されたシヤドウマ
スク12は、吸着板18に吸着され、次いであら
かじめスプリング14が固着され螢光体が塗布さ
れたパネル11が供給される。この場合、シヤド
ウマスクを吸着する方法としては、例えば電磁的
に吸着するなど、種々考えられる。
The shadow mask 12 produced through the above steps is adsorbed on a suction plate 18, and then the panel 11 to which the spring 14 is fixed in advance and coated with a phosphor is supplied. In this case, various methods can be considered for attracting the shadow mask, such as electromagnetic attraction.

また、この場合のパネル11の位置規制は、前
述の露光台(図示省略)での位置規制と同等の精
度を有するものであり、図のPで示す如くパネル
のほゞ90度をなす2辺のうちの数点を基準として
パネル11が保持される。次いで、シヤドウマス
ク12とパネル11の間隙が正規の寸法に機械的
に決定されるようにパネル押え19をあらかじめ
調節しておき、パネル11の下部に設けたエアシ
リンダー等の如き可動装着装置20と共にパネル
11を固定する。
In addition, the position regulation of the panel 11 in this case has the same accuracy as the position regulation on the exposure table (not shown) described above, and as shown by P in the figure, the two sides of the panel forming approximately 90 degrees are The panel 11 is held based on several of the points. Next, the panel presser 19 is adjusted in advance so that the gap between the shadow mask 12 and the panel 11 is mechanically determined to a regular size, and the panel holder 19 is adjusted in advance so that the gap between the shadow mask 12 and the panel 11 is mechanically determined. 11 is fixed.

供給されたシヤドウマスク12の基準孔および
パネル中央の螢光体は、あらかじめ光軸を合わせ
ておいた対になつた光学系A1,A2;B1,B2の視
野内にそれぞれ収まる。
The reference hole of the supplied shadow mask 12 and the phosphor at the center of the panel are respectively placed within the fields of view of the paired optical systems A 1 , A 2 ; B 1 , B 2 whose optical axes have been aligned in advance.

ここで、パネル中央の螢光体が上記光学系の視
野内に収まる原理を説明する。
Here, the principle that the phosphor at the center of the panel falls within the field of view of the optical system will be explained.

まず、螢光体パターンの形成方法について述べ
る。螢光体が塗布されたパネル面は第4図に示す
ように、パネル側壁を例えば三点で支持する(同
図の「P」が、この支持の様子を示す。)。この三
点支持による位置決め精度は〜10μmである。ま
た、螢光体パターンのパターン幅およびパターン
ピツチは、第3図に示す孔のパターン幅およびパ
ターンピツチと同じであり、それぞれ〜100μ
m、400〜450μmである。従つて、上記位置決め
精度は十分なものであることがわかる。
First, a method for forming a phosphor pattern will be described. As shown in FIG. 4, the panel surface coated with the phosphor is supported at three points, for example, on the side wall of the panel ("P" in the figure indicates this support). The positioning accuracy by this three-point support is ~10 μm. Furthermore, the pattern width and pattern pitch of the phosphor pattern are the same as the pattern width and pattern pitch of the hole shown in FIG. 3, and are each ~100 μm.
m, 400 to 450 μm. Therefore, it can be seen that the above positioning accuracy is sufficient.

パネル側壁を支持されたパネル面は、露光台に
設けられた基準パターンマスクに露光され、次
に、三点支持を解除して現像に供する。以上で螢
光体パターンの形成が終了する。
The panel surface supported by the panel side wall is exposed to a reference pattern mask provided on an exposure stage, and then the three-point support is released and the panel surface is subjected to development. This completes the formation of the phosphor pattern.

現像後、パネルを再度パネル側壁を支持するこ
とにより10μm程度の位置決め精度で第4図に示
す位置決め装置に装着される。
After development, the panel is mounted on the positioning device shown in FIG. 4 with a positioning accuracy of about 10 μm by supporting the side wall of the panel again.

