JPS6240695B2 - - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 111
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 86
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 86
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical group [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 17
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 13
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 11
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 10
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000001454 recorded image Methods 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 24
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 22
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 19
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 10
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 8
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 2
- RQQRAHKHDFPBMC-UHFFFAOYSA-L lead(ii) iodide Chemical compound I[Pb]I RQQRAHKHDFPBMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- GTKRFUAGOKINCA-UHFFFAOYSA-M chlorosilver;silver Chemical compound [Ag].[Ag]Cl GTKRFUAGOKINCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000002508 contact lithography Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- MMCXETIAXNXKPE-UHFFFAOYSA-J tetraiodotungsten Chemical compound I[W](I)(I)I MMCXETIAXNXKPE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/705—Compositions containing chalcogenides, metals or alloys thereof, as photosensitive substances, e.g. photodope systems
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
ハロゲン化銀からなる感光膜は写真研究の主要
な対象とされてきた。研究の関心は主として銀写
真潜像を生じる光還元反応にあつたとは言うもの
の、光あるいは熱の作用によつて金属銀からハロ
ゲン化銀が再生される逆反応もまた研究の対象と
されてきた。 赤色光露光によつて黒化写真板に生じる吸収作
用の変化に関する初期の論文として、キヤメロン
およびテイラーによる「銀―塩化銀系における光
物理学的変化」〔Journal of the Optical Society
of America、24巻、316―330頁(1934)〕があ
る。この論文において著者は光学的にあるいは化
学的に黒化されたハロゲン化銀含有エマルジヨン
は特に赤色光によつて選択的に漂白され、漂白波
長の光に対してより透明となることを立証した。
