JPS6235056B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6235056B2 JPS6235056B2 JP53037886A JP3788678A JPS6235056B2 JP S6235056 B2 JPS6235056 B2 JP S6235056B2 JP 53037886 A JP53037886 A JP 53037886A JP 3788678 A JP3788678 A JP 3788678A JP S6235056 B2 JPS6235056 B2 JP S6235056B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- scanning
- switching
- circuit
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 15
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＸ線マイクロアナライザ等の電子プロ
ーブ装置に関し、特に試料面上の所望の位置に正
確に電子ビームを照射することのできる装置に関
する。
ーブ装置に関し、特に試料面上の所望の位置に正
確に電子ビームを照射することのできる装置に関
する。
Ｘ線マイクロアナライザを用いて試料面上の特
定微小領域の組成分析を行う際には、例えば以下
に述べる様な手順がとられる。即ち先ず第１図に
示す様に走査回路１から発生する走査信号を切換
回路２及び増幅器３を介して偏向コイル４へ送る
ことにより電子ビーム５を試料６上で２次元的に
走査し、該走査により試料から発生した情報を検
出器７で検出し、得られた検出信号を増幅器８を
介して輝度信号として電子ビーム走査と同期駆動
される表示装置９へ送り試料像を得る。そして試
料像を観察して分析点を選択し、その分析点の位
置を位置指定器１０により指定し、その後切換回
路２を切換えて偏向コイル４へ上記位置指定器か
らの位置信号を送り、電子ビームを指定位置へ静
止させる。この時表示装置９にも位置信号が送ら
れるため分析点の位置が輝点で表示されることに
なる。
定微小領域の組成分析を行う際には、例えば以下
に述べる様な手順がとられる。即ち先ず第１図に
示す様に走査回路１から発生する走査信号を切換
回路２及び増幅器３を介して偏向コイル４へ送る
ことにより電子ビーム５を試料６上で２次元的に
走査し、該走査により試料から発生した情報を検
出器７で検出し、得られた検出信号を増幅器８を
介して輝度信号として電子ビーム走査と同期駆動
される表示装置９へ送り試料像を得る。そして試
料像を観察して分析点を選択し、その分析点の位
置を位置指定器１０により指定し、その後切換回
路２を切換えて偏向コイル４へ上記位置指定器か
らの位置信号を送り、電子ビームを指定位置へ静
止させる。この時表示装置９にも位置信号が送ら
れるため分析点の位置が輝点で表示されることに
なる。
ところが従来は電子ビームを走査状態から静止
状態へ切換える時偏向コイル周囲に配置される材
料の磁気ヒステリシスにより試料面上の電子ビー
ムの照射位置（分析点）が表示装置に表示される
分析点の位置と一致しない現像が起き、所望とす
る点以外の場所を分析してしまうという不都合を
生じていた。本発明は上述した従来の問題点に鑑
みてなされたものであり、以下図面を用いて本発
明を詳説する。
状態へ切換える時偏向コイル周囲に配置される材
料の磁気ヒステリシスにより試料面上の電子ビー
ムの照射位置（分析点）が表示装置に表示される
分析点の位置と一致しない現像が起き、所望とす
る点以外の場所を分析してしまうという不都合を
生じていた。本発明は上述した従来の問題点に鑑
みてなされたものであり、以下図面を用いて本発
明を詳説する。
第２図は本発明の一実施例の構成を示し、第１
図と同一の構成要素には同一番号を付し説明を省
略する。第２図において１１は走査回路１からの
走査信号と位置指定器１０からの位置信号とを比
較する比較回路であり、該比較回路１１から得ら
れる一致信号によつて切換回路２が位置指定器側
へ切換えられる。更に又該切換回路２は切換指令
回路１２から指令信号が供給されている期間にの
み上記切換動作を行うように構成されている。
図と同一の構成要素には同一番号を付し説明を省
略する。第２図において１１は走査回路１からの
走査信号と位置指定器１０からの位置信号とを比
較する比較回路であり、該比較回路１１から得ら
れる一致信号によつて切換回路２が位置指定器側
へ切換えられる。更に又該切換回路２は切換指令
回路１２から指令信号が供給されている期間にの
み上記切換動作を行うように構成されている。
そこで試料像を観察して選択した分析点の位置
を位置指定器１０により指定した後、第３図ａに
示す様に時刻t1に切換指令信号を回路１２から切
換回路２へ送れば、切換回路２はt1後に最初に走
査信号と位置信号が一致する時刻t2（第３図ｂ）
に比較回路１１から発生する一致信号（第３図
ｃ）によつて位置指定器側へ切換えられる。その
ため結局偏向コイル４へは第３図ｄに示す様な偏
向信号が送られることになる。従つてt2以前の走
