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JPS6231441B2 - - Google Patents
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JPS6231441B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6231441B2
JPS6231441B2 JP52119525A JP11952577A JPS6231441B2 JP S6231441 B2 JPS6231441 B2 JP S6231441B2 JP 52119525 A JP52119525 A JP 52119525A JP 11952577 A JP11952577 A JP 11952577A JP S6231441 B2 JPS6231441 B2 JP S6231441B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ppm
point
microns
film
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP52119525A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5454481A (en
Inventor
Masayoshi Muramoto
Kotaro Shimogaki
Kosuke Nishikiori
Hideo Myata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Iwasaki Electric Co Ltd
Original Assignee
Iwasaki Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Iwasaki Electric Co Ltd filed Critical Iwasaki Electric Co Ltd
Priority to JP11952577A priority Critical patent/JPS5454481A/en
Publication of JPS5454481A publication Critical patent/JPS5454481A/en
Publication of JPS6231441B2 publication Critical patent/JPS6231441B2/ja
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  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は反射板表面保護被膜に関する。 鉄板やアルミニウム板のような金属板の表面保
護被膜としてアルカリ金属硅酸塩被膜があること
は周知である。アルカリ金属硅酸塩被膜はアルカ
リ金属酸化物とシリカの塩からなる水溶液に金属
板を浸漬するかこれを金属板に塗布することによ
つて形成される。金属板上に形成されたアルカリ
金属硅酸塩被膜は被膜中に残留するアルカリ金属
の量によつて特性が大きく変化する。従つて、使
用目的によつてアルカリ金属硅酸塩被膜中の残留
アルカリ金属量を制御する必要がある。 ところで、金属板を照明用反射板として利用
し、反射板にアルカリ金属硅酸塩被膜を施すと、
反射板の反射率を低下せずに維持することができ
る上に耐蝕、耐候性が良好であることが知られて
おり現に製品化されている。このような用途にお
いては反射板の高反射率を維持することが特に重
要であり、そのため反射板上に被覆したアルカリ
金属硅酸塩被膜が経時変化等によつて曇りを発生
しないことが必要である。曇りの発生原因を追突
した処、アルカリ金属硅酸塩被膜中に含有するア
ルカリ金属が空気中の炭酸ガスと反応して炭酸塩
を生じ、この炭酸塩が曇りの原因であることが判
明した。アルカリ金属としてカリウムを使用した
場合、これを反応式で示せば次のようになるもの
と推測される。 CO2+H2O→H2CO3 K2O+H2O→2KOH 2KOH+H2CO3→K2CO3+2H2O 従つて、上記反応式で曇りの原因となる炭酸塩
(K2CO3)の生成を抑制するためにアルカリ金属、
即ちカリウムの残留量を少なくすればよいことが
判る。このような観点からアルカリ金属硅酸塩被
膜からアルカリ金属イオンをおおむね全部除去す
ることが特開昭49−24446号に開示されている。 しかし乍ら、アルカリ金属硅酸塩被膜中のアル
カリ金属を脱して残留量が少なくなると被膜にヒ
ビ割れが生ずることが実験の結果判明した。事
実、叙上の特開昭49−24446号に開示された方法
により、アルミニウム板上にアルカリ金属硅酸塩
被膜を形成し、アルカリ金属を脱処理して測定し
てみると、被膜にヒビ割れが発生した。ヒビ割れ
の発生原因は同じ非晶質のガラスを引用して説明
できる。一般にガラスは所々に非架橋酸素原子が
存在したシロキサン結合を有する不定形の網目構
造体といわれ、この部分で分子が切断されてい
る。このことから類推してアルカリ金属硅酸塩被
膜の場合にはアルカリ金属イオンがこれらの非架
橋酸素原子間に介在してこれらの酸素原子を静電
気的に結合して切断されている分子を相互に結合
していると考えられる。従つて、これらのアルカ
リ金属イオンが網目構造体から除去されると、お
互の分子は切断されたことになり、ヒビ割れ現象
を起こしてヒビ割れを発生することになる。この
ような理由でアルカリ金属硅酸塩被膜中のアルカ
リ金属の残留量が少なければ反射板表面の保護被
膜として好ましくない。何故ならば、被膜の耐蝕
性が低下するからである。従つて、被膜中のアル
カリ金属残留量を制御する必要がある。 叙上の如く、アルカリ金属硅酸塩被膜のヒビ割
れはアルカリ金属の残留量に主として基因する
が、この被膜を施した反射板を照明器具として組
立てランプを点灯すると反射板の温度上昇に伴い
被膜にヒビ割れが発生することがある。これは反
射板と被膜の熱膨張の差に基因するものである。
熱膨張差は温度の関数であるので温度条件を考慮
しなければならない。一般に照明器具に使用され
る反射板はランプを点灯するとその温度が200℃
近くまで上昇するので、150℃〜200℃の雰囲気中
で被膜にヒビ割れが発生しないようにすることが
望ましい。かゝる温度条件のもとに反射板と被膜
の熱膨張差を考察すると、アルカリ金属硅酸塩被
膜の膜厚と残留アルカリ金属量が熱膨張差に影響
を与える要因であることがわかる。一般的には膜
厚を厚くすればヒビ割れを生じ易くなり、残留ア
ルカリ金属量が多くなると膨張率は大きくなる。
そのため、良好な反射板表面保護被膜を提供する
ためにはアルカリ金属硅酸塩被膜の膜厚とアルカ
リ金属の残留量の相関をとり両者を適切に制御す
