JPS6232195B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なネプラノシンA誘導体に関す
る。さらに詳しくは、本発明は、式 (式中、R1は水素原子またはベンゾイル基、
R2は水素原子またはベンゾイル基、R3およびR4
は各々水素原子またはアセチル基を示すか、ある
いは両者が一緒にてベンジリデン基を示し、R5
は水素原子、アセチル基またはベンゾイル基を示
すが、R3,R4およびR5のうち少なくとも1つは
水素原子ではない)で表わされる化合物である。
る。さらに詳しくは、本発明は、式 (式中、R1は水素原子またはベンゾイル基、
R2は水素原子またはベンゾイル基、R3およびR4
は各々水素原子またはアセチル基を示すか、ある
いは両者が一緒にてベンジリデン基を示し、R5
は水素原子、アセチル基またはベンゾイル基を示
すが、R3,R4およびR5のうち少なくとも1つは
水素原子ではない)で表わされる化合物である。
ネプラノシン(Neplanocin)A(抗生物質
A11079―B1bと呼称した)は、アンプラリエー
ラ・スピーシーズ(Ampullariella sp.)A11079
(FERM―P4494)の産生する制癌作用および植
物病原糸状菌生育阻害作用を有する抗生物質であ
る(特開昭54−154792号)。本抗生物質の機器分
析の結果ならびに化学的にアリステロマイシン
〔J.Chem.Soc.Chem.Comm.,852〜853(1967)、
Chem.Pharm.Bull.,20(5),940―946(1972)〕に
誘導されることから、シクロペンテン環をもつ核
酸関連物質であつて、式 で示され〔Current Chemotherapy and
Infections Disease,1558〜1559(1980)〕、
1′(R)、2′(S)、3′(R)の絶対配置をもつこ
とが確認されている〔Nucleic Acids
Research,Symposium Series No.8,S65〜
S67(1980)〕。
A11079―B1bと呼称した)は、アンプラリエー
ラ・スピーシーズ(Ampullariella sp.)A11079
(FERM―P4494)の産生する制癌作用および植
物病原糸状菌生育阻害作用を有する抗生物質であ
る(特開昭54−154792号)。本抗生物質の機器分
析の結果ならびに化学的にアリステロマイシン
〔J.Chem.Soc.Chem.Comm.,852〜853(1967)、
Chem.Pharm.Bull.,20(5),940―946(1972)〕に
誘導されることから、シクロペンテン環をもつ核
酸関連物質であつて、式 で示され〔Current Chemotherapy and
Infections Disease,1558〜1559(1980)〕、
1′(R)、2′(S)、3′(R)の絶対配置をもつこ
とが確認されている〔Nucleic Acids
Research,Symposium Series No.8,S65〜
S67(1980)〕。
本発明の目的化合物〔I〕はL5178Y細胞生育
阻害作用を有し、ネプラノシンAと同等ないし、
それ以上の活性を有しており、制癌剤として有用
である。
阻害作用を有し、ネプラノシンAと同等ないし、
それ以上の活性を有しており、制癌剤として有用
である。
本発明においては、アデニン核の6位のアミン
基が置換されない場合には、酸付加塩を形成し得
る。従つてこのような酸付加塩も本発明に包含さ
れる。上記の塩としては、薬理的に許容し得る非
毒性塩であつて、例えば硫酸、塩酸、リン酸など
の無機酸との塩、酢酸、プロピオン酸、リンゴ
酸、酒石酸、クエン酸、各種アミノ酸などの有機
酸との塩が挙げられる。
基が置換されない場合には、酸付加塩を形成し得
る。従つてこのような酸付加塩も本発明に包含さ
れる。上記の塩としては、薬理的に許容し得る非
毒性塩であつて、例えば硫酸、塩酸、リン酸など
の無機酸との塩、酢酸、プロピオン酸、リンゴ
酸、酒石酸、クエン酸、各種アミノ酸などの有機
酸との塩が挙げられる。
本目的化合物〔〕およびその生成中間体を命
名するに際しては、その置換基の位置は式〔〕
に示される位置番号に従つて表示するものとす
る。
名するに際しては、その置換基の位置は式〔〕
に示される位置番号に従つて表示するものとす
る。
次に、本目的化合物〔〕の製造法について述
べる。
べる。
R1およびR2が水素原子、R3,R4およびR5がア
セチル基である目的化合物〔〕、即ち2′,3′,
5′―O―トリアセチルネプラノシンAはネプラノ
シンAをアセチル化することにより得られる。ア
セチル化は通常第3級有機アミン、例えばピリジ
ン、N―メチルモルホリン、ジメチルアニリンな
どの存在下で無水酢酸を反応させることにより行
われる。
セチル基である目的化合物〔〕、即ち2′,3′,
5′―O―トリアセチルネプラノシンAはネプラノ
