JPS6240287B2 - - Google Patents
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- JPS6240287B2 JPS6240287B2 JP8566381A JP8566381A JPS6240287B2 JP S6240287 B2 JPS6240287 B2 JP S6240287B2 JP 8566381 A JP8566381 A JP 8566381A JP 8566381 A JP8566381 A JP 8566381A JP S6240287 B2 JPS6240287 B2 JP S6240287B2
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- JP
- Japan
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- chlorosulfonic acid
- reaction
- hcl
- acid solution
- equipment
- Prior art date
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、SO3を含有するクロルスルホン酸液
においてHClを反応させてクロルスルホン酸を製
造する方法に関し、特に連続式に適した方法を提
供するものである。
においてHClを反応させてクロルスルホン酸を製
造する方法に関し、特に連続式に適した方法を提
供するものである。
従来、SO3ガスまたはSO3液を吸収または溶解
させたクロルスルホン酸液においてHClを反応さ
せる、いわゆる液相法によつてクロルスルホン酸
を生成する方法は公知である。例えば化学工業社
が昭和43年9月10日付で発行した「製造工程図全
集」第466頁などに掲載されている。しかし
て、かかる液相法は特に連続式で実施する場合、
回分式に比べて反応装置など含めた設備の腐蝕が
極めて著しい。この理由はクロルスルホン酸液に
おけるHClの含有の状態によるものを推測さされ
る。即ち、回分式の場合、当初クロルスルホン酸
には一般に多量のSO3を含有させたのちにHClが
導入されるために、反応の大部分がSO3を含有し
たクロルスルホン酸液中で進行し、該クロルスル
ホン酸液がHClを含有した状態になるのは反応終
了時の極く短時間に限られる。そのために回分式
の設備は、一般に鋼鉄製でも腐食は許容できる範
囲である。これに対して、連続式の場合には一般
にSO3を含有させたクロルスルホン酸液に過剰の
HClを導入して反応させ、生成分のクロルスルホ
ン酸液が取出され、大部分のクロルスルホン酸液
はHClを含有した状態でSO3の吸収に再使用され
る。そのために連続式の設備は通常の金属材料
(鋼鉄、クロム鋼、ニツケル合金など)では腐蝕
が極めて大きく、また得られるクロルスルホン酸
液には鉄分などの不純物が混入する欠点がある。
させたクロルスルホン酸液においてHClを反応さ
せる、いわゆる液相法によつてクロルスルホン酸
を生成する方法は公知である。例えば化学工業社
が昭和43年9月10日付で発行した「製造工程図全
集」第466頁などに掲載されている。しかし
て、かかる液相法は特に連続式で実施する場合、
回分式に比べて反応装置など含めた設備の腐蝕が
極めて著しい。この理由はクロルスルホン酸液に
おけるHClの含有の状態によるものを推測さされ
る。即ち、回分式の場合、当初クロルスルホン酸
には一般に多量のSO3を含有させたのちにHClが
導入されるために、反応の大部分がSO3を含有し
たクロルスルホン酸液中で進行し、該クロルスル
ホン酸液がHClを含有した状態になるのは反応終
了時の極く短時間に限られる。そのために回分式
の設備は、一般に鋼鉄製でも腐食は許容できる範
囲である。これに対して、連続式の場合には一般
にSO3を含有させたクロルスルホン酸液に過剰の
HClを導入して反応させ、生成分のクロルスルホ
ン酸液が取出され、大部分のクロルスルホン酸液
はHClを含有した状態でSO3の吸収に再使用され
る。そのために連続式の設備は通常の金属材料
(鋼鉄、クロム鋼、ニツケル合金など)では腐蝕
が極めて大きく、また得られるクロルスルホン酸
液には鉄分などの不純物が混入する欠点がある。
したがつて、連続式の設備にはガラスライニン
グ、純ガラス、フツ素系樹脂(コーテイング)、
陶磁器などの非金属の装置材料を使用する必要が
ある。しかしながら、かかる非金属材料は一般に
高価であり、かつ損傷し易く、例えば非金属材料
の熱交換器では伝熱面積が大きくなるため高価に