ることが必要である。 従つて、本発明は反射板上に被膜したアルカリ
金属硅酸塩被膜中のアルカリ金属の残留量とその
膜厚を曇りやヒビ割れが発生しない適切な範囲内
に設定し良好な反射板表面保護被膜を提供するこ
とを目的とするものである。 アルカリ金属硅酸被膜を形成するに当り、アル
カリ金属として何を選定するか当初問題である
が、カリウムは処理工程中に白色化しにくい性質
があるため、本発明においてはカリウムを主成分
とするアルカリ金属を選定して反射板上にカリウ
ムを含むアルカリ金属硅酸塩保護被膜を形成する
ものである。しかし乍ら、他のアルカリ金属、例
えばナトリウム、リチウムを混合しても本発明と
同じ効果を奏する限り本発明を逸脱するものでは
ない。 以下、本発明を図面に関連して説明することに
する。第1図はカリウム硅酸塩被膜が反射板に被
覆された投光器の一実施例を示す。投光器は前部
灯体10と後部灯体11よりなり、前部灯体と後
部灯体の一部は反射板を構成しており、反射内面
にはカリウム硅酸塩被膜20が被覆されている。
前部灯体10と後部灯体11は開閉機構12によ
つて開閉自在に結合されている。前部灯体10の
前面開口部には前面ガラス13が気密的に装着さ
れ、後部開口周縁には支持枠14を取付け、これ
が支持脚15に軸支されている。後部灯体11は
内部にソケツト16を収納し、これにランプ17
が装着されており、ソケツトからはフイーダ18
が引出されている。 周知のように、照明用反射板はその反射面の反
射率が高く、しかも高反射率を長時間維持するこ
とができると共に、耐蝕、耐候性が優れているこ
とが必要である。そのため通常反射板に保護被膜
を施しているが、被膜自体に曇りやヒビ割れを生
ずると所期の目的は達成できない結果となる。実
験によると、良好なカリウム硅酸塩被膜を施した
アルミニウム反射板の反射率は80〜82%である
が、経時変化により被膜に曇りを発生したものは
反射率が70%以下に低下することが判つている。 本発明においては反射板上に被覆したカリウム
硅酸塩被膜にこのような曇りを発生しない反面、
ヒビ割れも生じない良好な保護被膜を提供するた
めの被膜中の残留カリウム量と膜厚が適切な範囲
内にあるように制御される。 先づ、機械加工して成形された反射板、例えば
第1図の10が用意される。反射板は鉄板、アル
ミニウム板等所望の材料の金属板でよいが、反射
率を向上するため本発明の実施例においてはアル
ミニウム板を用いられている。アルミニウムより
なる反射板は常套的な方法で脱脂し水洗いした後
電気的又は化学的に研摩して再び水洗いする。 次に、反射板の内面にカリウム硅酸塩溶液が塗
布される。一実施例ではカリウム硅酸塩溶液は次
の成分よりなる。 カリウム酸化物(K2O) 1.6% シリカ(SiO2) 4.1% 水 94.3% 反射板に対する水溶液の塗布はスプレー法によ
つて行われるが、勿論浸漬法で行つてもよい。浸
漬法によると反射板の外面にも被膜が被覆される
ことになるが、これは反射板外面の耐蝕、耐候
性、美観の上から有用なものである。カリウム硅
酸塩溶液は一度に塗布しても複数回塗布してもよ
い。いづれにしても被膜が所定の膜厚となるよう
に溶液を塗布する必要がある。一度に塗布する場
合には空気中の塵埃や溶液中に混入している不純
物等により被膜にピンホールが生じることがあ
る。従つて、同じ膜厚の被膜を得るのに2回以上
塗布した方が耐蝕性が改善されることになる。 カリウム硅酸塩溶液の塗布、焼付けを1回又は
それ以上行つて形成したカリウム硅酸塩被膜はそ
の中に多量のイオン化したカリウムを含有してい
る。従つて、被膜の曇りを防ぐため脱カリウム処
理が行われる。脱カリウム処理は稀硝酸又は温水
に所定時間の間浸漬して行われる。前者の場合脱
カリウム処理での脱カリウム量は硝酸溶液の濃度
及び温度に関係するが浸漬時間にも関係する。従
つて、溶液の濃度及び温度を一定にした場合、浸
漬時間を変えて脱カリウム量、従つてまた被膜中
の残留カリウム量を制御することが出来る。実験
によれば、硝酸3%の水溶液を70℃に保ちこれに
3分間浸漬した場合、厚さ2μのカリウム硅酸塩
被膜に残留するカリウム量は約2〜3ppmであつ
た。後に第2図より明らかとなるように、残留カ
リウム量を少なくする場合は浸漬時間を長く、多
くする場合には短かくすればよく、浸漬時間によ
つて残留カリウム量を自由に制御できる。尚、脱
カリウム処理は被膜の焼付け後その都度行うこと
も出来るが、残留カリウム量の制御に注意しなけ
ればならない。 先に述べた如く、カリウム硅酸塩被膜中に残留
するカリウム量が少ない場合にはヒビ割れを生
じ、逆に残留カリウム量が多い場合には被膜に曇
りを発生する。従つて、残留カリウム量を適切な
値となるように制御しなければならない。ところ
が、残留カリウム量と被膜の膜厚は相関関係があ
り、膜厚との関係で残留カリウム量が適切な範囲
に定められる。 下記第1表は叙上の方法によつて反射板の上に
形成されたカリウム硅酸塩被膜の試料の各々につ
いてその膜厚と残留カリウム量の測定値と、その
測定値に対応する各試料の外観(くもり、ひび割
れの有無)を示す。
The present invention relates to a reflective plate surface protective coating. It is well known that alkali metal silicate coatings are available as surface protective coatings for metal plates such as iron plates and aluminum plates. The alkali metal silicate coating is formed by dipping or coating a metal plate in an aqueous solution of an alkali metal oxide and a silica salt. The properties of an alkali metal silicate coating formed on a metal plate vary greatly depending on the amount of alkali metal remaining in the coating. Therefore, it is necessary to control the amount of residual alkali metal in the alkali metal silicate coating depending on the purpose of use. By the way, when a metal plate is used as a reflector for lighting and an alkali metal silicate coating is applied to the reflector,