この作用は色順応(color adaptation)と呼ばれ
ている。さらに偏光された漂白光は黒化膜中に二
色性の複屈折像を作ることが注目された。 光学的に起こされた二色性は蒸着技術によつて
作られる多結晶ハロゲン化銀層においてもまた観
察される。V.P.チエルカシンはSoviet Physics―
Solid State、13巻、1号、264―265頁(1971)
において真空蒸着された銀付加物を含むハロゲン
化銀膜において示される強められた二色性を報告
した。 ハロゲン化銀膜の異方性吸収作用は細長い金属
膜コロイドによるものであるとされてきた。この
仮説は粒状金属層について観察されたいくつかの
吸収特性に矛盾するものではない。スパツタリン
グによつて設けられた金および銀孤立層の光学特
性はR.H.ドレマスによるJ.Chem.Phys.,42巻、
414―417頁(1964)、R.W.コーエン等による
Physical ReviewB.8巻、8号、3689―3701頁
(1973)、および他の文献に述べられている。 本発明者等は通常の白色光を用いた単一露光に
よつてカラー像(天然色)を写真記録することが
できる感光薄膜およびその製造方法を発明した。
本発明の感光薄膜はまた、記録すべき像を該薄膜
上に投射するのに偏光が用いられるならば光学的
異方性を有する像を記録することも可能である。
このようにして作られた像は二色性(偏光性)お
よび複屈折性を有している。 本発明の感光薄膜は付加的着色タイプ
(additively―colored type)のものである。付加
的着色タイプとは最初形成される時金属着色中心
を含んでおり、従つて広い波長領域の可視光を吸
収するような感光薄膜を意味する。本発明の感光
薄膜は多結晶誘電体層のみならず、その下に設け
られた、好ましくはスパツタリングあるいは真空
蒸着技術によつて析出された、付加的着色の原因
となる金属層をも含む。 本発明の感光薄膜は形成される時感光性を有し
ており、選択された波長の光の露光によつて金属
着色中心の配列が変更される漂白によつて光学的
情報を記録する。この金属着色中心の配列の変更
によつて感光薄膜は露光に用いられた波長の光に
対して実質的により透明となるが、他の波長の光
に関してより透明でなくなる。さらに漂白光とし
て偏光が用いられる場合には、漂白によつて起こ
される透過率の増加は主として漂白光と同じ方向
に偏光された光に限られる。いずれの場合も漂白
の程度は漂白光強度と露光時間によつて決まる。 本発明の感光薄膜はそれに投射される光の強度
および偏光方向を正確に記録し、その上投射光の
カラー情報のほとんどを保持することができる。
赤色光に対するよりも青色および緑色光に対して
いくぶん感度が低いとは言うものの、本発明の感
光薄膜はカラー光学像を記録するのに充分なもの
である。本発明の感光薄膜がかなり広い色感度を
有する理由は完全に理解されていないが、製造方
法によつてもたらされる薄膜の微細構造によるも
のであると考えられる。さらに本発明の感光薄膜
の利点は1―10ミクロン程度の非常に高い解像力
を得ることができることである。この値は高解像
力写真フイルムの解像力に匹敵するものである。 本発明の感光薄膜は金属層と該金属層を被覆す
る透明誘電体被覆層の2つから構成される層(以
後「金属―誘電体層」と呼ぶことにする)を少な
くとも1つ含むものであり、要求される解像力あ
るいは色再現性の程度によつて金属―誘電体層が
1層あるいは数層設けられる。 本発明の感光薄膜の製造方法は適当な基板上に
不連続孤立金属層を析出させる最初の工程を含
む。不連続孤立金属層を析出させるのに用いられ
る金属は、孤立層が適当な誘電性受容体によつて
囲まれる時光のプラズマ吸収を示すような金属で
なければならない。吸収のピーク波長およびピー
クの半値幅は誘電体の屈折率のほかに孤立金属の
サイズおよび形状によつて決まる。孤立金属層を
作るのに適した金属はAg、Pb、Cu、Al、Crおよ
びGeである。 感光薄膜の金属相の吸収特性は金属粒子のサイ
ズおよび形状によつて決まる。その後の製造工程
によつてかなり影響されるとは言うものの、粒子
のサイズおよび形状は最初に析出される孤立金属
層の構造によつて決まる。良好な作像特性を得る
ためには孤立層は主としておよそ100―1000Åの
サイズ範囲の孤立金属からなり、およそ15―150
Åの範囲の見掛け厚さを有していなければならな
い。 第3図はガラス基板上に析出した不連続銀孤立