なり、またテフロン系の樹脂コーテイングでは液
の浸透、剥離などの問題があり、さらにポンプな
どには連続使用に耐える非金属材料が得られない
のが現状である。よつて、液相法によるクロルス
ルホン酸の連続的な製造設備は、可能な限り金属
材料で製作できれば、安価かつ製作も容易であ
り、またメンテナンスも容易になるため工業的に
有利であり、最も要望されるところである。
グ、純ガラス、フツ素系樹脂(コーテイング)、
陶磁器などの非金属の装置材料を使用する必要が
ある。しかしながら、かかる非金属材料は一般に
高価であり、かつ損傷し易く、例えば非金属材料
の熱交換器では伝熱面積が大きくなるため高価に
なり、またテフロン系の樹脂コーテイングでは液
の浸透、剥離などの問題があり、さらにポンプな
どには連続使用に耐える非金属材料が得られない
のが現状である。よつて、液相法によるクロルス
ルホン酸の連続的な製造設備は、可能な限り金属
材料で製作できれば、安価かつ製作も容易であ
り、またメンテナンスも容易になるため工業的に
有利であり、最も要望されるところである。
本発明者らは上記の如き要望を満足すべく鋭意
研究の結果、液相法によるクロルスルホン酸の製
造工程において、SO3を含有するクロルスルホン
酸液にHClを導入して行う反応を特定の範囲で少
くとも2段に分けて行なうことにより、所期の目
的を達成し得たものである。本発明によればSO3
を溶解、吸収させたクロルスルホン酸液にHClガ
スを導入して、該SO3が残存する範囲で大部分の
反応を行ない、得られた粗クロルスルホン酸液の
うち所定量を循環してSO3の溶解、吸収に供する
第一工程と、上記の粗クロルスルホン酸液の残部
にHClガスを導入してSO3の反応を完結させる第
二工程とからなるクロルスルホン酸の製造方法が
提供される。
研究の結果、液相法によるクロルスルホン酸の製
造工程において、SO3を含有するクロルスルホン
酸液にHClを導入して行う反応を特定の範囲で少
くとも2段に分けて行なうことにより、所期の目
的を達成し得たものである。本発明によればSO3
を溶解、吸収させたクロルスルホン酸液にHClガ
スを導入して、該SO3が残存する範囲で大部分の
反応を行ない、得られた粗クロルスルホン酸液の
うち所定量を循環してSO3の溶解、吸収に供する
第一工程と、上記の粗クロルスルホン酸液の残部
にHClガスを導入してSO3の反応を完結させる第
二工程とからなるクロルスルホン酸の製造方法が
提供される。
液相法によるクロルスルホン酸の製造法に従つ
て、クロルスルホン酸液にはSO3ガスまたはSO3
液を吸収、溶解させて、一般に2〜15重量%含有
される。本発明においては、先ずSO3を含有させ
たクロルスルホン酸液にHClガスを導入して、該
SO3が残存する範囲で反応の大部分を行うことが
極めて重要である。また、本発明においては、か
くして得られる粗クロルスルホン酸液の所定量を
循環してSO3の吸収、溶解に供することも至つて
重要である。即ち、本発明における上記したクロ
ルスルホン酸液へのSO3の吸収・溶解、該SO3を
含有したクロルスルホン酸液へのHClの導入・反
応、および得られた粗クロルスルホン酸液を循環
する第一工程において、クロルスルホン酸液はい
ずれもSO3を含有した状態にあり、HClを含有し
た状態に殆んど至らない。
て、クロルスルホン酸液にはSO3ガスまたはSO3
液を吸収、溶解させて、一般に2〜15重量%含有
される。本発明においては、先ずSO3を含有させ
たクロルスルホン酸液にHClガスを導入して、該
SO3が残存する範囲で反応の大部分を行うことが
極めて重要である。また、本発明においては、か
くして得られる粗クロルスルホン酸液の所定量を
循環してSO3の吸収、溶解に供することも至つて
重要である。即ち、本発明における上記したクロ
ルスルホン酸液へのSO3の吸収・溶解、該SO3を
含有したクロルスルホン酸液へのHClの導入・反
応、および得られた粗クロルスルホン酸液を循環
する第一工程において、クロルスルホン酸液はい
ずれもSO3を含有した状態にあり、HClを含有し
た状態に殆んど至らない。
したがつて、クロルスルホン酸液のSO3吸収
塔、HCl反応塔、循環パイプおよび熱交換器、ポ
ンプ、配管など第一工程における装置設備は、全
て金属材料を使用しても腐食が殆んど許容され
る。なお、第一工程において、SO3含有のクロル
スルホン酸液にHClガスを導入して行う反応は、
該SO3が残存する範囲で出来るだけ高めることが
必要であるが、一般にSO3の80〜99wt%、特に90
〜95wt%を反応させることが好ましい。第一工
程における上記SO3に対して反応が80wt%以下の
