JPS6239422B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6239422B2 JPS6239422B2 JP9708879A JP9708879A JPS6239422B2 JP S6239422 B2 JPS6239422 B2 JP S6239422B2 JP 9708879 A JP9708879 A JP 9708879A JP 9708879 A JP9708879 A JP 9708879A JP S6239422 B2 JPS6239422 B2 JP S6239422B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- compound
- energy rays
- liquid
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/60—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances with macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
本発明は2成分系ジアゾ画像形成材料の製造方
法に関する。従来、2成分系ジアゾ画像形成材
料、すなわちジアゾニウム塩とそれと反応するカ
ツプラーとを主成分とする感光性層を支持体上に
有するジアゾ画像形成材料は広く使用されてい
る。
一方、2成分系ジアゾ画像形成材料の製造方法
として、高分子結合剤(例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、酪酸セルロース等)を低
沸点有機溶剤(例えば、アセトン、酢酸メチル
等)に溶解してなる溶液を支持体(例えばプラス
チツクフイルム)上に塗布(厚さ、通常50〜100
μ位)した後、これを高温(通常100〜200℃位)
下長時間乾燥することにより含浸受容層(厚さ、
通常数μ位)形成し、次に感光性ジアゾニウム塩
を含む感光性組成物を前記含浸受容層に含浸さ
せ、乾燥させるという方法が知られている。
なお、この方法においてカツプラーは、前記の
感光性組成物および含浸受容層のうち少くとも一
方に含有させている。
そして、高温下長時間乾燥は、工業的には前記
溶液付の支持体を、精密作動制御された多数のロ
ールで搬送しつつ行なつている。
しかるに、前記の従来法によつて含浸受容層を
形成する際には、次の欠点がある。
(a) 高温下長時間乾燥するので、多量の熱エネル
ギーを要すること。
(b) 大量に蒸発する有機溶剤を処理する設備を要
すること。
(c) 乾燥に、大きな設備スペースを必要とする。
(d) 多数のロールの精密な作動制御を必要とす
る。
本発明の目的とするところは、これらの従来法
の欠点を除去した2成分系ジアゾ画像形成材料の
製造方法を提供することにある。
本発明は、高エネルギー線照射により架橋性を
示す化合物とそれ自体は高エネルギー線照射によ
り架橋性を示さずかつ感光性ジアゾニウム塩を含
む感光性組成物の含浸に好適な高分子化合物(以
下、含浸性付与用高分子化合物と称す)とを含有
する液状組成物(以下、被照射液状組成物と称
す)を平面支持体表面に層状に塗布し高エネルギ
ー線照射して架橋硬化させ、これに前記感光性組
成物を含浸させ乾燥することを特徴とする2成分
系ジアゾ画像形成材料の製造方法である。
本発明において使用する平面性支持体は、従来
公知のジアゾ画像形成材料の製造時使用される支
持体であつてよい。例えば、プラスチツクフイル
ム、合成紙、パルプ紙、金属、ガラス、織布、不
織布等であつてよいが物理的強度特に寸法安定
性、平面性および透明性において優れたプラスチ
ツクフイルム、例えば2軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフイルムが特に好ましい。
感光性ジアゾニウム塩は、従来公知のジアゾ画
像形成材料製造時に使用されている感光性ジアゾ
ニウム塩であつてよく、該感光性ジアゾニウム塩
は、通常、無機ハロゲン塩との複塩の形態で使用
される。複塩としては例えば、1―ジアゾ―4―
ジメチルアミノベンゼンテトラフルオルボーレー
ト、ビス(1―ジアゾ―3―メトキシ―4―ピロ
リジノベンゼン)テトラクロルシンケート等があ
げられる。
本発明において使用するカツプラーのタイプも
また公知であるが、これらは所望する画像の色相
に関係して選択される。特に代表的カツプラー
は、フエノール性化合物および活性メチレン基を
有する化合物である。
フエノール性化合物としては、レゾルシノー
ル、ビスレゾルシノールスルフイド、カテコール
モノヒドロキシエチルエーテル、2―ヒドロキシ
ナフタリン―3―カルボン酸―2′―メチルアニリ
ド、2―ヒドロキシナフタリン―3―カルボン酸
エタノールアミド等があげられ、活性メチレン基
を有する化合物としては、アセトアニリド、アセ
トグリシンアミド、1,4―ビス(アセトアセ
ト)エチレンジアミン等があげられる。
本発明においては、プレカツプリングによる発
色を防止するため、酸性を示す助剤を前記含浸受
容層又は/および前記感光性組成物に含有させる
ことが望ましい。
前記含浸受容層へ前記感光性組成物を含浸させ
るには、従来公知の含浸装置、例えば液供給ロー
ルとかきとり部材とからなる含浸装置を用いるこ
とができる。
前記感光性組成物を含浸受容層に含浸した後の
乾燥は、従来法における乾燥条件でよく、通常60
〜130℃の温度範囲が採用できる。
本発明においては、含浸受容層は、高エネルギ
ー線照射により架橋性を示す化合物と含浸性付与
用高分子化合物とを含有する液状組成物に高エネ
ルギー線照射して架橋硬化させる。
本発明でいう高エネルギー線とは、特に紫外線
または電子線が望ましい。
紫外線照射装置の光源としては、200nm〜
450nmの遠紫外域から近紫外域の紫外光を発する
メタルハライド―水銀灯、低圧、中圧、高圧水銀
灯等を使用してよい。電子線照射装置としては通
常、加速電圧100〜600KeV、電流値10〜100mA
のものを使用する。
前記高エネルギー線照射により架橋性を示す化
合物は、既に文献に十分開示されている。本発明
においては、それら公知のものを使用してよい。
該化合物のうちでも、エチレン性不飽和結合を
1〜4個有するがオリゴマーでない常温で液状の
化合物またはエポキシ結合を2〜6個有する常温
で液状の化合物が好ましい。それらの好ましい化
合物のうちでも、100℃以上の沸点を有するもの
が特に好ましい。
エチレン性不飽和結合を1〜4個有するがオリ
ゴマーでない常温で液状の化合物のうちで、エチ
レン性不飽和結合を1個のみ有する単量体として
は、例えば、メチルアクリレート、2―エチルヘ
キシルアクリレート、2―ヒドロキシエチルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フエノキシエチルアクリレートまたはそれら
のメタクリレート、さらにスチレン、N―ビニル
ピロリドン等がある。
エチレン性不飽和結合を2〜4個有するがオリ
ゴマーでない常温で液状の化合物としては、例え
ば、エチレングリコールジアクリレート、プロピ
レングリコールジアクリレート、1,6―ヘキサ
ンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリトリトールペ
ンタアクリレートあるいはそれらのメタクリレー
ト等がある。
エポキシ結合を2〜6個有し、かつ常温で液状
の化合物中には、例えば、次のものがある。
1,6―ヘキサンジオールジグリシジルエーテ
ル、グリセリントリグリシジルエーテル、ビスレ
ゾルシノールテトラグリシジルエーテル、エポキ
シノボラツク(エポキシ当量:172〜181)等があ
る。
含浸性付与用高分子化合物としては、セルロー
ス誘導体が特に好ましいが、ビニル重合体、ホル
マリン共縮合樹脂等をあげることもできる。その
中でもセルロース誘導体で、しかも相溶性を満足
しているものを選択することが、特に好ましい。
セルロース誘導体としては、次のものが例示さ
れる。(a)セルロースを脂肪酸により変性して得た
アルキルエステル誘導体、例えばセルロースアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、セル
ロースアセテートイソブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート、(b)セルロースを硝酸に
より変性して得たエステル誘導体例えば、セルロ
ースナイトレート、(c)セルロースをジアルキル硫
酸またはハロゲン化アルキル等により変性して得
たエーテル誘導体、例えばエチルセルロース、プ
ロピルセルロース。
本発明において使用する含浸性付与用高分子化
合物は、含浸受容層に感光性ジアゾニウム塩を含
む感光性組成物を含浸させるのに必要不可欠なも
のである。また、該高分子化合物は、アンモニア
ガスのようなアルカリ性化合物が露光済みのジア
ゾ画像形成材料の含浸受容層中に迅速に吸尽され
ることを可能とし、短時間で現像処理を行なうこ
とができるという実用上の有利性を与える。
本発明の実施に当り、ジアゾニウム塩に対する
カツプラーの添加モル比率は通常0.2〜8、好ま
しくは0.5〜3.5である。ジアゾニウム塩とカツプ
ラーとの合計重量は、前記含浸受容層の重量の5
〜50%が好ましく、特に好ましくは10〜40%であ
る。
被照射液状組成物中にエチレン性不飽和結合を
1〜4個有するがオリゴマーでない液状の化合物
を含有する場合は、高エネルギー線により架橋性
を示す化合物に対する含浸性付与用高分子化合物
の重量比率は20〜80%が好ましく、特に好ましく
は35〜68%である。エポキシ結合を2〜6個有す
る液状の化合物を含有する場合には、前記重量比
率は10〜90%が好ましく、特に好ましくは30〜70
%である。
エチレン性不飽和結合を1〜4個有するがオリ
ゴマーでない液状の化合物を含む被照射液状組成
物を紫外線を照射するという態様で本発明を実施
する場合には、紫外線照射によりラジカルを発生
する光架橋活性化剤を使用することが好ましい。
かかる光架橋活性化剤としては、例えばベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフエノ
ン、ベンジル等がある。
エポキシ結合を2〜6個有する液状の化合物を
含有している被照射液状組成物に紫外線を照射す
るという態様により本発明を実施する場合は、通
常のエポキシ樹脂の速硬化剤となるようなLewis
酸を発生する光架橋活性化剤を使用することが、
実際上有利である。
かかるLewis酸を発生する好適な光架橋活性化
剤は、例えば、米国特許3708296号、同3721617
号、同3936557号、特公昭52−14277号、特公昭52
−14278号、特公昭52−14279号、特開昭52−
30402号等に開示されている。
エチレン性不飽和結合を1〜4個有するがオリ
ゴマーでない液状の化合物を含有した被照射液状
組成物には、被照射液状組成物の貯蔵中のゲル化
を防止するため、熱重合禁止剤を少量添加するこ
とが好ましい。熱重合禁止剤としては例えば、ヒ
ドロキノン、ヒドロキノンメチルエーテル、2,
6―ジtert ブチル―p―クレゾール、キユペロ
ン等がある。しかし熱重合禁止剤として一般的に
使用される銅塩はジアゾニウム塩の分解を促進す
るので使用できない。
エチレン性不飽和結合を1〜4個有するがオリ
ゴマーでない液状の化合物を含有する被照射液状
組成物を使用する場合には、該組成物中には、エ
チレン性不飽和結合を2個以上有する架橋性オリ
ゴマーを使用することが好ましい。
該架橋性オリゴマーとしては、前記エチレン性
不飽和結合を1〜4個有するが、オリゴマーでな
い液状の化合物に相溶するものが好ましい。一般
には、分子量300以上、3000以下程度のものが有
利に使用される。
架橋性オリゴマーとしては、例えば、低分子量
ポリエステルを使用して得たポリエステルアクリ
レートまたはポリエステルメタクリレート、エポ
キシアクリレート、エポキシメタクリレート、ウ
レタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、
等がある。
なお本発明の2成分系ジアゾ画像形成材料に
は、通常の安定剤、例えば5―スルホサルチル
酸、コハク酸で代表される酸性成分、塩化亜鉛で
代表される無機塩、2,7―ナフタリンジスルホ
ン酸ジナトリウムのようなスルホン酸のアルカリ
塩、チオ尿素あるいはジエチルチオ尿素等のチオ
尿素類を含有していてもよい。さらに、コロイド
状シリカ、粉末硫酸バリウム、クレイ等の不溶性
粉末を共存させてもよい。
エポキシ結合を2〜6個有する液状の化合物を
含有する被照射液状組成物を使用する場合、エポ
キシ結合を1個有する低分子量の液状化合物を希
釈剤として該組成物に含有させることが好まし
い。該希釈剤を例示すれば、通常のエポキシ樹脂
の希釈剤として知られている、スチレンオキシ
ド、フエニルグリシジルエーテル等のほか、エポ
キシ結合とエチレン性不飽和結合をそれぞれ1個
有するグリシジルメタクリレート、アリルグリシ
ジルエーテル等がある。
以上詳記の本発明によるときは、前記従来法の
欠点が解消され、したがつて2成分系ジアゾ画像
形成材料を工業的に有利に製造することができ
る。
なお2成分系ジアゾ画像形成材料は原図と密着
露光後、常圧における水蒸気を含んだアンモニ
ア、または高圧無水アンモニアガスのようにジア
ゾニウム塩とカツプラー成分との反応によりアゾ
染料を形成させるアルカリ性化合物に短時間接触
させることにより現像される。
上記の2成分系ジアゾ画像形成材料の密着露光
用の光源には、300〜450nm領域の紫外光にとむ
光線を放射する例えばケミカルランプ、中圧、高
圧、超高圧水銀灯、メタルハイラド―水銀灯、カ
ーボンアーク灯が用いられる。
2成分系ジアゾ画像形成材料の露光・現像には
市販の装置の使用が便宜である。
以下、実施例を示す。実施例中の部は重量部
(Kg)を意味し、また容は容量()を表わす。
実施例 1
合成例1 〔ポリエステルアクリレートの合成〕
イソフタル酸 83部
ジエチレングリコール 106部
アジピン酸 146部
p―トルエンスルホン酸(触媒) 2.5部
上記混合物を120℃で反応させ、酸価が130〜
150になつたとき、
2―ヒドロキシエチルアクリレート 116部
ヒドロキノンモノメチルエーテル(熱重合禁止
剤) 0.45部
を添加、空気を吹き込み同じく120℃で4時間反
応させポリエステルアクリレートを得た。
次に、下記成分からなる被照射液状組成物を調
製した。
2―ヒドロキシエチルアクリレート(架橋剤)
50部
上記のポリエステルアクリレート(架橋性オリ
ゴマー) 12部
セルロースアセテートブチレート1/2秒(含浸
性付与用高分子化合物)(米国コダツク社製
CAB381−2) 15部
セルロースブチレート1/2秒(同上)
(同上 HSB) 5部
ポリ(メチルメタクリレート―エチルメタクリ
レート)(同上)(米国ローム・アンドハース社
製アクリロイドB72) 4部
ベンゾインイソプロピルエーテル(光架橋活性
化剤) 3部
上記組成物の粘度は1350cps(25℃)であつた
(B型粘度計使用。以下の実施例においても同型
の粘度計により測定)、これを75μmの下引層を
設けた2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイ
ルム(英国ICI社製Merinex#542)に、コーター
を用いて塗布、連続して20m/分の走行速度で紫
外線照射装置(岩崎電気製メタルハライド―水銀
灯80W/cm、3本使用)を通し膜厚約6.5μmの
含浸受容層を造成した。
次に、下記成分からなる2成分系ジアゾ感光性
組成物溶液を調製した。
1―ジアゾ―2.5―ジエトキシチオモルホリノ
ベンゼンテトラフルオルポーレート(ジアゾニ
ウム塩) 10部
アセトアセトアニリド(カツプラー) 6部
2―ヒドロキシナフタリン―3―カルボン酸―
2′―メチルアニリド(同上) 18部
塩化第2スズ(現像促進用金属塩) 2.5部
酒石酸(早期カツプリング防止剤) 3.5部
チオ尿素(還元剤) 0.8部
アセトン 700容
該感光性組成物溶液をキスコーターおよびワイ
ヤーバー“かきとり”により20m/分の走行速度
でフイルム上の前記含浸受容層に含浸、50〜80℃
の温度で、支持ロールの少ない簡便な堅型乾燥装
置を通し乾燥、2成分系ジアゾ画像形成材料を得
た。
該2成分系ジアゾ画像形成材料を露光・アンモ
ニア現像試験、ならびに現像済み材料について試
験を行ない第1表の結果を得た。
The present invention relates to a method for producing two-component diazo imaging materials. Hitherto, two-component diazo image-forming materials, ie, diazo image-forming materials having a photosensitive layer on a support, the main components of which are a diazonium salt and a coupler that reacts with the diazonium salt, have been widely used. On the other hand, as a method for producing a two-component diazo image forming material, a polymer binder (e.g., cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose butyrate, etc.) is dissolved in a low boiling point organic solvent (e.g., acetone, methyl acetate, etc.). onto a support (e.g. plastic film) (thickness, usually 50-100
μ), then heat it to a high temperature (usually around 100 to 200℃)
Under the impregnated receptor layer (thickness,
A method is known in which the impregnated receiving layer is impregnated with a photosensitive composition containing a photosensitive diazonium salt and dried. In this method, the coupler is contained in at least one of the photosensitive composition and the impregnated receiving layer. Industrially, drying at high temperatures for a long period of time is carried out while the support coated with the solution is conveyed by a large number of precisely controlled rolls. However, when forming an impregnated receptor layer by the above-mentioned conventional method, there are the following drawbacks. (a) It requires a large amount of heat energy because it is dried at high temperatures for a long time. (b) Requires equipment to handle organic solvents that evaporate in large quantities. (c) Requires large equipment space for drying. (d) Requires precise operational control of a large number of rolls. An object of the present invention is to provide a method for producing a two-component diazo image-forming material that eliminates the drawbacks of these conventional methods. The present invention relates to a compound that exhibits crosslinking properties when irradiated with high energy rays and a polymer compound that itself does not exhibit crosslinking properties when irradiated with high energy rays and is suitable for impregnating a photosensitive composition containing a photosensitive diazonium salt (hereinafter referred to as A liquid composition (hereinafter referred to as an irradiated liquid composition) containing a polymer compound for imparting impregnating properties (hereinafter referred to as an irradiated liquid composition) is coated in a layer on the surface of a flat support and cross-linked and cured by irradiation with high-energy rays. This is a method for producing a two-component diazo image forming material, which comprises impregnating the material with the photosensitive composition and drying the material. The planar support used in the present invention may be a support used in the production of conventionally known diazo image forming materials. For example, plastic film, which may be made of plastic film, synthetic paper, pulp paper, metal, glass, woven fabric, non-woven fabric, etc., has excellent physical strength, particularly dimensional stability, flatness, and transparency, such as biaxially oriented polyethylene terephthalate. Films are particularly preferred. The photosensitive diazonium salt may be a photosensitive diazonium salt used in the production of conventionally known diazo image forming materials, and the photosensitive diazonium salt is usually used in the form of a double salt with an inorganic halogen salt. . Examples of double salts include 1-diazo-4-