シンAをアセチル化することにより得られる。ア
セチル化は通常第3級有機アミン、例えばピリジ
ン、N―メチルモルホリン、ジメチルアニリンな
どの存在下で無水酢酸を反応させることにより行
われる。
R1,R2およびR5が水素原子、R3およびR4が一
緒にてベンジリデン基である目的化合物〔〕、
即ち2′,3′―O―ベンジリデンネプラノシンAは
ネプラノシンAをベンジリデン化することにより
得られる。ベンジリデン化は通常塩化亜鉛の存在
下ベンズアルデヒドを反応させることにより行わ
れる。
緒にてベンジリデン基である目的化合物〔〕、
即ち2′,3′―O―ベンジリデンネプラノシンAは
ネプラノシンAをベンジリデン化することにより
得られる。ベンジリデン化は通常塩化亜鉛の存在
下ベンズアルデヒドを反応させることにより行わ
れる。
R1,R2およびR5がベンゾイル基、R3およびR4
が水素原子である目的化合物〔〕、即ちN6,
N6,5′―O―トリベンゾイルネプラノシンAは、
ネプラノシンAをその2′位および3′位の水酸基を
適当な保護基で保護し、得られた2′,3′―O―保
護―ネプラノシンAをベンゾイル化してN6,N6
―5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O―保護―
ネプラノシンAを得、次いで2′,3′―O―保護基
を脱離することにより得られる。
が水素原子である目的化合物〔〕、即ちN6,
N6,5′―O―トリベンゾイルネプラノシンAは、
ネプラノシンAをその2′位および3′位の水酸基を
適当な保護基で保護し、得られた2′,3′―O―保
護―ネプラノシンAをベンゾイル化してN6,N6
―5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O―保護―
ネプラノシンAを得、次いで2′,3′―O―保護基
を脱離することにより得られる。
上記の2′位および3′位の水酸基の保護基として
は、核酸化学において使用される公知の保護基で
あつて、隣接する2個の酸素原子と共にアセター
ルを形成するアルデヒド化合物残基もしくはケタ
ールを形成するケトン化合物残基を用いることが
でき、このような保護基としては、例えばイソプ
ロピリデン、メトキシメチレン、エトキシメチレ
ン、エトキシエチリデン、ベンジリデン基などを
挙げることができる。これらの保護基は酸触媒の
存在下に相当するアルデヒドもしくはケトンを反
応させることにより導入される。イソプロピリデ
ン基はルイス酸、例えば塩酸、塩化水素ガス、臭
化水素ガス、過塩素酸、塩化亜鉛、p―トルエン
スルホン酸、ジ―p―ニトロフエニルリン酸など
の存在下アセトンまたは2,2―ジメトキシプロ
パン中で反応させることにより導入される。メト
キシメチレン、エトキシメチレン、エトキシエチ
リデン基はジメチルホルムアミド中塩化水素ガス
またはp―トルエンスルホン酸の存在下過剰の正
ギ酸または正酢酸エステルを反応させることによ
り導入される。ベンジリデン基は酸触媒、例えば
塩化亜鉛、塩化水素、BF3―エセレートなどの存
在下ベンズアルデヒドを反応させることにより導
入させる。
は、核酸化学において使用される公知の保護基で
あつて、隣接する2個の酸素原子と共にアセター
ルを形成するアルデヒド化合物残基もしくはケタ
ールを形成するケトン化合物残基を用いることが
でき、このような保護基としては、例えばイソプ
ロピリデン、メトキシメチレン、エトキシメチレ
ン、エトキシエチリデン、ベンジリデン基などを
挙げることができる。これらの保護基は酸触媒の
存在下に相当するアルデヒドもしくはケトンを反
応させることにより導入される。イソプロピリデ
ン基はルイス酸、例えば塩酸、塩化水素ガス、臭
化水素ガス、過塩素酸、塩化亜鉛、p―トルエン
スルホン酸、ジ―p―ニトロフエニルリン酸など
の存在下アセトンまたは2,2―ジメトキシプロ
パン中で反応させることにより導入される。メト
キシメチレン、エトキシメチレン、エトキシエチ
リデン基はジメチルホルムアミド中塩化水素ガス
またはp―トルエンスルホン酸の存在下過剰の正
ギ酸または正酢酸エステルを反応させることによ
り導入される。ベンジリデン基は酸触媒、例えば
塩化亜鉛、塩化水素、BF3―エセレートなどの存
在下ベンズアルデヒドを反応させることにより導
入させる。
上記のベンゾイル化は、通常第3級有級アミ
ン、例えばピリジン、N―メチルモルホリン、ジ
メチルアニリンなどの存在下少なくとも3倍モル
以上のベンゾイルハライド、例えばベンゾイルク
ロライドを反応させることにより行われる。
ン、例えばピリジン、N―メチルモルホリン、ジ
メチルアニリンなどの存在下少なくとも3倍モル
以上のベンゾイルハライド、例えばベンゾイルク
ロライドを反応させることにより行われる。
得られたN6,N6,5′―O―テリベンゾイル―
2′,3′―O―保護―ネプラノシンAの2′,3′―O
―保護基の脱離は、公知の2′,3′―O―保護基を