場合には、次いでSO3に対する残り20wt%以上の
反応を第二工程において完結する必要があり、第
二工程のプラント規模が大きくなるために望まし
くない。即ち、前記したように、本発明において
は第一工程の設備を全て金属材料で許容できるた
めに、出来る限り大きくする方が工業的に安価か
つ製作も容易になり有利である。他方、第一工程
においてSO3に対するHClの反応を99wt%以上で
該SO3が残存する範囲にとどめることは、自動制
御が難かしいため、得られるクロルスルホン酸液
がHClを含有した状態になる場合もあり、腐蝕の
原因となり好ましくない。
塔、HCl反応塔、循環パイプおよび熱交換器、ポ
ンプ、配管など第一工程における装置設備は、全
て金属材料を使用しても腐食が殆んど許容され
る。なお、第一工程において、SO3含有のクロル
スルホン酸液にHClガスを導入して行う反応は、
該SO3が残存する範囲で出来るだけ高めることが
必要であるが、一般にSO3の80〜99wt%、特に90
〜95wt%を反応させることが好ましい。第一工
程における上記SO3に対して反応が80wt%以下の
場合には、次いでSO3に対する残り20wt%以上の
反応を第二工程において完結する必要があり、第
二工程のプラント規模が大きくなるために望まし
くない。即ち、前記したように、本発明において
は第一工程の設備を全て金属材料で許容できるた
めに、出来る限り大きくする方が工業的に安価か
つ製作も容易になり有利である。他方、第一工程
においてSO3に対するHClの反応を99wt%以上で
該SO3が残存する範囲にとどめることは、自動制
御が難かしいため、得られるクロルスルホン酸液
がHClを含有した状態になる場合もあり、腐蝕の
原因となり好ましくない。
第一工程の設備に使用される金属材料は、耐蝕
金属であれば特に制限されず、鋼鉄、クロム鋼、
ニツケル合金などが使用されるが、オーステナイ
ト系ステンレス鋼が最も好ましい。
金属であれば特に制限されず、鋼鉄、クロム鋼、
ニツケル合金などが使用されるが、オーステナイ
ト系ステンレス鋼が最も好ましい。
次に、本発明は第一工程で得られた粗クロルス
ルホン酸液のうち循環液に供した残り(生成した
クロルスルホン酸液の量に相当)を、第二工程に
導きHClガスを導入してSO3との反応を完結させ
る。即ち、本発明の第二工程においては粗クロル
スルホン酸液のSO3残り1〜20wt%、特に3〜
10wt%をHCl反応してクロルスルホン酸を製造す
る。しかして、SO3含有のクロルスルホン酸液に
HClガスを導入して、該SO3を100wt%反応完結
する場合には、HCl含有のクロルスルホン酸液が
得られることが多い。したがつて、かかるHCl含
有のクロルスルホン酸と接触する場合がある第二
工程の設備は、金属材料でも可能であるが、非金
属材料が好ましい。一般にフツ素系樹脂によるコ
ーテイングが好適に採用される。フツ素系樹脂と
しては4フツ化エチレン重合体、4フツ化エチレ
ン・6フツ化プロピレン共重合体、4フツ化エチ
レン−パークロロアルキルエーテル共重合体、4
フツ化エチレン−エチレン共重合体が最も好まし
く、次に3フツ化塩化エチレン重合体が使用でき
る。これらのライニング工法としては上記樹脂シ
ートを缶体金属に接着することなく、挿入しただ
けのルースライニングまたはボルト工法によるラ
イニングが最も好ましく、次いで接着ライニン
グ、コーテイング法の順に好ましい。そのほかガ
ラスライニング、純ガラス、磁製なども使用でき
る。
ルホン酸液のうち循環液に供した残り(生成した
クロルスルホン酸液の量に相当)を、第二工程に
導きHClガスを導入してSO3との反応を完結させ
る。即ち、本発明の第二工程においては粗クロル
スルホン酸液のSO3残り1〜20wt%、特に3〜
10wt%をHCl反応してクロルスルホン酸を製造す
る。しかして、SO3含有のクロルスルホン酸液に
HClガスを導入して、該SO3を100wt%反応完結
する場合には、HCl含有のクロルスルホン酸液が
得られることが多い。したがつて、かかるHCl含
有のクロルスルホン酸と接触する場合がある第二
工程の設備は、金属材料でも可能であるが、非金
属材料が好ましい。一般にフツ素系樹脂によるコ
ーテイングが好適に採用される。フツ素系樹脂と
しては4フツ化エチレン重合体、4フツ化エチレ
ン・6フツ化プロピレン共重合体、4フツ化エチ
レン−パークロロアルキルエーテル共重合体、4
フツ化エチレン−エチレン共重合体が最も好まし
く、次に3フツ化塩化エチレン重合体が使用でき
る。これらのライニング工法としては上記樹脂シ
ートを缶体金属に接着することなく、挿入しただ
けのルースライニングまたはボルト工法によるラ