一方、光学系A1,A2,B1,B2は、あらかじめ
位置決め装置の中央に設けられているので、位置
決め装置にパネルを装着すれば、必然的に中央の
螢光体パターンが光学系の視野のほぼ中央に位置
することになる。
On the other hand, since the optical systems A 1 , A 2 , B 1 , and B 2 are installed in advance in the center of the positioning device, when the panel is attached to the positioning device, the phosphor pattern in the center is automatically connected to the optical system. It will be located approximately in the center of the field of view.

また、シヤドウマスク12は、後述するよう
に、吸着板18に吸着されて位置決め装置上に運
搬されてくる。吸着板18はx,y,θ方向に微
動可能な微動装置に接続されている。従つて、こ
の微動装置によりシヤドウマスクを移動して、シ
ヤドウマスクの基準孔が光学系A1,B1の視野内
に入るように位置決めすればよい。
Further, the shadow mask 12 is attracted to a suction plate 18 and conveyed onto the positioning device, as will be described later. The suction plate 18 is connected to a fine movement device capable of fine movement in the x, y, and θ directions. Therefore, the shadow mask may be moved by this fine movement device to position the reference hole of the shadow mask within the field of view of the optical systems A 1 and B 1 .

次に、各光学系におけるA−A光軸、B―B光
軸はそれぞれパネル面に垂直に合わせてある。な
お、図において、吸着板18はx方向およびy方
向に微動可能なように微動装置(図示省略、例え
ばマイクロメーター等)に接続されており、θ方
向に対しては、吸着板のほゞ中央に据付られた微
動回転装置21によつて回転可能である。また、
光学系A1,A2およびB1,B2としては例えば顕微
鏡が用いられる。
Next, the A-A optical axis and the B-B optical axis in each optical system are aligned perpendicularly to the panel surface. In the figure, the suction plate 18 is connected to a fine movement device (not shown, for example, a micrometer, etc.) so that it can be moved slightly in the x and y directions, and in the θ direction, the suction plate 18 is located at approximately the center of the suction plate. It can be rotated by a fine rotation device 21 installed in the. Also,
For example, a microscope is used as the optical systems A 1 , A 2 and B 1 , B 2 .

光学系A1,A2;B1,B2により計測された位置
ずれ量は、第5図に示す如く、それぞれa1,a2
よびb1,b2のように測定され、螢光体を原点にと
ればシヤドウマスク12の基準孔22,23は、
それぞれa1−a2,b1−b2だけ移動していることが
わかる。なお、第5図において、a1,b1はそれぞ
れ基準孔22,23の各光学系A1,B1の視野中
心からの位置ずれ量を示し、a2,b2はそれぞれ螢
光体(ストライプ状)24の各光学系A2,B2
視野中心からの位置ずれ量を示す。また、S1,S2
は、2対の光学系A1,A2;B1,B2のそれぞれの
視野中心を示すもので、前述の如くあらかじめパ
ネル螢光体のy方向またはストライプ方向中心線
に合わせておく。パネル11は、前述の如くパネ
ルのほゞ90度をなす2辺のうちの数点Pを基準と
して位置規制されている。また、サークル状の
SA1,SA2およびSB1,SB2はそれぞれ、光学系
A1,A2およびB1,B2の視野領域を示すもので、
領域内の縦軸線は上述の各光学系の視野中心を示
し、横軸線は各視野領域のx方向の目盛線を示
す。
The positional deviations measured by the optical systems A 1 , A 2 ; B 1 , B 2 are measured as a 1 , a 2 and b 1 , b 2 , respectively, as shown in FIG. If we take this as the origin, the reference holes 22 and 23 of the shadow mask 12 will be
It can be seen that they have moved by a 1a 2 and b 1 − b 2 , respectively. In addition, in FIG. 5, a 1 and b 1 indicate the amount of positional deviation of each optical system A 1 and B 1 of the reference holes 22 and 23, respectively, from the center of field of view, and a 2 and b 2 indicate the amount of positional deviation of each optical system A 1 and B 1 of the reference holes 22 and 23, respectively, and a 2 and b 2 indicate the phosphor ( The amount of positional deviation from the center of the field of view of each optical system A 2 , B 2 of the striped pattern) 24 is shown. Also, S 1 , S 2
indicates the respective viewing centers of the two pairs of optical systems A 1 , A 2 ; B 1 , B 2 , which are aligned in advance with the center line of the panel phosphor in the y direction or the stripe direction, as described above. As described above, the position of the panel 11 is regulated based on several points P of the two sides of the panel that form approximately 90 degrees. Also, a circular shape
SA 1 , SA 2 and SB 1 , SB 2 are the optical system
It shows the visual field of A 1 , A 2 and B 1 , B 2 ,
The vertical axis within the area indicates the center of the visual field of each optical system described above, and the horizontal axis indicates the scale line in the x direction of each visual field.