脱離する方法により行われる。例えば、ギ酸水、
酢酸水などの酸性溶媒で処理することにより行わ
れる。
2′,3′―O―保護―ネプラノシンAの2′,3′―O
―保護基の脱離は、公知の2′,3′―O―保護基を
脱離する方法により行われる。例えば、ギ酸水、
酢酸水などの酸性溶媒で処理することにより行わ
れる。
R1およびR5がベンゾイル基、R2,R3およびR4
が水素原子である目的化合物〔〕、即ちN6,
5′―O―ジベンゾイルネプラノシンAは、前記の
N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O―
置換―ネプラノシンAを2′,3′―O―保護基を脱
離した後、脱モノベンゾイル化するか、あるいは
脱モノベンゾイル化した後、2′,3′―O―保護基
を脱離することにより得られる。
が水素原子である目的化合物〔〕、即ちN6,
5′―O―ジベンゾイルネプラノシンAは、前記の
N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O―
置換―ネプラノシンAを2′,3′―O―保護基を脱
離した後、脱モノベンゾイル化するか、あるいは
脱モノベンゾイル化した後、2′,3′―O―保護基
を脱離することにより得られる。
脱モノベンゾイル化は、有機溶媒中N―ブロモ
コハク酸イミドを作用させるか、あるいは低級ア
ルコール中アンモニア水を作用させることにより
行なわれる。2′,3′―O―保護基の脱離は前記で
述べたようにして行なわれる。
コハク酸イミドを作用させるか、あるいは低級ア
ルコール中アンモニア水を作用させることにより
行なわれる。2′,3′―O―保護基の脱離は前記で
述べたようにして行なわれる。
このようにして得られた目的化合物〔〕を反
応液から分離精製するには、減圧濃縮、抽出、洗
浄およびシリカゲルなどの担体を用いるカラムク
ロマトグラフイーなどの手段を駆使することによ
り得られる。
応液から分離精製するには、減圧濃縮、抽出、洗
浄およびシリカゲルなどの担体を用いるカラムク
ロマトグラフイーなどの手段を駆使することによ
り得られる。
次に、本目的化合物〔〕のL5178Y細胞に対
する生育阻害作用について述べる。
する生育阻害作用について述べる。
試験方法
マウスリンパ腫由来の浮遊培養株L5178Y細胞
約5×104/mlの細胞液2.7mlにフイツシヤー培地
に牛血清を10%添加した培地に溶解した被検試料
0.3mlを加え、37℃で22時間培養する。増殖の程
度を培地中に添加してあるフエノール・レツドの
色調の変化で観察し、対照の増殖より明らかに抑
制が認められる薬剤の終濃度を細胞増殖最少阻止
濃度として算定する。
約5×104/mlの細胞液2.7mlにフイツシヤー培地
に牛血清を10%添加した培地に溶解した被検試料
0.3mlを加え、37℃で22時間培養する。増殖の程
度を培地中に添加してあるフエノール・レツドの
色調の変化で観察し、対照の増殖より明らかに抑
制が認められる薬剤の終濃度を細胞増殖最少阻止
濃度として算定する。
試験結果
2′,3′,5′―O―トリアセチルネプラノシンA
0.8γ/ml 2′,3′―O―ベンジリデンネプラノシンA
4γ/ml N6,N6,5′―O―トリベンゾイルネプラノシン
A 0.16γ/ml N6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA
0.16γ/ml 次に実施例を挙げて本発明の目的化合物〔〕
の製造について具体的に述べる。尚、実施例中で
使用した薄層クロマトグラフイー(TLC)は特
記しない限り次の担体および展開溶媒系を用い
た。
0.8γ/ml 2′,3′―O―ベンジリデンネプラノシンA
4γ/ml N6,N6,5′―O―トリベンゾイルネプラノシン
A 0.16γ/ml N6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA
0.16γ/ml 次に実施例を挙げて本発明の目的化合物〔〕
の製造について具体的に述べる。尚、実施例中で
使用した薄層クロマトグラフイー(TLC)は特
記しない限り次の担体および展開溶媒系を用い
た。
担体;シリカゲル(メルク社製,Art5729)
溶媒系;
1 クロロホルム―メタノール(5:1)
2 クロロホルム―メタノール(20:1)
3 クロロホルム―メタノール(40:1)
4 クロロホルム―エタノール(10:1)
実施例 1
2′,3′,5′―O―トリアセチルネプラノシンA
ネプラノシンA263mgをピリジン5mlに懸濁
し、室温で撹拌下無水酢酸0.28mlを滴下する。室
温で2時間半反応させた後、40℃以下で減圧濃縮
する。残渣をクロロホルムで3回抽出し、水洗す
る。クロロホルム層をワツトマン1PS紙に通し
た後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲル6gのカ
ラムにチヤージし、クロロホルム―エタノール