層の電子顕微鏡写真であり、白い帯は0.5ミクロ
ンを表わす。 上述の不連続孤立金属層の析出に続いて、主と
して適当な誘電性受容体からなる透明被覆層が孤
立層上に析出される。この誘電性受容体層は少な
くとも次の2つの機能を成し遂げるものでなけれ
ばならない。まず第1に、誘電性受容体層は光の
作用によつて金属から放出される電子を金属着色
中心から受け取り伝導するものでなければならな
い。第2に、誘電性受容体層は光電子放射によつ
て生じる金属陽イオンの金属着色中心から誘電性
受容体層への拡散を可能にするものでなければな
らない。この目的に適した誘電性受容体は
AgCl、AgBr、AgIおよびPbI2である。 誘電性受容体は不連続孤立金属層上に透明被覆
層を形成するためのものであるが、さらに透明被
覆層の厚さは感光薄膜のカラー像特性に影響をお
よぼす。一般に、良好な結果を得るためには、連
続的な透明被覆層の厚さは少なくともおよそ300
Åであるのが好ましい。解像力は透明被覆層が厚
くなれば悪くなる傾向にあるとは言うものの、層
の最大厚は透明度の必要性のみによつて制限され
る。そうすることによつて格別の利益は得られな
いとは言え、1ミクロン程度の層あるいはそれ以
上の厚さの層もまた用いることができる。 上述の方法を用いることによつて、光学情報を
記録するのに有用な感光材料を容易に得ることが
できる。この感光材料は基板の形をした支持手段
と、該支持手段上に析出された感光薄膜を含む。
感光薄膜は金属層と該金属層を被覆する透明電体
被覆層からなる金属―誘電体層を少なくとも1つ
含む。 第1図はガラス基板と感光薄膜とからなる本発
明の感光材料の具体例の概略正面断面図である。
感光薄膜は孤立金属(Me)からなる不連続金属
層と、該金属層を被覆する誘電性受容体からなる
透明被覆層とを含む金属―誘電体層1層からな
る。また第2図は本発明の感光材料の別の具体例
の概略正面断面図であり、感光薄膜が5層の金属
―誘電体層からなる場合である。 一般に、単一の金属―誘電体層のみからなる感
光薄膜を有する記録材料は解像力が高い。しかし
ながら強められたカラー像は数層、例えば2―6
層の金属―誘電体層が単一基板上に設けられた場
合に得られる。2層以上の金属―誘電体層を含む
感光薄膜は上述の孤立層析出工程および誘電体層
析出工程を引き続いて繰返すことによつて作られ
る。 本発明の感光性材料を用いてカラー光学像を写
真記録する場合には、上述のようにして作られた
金属―誘電体層を少なくとも1つ含む感光薄膜上
にカラー実像を投射する。実像はレンズ、ミラー
あるいは類似の焦点手段を含む適当な方法によつ
て感光薄膜上に投射される。カラースライドある
いはそれに類似のもののようなあらかじめ記録さ
れた像は感光薄膜上に投射するかあるいは接触焼
付によつて、すなわち感光薄膜と接触している透
明画を通して感光薄膜を直接露光することによつ
て転写される。 像を感光薄膜に記録するのに要する露光時間は
主として記録光の強度によつて決まり、次に処理
のために選択された膜の特殊な構成によつて決ま
る。しかしながら、どんな特殊な膜および露光条
件についても露光の間にポジ像が現われるのを観
察し、最適の像が得られた時に露光を終了するこ
とによつて、最適な露光時間を容易に決めること
ができる。 本発明の感光薄膜の偏光状態の光に関する情報
を記録する能力は、二色性像の記録を可能にす
る。二色性像はカラー実像を選択された軸に沿つ
て直線偏光された光によつて薄膜上に投射するこ
とによつて作られる。なお上記軸を以後「記録
軸」と呼ぶことにする。直線偏光を用いて形成さ
れる像は二色性であるので、記録軸に対して平行
方向に偏光された光については良好な透過率を示
し、容易に観察することができるが、記録軸に対
して垂直方向に偏光された光を見る時は透過率を
減少し、コントラストおよび着色が低下する。 偏光で記録することによつて作られる二色性像
は普通に記録された像よりも2つの明確な利点を
有している。まず第1に、記録された二色性像の
色質は、記録軸方向に直線偏光された白色光で見
る時普通に記録された像よりも優れたものであ
る。第2に、二色性像のコントラストは、おのお
のの偏光子の光学軸(光透過率が最大となる軸)
が二色性像の記録軸に対して45゜の角度をとるよ
うに配置された交差した2つの偏光子間に薄膜を
置き記録像を透過光で見ることによつて容易に高
められる。上記2つの利点はいずれも透過する観
察光の強度をある程度犠牲にするものであるが、