このようにして、x方向の平行移動成分として
{(a1−a2)+(b1−b2)}/2、およびθ方向(第
4図におけるC―C軸まわり)の回転成分として
{(a1−a2)−(b1−b2)}を知り、これによつて、
各方向に吸着板に吸着されたシヤドウマスクを微
動させることにより、基準孔とパネル螢光体の位
置合せを精度よく行なうことができる。なお、y
方向については、ストライプタイプのシヤドウマ
スクを用いた本実施例では、それ程厳密な微調整
を要しない。その理由は次のとおりである。
In this way, the translation component in the x direction is {(a 1 − a 2 ) + (b 1 − b 2 )}/2, and the rotation component in the θ direction (around the C-C axis in Figure 4) is Knowing {(a 1 − a 2 ) − (b 1 − b 2 )}, by this,
By slightly moving the shadow mask suctioned to the suction plate in each direction, it is possible to precisely align the reference hole and the panel phosphor. In addition, y
Regarding the direction, in this embodiment using a stripe type shadow mask, very precise fine adjustment is not required. The reason is as follows.

すなわち、螢光体パターンはストライプ状でy
軸方向に平行であり、途中で分断されておらず、
このストライプの長さはcmのオーダーである。そ
して、例えば、ストライプの長さを、シヤドウマ
スクの有効面のy軸方向の幅より十分に大きくと
つておけば、y軸方向に〜100μm程度の位置決
め誤差があつても実用上、問題はない。要はシヤ
ドウマスクを通過した電子ビームが、必ず螢光体
パターン表面に到達する程度に、螢光体パターン
のストライプの長さに余裕度をもたせればよい。
In other words, the phosphor pattern is striped and y
It is parallel to the axial direction and is not divided in the middle.
The length of this stripe is on the order of cm. For example, if the length of the stripe is set to be sufficiently larger than the width of the effective surface of the shadow mask in the y-axis direction, there is no practical problem even if there is a positioning error of about 100 μm in the y-axis direction. The point is that the length of the stripes of the phosphor pattern should be given a margin to the extent that the electron beam passing through the shadow mask always reaches the surface of the phosphor pattern.

次いで、第4図に示す如く四隅のスプリング1
4とシヤドウマスク12が熔接される。吸着板1
8は片側の電極の役割を果しているので、位置合
せ後、熔接操作は容易に行なえる。
Next, as shown in Fig. 4, the springs 1 at the four corners are
4 and the shadow mask 12 are welded together. Adsorption plate 1
Since 8 serves as an electrode on one side, the welding operation can be easily performed after alignment.

また、このような位置合せ方法であれば、アル
ミニウム(Al)蒸着を行なつても下側から螢光
体を観察するため何の不都合も生起せず、また特
別な螢光体の作製も不要である。
In addition, with this alignment method, even if aluminum (Al) is vapor-deposited, the phosphor can be observed from below, so no problems will occur, and there is no need to create a special phosphor. It is.

なお、以上に述べた実施例では、平板マスクお
よび平板パネルの組合せを使用した例について説
明したが、本発明は、この形状に限定されず、例
えば曲面マスクおよび平板パネルの組合せに、或
いは、曲面マスクおよび曲面パネルの組合せなど
にも適用可能である。
In addition, in the embodiment described above, an example was explained in which a combination of a flat plate mask and a flat plate panel was used, but the present invention is not limited to this shape. It is also applicable to combinations of masks and curved panels.