Examples include dimethylaminobenzene tetrafluoroborate, bis(1-diazo-3-methoxy-4-pyrrolidinobenzene) tetrachlorosincate, and the like. The types of couplers used in the present invention are also known and are selected with respect to the desired image hue. Particularly typical couplers are phenolic compounds and compounds with active methylene groups. Examples of phenolic compounds include resorcinol, bisresorcinol sulfide, catechol monohydroxyethyl ether, 2-hydroxynaphthalene-3-carboxylic acid-2'-methylanilide, and 2-hydroxynaphthalene-3-carboxylic acid ethanolamide. Examples of the compound having an active methylene group include acetanilide, acetoglycinamide, and 1,4-bis(acetoaceto)ethylenediamine. In the present invention, in order to prevent color development due to pre-coupling, it is desirable that the impregnated receiving layer and/or the photosensitive composition contain an auxiliary agent exhibiting acidity. In order to impregnate the photosensitive composition into the impregnation receiving layer, a conventionally known impregnation device, for example, an impregnation device comprising a liquid supply roll and a scraping member, can be used. After impregnating the photosensitive composition into the impregnated receptor layer, drying may be carried out under conventional drying conditions, usually at 60°C.
A temperature range of ~130℃ can be adopted. In the present invention, the impregnated receiving layer is crosslinked and cured by irradiating a liquid composition containing a compound exhibiting crosslinking properties and a polymer compound for imparting impregnating properties with high energy rays. The high-energy rays referred to in the present invention are particularly preferably ultraviolet rays or electron beams. As a light source for ultraviolet irradiation equipment, 200nm ~
Metal halide-mercury lamps, low-pressure, medium-pressure, high-pressure mercury lamps, etc. that emit ultraviolet light in the far-ultraviolet to near-ultraviolet ranges of 450 nm may be used. Typically, an electron beam irradiation device has an accelerating voltage of 100 to 600 KeV and a current value of 10 to 100 mA.
Use the one. Compounds that exhibit crosslinking properties upon irradiation with high-energy rays have already been sufficiently disclosed in the literature. In the present invention, those known materials may be used. Among these compounds, preferred are compounds that are liquid at room temperature and have 1 to 4 ethylenically unsaturated bonds but are not oligomers, or compounds that are liquid at room temperature and have 2 to 6 epoxy bonds. Among these preferred compounds, those having a boiling point of 100°C or higher are particularly preferred. Among compounds that have 1 to 4 ethylenically unsaturated bonds but are not oligomers and are liquid at room temperature, examples of monomers having only one ethylenically unsaturated bond include methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate. -Hydroxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate or their methacrylates, as well as styrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of compounds that have 2 to 4 ethylenically unsaturated bonds but are not oligomers and are liquid at room temperature include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and penta Examples include erythritol pentaacrylate and their methacrylates. Examples of compounds that have 2 to 6 epoxy bonds and are liquid at room temperature include the following. Examples include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, bisresorcinol tetraglycidyl ether, and epoxy novolak (epoxy equivalent: 172 to 181). As the polymer compound for imparting impregnating properties, cellulose derivatives are particularly preferred, but vinyl polymers, formalin cocondensation resins, etc. may also be used. Among these, it is particularly preferable to select a cellulose derivative that satisfies compatibility. Examples of cellulose derivatives include the following. (a) Alkyl ester derivatives obtained by modifying cellulose with fatty acids, such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate isobutyrate, cellulose acetate propionate, (b) esters obtained by modifying cellulose with nitric acid. Derivatives such as cellulose nitrate, (c) ether derivatives obtained by modifying cellulose with dialkyl sulfate or alkyl halides, such as ethyl cellulose and propyl cellulose. The impregnating polymer compound used in the present invention is essential for impregnating the impregnated receiving layer with a photosensitive composition containing a photosensitive diazonium salt. In addition, the polymer compound enables alkaline compounds such as ammonia gas to be rapidly exhausted into the impregnated receiving layer of the exposed diazo imaging material, allowing development processing to be carried out in a short time. This provides a practical advantage. In carrying out the present invention, the molar ratio of coupler to diazonium salt is usually 0.2 to 8, preferably 0.5 to 3.5. The total weight of the diazonium salt and coupler is 5% of the weight of the impregnated receptor layer.