It is known that it is possible to maintain the reflectance of the reflector plate without reducing it, and that it also has good corrosion resistance and weather resistance, and is currently being commercialized. In such applications, it is especially important to maintain a high reflectance of the reflector, and therefore it is necessary that the alkali metal silicate coating coated on the reflector does not become cloudy due to changes over time. be. When investigating the cause of cloudiness, it was discovered that the alkali metal contained in the alkali metal silicate film reacts with carbon dioxide gas in the air to produce carbonate, and that this carbonate is the cause of cloudiness. When potassium is used as the alkali metal, the reaction equation is estimated to be as follows. CO 2 +H 2 O→H 2 CO 3 K 2 O+H 2 O→2KOH 2KOH+H 2 CO 3 →K 2 CO 3 +2H 2 O Therefore, in the above reaction formula, carbonate (K 2 CO 3 ), which causes cloudiness, alkali metals to suppress the formation of
In other words, it can be seen that it is sufficient to reduce the residual amount of potassium. From this point of view, Japanese Patent Application Laid-Open No. 49-24446 discloses that almost all alkali metal ions are removed from an alkali metal silicate coating. However, as a result of experiments, it has been found that when the alkali metal in the alkali metal silicate coating is removed and the remaining amount decreases, cracks occur in the coating. In fact, when an alkali metal silicate film was formed on an aluminum plate using the method disclosed in JP-A No. 49-24446 mentioned above, and the alkali metal was removed and measured, cracks were found in the film. There has occurred. The cause of cracks can be explained by referring to the same amorphous glass. Generally, glass is said to be an amorphous network structure having siloxane bonds with non-bridging oxygen atoms present here and there, and molecules are cut at these parts. By analogy from this, in the case of alkali metal silicate coatings, alkali metal ions are interposed between these non-bridging oxygen atoms, electrostatically bonding these oxygen atoms and interconnecting the disconnected molecules. It is thought that they are connected. Therefore, when these alkali metal ions are removed from the network structure, the molecules are cut off from each other, causing a cracking phenomenon to occur. For these reasons, if the residual amount of alkali metal in the alkali metal silicate coating is small, it is not preferable as a protective coating for the surface of a reflector. This is because the corrosion resistance of the coating decreases. Therefore, it is necessary to control the amount of alkali metal remaining in the coating. As mentioned above, cracks in the alkali metal silicate coating are mainly caused by the residual amount of alkali metal, but when a reflector coated with this coating is assembled as a lighting fixture and a lamp is lit, the coating cracks as the temperature of the reflector increases. Cracks may occur. This is due to the difference in thermal expansion between the reflector and the coating.