これは用途によつては問題とならない。 上述のようにして作られる普通のおよび二色性
の像は、必要に応じてさらに漂白光を露光するこ
とによつて変えられる。もちろん、記録像を長期
間保存するのが望まれる場合には、記録像が迷光
によつて露光されないように注意しなければなら
ない。しかしながら迷光のない場合には記録像は
全く安定であり、いつまでも保存される。 本発明の感光薄膜はカラー写真像を記録するの
に有用であるのみならず、投射光の色および偏光
状態に関する情報を保存するのにもまた有用であ
る。 本発明の感光薄膜の広いスペクトル領域にわた
る感光性についての正確なメカニズムは明確に確
立されていないが、金属―誘電体層は以下のよう
にして感光するものと思われる。光が構造体に投
射される時、光は金属の電子を励起する。これは
内部帯遷移によるものであるかあるいはプラズマ
モードのエネルギーの単一電子状態への伝達によ
るものである。これらのプラズマモードは多くの
電子の集合的励起に相当し、自由電子あるいは自
由電子に近い特徴を示す。励起された電子のエネ
ルギー準位が誘電体の基底エネルギーと金属のフ
エルミエネルギーの差に相当するエネルギーを越
えると、電子は金属から誘電体の伝導状態へのが
れることができる。この過程は適当な伝導帯エネ
ルギーを有する誘電体の接近のために金属の実効
仕事関数(金属から電子を除くのに必要なエネル
ギー)が下げられる光電子放射に相当する。 誘電体層の性質も提案されたメカニズムに関与
する。電子を伝導帯を経てのがれさせるための道
を提供するのに加えて、誘電体はまた金属イオン
を格子中に取り込む能力を有していなければなら
ない。金属溶解過程をすみやかに進行させるため
に、金属イオンの拡散は比較的速くなければなら
ない。金属イオンの室温における拡散係数が低い
場合には構造体を加熱すれば光に対する感度が向
上する。 金属からの電子放射および金属陽イオンの誘電
体格子中への拡散の2つの過程の結合によつて孤
立金属は原子を失う。光電子放射および金属陽イ
オンの拡散が続くと、最後に孤立金属は溶解す
る。n個の原子を有する孤立金属を(M)oで表わ
すとすれば、この反応は で表わされる。 露光が続けられる時、光が感光薄膜を透過する
間に孤立金属は溶解し、従つて吸収が減少して感
光薄膜は露光部分がより透過性となる。 上述の過程における着色は、プラズマ振動の減
衰によつて励起電子状態が生じる場合、プラズマ
振動のピーク吸収は金属の光学定数および孤立金
属を囲む誘電体の屈折率のほかに孤立金属コロイ
ドのサイズおよび形状によつて厳密に決められる
という事実によるものである。孤立金属のサイズ
および形状に分布が生じるように不連続孤立金属
層が設けられるならば、特定の可視波長の光によ
る薄膜構造体の露光は照射光波長に相当するピー
ク吸収を生じるサイズおよび形状を有する孤立金
属コロイドを選択的に除去する。この孤立金属コ
ロイドの選択的な除去によつて構造体の一部分は
他の可視波長に対してよりもその特定の可視波長
に対してより透過性となる。このようにしてカラ
ー像が作られる。 二色性効果は以下に述べる仮定された着色メカ
ニズムによつてうまく説明される。孤立金属コロ
イドの形状が球でない場合には、その光学的吸収
もまた異方性を有する。例えば金属粒子の形状が
幅の広い楕円体で表わされるならば、この粒子の
長さ方向(主軸)における吸収は長さ方向に垂直
に偏光された光よりも、それに平行に偏光された
光に対してより大きいであろう。非球状金属粒子
はランダムに配向していると考えられる。しかし
ながら、偏光が投射される場合、投射光の偏光方
向にほぼ垂直に配向している孤立金属コロイドよ
りもそれにほぼ平行に配向している孤立金属コロ
イドの方がより速い速度で溶解するであろう。従
つて偏光を投射することによつて薄膜構造体は二
色性となる。 もちろん、上述の説明は単なる仮説であつて、
本発明の範囲を限定しようとするものではない。 本発明の感光薄膜の支持手段として用いられる
基板の選択は重大ではない。その上に設けられる
誘電体層成分および金属層成分に対して有害でな
ければいかなる材料を用いてもよい。例えば基板
材料として不活性磁器体、ガラス磁器体、処理紙
等が用いられる。光反射性材料も使用可能である
が、薄膜に保存された情報を取り出すのが容易で
あるので光透過性基板、好ましくは透明基板を用
いるのがよい。特に好ましい基板はガラスであ
る。 ある場合には、感光薄膜との適合性を確実にす