イニングが最も好ましく、次いで接着ライニン
グ、コーテイング法の順に好ましい。そのほかガ
ラスライニング、純ガラス、磁製なども使用でき
る。
上記したように、本発明の方法は第一工程にお
いてSO3含有のクロルスルホン酸液にHClガスを
導入して、該SO3が残存する範囲で出来るだけ反
応させることによつて、第一工程に多くの装置を
集中させるとともに、第二工程の装置を可能な限
り小規模にすることが望ましい。かくして、本発
明は設備が安価、製作も容易、またメンテナンス
も容易である液相法によるクロルスルホン酸の連
続的な製法を提供できるものである。また、第一
工程におけるSO3含有のクロルスルホン酸液で副
生するピロスルフリルクロライドは、第二工程に
おけるHCl反応によつてクロルスルホン酸に容易
に転換できる。即ち、一般に70〜100℃の温度で
10分以上HClガスを接触させることにより、クロ
ルスルホン酸液中のピロスルフリルクロライドを
0.5%以下の濃度まで下げることが出来る。
いてSO3含有のクロルスルホン酸液にHClガスを
導入して、該SO3が残存する範囲で出来るだけ反
応させることによつて、第一工程に多くの装置を
集中させるとともに、第二工程の装置を可能な限
り小規模にすることが望ましい。かくして、本発
明は設備が安価、製作も容易、またメンテナンス
も容易である液相法によるクロルスルホン酸の連
続的な製法を提供できるものである。また、第一
工程におけるSO3含有のクロルスルホン酸液で副
生するピロスルフリルクロライドは、第二工程に
おけるHCl反応によつてクロルスルホン酸に容易
に転換できる。即ち、一般に70〜100℃の温度で
10分以上HClガスを接触させることにより、クロ
ルスルホン酸液中のピロスルフリルクロライドを
0.5%以下の濃度まで下げることが出来る。
本発明の方法について、その代表的なフローシ
ートを示す。第1図においては、充填物入りの吸
収塔1でクロルスルホン酸液にSO3ガス2を導入
して吸収・溶解させ、冷却器11で除熱後、充填
物入りの反応塔3に導いてHClガス4を導入して
SO3が残存する範囲で大部分の反応を行い、得ら
れた粗クロルスルホン酸液5を冷却器12で除熱
後、その所定量6を吸収塔1に循環するのが第一
工程であり、一方粗クロルスルホン酸液5のうち
残部7を充填物入りの反応塔8においてHClガス
9を導入し反応を完結させ、冷却器13で冷却し
てクロルスルホン酸10を製造する第二工程とよ
りなる。第2図においては、SO3液2′を含有さ
せたクロルスルホン酸液を用いて、第1図のフロ
ーと同様に反応塔3においてHClガス4を導入し
て大部分の反応を行い、得られる粗クロルスルホ
ン酸液5のうち所定量6を循環する第一工程と、
また粗クロルスルホン酸5のうち残部7を反応塔
8においてHClガス9を導入して反応を完結させ
てクロルスルホン酸10を製造する第二工程とよ
りなる。また第3図は第二工程の別態様であつ
て、第一工程から導かれた粗クロルスルホン酸液
を反応塔8′,8″および8において順次HClガ
スと接触させて反応を完結するものである。即
ち、第3図の粗クロルスルホン酸液7は充填物入
りの反応塔8′へ導入し、次いで液柱塔形式の反
応塔8″さらに同形式の反応塔8へ流通させ、
一方HClガス9′および9″はそれぞれ反応塔8″
および8に導入した後、反応塔8′へ流通させ
る。第二工程においては、このような、粗クロル
スルホン酸液のSO3をHClと2段以上で接触反応
させることによつて、反応を完結させるととも
に、副生ピロスルフリルクロライドをクロルスル
ホン酸に転換させ、また反応塔8′の廃HClガス
9を0になるようにHClガスを有効利用するこ
とが容易であり、さらに反応塔8′を流出するク
ロルスルホン酸液7′には微量のSO3を伴うが、
反応塔8″および8においてHClと反応して得
られるクロルスルホン酸液10の製品にはSO3残
分はなく、かつ副生ピロスルフリルクロライドも
殆んど皆無で出来る。さらに、第4図に示すよう
に、第二工程より排出されるHClガス9を反応
塔4に循環することにより、HClを100%有効に
利用することもできる。したがつて、第二工程の
液柱塔形式の反応塔8″および8においてHCl
過剰で操作することによつて、HClガス−液接触
の反応速度を高めることができ、またクロルスル
ホン酸液中のピロスルフリルクロライドからクロ
ルスルホン酸への反応を平衡的に有利に保持する
ことができる。
ートを示す。第1図においては、充填物入りの吸
収塔1でクロルスルホン酸液にSO3ガス2を導入
して吸収・溶解させ、冷却器11で除熱後、充填