Since the differential thermal expansion is a function of temperature, temperature conditions must be taken into account. Generally, the temperature of the reflector plate used in lighting equipment reaches 200℃ when the lamp is turned on.
It is desirable to prevent the coating from cracking in an atmosphere of 150°C to 200°C. When considering the difference in thermal expansion between the reflector and the coating under such temperature conditions, it is found that the thickness of the alkali metal silicate coating and the amount of residual alkali metal are factors that affect the difference in thermal expansion. In general, the thicker the film, the more likely it is that cracks will occur, and the larger the amount of residual alkali metal, the higher the expansion coefficient.
Therefore, in order to provide a good reflective plate surface protective coating, it is necessary to establish a correlation between the thickness of the alkali metal silicate coating and the amount of residual alkali metal, and to appropriately control both. Therefore, the present invention provides good reflector surface protection by setting the residual amount of alkali metal in the alkali metal silicate coating on the reflector and its film thickness within an appropriate range that does not cause clouding or cracking. The purpose is to provide a coating. When forming an alkali metal silicate film, there is an initial problem as to which alkali metal to choose, but since potassium has a property that it is difficult to whiten during the treatment process, in the present invention, an alkali whose main component is potassium is used. An alkali metal silicate protective coating containing potassium is formed on the reflective plate by selecting a metal. However, it does not deviate from the present invention even if other alkali metals such as sodium and lithium are mixed as long as the same effects as the present invention are achieved. The invention will now be explained in conjunction with the drawings. FIG. 1 shows an embodiment of a projector in which a potassium silicate coating is applied to the reflector. The floodlight consists of a front light body 10 and a rear light body 11. Parts of the front light body and the rear light body constitute a reflecting plate, and the reflective inner surface is coated with a potassium silicate coating 20. .
The front lamp body 10 and the rear lamp body 11 are connected by an opening/closing mechanism 12 so as to be openable and closable. A front glass 13 is airtightly attached to the front opening of the front lamp body 10, and a support frame 14 is attached to the periphery of the rear opening, which is pivotally supported by support legs 15. The rear light body 11 houses a socket 16 inside, and a lamp 17 is inserted into it.
is installed, and feeder 18 is connected from the socket.