-50% is preferred, particularly preferably 10-40%. When the liquid composition to be irradiated contains a liquid compound that has 1 to 4 ethylenically unsaturated bonds but is not an oligomer, the weight ratio of the polymer compound for imparting impregnating properties to the compound that exhibits crosslinking properties by high-energy rays. is preferably 20 to 80%, particularly preferably 35 to 68%. When containing a liquid compound having 2 to 6 epoxy bonds, the weight ratio is preferably 10 to 90%, particularly preferably 30 to 70%.
%. When carrying out the present invention in an embodiment in which a liquid composition to be irradiated containing a liquid compound having 1 to 4 ethylenically unsaturated bonds but not an oligomer is irradiated with ultraviolet rays, photocrosslinking that generates radicals by ultraviolet irradiation is required. Preference is given to using activators. Examples of such photocrosslinking activators include benzoin, benzoin methyl ether, benzophenone, and benzyl. When carrying out the present invention in an embodiment in which a liquid composition to be irradiated containing a liquid compound having 2 to 6 epoxy bonds is irradiated with ultraviolet rays, Lewis
Using a photocrosslinking activator that generates an acid can
Practically advantageous. Suitable photocrosslinking activators that generate such Lewis acids are described, for example, in U.S. Pat.
No. 3936557, Special Publication No. 14277, Special Publication No. 14277, Special Publication No. 14277
−14278, Special Publication No. 14279, Special Publication No. 14279, No. 14279, Japanese Patent Publication No. 14279
It is disclosed in No. 30402, etc. For liquid compositions to be irradiated containing liquid compounds having 1 to 4 ethylenically unsaturated bonds but not oligomers, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is added in order to prevent gelation during storage of the liquid composition to be irradiated. It is preferable to add. Examples of thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, hydroquinone methyl ether, 2,
Examples include 6-di-tert-butyl-p-cresol and Kyuperon. However, copper salts, which are commonly used as thermal polymerization inhibitors, cannot be used because they accelerate the decomposition of diazonium salts. When using a liquid composition to be irradiated containing a liquid compound having 1 to 4 ethylenically unsaturated bonds but not an oligomer, the composition contains a crosslinked compound having 2 or more ethylenically unsaturated bonds. Preference is given to using oligomers. The crosslinkable oligomer preferably has one to four ethylenically unsaturated bonds, but is compatible with a liquid compound that is not an oligomer. Generally, those having a molecular weight of about 300 or more and 3000 or less are advantageously used. Examples of crosslinkable oligomers include polyester acrylate or polyester methacrylate obtained using low molecular weight polyester, epoxy acrylate, epoxy methacrylate, urethane acrylate, urethane methacrylate,
etc. The two-component diazo image forming material of the present invention may contain conventional stabilizers such as acidic components such as 5-sulfosalicylic acid and succinic acid, inorganic salts such as zinc chloride, and 2,7-naphthalene disulfonic acid. It may contain alkali salts of sulfonic acids such as disodium, thioureas such as thiourea or diethylthiourea. Furthermore, insoluble powders such as colloidal silica, powdered barium sulfate, and clay may also be present. When using a liquid composition to be irradiated containing a liquid compound having 2 to 6 epoxy bonds, it is preferable to include a low molecular weight liquid compound having one epoxy bond as a diluent in the composition. Examples of such diluents include styrene oxide, phenyl glycidyl ether, etc., which are known as diluents for ordinary epoxy resins, as well as glycidyl methacrylate and allyl glycidyl having one epoxy bond and one ethylenically unsaturated bond. There is ether etc. According to the present invention described in detail above, the drawbacks of the conventional methods described above are overcome, and therefore a two-component diazo image-forming material can be industrially advantageously produced. Two-component diazo image-forming materials, after contact exposure with the original image, can be easily exposed to ammonia containing water vapor at normal pressure or alkaline compounds such as high-pressure anhydrous ammonia gas that form an azo dye through the reaction of a diazonium salt and a coupler component. Developed by contacting for a period of time. Light sources for contact exposure of the above-mentioned two-component diazo image forming materials include chemical lamps that emit ultraviolet light in the 300 to 450 nm region, medium pressure, high pressure, and ultra-high pressure mercury lamps, metal hydrad-mercury lamps, and carbon arcs. Lights are used. It is convenient to use commercially available equipment for exposure and development of the two-component diazo image forming material. Examples are shown below. In the examples, "part" means part by weight (Kg), and "capacity" means volume (). Example 1 Synthesis Example 1 [Synthesis of polyester acrylate] Isophthalic acid 83 parts Diethylene glycol 106 parts Adipic acid 146 parts p-Toluenesulfonic acid (catalyst) 2.5 parts The above mixture was reacted at 120°C, and the acid value was 130~
When the temperature reached 150, 116 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 0.45 parts of hydroquinone monomethyl ether (thermal polymerization inhibitor) were added, air was blown into the mixture, and the reaction was carried out at 120°C for 4 hours to obtain polyester acrylate. Next, a liquid composition to be irradiated consisting of the following components was prepared. 2-Hydroxyethyl acrylate (crosslinking agent)
50 parts of the above polyester acrylate (crosslinkable oligomer) 12 parts Cellulose acetate butyrate 1/2 second (polymer compound for imparting impregnating properties) (manufactured by Kodatsu, USA)
CAB381-2) 15 parts cellulose butyrate 1/2 sec (same as above) (same as above HSB) 5 parts poly(methyl methacrylate-ethyl methacrylate) (same as above) (Acryloid B72 manufactured by Rohm & Haas, USA) 4 parts benzoin isopropyl ether ( Photocrosslinking activator) 3 parts The viscosity of the above composition was 1350 cps (25°C) (using a B-type viscometer. Measurements were also made using the same type of viscometer in the following examples). The coating was applied using a coater to a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (Merinex #542, manufactured by ICI, UK), which was coated with an ultraviolet irradiation device (metal halide-mercury lamp, manufactured by Iwasaki Electric, 80 W/cm, at a running speed of 20 m/min). An impregnated receptor layer with a film thickness of approximately 6.5 μm was created by passing through the impregnated receptor layer (using 3 tubes). Next, a two-component diazo photosensitive composition solution consisting of the following components was prepared. 1-Diazo-2.5-diethoxythiomorpholinobenzene tetrafluoroporate (diazonium salt) 10 parts acetoacetanilide (Kuplar) 6 parts 2-hydroxynaphthalene-3-carboxylic acid
2'-methylanilide (same as above) 18 parts stannous chloride (metal salt for accelerating development) 2.5 parts tartaric acid (early coupling inhibitor) 3.5 parts thiourea (reducing agent) 0.8 parts acetone 700 volumes The photosensitive composition solution Impregnate the impregnated receptor layer on the film at a running speed of 20 m/min using a kiss coater and a wire bar "scraper" at 50 to 80°C.
A two-component diazo image-forming material was obtained by drying at a temperature of 1,000 yen through a simple vertical dryer with few supporting rolls. The two-component diazo image-forming material was subjected to exposure and ammonia development tests, as well as tests on the developed material, and the results shown in Table 1 were obtained.
