JPS6229063B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6229063B2 JPS6229063B2 JP57005764A JP576482A JPS6229063B2 JP S6229063 B2 JPS6229063 B2 JP S6229063B2 JP 57005764 A JP57005764 A JP 57005764A JP 576482 A JP576482 A JP 576482A JP S6229063 B2 JPS6229063 B2 JP S6229063B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- capacitor
- skin
- facial beauty
- beauty device
- oscillation circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electrotherapy Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、皮膚の乾湿性を自動的に判別し、常
に最適なる波形の低周波電圧を供給する美顔装置
に関するものである。
に最適なる波形の低周波電圧を供給する美顔装置
に関するものである。
最近、低周波電圧を利用する各種携帯用美顔装
置が開発され、一般家庭にも徐々に普及しつつあ
るけれども、この種の美顔装置にあつては患部に
適切なる低周波電圧を供給することが肝要であ
る。すなわち、皮膚には脂性の皮膚と荒れ性の皮
膚とがあり、一般に、両者は、電気抵抗に於ても
治療に必要とする低周波電圧に於ても大きく違う
うえ、負の低周波電圧には皮膚や神経を興奮させ
て発汗を促す作用があり、逆に、正の低周波電圧
には皮膚や神経を鎮静化させて発汗を抑える作用
があることから、低周波による美顔術に先立つて
は、まず、皮膚が脂性なのか或は荒れ性なのかを
その程度とともに判別しておく必要がある。しか
しながら、そのような判別には、通常、高価な装
置と専門家の高度な判断を必要とすることから、
安易に市販の携帯用低周波美顔装置を買い求め、
その出力電圧が自分の皮膚に適当でないことを知
らないで美顔術を実施し、思わしくない結果に到
ることも少なくなかつた。
置が開発され、一般家庭にも徐々に普及しつつあ
るけれども、この種の美顔装置にあつては患部に
適切なる低周波電圧を供給することが肝要であ
る。すなわち、皮膚には脂性の皮膚と荒れ性の皮
膚とがあり、一般に、両者は、電気抵抗に於ても
治療に必要とする低周波電圧に於ても大きく違う
うえ、負の低周波電圧には皮膚や神経を興奮させ
て発汗を促す作用があり、逆に、正の低周波電圧
には皮膚や神経を鎮静化させて発汗を抑える作用
があることから、低周波による美顔術に先立つて
は、まず、皮膚が脂性なのか或は荒れ性なのかを
その程度とともに判別しておく必要がある。しか
しながら、そのような判別には、通常、高価な装
置と専門家の高度な判断を必要とすることから、
安易に市販の携帯用低周波美顔装置を買い求め、
その出力電圧が自分の皮膚に適当でないことを知
らないで美顔術を実施し、思わしくない結果に到
ることも少なくなかつた。
従つて、電子美顔術にあつては、関電極を患者
皮膚に当接するだけで皮膚の乾湿性を自動的に判
別し常に最適なる低周波電圧を供給する機能を備
えた低周波治療器の使用が望ましいが、従来その
ような低周波治療器は知られていなかつた。
皮膚に当接するだけで皮膚の乾湿性を自動的に判
別し常に最適なる低周波電圧を供給する機能を備
えた低周波治療器の使用が望ましいが、従来その
ような低周波治療器は知られていなかつた。
本発明者が係る課題を解決する目的で鋭意検討
したところ、矩形波発振回路の出力端にコンデン
サーを介して関電極を接続し、そのコンデンサー
の容量を、そのコンデンサーと前記関電極に負荷
として当接すべき皮膚の等価抵抗とが前記矩形波
発振回路の発振出力に対して有効なる微分回路を
形成するよう設定し、皮膚が荒れ性で等価抵抗が
比較的高い場合には関電極に印加される低周波電
圧の負電圧成分をやや増加させる程度に微分し、
皮膚が脂性で等価抵抗が比較的低い場合には矩形
波を完全微分して正負に交番する低周波電圧にし
て皮膚に供給する低周波治療器により目的を達成
し得ることを見出した。
したところ、矩形波発振回路の出力端にコンデン
サーを介して関電極を接続し、そのコンデンサー
の容量を、そのコンデンサーと前記関電極に負荷
として当接すべき皮膚の等価抵抗とが前記矩形波
発振回路の発振出力に対して有効なる微分回路を
形成するよう設定し、皮膚が荒れ性で等価抵抗が
比較的高い場合には関電極に印加される低周波電
圧の負電圧成分をやや増加させる程度に微分し、
皮膚が脂性で等価抵抗が比較的低い場合には矩形
波を完全微分して正負に交番する低周波電圧にし
て皮膚に供給する低周波治療器により目的を達成
し得ることを見出した。
すなわち、本発明は、矩形波発振回路の出力端
にコンデンサーを介して関電極を接続してなり、
そのコンデンサーの容量を、そのコンデンサーと
前記関電極に当接すべき負荷抵抗とが前記矩形波
発振回路の発振出力に対して微分回路を形成する
よう設定することを特徴とする美顔装置の構造を
要旨とするものである。
にコンデンサーを介して関電極を接続してなり、
そのコンデンサーの容量を、そのコンデンサーと
前記関電極に当接すべき負荷抵抗とが前記矩形波
発振回路の発振出力に対して微分回路を形成する
よう設定することを特徴とする美顔装置の構造を
要旨とするものである。
以下、図示実施例に沿つて本発明を説明する。