is being drawn out. As is well known, it is necessary for a lighting reflector to have a high reflectance on its reflecting surface, be able to maintain this high reflectance for a long period of time, and have excellent corrosion resistance and weather resistance. For this reason, reflective plates are usually coated with a protective coating, but if the coating itself becomes cloudy or cracks, the intended purpose cannot be achieved. According to experiments, the reflectance of aluminum reflectors coated with a good potassium silicate coating is 80 to 82%, but if the coating becomes cloudy over time, the reflectance drops to 70% or less. is known. In the present invention, such clouding does not occur in the potassium silicate film coated on the reflective plate, but on the other hand,
In order to provide a good protective film that does not cause cracks, the amount of residual potassium in the film and the film thickness are controlled within appropriate ranges. First, a machined and shaped reflector, for example 10 in FIG. 1, is prepared. The reflecting plate may be a metal plate made of a desired material such as an iron plate or an aluminum plate, but an aluminum plate is used in the embodiment of the present invention to improve reflectance. The reflector plate made of aluminum is degreased in a conventional manner, washed with water, electrically or chemically polished, and washed again with water. Next, a potassium silicate solution is applied to the inner surface of the reflector. In one embodiment, the potassium silicate solution consists of the following components: Potassium oxide (K 2 O) 1.6% Silica (SiO 2 ) 4.1% Water 94.3% The aqueous solution is applied to the reflector by a spray method, but of course a dipping method may also be used. According to the dipping method, the outer surface of the reflector is also coated with a film, which is useful from the viewpoint of corrosion resistance, weather resistance, and aesthetics of the outer surface of the reflector. The potassium silicate solution may be applied at once or multiple times. In any case, it is necessary to apply the solution so that the film has a predetermined thickness. If the coating is applied all at once, pinholes may be formed in the coating due to dust in the air or impurities mixed in the solution. Therefore, the corrosion resistance will be improved if the coating is applied two or more times to obtain a coating of the same thickness. The potassium silicate coating formed by applying and baking a potassium silicate solution one or more times contains a large amount of ionized potassium therein. Therefore, depotassium treatment is performed to prevent clouding of the film. Depotassium treatment is carried out by immersing in dilute nitric acid or warm water for a predetermined period of time. In the former case, the amount of potassium removed in the potassium removal treatment is related to the concentration and temperature of the nitric acid solution, but also to the immersion time. Therefore, when the concentration and temperature of the solution are kept constant, the amount of potassium removed and therefore also the amount of potassium remaining in the coating can be controlled by varying the soaking time. According to experiments, when a 3% nitric acid aqueous solution was kept at 70 DEG C. and immersed in the solution for 3 minutes, the amount of potassium remaining in a 2 micron thick potassium silicate coating was about 2 to 3 ppm. As will become clear later from FIG. 2, if the amount of residual potassium is to be reduced, the immersion time may be lengthened, and if it is to be increased, the immersion time may be shortened, and the amount of residual potassium can be freely controlled by the immersion time. Note that the potassium removal treatment can be performed each time after baking the film, but care must be taken to control the amount of residual potassium. As mentioned above, if the amount of potassium remaining in the potassium silicate coating is small, cracks will occur, whereas if the amount of residual potassium is large, the coating will become cloudy. Therefore, the amount of residual potassium must be controlled to an appropriate value. However, there is a correlation between the amount of residual potassium and the thickness of the film, and the amount of residual potassium is determined within an appropriate range in relation to the film thickness. Table 1 below shows the measured values of the film thickness and amount of residual potassium for each sample of the potassium silicate film formed on the reflector by the method described above, and the values for each sample corresponding to the measured values. Indicates the appearance (cloudiness, presence or absence of cracks).