以上のように、本発明によれば、シヤドウマス
クの脱着作業を省略し、かつマスクとパネル螢光
体を精度よく位置合せすることを可能ならしめる
ことによつて、シヤドウマスクの変形の問題もな
くなり、製造工程の能率向上、製品の品質、性能
向上およびコストの低減が期待できるもので、実
用に供してその効果は大きい。
As described above, according to the present invention, the problem of deformation of the shadow mask is eliminated by omitting the work of attaching and detaching the shadow mask and making it possible to precisely align the mask and the panel phosphor. It is expected to improve the efficiency of the manufacturing process, improve the quality and performance of products, and reduce costs, and the effects will be significant when put into practical use.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、従来のカラー受像管の構成を示す
図、第2図は、本発明の一実施例になるカラー受
像管の構成を示す図、第3図は、本発明によるシ
ヤドウマスクの一部を示す図、第4図は、シヤド
ウマスクとパネルの位置合せ工程を示す図、およ
び第5図は、上記位置合せを説明するための図で
ある。 図において、11……パネル、12……シヤド
ウマスク、13……螢光面、14……スプリン
グ、15……基準孔、16……透孔、17……有
効面、18……吸着板、19……パネル押え、2
0……可動装着装置、21……微動回転装置、
A1,A2;B1,B2……光学系。
FIG. 1 is a diagram showing the structure of a conventional color picture tube, FIG. 2 is a diagram showing the structure of a color picture tube according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a part of a shadow mask according to the present invention. FIG. 4 is a diagram showing the process of aligning the shadow mask and the panel, and FIG. 5 is a diagram for explaining the alignment. In the figure, 11... Panel, 12... Shadow mask, 13... Fluorescent surface, 14... Spring, 15... Reference hole, 16... Through hole, 17... Effective surface, 18... Adsorption plate, 19 ...Panel presser, 2
0...Movable mounting device, 21...Fine rotation device,
A 1 , A 2 ; B 1 , B 2 ...optical system.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 下記工程を有することを特徴とするカラー受
像管の製造方法。 (1) その有効面内に規則正しく配列された複数の
透孔およびその中央の縦方向線上に配設され前
記透孔と形状的に区別できる少なくとも二つの
基準孔を有するシヤドウマスクを準備する工
程。 (2) その内面にストライプ状の螢光体パターンを
有し、パネル面の外周に複数個のスプリングが
固着されたパネルを準備する工程。 (3) 前記パネルの側壁を複数の支持部材で支持す
ることにより、前記パネルを所定の位置に固定
する工程。 (4) 前記(3)の工程により前記パネルが固定された
場合に、前記螢光体パターンのうち中央のもの
がその視野内に入るように、あらかじめ複数の
光学系を所定の位置に準備する工程。 (5) 前記光学系により、前記基準孔および前記螢
光体パターンのうち中央のものとの位置合せを
行い、しかる後、前記スプリングと前記シヤド
ウマスクを固着する工程。
[Scope of Claims] 1. A method for manufacturing a color picture tube, characterized by comprising the following steps. (1) A step of preparing a shadow mask having a plurality of regularly arranged through holes in its effective surface and at least two reference holes that are disposed on a vertical line in the center and can be distinguished in shape from the through holes. (2) A process of preparing a panel that has a striped phosphor pattern on its inner surface and a plurality of springs fixed to the outer periphery of the panel surface. (3) A step of fixing the panel in a predetermined position by supporting the side wall of the panel with a plurality of support members. (4) Preparing a plurality of optical systems at predetermined positions so that when the panel is fixed in step (3) above, the central one of the phosphor patterns falls within the field of view. Process. (5) A step of aligning the reference hole and the central one of the phosphor patterns using the optical system, and then fixing the spring and the shadow mask.
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