第1図並びに第2図は、矩形波発振回路として
それぞれブロツキング発振回路及びマルチバイブ
レーターを使用する本発明の美顔装置を示し、矩
形波発振回路の出力端はコンデンサーCを介して
端子A,Bに接続され、これら端子間には等価抵
抗Rの皮膚が負荷として接続される。
それぞれブロツキング発振回路及びマルチバイブ
レーターを使用する本発明の美顔装置を示し、矩
形波発振回路の出力端はコンデンサーCを介して
端子A,Bに接続され、これら端子間には等価抵
抗Rの皮膚が負荷として接続される。
第3図は、皮膚の等価抵抗Rの値によりその両
端の電圧波形が変化する様子を示したものであつ
て、コンデンサーCのリアクタンス成分に対して
等価抵抗Rが非常に大きいときには、第3図イに
示すように入力波形にほぼ等しい矩形波波形の低
周波電圧が等価抵抗Rに印加され、コンデンサー
Cの容量と負荷抵抗との積が当該矩形波のパルス
幅τに接近してくると出力波形はコンデンサーC
と等価抵抗Rよりなる微分回路により微分され第
3図ロに示す如く負電圧成分が増大し、さらに、
前記積の値がτより小さくなるとその出力波形は
第3図ハに示す如くほぼ完全なる微分波形とな
る。この時のコンデンサーCの容量は0.01マイク
ロフアラツド、等価抵抗Rは、第3図イの場合で
1メグオーム、ロの場合で20キロオーム、ハの場
合で5キロオームであつた。通常、皮膚の等価抵
抗Rは、荒れ性の場合で数十キロオーム乃至数百
キロオーム、脂性の場合で数キロオーム乃至数十
キロオーム程度であるから、コンデンサーCの容
量を、コンデンサーCと等価抵抗Rとの時定数が
大略前記矩形波のパルス幅τ程度からそれより小
さい範囲で変化してその矩形波に対して有効なる
微分回路を形成するよう設定することにより、皮
膚の状態に応じて自動的に印加される電圧の波形
を変えることができることになる。
端の電圧波形が変化する様子を示したものであつ
て、コンデンサーCのリアクタンス成分に対して
等価抵抗Rが非常に大きいときには、第3図イに
示すように入力波形にほぼ等しい矩形波波形の低
周波電圧が等価抵抗Rに印加され、コンデンサー
Cの容量と負荷抵抗との積が当該矩形波のパルス
幅τに接近してくると出力波形はコンデンサーC
と等価抵抗Rよりなる微分回路により微分され第
3図ロに示す如く負電圧成分が増大し、さらに、
前記積の値がτより小さくなるとその出力波形は
第3図ハに示す如くほぼ完全なる微分波形とな
る。この時のコンデンサーCの容量は0.01マイク
ロフアラツド、等価抵抗Rは、第3図イの場合で
1メグオーム、ロの場合で20キロオーム、ハの場
合で5キロオームであつた。通常、皮膚の等価抵
抗Rは、荒れ性の場合で数十キロオーム乃至数百
キロオーム、脂性の場合で数キロオーム乃至数十
キロオーム程度であるから、コンデンサーCの容
量を、コンデンサーCと等価抵抗Rとの時定数が
大略前記矩形波のパルス幅τ程度からそれより小
さい範囲で変化してその矩形波に対して有効なる
微分回路を形成するよう設定することにより、皮
膚の状態に応じて自動的に印加される電圧の波形
を変えることができることになる。
本発明者が実験を行つたところ、周波数5乃至
50ヘルツ、好ましくは、10乃至30ヘルツの矩形波
に対しては、通常、0.0001乃至0.1マイクロフア
ラツド、好ましくは、0.005乃至0.05マイクロフ
アラツドの範囲が適当であつた。
50ヘルツ、好ましくは、10乃至30ヘルツの矩形波
に対しては、通常、0.0001乃至0.1マイクロフア
ラツド、好ましくは、0.005乃至0.05マイクロフ
アラツドの範囲が適当であつた。
第4図は、本発明の美顔装置の外観図を示し、
装置本体1の表面には金属板などで作られたロー
ル保持台2を設けて、これに保水性スポンジロー
ル関電極3,3を支持し、本体1には矩形波発振
回路4並びに電池5を内装する。この保水性スポ
ンジロール関電極3は1本若しくは複数本設ける
ことができるが、皮膚との当接を良好ならしめて
その電流密度を均一化すると共に、取り扱いやす
くするためには2本以上設けるのがよい。
装置本体1の表面には金属板などで作られたロー
ル保持台2を設けて、これに保水性スポンジロー
ル関電極3,3を支持し、本体1には矩形波発振
回路4並びに電池5を内装する。この保水性スポ
ンジロール関電極3は1本若しくは複数本設ける
ことができるが、皮膚との当接を良好ならしめて
その電流密度を均一化すると共に、取り扱いやす
くするためには2本以上設けるのがよい。
本発明の美顔装置の使用方法について説明すれ
ば、先ず、関電極3,3に水若しくは適宜薬液を
含浸せしめ、次いで、装置本体1を握つて関電極
を患部皮膚に当接し低周波電圧を印加すればよ
い。低周波電圧の印加は、患部の状態を観察しな
がら連続的又は適宜休止期間を置き、正負数十ボ
ルト、好ましくは、正負数ボルトまでとし、約1
乃至30ミリアンペア、好ましくは、5乃至20ミリ
アンペアの範囲内で通電すればよい。
ば、先ず、関電極3,3に水若しくは適宜薬液を
含浸せしめ、次いで、装置本体1を握つて関電極
を患部皮膚に当接し低周波電圧を印加すればよ
い。低周波電圧の印加は、患部の状態を観察しな
がら連続的又は適宜休止期間を置き、正負数十ボ
ルト、好ましくは、正負数ボルトまでとし、約1
乃至30ミリアンペア、好ましくは、5乃至20ミリ
アンペアの範囲内で通電すればよい。
前記のように、本発明の美顔装置は関電極を皮
膚に当接するだけで最適な波形の低周波電圧を供
給し得るよう構成されているので、使用の都度皮
膚の脂性や荒れ性の程度を判断してその程度に応
じた低周波電圧を切り換えスイツチなどにより選
択する手間が皆無となるものである。
膚に当接するだけで最適な波形の低周波電圧を供