【表】【table】

【表】【table】

【表】 実験には第1表の最左欄に試料番号1〜50と記
したように50の試料が供され、未処理の試料を除
き脱カリウム処理条件を逐一変えて膜厚と残留カ
リウムを測定した結果、第1表に示す測定値を得
た。脱カリウム処理条件として70℃〜90℃の硝酸
又は水を処理液として用い、30秒〜30分間の範囲
内で個別的に処理した。こゝで留意すべきことは
反射板上に形成されたアルカリ金属硅酸塩被膜に
くもりやひび割れを生ずるのはその膜厚と残留カ
リウム量に依存し、両者が適切な範囲となるよう
に処理条件を制御すればよいということである。 第2図は前記第1表を作図化した片対数グラフ
である。叙上のように、くもりが生ぜずしかもひ
び割れを生起しないアルカリ金属硅酸塩被膜を反
射板上に形成するにはその膜厚と残留カリウム量
を適切に制御すればよいことが第2図よりわか
る。横軸に被膜の膜厚をμ単位でとり、縦軸に残
留アルカリ量をppm単位でとつて対数目盛で示
されている。 残留カリウム量の測定は次のような条件で行わ
れる。即ち、表面積3000mm2のカリウム硅酸塩被膜
被覆試料を数個に分割し、その全てを弗酸5重量
%の溶液50mlに約10分間以上浸漬させてアルミニ
ウム反射板上のカリウム硅酸塩被膜を完全に溶解
する。溶解後反射板を溶液より取り出し、この弗
酸溶液50ml中のカリウム量を測定する。この際、
使用する弗酸溶液中に不純物として含有してるカ
リウム量及びアルミニウム反射板より溶出したカ
リウム量は除外してカリウム硅酸塩被膜中のカリ
ウム量のみの測定値とする。測定方法は原子吸光
法又は炎光分析法による。本願明細書中に記載さ
れ図面に示されているカリウム硅酸塩被膜中の残
留カリウム量は上記測定条件で測定されたもので
あるが、測定値はアルミニウム反射板の反射面の
みに被膜が被覆されている場合のものである。
尚、試料を作製する際、3000mm2の大きさの反射板
試料にアルカリ硅酸塩被膜を塗布するよりそれよ
りも大きい反射板試料に塗布したものから3000mm2
の大きさに切り出すと測定値にバラツキのない安
定した測定データが得られることに留意すべきで
ある。 第2図のグラフより明らかな如く、カリウム硅
酸塩被膜の膜厚と残留アルカリ量は相関関係があ
り、膜厚によつて残留カリウム量の許容量が変化
する。例えば、被膜の膜厚が1μの場合には残留
カリウム量は0.03ppm〜5.8ppmの範囲が適正量
となり、被膜の膜厚が3μの場合には残留カリウ
ム量は8.8ppm〜53ppmの範囲が適正量となる。
被膜の膜厚に対する残留カリウム量が第2図に斜
線を施した範囲にあると、ヒビ割れも曇りも発生
しない良好なカリウム硅酸塩被膜が得られる。
たゞ、実際上は第2図の斜線を施した適正範囲に
含まれる場合でも耐摩耗性及び耐蝕性の観点から
膜厚は1μ以上にするのが望ましい。他方、膜厚
を厚くする場合には処理工程を複数回繰返す必要
があるから製造コストの面からみて膜厚は4μ程
度以下とすることが望ましい。 膜厚の測定方法には諸種の方法があるが、反射
板上の被膜の分光反射率に基づく光の干渉波形を
観測することによつて非破壊的に測定できる。被
膜の膜厚が3μ以上になれば高周波による渦電流
の変化を測定することによつても測定可能であ
る。本明細書中における膜厚の測定値は上記方法
によつて測定されたものである。 以上述べた如く、本発明によりカリウム硅酸塩
被膜の膜厚に対し残留カリウム量を第2図の斜線
を施した適正範囲に入るように制御すると、ヒビ
割れが生ぜずしかも曇りも発生しない良好な保護
被膜が得られる。
[Table] Fifty samples were used in the experiment, as indicated by sample numbers 1 to 50 in the leftmost column of Table 1.Excluding untreated samples, the depotassium treatment conditions were changed one by one to determine the film thickness and residual potassium. As a result of the measurement, the measured values shown in Table 1 were obtained. As the depotassium treatment conditions, nitric acid or water at 70°C to 90°C was used as the treatment liquid, and the treatment was carried out individually within the range of 30 seconds to 30 minutes. What should be kept in mind here is that clouding and cracking of the alkali metal silicate film formed on the reflector depends on the thickness of the film and the amount of residual potassium, and treatment must be carried out so that both are within an appropriate range. This means that all you have to do is control the conditions. FIG. 2 is a semi-logarithm graph plotting the above-mentioned Table 1. As mentioned above, Figure 2 shows that in order to form an alkali metal silicate film on a reflector that does not cause clouding or cracking, it is necessary to appropriately control the film thickness and the amount of residual potassium. Recognize. The horizontal axis shows the film thickness in μ, and the vertical axis shows the amount of residual alkali in ppm, which is shown on a logarithmic scale. The amount of residual potassium is measured under the following conditions. That is, a potassium silicate coating sample with a surface area of 3000 mm 2 was divided into several pieces, and all of them were immersed in 50 ml of a 5% by weight solution of hydrofluoric acid for about 10 minutes or more to remove the potassium silicate coating on the aluminum reflector. Dissolve completely. After dissolution, remove the reflector from the solution and measure the amount of potassium in 50 ml of this hydrofluoric acid solution. On this occasion,
The amount of potassium contained as an impurity in the hydrofluoric acid solution used and the amount of potassium eluted from the aluminum reflector are excluded, and only the amount of potassium in the potassium silicate film is measured. The measurement method is based on atomic absorption spectrometry or flame spectroscopy. The amount of residual potassium in the potassium silicate coating described in this specification and shown in the drawings was measured under the above measurement conditions, but the measured value indicates that the coating covers only the reflective surface of the aluminum reflector plate. This is the case when the
In addition, when preparing the sample, rather than applying an alkali silicate coating to a reflector sample with a size of 3000 mm 2 , it is necessary to apply a 3000 mm 2 coating to a larger reflector sample.