物入りの反応塔3に導いてHClガス4を導入して
SO3が残存する範囲で大部分の反応を行い、得ら
れた粗クロルスルホン酸液5を冷却器12で除熱
後、その所定量6を吸収塔1に循環するのが第一
工程であり、一方粗クロルスルホン酸液5のうち
残部7を充填物入りの反応塔8においてHClガス
9を導入し反応を完結させ、冷却器13で冷却し
てクロルスルホン酸10を製造する第二工程とよ
りなる。第2図においては、SO3液2′を含有さ
せたクロルスルホン酸液を用いて、第1図のフロ
ーと同様に反応塔3においてHClガス4を導入し
て大部分の反応を行い、得られる粗クロルスルホ
ン酸液5のうち所定量6を循環する第一工程と、
また粗クロルスルホン酸5のうち残部7を反応塔
8においてHClガス9を導入して反応を完結させ
てクロルスルホン酸10を製造する第二工程とよ
りなる。また第3図は第二工程の別態様であつ
て、第一工程から導かれた粗クロルスルホン酸液
を反応塔8′,8″および8において順次HClガ
スと接触させて反応を完結するものである。即
ち、第3図の粗クロルスルホン酸液7は充填物入
りの反応塔8′へ導入し、次いで液柱塔形式の反
応塔8″さらに同形式の反応塔8へ流通させ、
一方HClガス9′および9″はそれぞれ反応塔8″
および8に導入した後、反応塔8′へ流通させ
る。第二工程においては、このような、粗クロル
スルホン酸液のSO3をHClと2段以上で接触反応
させることによつて、反応を完結させるととも
に、副生ピロスルフリルクロライドをクロルスル
ホン酸に転換させ、また反応塔8′の廃HClガス
9を0になるようにHClガスを有効利用するこ
とが容易であり、さらに反応塔8′を流出するク
ロルスルホン酸液7′には微量のSO3を伴うが、
反応塔8″および8においてHClと反応して得
られるクロルスルホン酸液10の製品にはSO3残
分はなく、かつ副生ピロスルフリルクロライドも
殆んど皆無で出来る。さらに、第4図に示すよう
に、第二工程より排出されるHClガス9を反応
塔4に循環することにより、HClを100%有効に
利用することもできる。したがつて、第二工程の
液柱塔形式の反応塔8″および8においてHCl
過剰で操作することによつて、HClガス−液接触
の反応速度を高めることができ、またクロルスル
ホン酸液中のピロスルフリルクロライドからクロ
ルスルホン酸への反応を平衡的に有利に保持する
ことができる。
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれ
によつて何ら制限されるものではない。
によつて何ら制限されるものではない。
実施例 1
第1図のフローシートに準じて、第一工程の装
置はいずれもSUS316で、第二工程の装置はスチ
ールにテフロンのルースライニングを施した、液
相法によるクロルスルホン酸液の連続製造の設備
を製作した。なお、第一工程の装置重量1に対し
て第二工程の装置重量は0.07に相当し、装置の大
部分が第一工程に集中している。
置はいずれもSUS316で、第二工程の装置はスチ
ールにテフロンのルースライニングを施した、液
相法によるクロルスルホン酸液の連続製造の設備
を製作した。なお、第一工程の装置重量1に対し
て第二工程の装置重量は0.07に相当し、装置の大
部分が第一工程に集中している。
このような設備を用いて、7重量%のSO3含有
クロルスルホン酸液を第一工程の反応塔ではHCl
ガスを導入して該SO3の93wt%を反応させ得られ
た粗クロルスルホン酸液の所定量をSO3吸収塔に
循環し、残りの粗クロルスルホン酸液を第二工程
の反応塔においてHClガスを導入してSO3の反応
を行ない1500Kg/hrのクロルスルホン酸を得た。
この製品クロルスルホン酸液中のFe分は0.3ppm
であつた。
クロルスルホン酸液を第一工程の反応塔ではHCl
ガスを導入して該SO3の93wt%を反応させ得られ
た粗クロルスルホン酸液の所定量をSO3吸収塔に
循環し、残りの粗クロルスルホン酸液を第二工程
の反応塔においてHClガスを導入してSO3の反応
を行ない1500Kg/hrのクロルスルホン酸を得た。
この製品クロルスルホン酸液中のFe分は0.3ppm
であつた。
なお、比較のために、第一工程の反応塔におい
てSO3に対して102wt%に相当するHClガスを導
入して反応を行つた場合には、製品クロルスルホ
ン酸液中のFe分は35ppmであり、第一工程の装
置の腐蝕が認められる。
てSO3に対して102wt%に相当するHClガスを導
入して反応を行つた場合には、製品クロルスルホ
ン酸液中のFe分は35ppmであり、第一工程の装
置の腐蝕が認められる。
第1図、第2図、第3図及び第4図は本発明の