(30:1)で溶出する。TLCによりR4=0.45付近
の溶出区分を集めて減圧濃縮し、吸湿性のある粉
末状の2′,3′,5′―O―トリアセチルネプラノシ
ンA174mgを得る。
し、室温で撹拌下無水酢酸0.28mlを滴下する。室
温で2時間半反応させた後、40℃以下で減圧濃縮
する。残渣をクロロホルムで3回抽出し、水洗す
る。クロロホルム層をワツトマン1PS紙に通し
た後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲル6gのカ
ラムにチヤージし、クロロホルム―エタノール
(30:1)で溶出する。TLCによりR4=0.45付近
の溶出区分を集めて減圧濃縮し、吸湿性のある粉
末状の2′,3′,5′―O―トリアセチルネプラノシ
ンA174mgを得る。
元素分析〔C17H19O6N5・1/2H2Oとして〕
C% H% N%
測定値 51.63 4.95 17.54
計算値 51.64 5.01 17.71
UV;λmax(メタノール)262nm
Mass;389(M+),346,330,329,288,
287,244,228,227,136,137 NMR;δppm(CDCl3)2.01(3H,
SOCOCH3)、2.10(6H,S.OCOCH3×
2)、4.75(2H,J〓O,H―5′)、5.57
(1H,d.d.,H―2′)、5.82(3H,broad,
NH2およびH―3′)、5.99(1H,d.,H―
1′)、6.11(1H,J〓O,H―6′)、7.80
(1H,S.,H―2)、8.33(1H,S.,H―
8) 実施例 2 2′,3′―O―ベンジリデンネプラノシンA ネプラノシンA263mg(1mM)、塩化亜鉛340mg
およびベンズアルデヒド2mlの混合物を室温で1
日半撹拌する。反応液にジエチルエーテルを加
え、析出した沈澱物を取し、ジエチルエーテル
で洗浄する。この沈澱物を酢酸エチルに溶かし、
3回水洗する。酢酸エチル層をワツトマン1PS
紙に通した後、減圧濃縮する。残渣を酢酸エチル
から再結晶化して2′,3′―O―ベンジリデンネプ
ラノシンA301mgを得る。
287,244,228,227,136,137 NMR;δppm(CDCl3)2.01(3H,
SOCOCH3)、2.10(6H,S.OCOCH3×
2)、4.75(2H,J〓O,H―5′)、5.57
(1H,d.d.,H―2′)、5.82(3H,broad,
NH2およびH―3′)、5.99(1H,d.,H―
1′)、6.11(1H,J〓O,H―6′)、7.80
(1H,S.,H―2)、8.33(1H,S.,H―
8) 実施例 2 2′,3′―O―ベンジリデンネプラノシンA ネプラノシンA263mg(1mM)、塩化亜鉛340mg
およびベンズアルデヒド2mlの混合物を室温で1
日半撹拌する。反応液にジエチルエーテルを加
え、析出した沈澱物を取し、ジエチルエーテル
で洗浄する。この沈澱物を酢酸エチルに溶かし、
3回水洗する。酢酸エチル層をワツトマン1PS
紙に通した後、減圧濃縮する。残渣を酢酸エチル
から再結晶化して2′,3′―O―ベンジリデンネプ
ラノシンA301mgを得る。
融点;226〜229℃
TLC;Rf1=0.62
Mass;351(M+)、245,216,136,135
NMR;δppm(DMSO―d6)4.19(2H,やゝ
broad,H―5′)、4.85(1H,d.,H―
2′)、5.10(1H,t.,OH―5′,D2Oと交
換)、5.41(1H,d.,H―3′)、5.58(1H,
broad,H―1′)、5.75(1H,S.,H―
6′)、5.90(1H,S.,〓CH―Ph)、7.24
(2H,broad,NH2,D2Oと交換)、7.41
(5H,S.,フエニルプロトン)、8.00
(1H,S.,H―2)、8.12(1H,S.,H―
8) 実施例 3 2′,3′―O―イソプロピリデンネプラノシンA ネプラノシンA1.0gを乾燥アセトン100mlに懸
濁し、これに70%過塩素酸0.9mlを加え、室温で
2時間撹拌する。この間に反応液は均一となる。
反応後、アアンモニア水でPH8〜9に調節し、析
出した結晶を氷冷後、取し、アセトンで洗浄、
乾燥して2′,3′―O―イソプロピリデンネプラノ
シンA682mgを得る。液とアセトン洗浄液とを
合わせ、減圧濃縮し、残渣をエタノールから再結
晶してさらに2′,3′―O―イソプロピリデンネプ
ラノシンA350mgを得る。全量1.032g。
broad,H―5′)、4.85(1H,d.,H―
2′)、5.10(1H,t.,OH―5′,D2Oと交
換)、5.41(1H,d.,H―3′)、5.58(1H,
broad,H―1′)、5.75(1H,S.,H―
6′)、5.90(1H,S.,〓CH―Ph)、7.24
(2H,broad,NH2,D2Oと交換)、7.41
(5H,S.,フエニルプロトン)、8.00
(1H,S.,H―2)、8.12(1H,S.,H―