It should be noted that stable measurement data with no variation in measurement values can be obtained by cutting out the size. As is clear from the graph of FIG. 2, there is a correlation between the thickness of the potassium silicate coating and the amount of residual alkali, and the allowable amount of residual potassium changes depending on the film thickness. For example, if the film thickness of the film is 1μ, the appropriate amount of residual potassium is in the range of 0.03ppm to 5.8ppm, and if the film thickness of the film is 3μ, the appropriate amount of residual potassium is in the range of 8.8ppm to 53ppm. amount.
When the amount of residual potassium relative to the film thickness of the coating is within the shaded range in FIG. 2, a good potassium silicate coating without cracking or clouding can be obtained.
However, in practice, it is desirable that the film thickness be 1 μm or more from the viewpoint of wear resistance and corrosion resistance, even if it falls within the appropriate range indicated by diagonal lines in FIG. On the other hand, in order to increase the film thickness, it is necessary to repeat the treatment process multiple times, so from the viewpoint of manufacturing cost, it is desirable that the film thickness is about 4 μm or less. There are various methods for measuring the film thickness, but it can be measured non-destructively by observing the interference waveform of light based on the spectral reflectance of the film on the reflector. If the film thickness of the coating is 3 μm or more, it can also be measured by measuring changes in eddy current due to high frequency waves. The measured values of film thickness in this specification are those measured by the above method. As described above, by controlling the amount of residual potassium in the thickness of the potassium silicate film according to the present invention so that it falls within the appropriate range indicated by the diagonal lines in Figure 2, it is possible to achieve a good result with no cracking and no clouding. A protective film is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明によるカリウム硅酸塩被膜を施
した反射板を有する投光器の一実施例を示す側面
図、第2図はカリウム硅酸塩被膜の膜厚と残留カ
リウムの測定値を示す片対数グラフである。 〔主要部分の符号の説明〕、反射板……10、
カリウム硅酸塩被膜……20。
Fig. 1 is a side view showing an embodiment of a projector having a reflector coated with a potassium silicate film according to the present invention, and Fig. 2 is a side view showing the thickness of the potassium silicate film and the measured values of residual potassium. It is a logarithmic graph. [Explanation of symbols of main parts], Reflector plate...10,
Potassium silicate coating...20.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 カリウムを含むアルカリ金属ケイ酸塩反射表
面保護被膜において、 該被膜の膜厚と残留カリウムの量が、 該被膜の膜厚0.3ミクロンにおいて0.05ppmの
点(6)、 該被膜の膜厚0.5ミクロンにおいて0.02ppmの
点(8)、 該被膜の膜厚1.3ミクロンにおいて0.066ppmの
点(20)、 該被膜の膜厚1.5ミクロンにおいて0.61ppmの
点(21)、 該被膜の膜厚1.1ミクロンにおいて1.2ppmの点
(17)、 該被膜の膜厚2.5ミクロンにおいて6.5ppmの点
(29)、 該被膜の膜厚2.7ミクロンにおいて14.0ppmの
点(32)、 該被膜の膜厚4.0ミクロンにおいて21.0ppmの
点(39)、 該被膜の膜厚5.2ミクロンにおいて49.0ppmの
点(43)、 該被膜の膜厚7.0ミクロンにおいて71.0ppmの
点(47)、 該被膜の膜厚5.5ミクロンにおいて68.0ppmの
点(44)、 該被膜の膜厚4.0ミクロンにおいて53.0ppmの
点(40)、 該被膜の膜厚2.9ミクロンにおいて32.0ppmの
点(33)、 該被膜の膜厚1.5ミクロンにおいて10.0ppmの
点(22)、 該被膜の膜厚1.2ミクロンにおいて3.4ppmの点