代表的な態様を示すフローシートである。 1……充填物入り吸収塔、2……SO3ガス、3
……充填物入り反応塔、4……HClガス、5……
粗クロルスルホン酸液、6……循環クロルスルホ
ン酸液、7……移送クロルスルホン酸液、8,
8′……充填物入り反応塔、8″,8……液柱塔
式反応塔、9,9′,9″……HClガス、10……
生成クロルスルホン酸液、11,12,13……
熱交換器。
代表的な態様を示すフローシートである。 1……充填物入り吸収塔、2……SO3ガス、3
……充填物入り反応塔、4……HClガス、5……
粗クロルスルホン酸液、6……循環クロルスルホ
ン酸液、7……移送クロルスルホン酸液、8,
8′……充填物入り反応塔、8″,8……液柱塔
式反応塔、9,9′,9″……HClガス、10……
生成クロルスルホン酸液、11,12,13……
熱交換器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 SO3を含有したクロルスルホン酸液にHClガ
スを導入して、該SO3の80wt%〜99wt%を反応
させ、得られた粗クロルスルホン酸のうち所定量
を循環してSO3の溶解、吸収に供する第一工程
と、上記の粗クロルスルホン酸の残部にHClガス
を導入して反応を完結させる第二工程とからなる
クロルスルホン酸の製造方法。 2 第一工程において、SO3の90〜97wt%を反応
させる特許請求の範囲第1項記載のクロルスルホ
ン酸の製造方法。 3 第一工程の装置材料が金属であり、第二工程
の装置材料が非金属である特許請求の範囲第1項
記載のクロルスルホン酸の製造方法。 4 金属材料がオーステナイト系ステンレスであ
る特許請求の範囲第3項記載のクロルスルホン酸
の製造方法。 5 非金属材料が含フツ素樹脂である特許請求の
範囲第3項記載のクロルスルホン酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8566381A JPS57203055A (en) | 1981-06-05 | 1981-06-05 | Preparation of chlorosulfonic acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8566381A JPS57203055A (en) | 1981-06-05 | 1981-06-05 | Preparation of chlorosulfonic acid |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57203055A JPS57203055A (en) | 1982-12-13 |
| JPS6240287B2 true JPS6240287B2 (ja) | 1987-08-27 |
Family
ID=13865057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8566381A Granted JPS57203055A (en) | 1981-06-05 | 1981-06-05 | Preparation of chlorosulfonic acid |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57203055A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5855313A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-04-01 | Nippon Soda Co Ltd | クロルスルホン酸の製造方法 |
| CN106955567A (zh) * | 2017-04-01 | 2017-07-18 | 湖北汇达科技发展有限公司 | 一种氯化氢组合干燥系统 |
| CN116750724A (zh) * | 2023-07-04 | 2023-09-15 | 江苏索普新材料科技有限公司 | 一种氯磺酸精制酸优化系统 |
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1981
- 1981-06-05 JP JP8566381A patent/JPS57203055A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPS57203055A (en) | 1982-12-13 |
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