8) 実施例 3 2′,3′―O―イソプロピリデンネプラノシンA ネプラノシンA1.0gを乾燥アセトン100mlに懸
濁し、これに70%過塩素酸0.9mlを加え、室温で
2時間撹拌する。この間に反応液は均一となる。
反応後、アアンモニア水でPH8〜9に調節し、析
出した結晶を氷冷後、取し、アセトンで洗浄、
乾燥して2′,3′―O―イソプロピリデンネプラノ
シンA682mgを得る。液とアセトン洗浄液とを
合わせ、減圧濃縮し、残渣をエタノールから再結
晶してさらに2′,3′―O―イソプロピリデンネプ
ラノシンA350mgを得る。全量1.032g。
融点;256〜259℃
元素分析〔C14H17O3N5として〕
C% H% N%
測定値 55.39 5.77 22.89
計算値 55.43 5.65 23.09
NMR;δppm(DMSO―d6)1.28、1.39(各
3H′各S.,CH3×2)、4.15(2H,やゝ
broad,H―5′)、4.68(1H,d.,H―
2′)、5.07(1H,t.,OH―5′)、5.33
(1H,d.,H―3′)、5.45(1H,J〓O,
H―1′)、5.71(1H,J〓O,H―6′)、
7.25(2H,やゝbroad,NH2)、7.96
(1H,S.,H―2),8.15(1H,S.,H―
8) 実施例 4 N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―イソプロピリデンネプラノシンA 2′,3′―O―イソプロピリデンネプラノシン
A303mgをピリジン10mlに溶かし、室温で撹拌し
ながら塩化ベンゾイル0.47mlを滴下した後、室温
で20時間撹拌する。反応後、反応液に水を加えて
減圧濃縮し、残渣をクロロホルムで抽出する。ク
ロロホルム層を飽和重曹水、水の順に洗浄し、ワ
ツトマン1PS紙に通した後、減圧濃縮する。残
渣をシリカゲル10gのカラムにチヤージし、クロ
ロホルムで溶出する。TLCによりRf3=0.55付近
の溶出区分を集めて減圧濃縮し、N6,N5,5′―O
―トリベンゾイル―2′,3′―O―イソプロピリデ
ンネプラノシンA510mg(収率83%)を得る。
3H′各S.,CH3×2)、4.15(2H,やゝ
broad,H―5′)、4.68(1H,d.,H―
2′)、5.07(1H,t.,OH―5′)、5.33
(1H,d.,H―3′)、5.45(1H,J〓O,
H―1′)、5.71(1H,J〓O,H―6′)、
7.25(2H,やゝbroad,NH2)、7.96
(1H,S.,H―2),8.15(1H,S.,H―
8) 実施例 4 N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―イソプロピリデンネプラノシンA 2′,3′―O―イソプロピリデンネプラノシン
A303mgをピリジン10mlに溶かし、室温で撹拌し
ながら塩化ベンゾイル0.47mlを滴下した後、室温
で20時間撹拌する。反応後、反応液に水を加えて
減圧濃縮し、残渣をクロロホルムで抽出する。ク
ロロホルム層を飽和重曹水、水の順に洗浄し、ワ
ツトマン1PS紙に通した後、減圧濃縮する。残
渣をシリカゲル10gのカラムにチヤージし、クロ
ロホルムで溶出する。TLCによりRf3=0.55付近
の溶出区分を集めて減圧濃縮し、N6,N5,5′―O
―トリベンゾイル―2′,3′―O―イソプロピリデ
ンネプラノシンA510mg(収率83%)を得る。
TLC;Rf3=0.55
Mass;615(M+)、600、587、510、482、
344、343、342、240、239、238、215、105 NMR;δppm(CDCl3)1.49、1.52(各3H,
各S,イソプロピリデン)、4.81(1H,d.
,H―2′)、5.12(2H,やゝbroad,H―
5′)、5.50(1H,d.,H―3′)、5.68(1H,
やゝbroad,H―1)、5.89(1H,やゝ
broad,H―6′)、7.2〜8.2(16H,フエニ
ルプロトンおよびH―2またはH―8) 実施例 5 N6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA N6,N5,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―イソプロピリデンネプラノシンA62mgを60%含
水ギ酸2mlに懸濁し、これにメタノール0.5mlを
加えて均一にし、室温で1日、60℃で5時間撹拌
する。反応後、反応液を減圧濃縮し、残渣にメタ
ノールを加えて減圧濃縮する。この操作をギ酸が
消失するまで繰り返す。得られた結晶をメタノー
ルから再結晶を2回行つてN6,5′―O―ジベンゾ
イルネプラノシンAを得る。
344、343、342、240、239、238、215、105 NMR;δppm(CDCl3)1.49、1.52(各3H,
各S,イソプロピリデン)、4.81(1H,d.