(19)、 該被膜の膜厚0.5ミクロンにおいて0.5ppmの点
(10)、 該被膜の膜厚0.3ミクロンにおいて0.05ppmの
点(6)、 を順次直線で結んだ経路によつて囲まれる範囲と 該被膜の膜厚1.1ミクロンにおいて1.2ppmの点
(17)、 該被膜の膜厚1.5ミクロンにおいて0.61ppmの
点(21)、 該被膜の膜厚2.0ミクロンにおいて9.0ppmの点
(26)、 該被膜の膜厚2.5ミクロンにおいて6.5ppmの点
(29)、 該被膜の膜厚3.5ミクロンにおいて21.0ppmの
点(36)、 該被膜の膜厚7.0ミクロンにおいて71.0ppmの
点(47)、 該被膜の膜厚5.5ミクロンにおいて68.0ppmの
点(44)、 該被膜の膜厚3.5ミクロンにおいて21.0ppmの
点(36)、 該被膜の膜厚2.0ミクロンにおいて9.0ppmの点
(26)、 該被膜の膜厚1.2ミクロンにおいて3.4ppmの点
(19)、 該被膜の膜厚1.1ミクロンにおいて1.2ppmの点
(17)、 を順次直線で結んだ経路によつて囲まれる範囲と 該被膜の膜厚1.2ミクロンにおいて3.4ppmの点
(19)、 該被膜の膜厚4.0ミクロンにおいて21.0ppmの
点(39)、 該被膜の膜厚2.3ミクロンにおいて1.5ppmの点
(27)、 該被膜の膜厚1.2ミクロンにおいて3.4ppmの点
(19)、 を順次直線で結んだ経路によつて囲まれる範囲と
和集合から成る範囲によつて規定されることを特
徴とする反射板表面保護被膜。
[Claims] 1. In an alkali metal silicate reflective surface protective coating containing potassium, the film thickness of the film and the amount of residual potassium are 0.05 ppm at a film thickness of 0.3 microns (6); Point (8) of 0.02 ppm when the film thickness of the film is 0.5 microns, Point (20) of 0.066 ppm when the film thickness of the film is 1.3 microns, Point (21) of 0.61 ppm when the film thickness of the film is 1.5 microns, 1.2 ppm point (17) when the film thickness is 1.1 microns, 6.5 ppm point (29) when the film thickness is 2.5 microns, 14.0 ppm point (32) when the film thickness is 2.7 microns, the film thickness of the film 21.0 ppm point (39) at 4.0 micron, 49.0 ppm point (43) at 5.2 micron film thickness, 71.0 ppm point (47) at 7.0 micron film thickness, 5.5 micron film thickness 68.0 ppm point (44) when the coating thickness is 4.0 microns, 53.0 ppm point (40) when the coating thickness is 2.9 microns, 32.0 ppm point (33) when the coating thickness is 1.5 microns, 10.0 when the coating thickness is 1.5 microns. ppm point (22), 3.4 ppm point (19) when the coating thickness is 1.2 microns, 0.5 ppm point when the coating thickness is 0.5 microns.
(10), a point (6) of 0.05 ppm when the thickness of the film is 0.3 microns, and a range surrounded by a path sequentially connected with a straight line, and a point (17) of 1.2 ppm when the thickness of the film is 1.1 microns; 0.61 ppm point (21) when the film thickness is 1.5 microns, 9.0 ppm point (26) when the film thickness is 2.0 microns, 6.5 ppm point (29) when the film thickness is 2.5 microns, the film 21.0 ppm point (36) when the film thickness is 3.5 microns, 71.0 ppm point (47) when the film thickness is 7.0 microns, 68.0 ppm point (44) when the film thickness is 5.5 microns, the film of the film. 21.0 ppm point (36) at 3.5 micron thickness, 9.0 ppm point (26) at 2.0 micron thickness, 3.4 ppm point (19) at 1.2 micron thickness, 1.1 point at film thickness A point (17) of 1.2 ppm in microns, an area surrounded by a path connecting with a straight line in sequence, and a point (19) of 3.4 ppm in a film thickness of 1.2 microns, and 21.0 ppm in a film thickness of 4.0 microns. point (39), point (27) of 1.5 ppm when the thickness of the coating is 2.3 microns, point (19) of 3.4 ppm when the thickness of the coating is 1.2 microns, and are surrounded by a path sequentially connecting with a straight line. A reflective plate surface protective coating characterized by being defined by a range consisting of a range and a union thereof.
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