るために基板上にベース層を設けるのが望まし
い。例えば紙のような有機基板にはSiOのベース
層が設けられ、ガラス基板には例えば誘電性受容
体のベース層が設けられる。 不連続孤立金属層の基板上への析出は好ましく
はスパツタリングあるいは真空蒸着技術を用いて
成し遂げられる。しかしながらめつき法等の他の
金属析出方法もまた用いることができる。析出に
用いられる装置は普通の装置でよいとは言え、用
いられる析出条件は生じる薄膜の作像特性に重要
な影響をおよぼす。 直流あるいは無線周波数スパツタリングが
Ag、Pb、Cu、Cr、GeおよびAlのいずれを析出
するのにも用いられる。不連続金属層の厚さと孤
立金属のサイズの制御はスパツタリング電圧、基
板温度および基板とターゲツト間のバイアス電圧
を変えることによつて達成される。不連続孤立金
属層の金属のもとであるターゲツトの状態もまた
重要である。例えば、部分的に酸化された銀ター
ゲツトはある場合にはきれいな酸化されていない
銀ターゲツトよりも良好な結果をもたらす。 真空蒸着法もまた不連続孤立金属層を作るのに
用いられ、特にAg、Ge、PbおよびCuを析出させ
るのに便利な方法である。孤立金属層の厚さおよ
び孤立金属のサイズ分布の制御は基板温度、析出
温度、蒸発温度および真空系のベース気圧を変え
ることによつて行なわれる。 下記第1表は数種の金属についての良好な作像
特性を示す孤立金属層を作るのに用いられる真空
蒸着条件例を示すものである。表には系のベース
気圧、基板温度および析出速度が示されている。 もちろん、これらの条件は使用可能な種々の析
出条件の一例にすぎないものである。
な対象とされてきた。研究の関心は主として銀写
真潜像を生じる光還元反応にあつたとは言うもの
の、光あるいは熱の作用によつて金属銀からハロ
ゲン化銀が再生される逆反応もまた研究の対象と
されてきた。 赤色光露光によつて黒化写真板に生じる吸収作
用の変化に関する初期の論文として、キヤメロン
およびテイラーによる「銀―塩化銀系における光
物理学的変化」〔Journal of the Optical Society
of America、24巻、316―330頁(1934)〕があ
る。この論文において著者は光学的にあるいは化
学的に黒化されたハロゲン化銀含有エマルジヨン
は特に赤色光によつて選択的に漂白され、漂白波
長の光に対してより透明となることを立証した。
この作用は色順応(color adaptation)と呼ばれ
ている。さらに偏光された漂白光は黒化膜中に二
色性の複屈折像を作ることが注目された。 光学的に起こされた二色性は蒸着技術によつて
作られる多結晶ハロゲン化銀層においてもまた観
察される。V.P.チエルカシンはSoviet Physics―
Solid State、13巻、1号、264―265頁(1971)
において真空蒸着された銀付加物を含むハロゲン
化銀膜において示される強められた二色性を報告
した。 ハロゲン化銀膜の異方性吸収作用は細長い金属
膜コロイドによるものであるとされてきた。この
仮説は粒状金属層について観察されたいくつかの
吸収特性に矛盾するものではない。スパツタリン
グによつて設けられた金および銀孤立層の光学特
性はR.H.ドレマスによるJ.Chem.Phys.,42巻、
414―417頁(1964)、R.W.コーエン等による
Physical ReviewB.8巻、8号、3689―3701頁
(1973)、および他の文献に述べられている。 本発明者等は通常の白色光を用いた単一露光に
よつてカラー像(天然色)を写真記録することが
できる感光薄膜およびその製造方法を発明した。
本発明の感光薄膜はまた、記録すべき像を該薄膜
上に投射するのに偏光が用いられるならば光学的
異方性を有する像を記録することも可能である。
このようにして作られた像は二色性(偏光性)お
よび複屈折性を有している。 本発明の感光薄膜は付加的着色タイプ
(additively―colored type)のものである。付加
的着色タイプとは最初形成される時金属着色中心
を含んでおり、従つて広い波長領域の可視光を吸
収するような感光薄膜を意味する。本発明の感光
薄膜は多結晶誘電体層のみならず、その下に設け
られた、好ましくはスパツタリングあるいは真空
蒸着技術によつて析出された、付加的着色の原因
となる金属層をも含む。 本発明の感光薄膜は形成される時感光性を有し
ており、選択された波長の光の露光によつて金属