,H―2′)、5.12(2H,やゝbroad,H―
5′)、5.50(1H,d.,H―3′)、5.68(1H,
やゝbroad,H―1)、5.89(1H,やゝ
broad,H―6′)、7.2〜8.2(16H,フエニ
ルプロトンおよびH―2またはH―8) 実施例 5 N6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA N6,N5,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―イソプロピリデンネプラノシンA62mgを60%含
水ギ酸2mlに懸濁し、これにメタノール0.5mlを
加えて均一にし、室温で1日、60℃で5時間撹拌
する。反応後、反応液を減圧濃縮し、残渣にメタ
ノールを加えて減圧濃縮する。この操作をギ酸が
消失するまで繰り返す。得られた結晶をメタノー
ルから再結晶を2回行つてN6,5′―O―ジベンゾ
イルネプラノシンAを得る。
融点;202〜205℃
元素分析〔C25H21O5N5として〕
C% H% N%
測定値 63.70 4.55 14.76
計算値 63.68 4.49 14.86
Mass;471(M+)、366、239
NMR;δppm(DMSO―d6)4.48(1H,m.,
H―2′,D2Oでd.d.)、4.64(1H,m.,H
―3′,D2Oでd.)、5.02(2H,やゝbroad.H
―5′)、5.25(1H,d.,OH,D2Oと交
換)、5.34(1Hd.,OH,D2Oと交換)、
5.58(1H,m.,H―1′)、6.05(1H,J〓
O,H―1′)、7.4〜8.1(10H,フエニルプ
ロトン)、8.45(1H,S.,H―8またはH
―2)、11.13(1H,broad,NH,D2Oと交
換) 実施例 6 N6,N6-,5′―O―トリベンゾイルネプラノシ
ンA 実施例5において、再結晶工程における再結晶
母液をシリカゲル(メルク社製Art7747)を用い
る分取薄層クロマトグラフイーにより分離、精製
してN6,N6,5′―O―トリベンゾイルネプラノシ
ンAを得る。
H―2′,D2Oでd.d.)、4.64(1H,m.,H
―3′,D2Oでd.)、5.02(2H,やゝbroad.H
―5′)、5.25(1H,d.,OH,D2Oと交
換)、5.34(1Hd.,OH,D2Oと交換)、
5.58(1H,m.,H―1′)、6.05(1H,J〓
O,H―1′)、7.4〜8.1(10H,フエニルプ
ロトン)、8.45(1H,S.,H―8またはH
―2)、11.13(1H,broad,NH,D2Oと交
換) 実施例 6 N6,N6-,5′―O―トリベンゾイルネプラノシ
ンA 実施例5において、再結晶工程における再結晶
母液をシリカゲル(メルク社製Art7747)を用い
る分取薄層クロマトグラフイーにより分離、精製
してN6,N6,5′―O―トリベンゾイルネプラノシ
ンAを得る。
NMR;δppm(CDCl3)4.44(1H,dd,H―
2′)、4.84(1H,d.,H―3′)、5.11(2H,
やゝbroad,H―5′)、5.56(1H,やゝ
broad,H―1′)、6.13(1H,J〓O,H―
6′)、7.2〜8.2(16H,フエニルプロトンお
よびH―2またはH―8)、8.61(1H,S.
,H―8またはH―2)、OH基はbroadに
分布しており、D2Oで消失する。
2′)、4.84(1H,d.,H―3′)、5.11(2H,
やゝbroad,H―5′)、5.56(1H,やゝ
broad,H―1′)、6.13(1H,J〓O,H―
6′)、7.2〜8.2(16H,フエニルプロトンお
よびH―2またはH―8)、8.61(1H,S.
,H―8またはH―2)、OH基はbroadに
分布しており、D2Oで消失する。
Mass;575,470
実施例 7
N6,5′―O―ジベンゾイル―2′,3′―O―イソ
プロピリデンネプラノシンA N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―イソプロピリデンネプラノシンA61.5mgをジク
ロロエタン2mlおよび四塩化炭素5mlの混液に溶
かし、これにN―ブロモコハク酸イミド20mgおよ
び炭酸バリウム10mgを加えて90℃で15時間撹拌す
る。反応液に水を加えて振とうし、有機層を減圧
濃縮する。残渣をシリカゲル3gのカラムにチヤ
ージし、クロロホルム―メタノール(40:1)で
溶出する。Rf3=0.30付近の溶出区分を集めて減
圧濃縮し、N6,5′―O―ジベンゾイル―2′,3′―
O―イソプロピリデンネプラノシンAの粉41mgを
得る。
プロピリデンネプラノシンA N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―イソプロピリデンネプラノシンA61.5mgをジク
ロロエタン2mlおよび四塩化炭素5mlの混液に溶
かし、これにN―ブロモコハク酸イミド20mgおよ
び炭酸バリウム10mgを加えて90℃で15時間撹拌す
る。反応液に水を加えて振とうし、有機層を減圧
濃縮する。残渣をシリカゲル3gのカラムにチヤ
ージし、クロロホルム―メタノール(40:1)で
溶出する。Rf3=0.30付近の溶出区分を集めて減
圧濃縮し、N6,5′―O―ジベンゾイル―2′,3′―
O―イソプロピリデンネプラノシンAの粉41mgを
得る。
NMR;δppm(CDCl3)1.40,1.52(各3H,
各S.,CH3×2)、4.80(1H,d.,H―