【表】
表―1における感度は、従来法により製造され
た同等品との比較において感度が大、同等、およ
び小に対して1,2、および3あるいは4と評価
した。具体的にはコダツク社製ステツプタブレツ
トNo.3を焼きつけたのち、アンモニア現像して透
明になる段数を調べ、4段まで透明の場合1,3
段透明の場合2,2段以下透明の場合3あるいは
4とした。
現像済み材料表面硬度を鉛筆硬度によつて表示
した。
接着性はJISD―0202に準拠し、いわゆる基板
目テストを行ない調べた。すなわち現像済み材料
表面に剃刃で1辺1mmの桝目を100個(10×10)
作り、セロフアンテープを桝目に圧着、急速に引
きはがし、材料表面に残つた桝目の数を表示し
た。したがつて100/100は100個の桝目がすべて
剥離しなかつたことを示す。
もろさの試験は、現像済み材料を両手で強く5
回もみ、膜はがれの全くない場合を1、極くわず
かに細い線状の剥離を生ずるものを2、1cm以上
の線または面積4mm2程度の面剥離があるものを
3、かなり剥離欠損部分のあるものを4とした。
現像性は、市販アンモニア現像装置により現像速
度15m/分、12m/分、18m/分、および5m/
分をそれぞれ1,2,3、および4とした。従来
法による同等品のジアゾ画像形成材料の現像性は
2となつている。
ブリード(bleeding)とは、現像済み材料が1
ケ月程度の期間比較的高湿度変化が大きい環境下
におかれた場合、発色部のアゾ染料の滲み出しの
生ずることを称し、耐ブリード性は前記のような
環境で1ケ月保存した現像済み材料がブリードし
ない場合を1、わずかにブリードするが市販ジア
ゾ画像形成材料程度である場合を2、かなりブリ
ードする場合を3とした。
ブルーム(blooming)は現像処理済み材料の
画像部に油性物質が付着した場合、付着個所の染
料が浮き出す現像を称し、例えば汚れた指先で触
れると指紋様のブルームが出易い。耐ブルーム試
験は、画像部を強く指先で押し、80℃の乾燥装置
に入れ、一定時間後のブルームの発生を調べた。
5〜8時間、4〜5時間、2〜3時間および1〜
2時間それぞれ経過後にブルームが生じた場合、
1,2,3、および4と評価した。従来法による
同等品の耐ブルーム性評価は2である。
以下の実施例においても上記の評価法は、特に
記述のない限り同一とする。点数評価では上述の
説明にみられるように従来法で製造されたジアゾ
画像形成材料の評価2を基準としている。
実施例 2
合成例2〔ウレタン化エポキシアクリレートの合
成〕
ウレタン化エポキシ樹脂(旭電化製EPU―
10) 68部
アクリル酸 14.4部
トリエチルベンジルアンモニウムクロリド(触
媒) 0.5部
トリメチロールプロパントリアクリレート(反
応希釈剤ならびに架橋剤) 55部
ヒドロキノンモノメチルエーテル(熱重合禁止
剤) 0.14部
上記混合物に乾燥空気を吹き込みながら100℃
で6時間反応させウレタン化エポキシアクリレー
トのトリメチロールプロパントリアクリレート溶
液を得た。
次に、下記成分からなる被照射液状組成物を調
製した。
2―ヒドロキシプロピルアクリレート(架橋
剤) 35部
合成例2のウレタン化エポキシアクリレート
(架橋性オリゴマー)のトリメチロールプロパ
ンアクリレート(架橋剤)溶液 13部
ケトン樹脂(含浸性付与用高分子化合物)(日
立化成製ハイラツク111) 10部
セルロースアセテートブチレート(含浸性付与
用高分子化合物)米国コダツク社製CAB551―
0.2) 33部
ベンゾインエチルエーテル(光架橋活性化剤)
4部
該被照射液状組成物に2成分系ジアゾ画像形成
材料の下記の助剤類を添加し均一な組成物とした
〔粘度1750cps(25℃)〕
微粉化2,7―ナフタリンスルホン酸ジナトリ
ウム(現像促進剤) 5.2部
酒石酸(早期カツプリング防止剤) 4.7部
チオ尿素(還元剤)) 11部
上記混合組成物を下引層を設けない未処理の28
μm2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイル
ムに実施例1と同様の装置を用い塗布並びに紫外
線照射し含浸受容層を造成した(膜厚約6μm)
この場合、塗布された混合組成物は60℃に加熱さ
れてエクストルダーより押し出され、フイルムの
走行速度は23m/分であつた。
次に、下記成分からなる2成分系ジアゾ感光性
組成物溶液を調製した。
1―ジアゾ―2,5―ジブトキシモルホリノベ
ンゼンテトラフルオルボーレート(ジアゾニウ
ム塩) 10.5部
2―ヒドロキシナフタリン―3―カルボン酸―
2′―メチルアニリド(アゾカツプリング成分)
19部
塩化亜鉛(ジアゾ安定剤兼現像促進剤) 7部
アセトン 500容
メチルセロソルブ 200容
該感光性組成物溶液を実施例1と同様な装置で
含浸、乾燥し、2成分系ジアゾ画像形成材料を得
た。この場合の乾燥温度の上限は120℃に設定さ
れ、かつ走行速度は上記と同一の23m/分であつ
た。
上記2成分系ジアゾ画像形成材料の試験結果は
表―2の通りであつた。[Table] Sensitivity in Table 1 was evaluated as 1, 2, 3, or 4 for high, equal, and low sensitivity in comparison with equivalent products manufactured by conventional methods. Specifically, after baking Kodatsu Step Tablet No. 3, we checked the number of steps that became transparent by developing it with ammonia, and if it was transparent up to 4 steps, it was 1 or 3.
The rating was 2 if the level was transparent, and the rating was 3 or 4 if the level was 2 or less transparent. The surface hardness of the developed material was expressed by pencil hardness. Adhesiveness was determined in accordance with JISD-0202 using a so-called board test. In other words, make 100 squares (10 x 10) with a side of 1 mm on the surface of the developed material using a razor blade.
The cellophane tape was then pressed onto the squares, rapidly peeled off, and the number of squares remaining on the surface of the material was displayed. Therefore, 100/100 indicates that all 100 squares were not peeled off. To test for brittleness, press the developed material firmly with both hands.
1. If there is no peeling of the film at all, 2. If there is a very thin line peeling, 2. If there is a line of 1 cm or more or surface peeling with an area of about 4 mm 2. 3. If there is a significant peeling defect. Some were given a 4.
Developability was determined using a commercially available ammonia developing device at developing speeds of 15 m/min, 12 m/min, 18 m/min, and 5 m/min.
The minutes were 1, 2, 3, and 4, respectively. The developability of an equivalent diazo image forming material prepared by the conventional method is 2. Bleeding means that one part of the developed material
This refers to the fact that the azo dye in the color development area bleeds out when it is placed in an environment with relatively high humidity changes for a period of about several months. A rating of 1 was given when there was no bleeding, a rating of 2 was given where a slight amount of bleeding occurred but it was comparable to that of a commercially available diazo image forming material, and a rating of 3 was given where there was considerable bleeding. Blooming refers to the development in which when an oily substance adheres to the image area of a developed material, the dye in the adhered area stands out.For example, when touched with a dirty fingertip, a fingerprint-like bloom tends to appear. In the bloom resistance test, the image area was strongly pressed with a fingertip, placed in a drying device at 80°C, and the occurrence of bloom was examined after a certain period of time.