着色中心の配列が変更される漂白によつて光学的
情報を記録する。この金属着色中心の配列の変更
によつて感光薄膜は露光に用いられた波長の光に
対して実質的により透明となるが、他の波長の光
に関してより透明でなくなる。さらに漂白光とし
て偏光が用いられる場合には、漂白によつて起こ
される透過率の増加は主として漂白光と同じ方向
に偏光された光に限られる。いずれの場合も漂白
の程度は漂白光強度と露光時間によつて決まる。 本発明の感光薄膜はそれに投射される光の強度
および偏光方向を正確に記録し、その上投射光の
カラー情報のほとんどを保持することができる。
赤色光に対するよりも青色および緑色光に対して
いくぶん感度が低いとは言うものの、本発明の感
光薄膜はカラー光学像を記録するのに充分なもの
である。本発明の感光薄膜がかなり広い色感度を
有する理由は完全に理解されていないが、製造方
法によつてもたらされる薄膜の微細構造によるも
のであると考えられる。さらに本発明の感光薄膜
の利点は1―10ミクロン程度の非常に高い解像力
を得ることができることである。この値は高解像
力写真フイルムの解像力に匹敵するものである。 本発明の感光薄膜は金属層と該金属層を被覆す
る透明誘電体被覆層の2つから構成される層(以
後「金属―誘電体層」と呼ぶことにする)を少な
くとも1つ含むものであり、要求される解像力あ
るいは色再現性の程度によつて金属―誘電体層が
1層あるいは数層設けられる。 本発明の感光薄膜の製造方法は適当な基板上に
不連続孤立金属層を析出させる最初の工程を含
む。不連続孤立金属層を析出させるのに用いられ
る金属は、孤立層が適当な誘電性受容体によつて
囲まれる時光のプラズマ吸収を示すような金属で
なければならない。吸収のピーク波長およびピー
クの半値幅は誘電体の屈折率のほかに孤立金属の
サイズおよび形状によつて決まる。孤立金属層を
作るのに適した金属はAg、Pb、Cu、Al、Crおよ
びGeである。 感光薄膜の金属相の吸収特性は金属粒子のサイ
ズおよび形状によつて決まる。その後の製造工程
によつてかなり影響されるとは言うものの、粒子
のサイズおよび形状は最初に析出される孤立金属
層の構造によつて決まる。良好な作像特性を得る
ためには孤立層は主としておよそ100―1000Åの
サイズ範囲の孤立金属からなり、およそ15―150
Åの範囲の見掛け厚さを有していなければならな
い。 第3図はガラス基板上に析出した不連続銀孤立
層の電子顕微鏡写真であり、白い帯は0.5ミクロ
ンを表わす。 上述の不連続孤立金属層の析出に続いて、主と
して適当な誘電性受容体からなる透明被覆層が孤
立層上に析出される。この誘電性受容体層は少な
くとも次の2つの機能を成し遂げるものでなけれ
ばならない。まず第1に、誘電性受容体層は光の
作用によつて金属から放出される電子を金属着色
中心から受け取り伝導するものでなければならな
い。第2に、誘電性受容体層は光電子放射によつ
て生じる金属陽イオンの金属着色中心から誘電性
受容体層への拡散を可能にするものでなければな
らない。この目的に適した誘電性受容体は
AgCl、AgBr、AgIおよびPbI2である。 誘電性受容体は不連続孤立金属層上に透明被覆
層を形成するためのものであるが、さらに透明被
覆層の厚さは感光薄膜のカラー像特性に影響をお
よぼす。一般に、良好な結果を得るためには、連
続的な透明被覆層の厚さは少なくともおよそ300
Åであるのが好ましい。解像力は透明被覆層が厚
くなれば悪くなる傾向にあるとは言うものの、層
の最大厚は透明度の必要性のみによつて制限され
る。そうすることによつて格別の利益は得られな
いとは言え、1ミクロン程度の層あるいはそれ以
上の厚さの層もまた用いることができる。 上述の方法を用いることによつて、光学情報を
記録するのに有用な感光材料を容易に得ることが
できる。この感光材料は基板の形をした支持手段
と、該支持手段上に析出された感光薄膜を含む。
感光薄膜は金属層と該金属層を被覆する透明電体
被覆層からなる金属―誘電体層を少なくとも1つ
含む。 第1図はガラス基板と感光薄膜とからなる本発
明の感光材料の具体例の概略正面断面図である。
感光薄膜は孤立金属(Me)からなる不連続金属
層と、該金属層を被覆する誘電性受容体からなる
透明被覆層とを含む金属―誘電体層1層からな
る。また第2図は本発明の感光材料の別の具体例
の概略正面断面図であり、感光薄膜が5層の金属
―誘電体層からなる場合である。 一般に、単一の金属―誘電体層のみからなる感