2′)、5.12(2H,やゝbroad,H―5′)、
5.52(1H,d.,H―3′)、5.71(1H,やゝ
broad,H―1′)、5.90(1H,やゝbroad,
H―6′)、7.3〜8.2(11H,フエニルプロト
ン,H―2またはH―8) 実施例 8 N6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA N6,5′―O―ジベンゾイル―2′,3′―O―イソ
プロピリデンネプラノシンA51mgを60%ギ酸2ml
およびメタノール0.5mlを加え、60℃で5時間撹
拌する。反応液を減圧濃縮し、残渣をメタノール
から再結晶してN6,5′―O―ジベンゾイルネプラ
ノシンA41mgを得る。
各S.,CH3×2)、4.80(1H,d.,H―
2′)、5.12(2H,やゝbroad,H―5′)、
5.52(1H,d.,H―3′)、5.71(1H,やゝ
broad,H―1′)、5.90(1H,やゝbroad,
H―6′)、7.3〜8.2(11H,フエニルプロト
ン,H―2またはH―8) 実施例 8 N6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA N6,5′―O―ジベンゾイル―2′,3′―O―イソ
プロピリデンネプラノシンA51mgを60%ギ酸2ml
およびメタノール0.5mlを加え、60℃で5時間撹
拌する。反応液を減圧濃縮し、残渣をメタノール
から再結晶してN6,5′―O―ジベンゾイルネプラ
ノシンA41mgを得る。
分析結果は実施例5で得たN6,5′―O―ジベン
ゾイルネプラノシンAと一致した。
ゾイルネプラノシンAと一致した。
実施例 9
2′,3′―O―エトキシメチレンネプラノシンA
ネプラノシンA263mgにジメチルホルムアミド
5mlおよびオルトギ酸エチル0.33mlを加え、これ
に塩化水素のジメチルホルムアミド溶液(13.5%
W/V)0.3mlを加えて均一となし、室温で12時
間撹拌する。次いで反応液に氷冷下トリエチルア
ミン0.25mlを加え、析出したトリエチルアミン塩
酸塩を別した後、液を減圧濃縮する。残渣に
少量の水とトリエチルアミンを加えて完全に中和
する。析出した結晶を取して2′,3′―O―エト
キシメチレンネプラノシンA275mg(収率86.2
%)を得る。
5mlおよびオルトギ酸エチル0.33mlを加え、これ
に塩化水素のジメチルホルムアミド溶液(13.5%
W/V)0.3mlを加えて均一となし、室温で12時
間撹拌する。次いで反応液に氷冷下トリエチルア
ミン0.25mlを加え、析出したトリエチルアミン塩
酸塩を別した後、液を減圧濃縮する。残渣に
少量の水とトリエチルアミンを加えて完全に中和
する。析出した結晶を取して2′,3′―O―エト
キシメチレンネプラノシンA275mg(収率86.2
%)を得る。
これをクロロホルム―メタノール(1:1)を
溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーを行い、Rf1=0.45付近の溶出区分を減圧濃
縮して精製品を得る。
溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーを行い、Rf1=0.45付近の溶出区分を減圧濃
縮して精製品を得る。
融点;196〜201℃
TLC;Rf1=0.45
元素分析〔C14H17N5O4・1/2H2Oとして〕
C% H% N%
測定値 51.71 5.38 21.52
計算値 51.21 5.52 21.33
Mass;319(M+)、274、245、135、134
NMR;δppm(CDCl3)1.10、1.12(合計
3H,各t.,―CH2CH3)、3.52(2H,q.,
―OCH2CH3)、4.16(2H,J〓O,H―
5′)4.80(1H,d.,H―2′)、5.08(1H,
broad,S.,OH―5′)、5.48(1H,S.,=
CH―OC2H5)、5.36,5.66(合計1H,各d.
,H―3′)、5.76(1H,J〓O,H―1′)、
5.94,5.98(合計1H,各S.,H―6′)、7.27
(2H,broad,S.,NH2)、7.98(1H,S.,
H―2またはH―8)、8.14(1H.,S.,H
―2またはH―8) 実施例 10 N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―エトキシメチレンネプラノシンA 2′,3′―O―エトキシメチレンネプラノシン
A319mgをピリジン5mlに溶かし、これに氷冷下
撹拌しながら塩化ベンゾイル0.47mlの塩化メチレ
ン溶液(5ml)を滴下した後、氷冷下で一液、室
温で10時間撹拌する。反応液を氷水中にあけクロ
ロホルムを加えて振とうする。クロロホルム層を
ホワツトマン1PS紙に通した後、減圧濃縮し、
残渣をシリカゲル6gのカラムにチヤージし、ベ
ンゼン―酢酸エチル(8:1)で溶出する。Rf2
=0.85付近の溶出区分を集めて減圧濃縮してN6,
N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O―エト
キシメチレンネプラノシンA431mgを得る。
3H,各t.,―CH2CH3)、3.52(2H,q.,
―OCH2CH3)、4.16(2H,J〓O,H―
5′)4.80(1H,d.,H―2′)、5.08(1H,
broad,S.,OH―5′)、5.48(1H,S.,=
CH―OC2H5)、5.36,5.66(合計1H,各d.