5-8 hours, 4-5 hours, 2-3 hours and 1-
If bloom occurs after 2 hours,
Rated 1, 2, 3, and 4. The bloom resistance rating of the equivalent product using the conventional method is 2. The above evaluation method is the same in the following examples unless otherwise specified. As seen in the above explanation, the score evaluation is based on the evaluation 2 of the diazo image forming material produced by the conventional method. Example 2 Synthesis Example 2 [Synthesis of urethanized epoxy acrylate] Urethane epoxy resin (EPU made by Asahi Denka)
10) 68 parts acrylic acid 14.4 parts triethylbenzylammonium chloride (catalyst) 0.5 parts trimethylolpropane triacrylate (reaction diluent and crosslinking agent) 55 parts hydroquinone monomethyl ether (thermal polymerization inhibitor) 0.14 parts Dry air was blown into the above mixture. while 100℃
The mixture was reacted for 6 hours to obtain a trimethylolpropane triacrylate solution of urethanized epoxy acrylate. Next, a liquid composition to be irradiated consisting of the following components was prepared. 2-Hydroxypropyl acrylate (crosslinking agent) 35 parts Trimethylolpropane acrylate (crosslinking agent) solution of the urethanized epoxy acrylate (crosslinkable oligomer) of Synthesis Example 2 13 parts Ketone resin (polymer compound for imparting impregnation properties) (Hitachi Chemical) HIRAKU 111) 10 parts Cellulose acetate butyrate (polymer compound for imparting impregnating properties) CAB551 manufactured by Kodatsu, USA
0.2) 33 parts benzoin ethyl ether (photocrosslinking activator)
4 parts Add the following auxiliaries for a two-component diazo image forming material to the liquid composition to be irradiated to make a uniform composition [viscosity 1750 cps (25°C)] Micronized disodium 2,7-naphthalene sulfonate (Development accelerator) 5.2 parts Tartaric acid (early coupling prevention agent) 4.7 parts Thiourea (reducing agent) 11 parts
A μm biaxially stretched polyethylene terephthalate film was coated using the same equipment as in Example 1 and irradiated with ultraviolet rays to form an impregnated receptor layer (film thickness approximately 6 μm).
In this case, the coated mixed composition was heated to 60°C and extruded from an extruder, and the film running speed was 23 m/min. Next, a two-component diazo photosensitive composition solution consisting of the following components was prepared. 1-Diazo-2,5-dibutoxymorpholinobenzene tetrafluoroborate (diazonium salt) 10.5 parts 2-hydroxynaphthalene-3-carboxylic acid
2′-Methylanilide (azo coupling component)
19 parts Zinc chloride (diazo stabilizer and development accelerator) 7 parts Acetone 500 volumes Methyl cellosolve 200 volumes The photosensitive composition solution was impregnated in the same apparatus as in Example 1 and dried to form a two-component diazo image forming material. Obtained. The upper limit of the drying temperature in this case was set at 120°C, and the running speed was the same as above, 23 m/min. The test results for the two-component diazo image forming material were as shown in Table 2.
【表】
実施例 3
下記成分からなる被照射液状組成物を調製し
た。
フエニルグリシジルエーテル(架橋剤) 19部
グリシジルメタクリレート(同上) 52部
グリセリントリグリシジルエーテル(同上)
23部
セルロースアセテートブチレート(含浸性付与
用高分子化合物)(米国コダツク社製CAB551
―0.01) 30部
エチルヒドロキシエチルセルロース(同上)
(米国ハーキユレス社製EHEC―Low) 13部
上記組成物〔粘度860cps(25℃)〕を下引き処
理を施した75μm2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レートフイルムに塗布、加速電圧300KeV、電流
値100mAで約1.5Mradの線吸収量で電子線照射に
より硬化させ膜厚約8μmの含浸受容層を造成し
た。
次に、下記組成からなる2成分系ジアゾ感光性
組成物を調製した。
ビス(1―ジアゾ―3―メチル―4―ピロリジ
ノベンゼン)テトラクロルジンケケート(ジア
ゾニウム塩) 6部
2―ヒドロキシナフタリン―3―カルボン酸―
3′―N―モルホリノプロピルアミド(アゾカツ
プリング成分) 9.5部
クエン酸(早期カツプリング防止剤) 8部
2,7―ナフタリンジスルホン酸ジナトリウム
(現像促進剤) 3部
チオ尿素(還元剤) 7.5部
メチルセロソルブアセテート 200容
アセトニトリル 70容
ジオキサン 130容
該感光性組成物溶液をワイヤーバーコーターで
塗布含浸受容層に含浸させ80〜120℃で乾燥、2
成分系画像形成材料を得、表―3の試験結果を得
た。[Table] Example 3 A liquid composition to be irradiated consisting of the following components was prepared. Phenyl glycidyl ether (crosslinking agent) 19 parts glycidyl methacrylate (same as above) 52 parts glycerin triglycidyl ether (same as above)
23 parts cellulose acetate butyrate (polymer compound for impregnating properties) (CAB551 manufactured by Kodatsu, USA)
-0.01) 30 parts ethylhydroxyethylcellulose (same as above)
(EHEC-Low, manufactured by Hercules, USA) 13 parts The above composition [viscosity 860 cps (25°C)] was applied to a 75 μm biaxially stretched polyethylene terephthalate film that had been subjected to undercoating treatment, and at an accelerating voltage of 300 KeV and a current value of 100 mA, approximately 1.5 Mrad was applied. It was cured by electron beam irradiation at a radiation absorption amount to form an impregnated receptor layer with a film thickness of about 8 μm. Next, a two-component diazo photosensitive composition having the following composition was prepared. Bis(1-diazo-3-methyl-4-pyrrolidinobenzene)tetrachlordine kecate (diazonium salt) 6 parts 2-hydroxynaphthalene-3-carboxylic acid-
3'-N-morpholinopropylamide (azo coupling component) 9.5 parts Citric acid (early coupling inhibitor) 8 parts Disodium 2,7-naphthalene disulfonate (development accelerator) 3 parts Thiourea (reducing agent) 7.5 parts Methyl cellosolve acetate 200 volumes Acetonitrile 70 volumes Dioxane 130 volumes The photosensitive composition solution was applied using a wire bar coater to impregnate the impregnated receiving layer and dried at 80 to 120°C, 2
A component-based image forming material was obtained, and the test results shown in Table 3 were obtained.
【表】
実施例 4〜14
合成例3 〔ウレタンアクリレートの合成〕
トリレンジイソシアナト(2,4―ジ置換体/
2,6―ジ置換体=80/20) 174部
トリエチレングリコール 75部
1,6―ヘキサンジオールジアクリレート
200部
ヒドロキノンモノメチルエーテル 0.57部
上記混合物に空気を吹き込みながら60℃で4時
間反応させ、生成ポリマーの両末端にイソシアナ
ト基をもつプレポリマーを合成し、さらに2―ヒ
ドロキシエチルアクリレート116部を添加、60℃
で6時間反応させウレタンアクリレートを得た。
なお、上記の反応混合物における1,6―ヘキサ
ンジオールジアクリレートは重付加反応の希釈剤
として使用されているが、これは同時に架橋剤と
なるので混合物を直接含浸受容層を形成する組成
物の一部として利用し得る。
合成例4〔エポキシアクリレートの合成〕
エポキシ樹脂(シエル化学製エピコート828;
エポキシ当量185〜192) 94.5部
アクリル酸 36部
N,N―ジメチルアニリン(触媒) 1.3部
上記混合物を100℃で空気を吹き込み反応させ
エポキシアクリレートを得た。
表―4の各種被照射液状組成物を調製、実施例
1と同一の方法で塗布並びに硬化させ下引き処理
した75μm2軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フイルム上にそれぞれ含浸受容層を造成、実施例
2と同一の感光性組成物を含浸させ得られた2成
分系ジアゾ画像形成材料につき評価試験を行なつ
た。なお、含浸受容層造成のフイルム走行速度は
15〜80m/分、また含浸工程のフイルム走行速度
は30〜80m/分である。[Table] Examples 4 to 14 Synthesis Example 3 [Synthesis of urethane acrylate] Tolylene diisocyanate (2,4-disubstituted product/
2,6-disubstituted product = 80/20) 174 parts triethylene glycol 75 parts 1,6-hexanediol diacrylate
200 parts Hydroquinone monomethyl ether 0.57 parts The above mixture was reacted at 60°C for 4 hours while blowing air to synthesize a prepolymer having isocyanate groups at both ends of the resulting polymer, and further 116 parts of 2-hydroxyethyl acrylate was added. ℃
The mixture was reacted for 6 hours to obtain urethane acrylate.