光薄膜を有する記録材料は解像力が高い。しかし
ながら強められたカラー像は数層、例えば2―6
層の金属―誘電体層が単一基板上に設けられた場
合に得られる。2層以上の金属―誘電体層を含む
感光薄膜は上述の孤立層析出工程および誘電体層
析出工程を引き続いて繰返すことによつて作られ
る。 本発明の感光性材料を用いてカラー光学像を写
真記録する場合には、上述のようにして作られた
金属―誘電体層を少なくとも1つ含む感光薄膜上
にカラー実像を投射する。実像はレンズ、ミラー
あるいは類似の焦点手段を含む適当な方法によつ
て感光薄膜上に投射される。カラースライドある
いはそれに類似のもののようなあらかじめ記録さ
れた像は感光薄膜上に投射するかあるいは接触焼
付によつて、すなわち感光薄膜と接触している透
明画を通して感光薄膜を直接露光することによつ
て転写される。 像を感光薄膜に記録するのに要する露光時間は
主として記録光の強度によつて決まり、次に処理
のために選択された膜の特殊な構成によつて決ま
る。しかしながら、どんな特殊な膜および露光条
件についても露光の間にポジ像が現われるのを観
察し、最適の像が得られた時に露光を終了するこ
とによつて、最適な露光時間を容易に決めること
ができる。 本発明の感光薄膜の偏光状態の光に関する情報
を記録する能力は、二色性像の記録を可能にす
る。二色性像はカラー実像を選択された軸に沿つ
て直線偏光された光によつて薄膜上に投射するこ
とによつて作られる。なお上記軸を以後「記録
軸」と呼ぶことにする。直線偏光を用いて形成さ
れる像は二色性であるので、記録軸に対して平行
方向に偏光された光については良好な透過率を示
し、容易に観察することができるが、記録軸に対
して垂直方向に偏光された光を見る時は透過率を
減少し、コントラストおよび着色が低下する。 偏光で記録することによつて作られる二色性像
は普通に記録された像よりも2つの明確な利点を
有している。まず第1に、記録された二色性像の
色質は、記録軸方向に直線偏光された白色光で見
る時普通に記録された像よりも優れたものであ
る。第2に、二色性像のコントラストは、おのお
のの偏光子の光学軸(光透過率が最大となる軸)
が二色性像の記録軸に対して45゜の角度をとるよ
うに配置された交差した2つの偏光子間に薄膜を
置き記録像を透過光で見ることによつて容易に高
められる。上記2つの利点はいずれも透過する観
察光の強度をある程度犠牲にするものであるが、
これは用途によつては問題とならない。 上述のようにして作られる普通のおよび二色性
の像は、必要に応じてさらに漂白光を露光するこ
とによつて変えられる。もちろん、記録像を長期
間保存するのが望まれる場合には、記録像が迷光
によつて露光されないように注意しなければなら
ない。しかしながら迷光のない場合には記録像は
全く安定であり、いつまでも保存される。 本発明の感光薄膜はカラー写真像を記録するの
に有用であるのみならず、投射光の色および偏光
状態に関する情報を保存するのにもまた有用であ
る。 本発明の感光薄膜の広いスペクトル領域にわた
る感光性についての正確なメカニズムは明確に確
立されていないが、金属―誘電体層は以下のよう
にして感光するものと思われる。光が構造体に投
射される時、光は金属の電子を励起する。これは
内部帯遷移によるものであるかあるいはプラズマ
モードのエネルギーの単一電子状態への伝達によ
るものである。これらのプラズマモードは多くの
電子の集合的励起に相当し、自由電子あるいは自
由電子に近い特徴を示す。励起された電子のエネ
ルギー準位が誘電体の基底エネルギーと金属のフ
エルミエネルギーの差に相当するエネルギーを越
えると、電子は金属から誘電体の伝導状態へのが
れることができる。この過程は適当な伝導帯エネ
ルギーを有する誘電体の接近のために金属の実効
仕事関数(金属から電子を除くのに必要なエネル
ギー)が下げられる光電子放射に相当する。 誘電体層の性質も提案されたメカニズムに関与
する。電子を伝導帯を経てのがれさせるための道
を提供するのに加えて、誘電体はまた金属イオン
を格子中に取り込む能力を有していなければなら
ない。金属溶解過程をすみやかに進行させるため
に、金属イオンの拡散は比較的速くなければなら
ない。金属イオンの室温における拡散係数が低い
場合には構造体を加熱すれば光に対する感度が向
上する。 金属からの電子放射および金属陽イオンの誘電
体格子中への拡散の2つの過程の結合によつて孤
立金属は原子を失う。光電子放射および金属陽イ