,H―3′)、5.76(1H,J〓O,H―1′)、
5.94,5.98(合計1H,各S.,H―6′)、7.27
(2H,broad,S.,NH2)、7.98(1H,S.,
H―2またはH―8)、8.14(1H.,S.,H
―2またはH―8) 実施例 10 N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―エトキシメチレンネプラノシンA 2′,3′―O―エトキシメチレンネプラノシン
A319mgをピリジン5mlに溶かし、これに氷冷下
撹拌しながら塩化ベンゾイル0.47mlの塩化メチレ
ン溶液(5ml)を滴下した後、氷冷下で一液、室
温で10時間撹拌する。反応液を氷水中にあけクロ
ロホルムを加えて振とうする。クロロホルム層を
ホワツトマン1PS紙に通した後、減圧濃縮し、
残渣をシリカゲル6gのカラムにチヤージし、ベ
ンゼン―酢酸エチル(8:1)で溶出する。Rf2
=0.85付近の溶出区分を集めて減圧濃縮してN6,
N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O―エト
キシメチレンネプラノシンA431mgを得る。
TLC;Rf2=0.85
UV;λMeoH nax255nm(sh.)、275nm
Mass;631(M+)、603、586、498
NMR;δppm(CDCl3)1.21(3H,t.,―
CH2CH3)、3.62(2H,q.,―O―CH2―
CH3)、4.92(1H,d.,H―2′)5.12
(2H,broadS.,H―5′)、5.66(1H,S.,
=CH―OC2H5)、5.52,5.72(合計1H,各
d.,H―3′)、5.90(1H,broadS.,H―
1′)、5.97,6.00(合計1H,各S.,H―
6′)、7.2〜8.1(16H,m.,フエニルプロト
ンおよびH―2またはH―8)、8.58,
8.59(合計1H,各S.,H―8またはH―
2) 実施例 11 N6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―エトキシメチレンネプラノシンA78mgに60%ギ
酸1mlおよびメタノール0.5mlを加え、室温で30
分間撹拌する。得られた反応液は溶媒系2の
TLCによればN6,5′―O―ジベンゾイルネプラ
ノシンAとN6,N6,5′―O―トリベンゾイルネプ
ラノシンAの生成が認められた。上記の反応液を
減圧濃縮し、残渣をエタノールに溶かし、アンモ
ニア水でPH8に調節して室温で放置する。析出し
た結晶を取し、エタノールで洗浄後、減圧乾燥
してN6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA43
mgを得る。
CH2CH3)、3.62(2H,q.,―O―CH2―
CH3)、4.92(1H,d.,H―2′)5.12
(2H,broadS.,H―5′)、5.66(1H,S.,
=CH―OC2H5)、5.52,5.72(合計1H,各
d.,H―3′)、5.90(1H,broadS.,H―
1′)、5.97,6.00(合計1H,各S.,H―
6′)、7.2〜8.1(16H,m.,フエニルプロト
ンおよびH―2またはH―8)、8.58,
8.59(合計1H,各S.,H―8またはH―
2) 実施例 11 N6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA N6,N6,5′―O―トリベンゾイル―2′,3′―O
―エトキシメチレンネプラノシンA78mgに60%ギ
酸1mlおよびメタノール0.5mlを加え、室温で30
分間撹拌する。得られた反応液は溶媒系2の
TLCによればN6,5′―O―ジベンゾイルネプラ
ノシンAとN6,N6,5′―O―トリベンゾイルネプ
ラノシンAの生成が認められた。上記の反応液を
減圧濃縮し、残渣をエタノールに溶かし、アンモ
ニア水でPH8に調節して室温で放置する。析出し
た結晶を取し、エタノールで洗浄後、減圧乾燥
してN6,5′―O―ジベンゾイルネプラノシンA43
mgを得る。
分析結果は実施例5で得たN6,5′―O―ジベン
ゾイルネプラノシンAと一致した。
ゾイルネプラノシンAと一致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 (式中、R1は水素原子またはベンゾイル基、
R2は水素原子またはベンゾイル基、R3およびR4
は各々水素原子またはアセチル基を示すか、ある
いは両者が一緒にてベンジリデン基を示し、R5
は水素原子、アセチルまたはベンゾイル基を示す
が、R3,R4およびR5のうち少なくとも1つは水
素原子ではない)で表わされる化合物。 2 R1およびR2が水素原子、R3,R4およびR5が
アセチル基である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 3 R1,R2およびR5が水素原子、R3およびR4が
一緒にてベンジリデン基である特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 4 R1,R2およびR5がベンゾイル基、R3および
R4が水素原子である特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 5 R1およびR5がベンゾイル基、R2,R3および
R4が水素原子である特許請求の範囲第1項記載
の化合物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17640180A JPS57163383A (en) | 1980-12-12 | 1980-12-12 | Neplanocin a derivative |
| DE19813148363 DE3148363A1 (de) | 1980-12-12 | 1981-12-07 | Neplanocin a-derivate |
| FR8123093A FR2500838B1 (fr) | 1980-12-12 | 1981-12-10 | Derives de neplanocine a |
| GB08137634A GB2100721B (en) | 1980-12-12 | 1981-12-14 | Neplanocin a derivatives with antitumor activity |
| US06/776,093 US4613666A (en) | 1980-12-12 | 1985-09-16 | Neplanocin A derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17640180A JPS57163383A (en) | 1980-12-12 | 1980-12-12 | Neplanocin a derivative |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57163383A JPS57163383A (en) | 1982-10-07 |
| JPS6232195B2 true JPS6232195B2 (ja) | 1987-07-13 |
Family
ID=16013021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17640180A Granted JPS57163383A (en) | 1980-12-12 | 1980-12-12 | Neplanocin a derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57163383A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| HUE064493T2 (hu) * | 2019-06-10 | 2024-03-28 | Lupin Ltd | PRMT5 inhibitorok |
-
1980
- 1980-12-12 JP JP17640180A patent/JPS57163383A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57163383A (en) | 1982-10-07 |
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