査状態において一定のヒステリシスループに沿つ
て変化していた偏向コイル周囲の材料内の磁束は
そのループ上のt2における値を保つたままt2以後
変化しない。この様に電子ビームを静止させる時
でも走査する時でも上記磁束は常に一定のヒステ
リシスループ上にあるため、走査状態で得られた
像上の分析点の位置をもとに位置信号を作成すれ
ば、像上の分析点と試料上の実際の分析点が相異
することがない。
を位置指定器１０により指定した後、第３図ａに
示す様に時刻t1に切換指令信号を回路１２から切
換回路２へ送れば、切換回路２はt1後に最初に走
査信号と位置信号が一致する時刻t2（第３図ｂ）
に比較回路１１から発生する一致信号（第３図
ｃ）によつて位置指定器側へ切換えられる。その
ため結局偏向コイル４へは第３図ｄに示す様な偏
向信号が送られることになる。従つてt2以前の走
査状態において一定のヒステリシスループに沿つ
て変化していた偏向コイル周囲の材料内の磁束は
そのループ上のt2における値を保つたままt2以後
変化しない。この様に電子ビームを静止させる時
でも走査する時でも上記磁束は常に一定のヒステ
リシスループ上にあるため、走査状態で得られた
像上の分析点の位置をもとに位置信号を作成すれ
ば、像上の分析点と試料上の実際の分析点が相異
することがない。
尚分析後走査を開始する際には逆に切換指令信
号がなくなつてから最初に走査信号と位置信号が
一致した時点で切換回路２を走査回路側に切換え
ればよいことは言うまでもない。
号がなくなつてから最初に走査信号と位置信号が
一致した時点で切換回路２を走査回路側に切換え
ればよいことは言うまでもない。
以上詳述した如く本発明によればヒステリシス
による試料面上の電子ビームの照射位置のずれを
なくすることができる。
による試料面上の電子ビームの照射位置のずれを
なくすることができる。
第１図は従来例の構成を示す図、第２図は本発
明の一実施例の構成を示す図、第３図は実施例の
動作を説明するための波形図である。 １：走査回路、２：切換回路、４：偏向コイ
ル、９：表示装置、１０：位置指定器、１１：比
較回路、１２：切換指令回路。
明の一実施例の構成を示す図、第３図は実施例の
動作を説明するための波形図である。 １：走査回路、２：切換回路、４：偏向コイ
ル、９：表示装置、１０：位置指定器、１１：比
較回路、１２：切換指令回路。
Claims (1)
- １ 電子ビームを試料上で偏向走査するための偏
向手段と、該偏向手段に供給する走査信号を発生
する走査回路と、試料上の位置を指定する位置信
号を発生する手段と、前記走査信号と前記位置信
号とを前記偏向手段へ選択的に供給するための切
換手段と、該切換手段を切換えるための切換指令
信号を発生する手段と、前記走査信号と位置信号
とを比較する手段とを備え、前記切換指令信号と
前記比較手段の出力信号とに基づいて前記切換手
段を切換えることにより、前記走査信号と位置信
号とが一致した時に電子ビームの走査を停止又は
開始するようにしたことを特徴とする電子プロー
ブ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3788678A JPS54130188A (en) | 1978-03-31 | 1978-03-31 | Electronic probe device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3788678A JPS54130188A (en) | 1978-03-31 | 1978-03-31 | Electronic probe device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54130188A JPS54130188A (en) | 1979-10-09 |
| JPS6235056B2 true JPS6235056B2 (ja) | 1987-07-30 |
Family
ID=12510012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3788678A Granted JPS54130188A (en) | 1978-03-31 | 1978-03-31 | Electronic probe device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54130188A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10028586C2 (de) * | 2000-06-14 | 2002-04-11 | Weforma Gmbh | Stoßdämpfer |
-
1978
- 1978-03-31 JP JP3788678A patent/JPS54130188A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54130188A (en) | 1979-10-09 |
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