給し得るよう構成されているので、使用の都度皮
膚の脂性や荒れ性の程度を判断してその程度に応
じた低周波電圧を切り換えスイツチなどにより選
択する手間が皆無となるものである。
また、係る機能にも拘らず、本発明の美顔装置
は、極めて軽量化することができるので、自由に
持ち運んで本格的な美顔術を快適に実施すること
ができるという実益を有するものである。
は、極めて軽量化することができるので、自由に
持ち運んで本格的な美顔術を快適に実施すること
ができるという実益を有するものである。
第1図は、矩形波発振回路としてブロツキング
発振回路を使用する本発明の実施例、第2図は、
矩形波発振回路としてマルチバイブレータを使用
する本発明の実施例、第3図は、皮膚の等価抵抗
に応じて出力波形が変化する様子を示したもの、
第4図は、本発明の美顔装置の外観図を示す。 図中の符号を説明すれば、次の通りである。1
は美顔装置本体、2は電極保持台、3は保水性ス
ポンジロール関電極、4は矩形波発振回路、5は
電池。
発振回路を使用する本発明の実施例、第2図は、
矩形波発振回路としてマルチバイブレータを使用
する本発明の実施例、第3図は、皮膚の等価抵抗
に応じて出力波形が変化する様子を示したもの、
第4図は、本発明の美顔装置の外観図を示す。 図中の符号を説明すれば、次の通りである。1
は美顔装置本体、2は電極保持台、3は保水性ス
ポンジロール関電極、4は矩形波発振回路、5は
電池。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 矩形波発振回路の出力端にコンデンサーを介
して関電極を接続してなり、そのコンデンサーの
容量を、そのコンデンサーと前記関電極に当接す
べき負荷抵抗とが前記矩形波発振回路の発振出力
に対して微分回路を形成するよう設定することを
特徴とする美顔装置。 2 矩形波発振回路がブロツキング発振回路若し
くはマルチバイブレータであることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の美顔装置。 3 関電極が保水性材料によりスポンジロール状
に形成されていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項又は第2項記載の美顔装置。 4 コンデンサーの容量が0.0001乃至0.1マイク
ロフアラツドの範囲にあることを特徴とする特許
請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の美顔
装置。 5 皮膚の油性若しくは荒れ性治療のためのもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項、
第2項、第3項又は第4項記載の美顔装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP576482A JPS58121962A (ja) | 1982-01-18 | 1982-01-18 | 美顔装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP576482A JPS58121962A (ja) | 1982-01-18 | 1982-01-18 | 美顔装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58121962A JPS58121962A (ja) | 1983-07-20 |
| JPS6229063B2 true JPS6229063B2 (ja) | 1987-06-24 |
Family
ID=11620188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP576482A Granted JPS58121962A (ja) | 1982-01-18 | 1982-01-18 | 美顔装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58121962A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6343066U (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-22 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH039745Y2 (ja) * | 1985-05-21 | 1991-03-11 | ||
| JPH0733374U (ja) * | 1993-11-29 | 1995-06-20 | 昭一 堀井 | ゴルフ練習台 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4917089U (ja) * | 1972-05-15 | 1974-02-13 |
-
1982
- 1982-01-18 JP JP576482A patent/JPS58121962A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6343066U (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-22 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58121962A (ja) | 1983-07-20 |
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