Note that 1,6-hexanediol diacrylate in the above reaction mixture is used as a diluent in the polyaddition reaction, but since it also serves as a crosslinking agent, the mixture is directly impregnated as part of the composition forming the receptor layer. It can be used as a part. Synthesis Example 4 [Synthesis of epoxy acrylate] Epoxy resin (Ciel Chemical Epicote 828;
Epoxy equivalent: 185-192) 94.5 parts Acrylic acid 36 parts N,N-dimethylaniline (catalyst) 1.3 parts The above mixture was reacted by blowing air at 100°C to obtain epoxy acrylate. The various irradiated liquid compositions shown in Table 4 were prepared, applied and cured in the same manner as in Example 1, and an impregnated receiving layer was formed on each of the 75 μm biaxially stretched polyethylene terephthalate films that had been subjected to subbing treatment. An evaluation test was conducted on a two-component diazo image forming material obtained by impregnating it with a photosensitive composition. The film running speed for forming the impregnated receptor layer is
The film running speed during the impregnation step is 30 to 80 m/min.
【表】
表―4各成分の略号は次の通りである。
架橋剤
C1 2―ヒドロキシエチルアクリレート
C2 2―ヒドロキシプロピルアクリレート
C3 テトラヒドロフルフリルアクリレート
C4 エチレングリコールモノアクリレート
C5 エチルクロトナート
C6 シクロヘキシルアクリレート
C7 2―エチルヘキシルアクリレート
C8 1,6―ヘキサンジオールジアクリレート
C9 フエノキノエチルアクリレート
C10 N―ビニルピロリドン
架橋性オリゴマー
Q1 エポキシアクリレート(合成例4の合成
品)
Q2 ウレタンアクリレート(合成例3の合成
品、1,6―ヘキサンジオールジアクリレート
溶液)
Q3 ウレタン化エポキシアクリレート(合成
2の合成品、トリメチロールプロパントリアク
リレート溶液)
含浸性付与用高分子化合物
P1 セルロースアセテートブチレート1/2秒
(米コダツク社製CAB381―2)
P2 ポリ(メチルメタクリレートエチルメタク
リレート)(米ローム・アンド・ハース社製
Acryloid―B72)
P3 ポリ(メチルアクリレート―メチルメタク
リレート)(米ローム・アンド・ハース社製
Acryloid―101)
P4 キシレン樹脂(三菱瓦斯化学製、ニカノー
ルL)
P5 ケトン樹脂(日立化成製、ハイラツク
111)
P6 ケトン樹脂(独、バイエル製、Kunstharz
AFS)
光架橋活性剤
S1 ベンゾインエチルエーテル
S2 ベンジル
S3 ベンゾインイソプロピルエーテル
S4 ベンゾフエノン
S5 2―tertブチルアントラキノン
熱重合禁止剤
i1 ハイドロキノンモノメチルエーテル
i2 2,6―ジ―tert―ブチル―p―クレゾール
表中上記記号の前の数字は重量部を示す。例え
ば37C9は架橋剤C9を37部添加することを意味す
る。但し重合禁止剤についてはppm単位をと
る。
実施例 15〜19
実施例2に作製した2成分系ジアゾ画像形成材
料の助剤類を含有する、28μm2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフイルム上の含浸受容層に若
干のジアゾニウム塩とカツプラー成分の組み合せ
による異る2成分系ジアゾ感光組成物を含浸させ
て得られた画像形成材料に関する試験結果を表―
5に要約する。但し、感光性組成物溶液の調製の
際、比較検討のため塩化亜鉛の添加量、溶媒の種
類と添加量は実施例2の場合と同一とした。[Table] Table 4 The abbreviations of each component are as follows. Crosslinking agent C 1 2-hydroxyethyl acrylate C 2 2-hydroxypropyl acrylate C 3 Tetrahydrofurfuryl acrylate C 4 Ethylene glycol monoacrylate C 5 Ethyl crotonate C 6 Cyclohexyl acrylate C 7 2-Ethylhexyl acrylate C 8 1,6-hexane Diol diacrylate C 9 Phenoquinoethyl acrylate C 10 N-vinylpyrrolidone crosslinkable oligomer Q 1 Epoxy acrylate (synthesized product of Synthesis Example 4) Q 2 Urethane acrylate (synthesized product of Synthesis Example 3, 1,6-hexane diol diacrylate Acrylate solution) Q 3Urethanized epoxy acrylate (Synthesis 2, trimethylolpropane triacrylate solution) Polymer compound for imparting impregnating properties P 1Cellulose acetate butyrate 1/2 second (CAB381-2 manufactured by Kodatsu, USA) P 2 Poly(methyl methacrylate ethyl methacrylate) (manufactured by Rohm and Haas, USA)
Acryloid-B72) P 3 poly(methyl acrylate-methyl methacrylate) (manufactured by Rohm and Haas, USA)
Acryloid-101) P 4 xylene resin (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., Nicanol L) P 5 Ketone resin (Hitachi Chemical Co., Ltd., Hilux
111) P 6 ketone resin (Kunstharz, Bayer, Germany)
AFS) Photocrosslinking activator S 1 Benzoin ethyl ether S 2 Benzyl S 3 Benzoin isopropyl ether S 4 Benzophenone S 5 2-tert-butylanthraquinone thermal polymerization inhibitor i 1 Hydroquinone monomethyl ether i 2 2,6-di-tert-butyl- p-Cresol The number before the above symbol in the table indicates parts by weight. For example, 37C 9 means adding 37 parts of crosslinking agent C 9 . However, for polymerization inhibitors, the unit is ppm. Examples 15-19 The two-component diazo image forming material prepared in Example 2 was treated with different combinations of some diazonium salt and coupler components in the impregnated receiving layer on a 28 μm biaxially oriented polyethylene terephthalate film containing auxiliaries. Test results regarding image forming materials obtained by impregnating two-component diazo photosensitive compositions are shown below.
This is summarized in 5. However, when preparing the photosensitive composition solution, the amount of zinc chloride added and the type and amount of solvent added were the same as in Example 2 for comparative study.
【表】
表―5の各成分の略号は次の通りである。
ジアゾニウム塩
d1ビス(1―ジアゾ―3―メトキシ―4―ピロリ
ジノベンゼン)テトラクロルジンケート
d21―ジアゾ―4―N,N―ジメチルアミノベン
ゼンテトラフルオルボーレート
アゾカツプリング成分
a12―ヒドロキシナフタリン―3―カルボン酸―
2′―メチルアニリド
a2ビス(2,4―ジヒドロキシフエニル)スルフ
イド
a3 アセトアセトベンジルアミド
表中記号の前の数字は重量部を示す。例えば
15a3はアゾカツプリング成分a3を15部添加するこ
とを意味する。[Table] The abbreviations for each component in Table 5 are as follows. Diazonium salt d 1 bis(1-diazo-3-methoxy-4-pyrrolidinobenzene) tetrachlorzincate d 2 1 -diazo-4-N,N-dimethylaminobenzene tetrafluoroborate azo coupling component a 1 2- Hydroxynaphthalene-3-carboxylic acid-
2'-Methylanilide a 2 Bis(2,4-dihydroxyphenyl) sulfide a 3 Acetoacetobenzylamide The number before the symbol in the table indicates parts by weight. for example
15a3 means adding 15 parts of azo coupling component a3 .
Claims (1)
物とそれ自体は高エネルギー線照射により架橋性
を示さず、かつ感光性ジアゾニウム塩を含む感光
性組成物の含浸に好適な高分子化合物とを含有す
る液状組成物を平面性支持体表面に塗布し、次い
で該液状組成物に高エネルギー線照射して架橋硬
化させることにより含浸受容層を形成し、これに
前記感光性組成物を含浸させ、乾燥させることを
特徴とする2成分系ジアゾ画像形成材料の製造方
法。 2 高エネルギー線照射により架橋性を示す化合
物がエチレン性不飽和結合を1〜4個有するがオ
リゴマーでない液状の化合物である特許請求の範
囲第1項記載の方法。 3 高エネルギー線照射により架橋性を示す化合
物がエポキシ結合を2〜6個有する液状の化合物
である特許請求の範囲第1項記載の方法。 4 高エネルギー線照射により架橋性を示さずか
つ感光性ジアゾニウム塩を含む感光性組成物の含
浸に好適な高分子化合物がセルローズ誘導体であ
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 5 カツプラー成分をジアゾニウム塩を含む感光
組成物中あるいは平面性支持体表面上に塗布され
る液状組成物中の何れかに混入使用する特許請求
の範囲第1項ないし第4項の何れかに記載の方
法。[Scope of Claims] 1. A compound that exhibits crosslinking properties when irradiated with high energy rays and a polymer that itself does not exhibit crosslinking properties when irradiated with high energy rays and is suitable for impregnating a photosensitive composition containing a photosensitive diazonium salt. A liquid composition containing the compound is applied onto the surface of a planar support, and then the liquid composition is crosslinked and cured by irradiation with high energy rays to form an impregnated receiving layer, and the photosensitive composition is applied to this. A method for producing a two-component diazo image forming material, which comprises impregnating and drying the material. 2. The method according to claim 1, wherein the compound exhibiting crosslinking properties upon irradiation with high-energy rays is a liquid compound having 1 to 4 ethylenically unsaturated bonds but not an oligomer. 3. The method according to claim 1, wherein the compound exhibiting crosslinking properties upon irradiation with high energy rays is a liquid compound having 2 to 6 epoxy bonds. 4. The method according to claim 1, wherein the polymer compound that does not exhibit crosslinking properties upon irradiation with high-energy rays and is suitable for impregnating a photosensitive composition containing a photosensitive diazonium salt is a cellulose derivative. 5. According to any one of claims 1 to 4, in which the coupler component is mixed into either a photosensitive composition containing a diazonium salt or a liquid composition coated on the surface of a planar support. the method of.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9708879A JPS5621124A (en) | 1979-07-30 | 1979-07-30 | Manufacture of two-component type diazo image forming material |
| GB8024208A GB2059087A (en) | 1979-07-30 | 1980-07-24 | A process for producing a two- component diazo image-forming material |
| DE19803028651 DE3028651A1 (en) | 1979-07-30 | 1980-07-29 | METHOD FOR PRODUCING A DIAZO-CONTAINING IMAGING TWO-COMPONENT |
| FR8016856A FR2462733A1 (en) | 1979-07-30 | 1980-07-30 | PROCESS FOR THE PRODUCTION OF TWO-COMPONENT DIAZOIC IMAGE TRAINING MATERIAL |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9708879A JPS5621124A (en) | 1979-07-30 | 1979-07-30 | Manufacture of two-component type diazo image forming material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5621124A JPS5621124A (en) | 1981-02-27 |
| JPS6239422B2 true JPS6239422B2 (en) | 1987-08-22 |
Family
ID=14182878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9708879A Granted JPS5621124A (en) | 1979-07-30 | 1979-07-30 | Manufacture of two-component type diazo image forming material |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5621124A (en) |
| DE (1) | DE3028651A1 (en) |
| FR (1) | FR2462733A1 (en) |
| GB (1) | GB2059087A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61275750A (en) * | 1985-05-31 | 1986-12-05 | Mita Ind Co Ltd | Diazo copying photosensitive paper eliminated in curling tendency |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1546858A (en) * | 1966-11-17 | 1968-11-22 | Bexford Ltd | Sheets for diazotype |
| GB1264767A (en) * | 1969-08-13 | 1972-02-23 | ||
| US4112182A (en) * | 1977-04-04 | 1978-09-05 | Eastman Kodak Company | Plastic moldings and sheeting |
| JPS547473A (en) * | 1977-06-20 | 1979-01-20 | Konishiroku Photo Ind | Method of treating surface of plastic material |
-
1979
- 1979-07-30 JP JP9708879A patent/JPS5621124A/en active Granted
-
1980
- 1980-07-24 GB GB8024208A patent/GB2059087A/en not_active Withdrawn
- 1980-07-29 DE DE19803028651 patent/DE3028651A1/en not_active Withdrawn
- 1980-07-30 FR FR8016856A patent/FR2462733A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3028651A1 (en) | 1981-02-19 |
| GB2059087A (en) | 1981-04-15 |
| JPS5621124A (en) | 1981-02-27 |
| FR2462733A1 (en) | 1981-02-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4181807A (en) | Polymerizable esters derived from a glycidyl ether of a phenolic unsaturated ketone | |
| US3928299A (en) | Polymers which contain urethane groups and which are cross-linkable by vinyl polymerisation | |
| US4327170A (en) | Photopolymerizable unsaturated polyesters and copying material prepared therewith | |
| US4438190A (en) | Photosensitive resin composition containing unsaturated monomers and unsaturated phosphates | |
| JPS5928897B2 (en) | Kagakusenhoushiyanitaisuru Kankouseizairiyou | |
| JPS5971048A (en) | Photopolymerizable photosensitive composition | |
| US4289843A (en) | Photopolymerizable element having initiator in adhesive layer | |
| JP4010547B2 (en) | Self-polymerizing photopolymerization initiator and photosensitive resin composition using the same | |
| US4576898A (en) | Process of making photopolymer relief plates using an adhesive layer | |
| JPS6239422B2 (en) | ||
| JP2001316416A (en) | Photopolymerizable composition and photopolymerizable putty composition | |
| JP4725833B2 (en) | Active energy ray-curable epoxy acrylate resin composition and cured product thereof | |
| US3708305A (en) | Photopolymerizable compositions comprising cellulose derivative | |
| JPH02153902A (en) | Curable composition | |
| JP7158613B1 (en) | hard coating agent | |
| TW201701069A (en) | Curable resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board capable of being resistive to decrease of optical properties such as sensitivity and resolution | |
| US3493380A (en) | Photoresist composition | |
| JPH09278736A (en) | Urethane compound, photopolymerization initiator, photosensitive resin composition and cured product therefrom | |
| JPS6239423B2 (en) | ||
| JPS5828572B2 (en) | Shinki Kankouseiji Yushijiban | |
| JP4055224B2 (en) | Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same | |
| JPH08301977A (en) | Production of compound containing carboxyl group and ethylenically unsaturated group | |
| JPS602945A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JP4290409B2 (en) | Photosensitive resin composition and printed wiring board | |
| JPS6123143A (en) | Image forming material developable by peeling |