オンの拡散が続くと、最後に孤立金属は溶解す
る。n個の原子を有する孤立金属を(M)oで表わ
すとすれば、この反応は で表わされる。 露光が続けられる時、光が感光薄膜を透過する
間に孤立金属は溶解し、従つて吸収が減少して感
光薄膜は露光部分がより透過性となる。 上述の過程における着色は、プラズマ振動の減
衰によつて励起電子状態が生じる場合、プラズマ
振動のピーク吸収は金属の光学定数および孤立金
属を囲む誘電体の屈折率のほかに孤立金属コロイ
ドのサイズおよび形状によつて厳密に決められる
という事実によるものである。孤立金属のサイズ
および形状に分布が生じるように不連続孤立金属
層が設けられるならば、特定の可視波長の光によ
る薄膜構造体の露光は照射光波長に相当するピー
ク吸収を生じるサイズおよび形状を有する孤立金
属コロイドを選択的に除去する。この孤立金属コ
ロイドの選択的な除去によつて構造体の一部分は
他の可視波長に対してよりもその特定の可視波長
に対してより透過性となる。このようにしてカラ
ー像が作られる。 二色性効果は以下に述べる仮定された着色メカ
ニズムによつてうまく説明される。孤立金属コロ
イドの形状が球でない場合には、その光学的吸収
もまた異方性を有する。例えば金属粒子の形状が
幅の広い楕円体で表わされるならば、この粒子の
長さ方向(主軸)における吸収は長さ方向に垂直
に偏光された光よりも、それに平行に偏光された
光に対してより大きいであろう。非球状金属粒子
はランダムに配向していると考えられる。しかし
ながら、偏光が投射される場合、投射光の偏光方
向にほぼ垂直に配向している孤立金属コロイドよ
りもそれにほぼ平行に配向している孤立金属コロ
イドの方がより速い速度で溶解するであろう。従
つて偏光を投射することによつて薄膜構造体は二
色性となる。 もちろん、上述の説明は単なる仮説であつて、
本発明の範囲を限定しようとするものではない。 本発明の感光薄膜の支持手段として用いられる
基板の選択は重大ではない。その上に設けられる
誘電体層成分および金属層成分に対して有害でな
ければいかなる材料を用いてもよい。例えば基板
材料として不活性磁器体、ガラス磁器体、処理紙
等が用いられる。光反射性材料も使用可能である
が、薄膜に保存された情報を取り出すのが容易で
あるので光透過性基板、好ましくは透明基板を用
いるのがよい。特に好ましい基板はガラスであ
る。 ある場合には、感光薄膜との適合性を確実にす
るために基板上にベース層を設けるのが望まし
い。例えば紙のような有機基板にはSiOのベース
層が設けられ、ガラス基板には例えば誘電性受容
体のベース層が設けられる。 不連続孤立金属層の基板上への析出は好ましく
はスパツタリングあるいは真空蒸着技術を用いて
成し遂げられる。しかしながらめつき法等の他の
金属析出方法もまた用いることができる。析出に
用いられる装置は普通の装置でよいとは言え、用
いられる析出条件は生じる薄膜の作像特性に重要
な影響をおよぼす。 直流あるいは無線周波数スパツタリングが
Ag、Pb、Cu、Cr、GeおよびAlのいずれを析出
するのにも用いられる。不連続金属層の厚さと孤
立金属のサイズの制御はスパツタリング電圧、基
板温度および基板とターゲツト間のバイアス電圧
を変えることによつて達成される。不連続孤立金
属層の金属のもとであるターゲツトの状態もまた
重要である。例えば、部分的に酸化された銀ター
ゲツトはある場合にはきれいな酸化されていない
銀ターゲツトよりも良好な結果をもたらす。 真空蒸着法もまた不連続孤立金属層を作るのに
用いられ、特にAg、Ge、PbおよびCuを析出させ
るのに便利な方法である。孤立金属層の厚さおよ
び孤立金属のサイズ分布の制御は基板温度、析出
温度、蒸発温度および真空系のベース気圧を変え
ることによつて行なわれる。 下記第1表は数種の金属についての良好な作像
特性を示す孤立金属層を作るのに用いられる真空
蒸着条件例を示すものである。表には系のベース
気圧、基板温度および析出速度が示されている。 もちろん、これらの条件は使用可能な種々の析
出条件の一例にすぎないものである。
【表】
多層からなる感光薄膜が設けられる場合には、
上記第1表に述べられた条件と同様の条件が最初
の孤立金属層の析出のみならず、その後の孤立金
属層の析出にもまた用いられる。 孤立金属層の析出に続いて、誘電性受容体が孤
立金属層上に直接真空蒸着され、透明被覆層が設
けられる。生じる金属―誘電体層の作像特性は誘
電体の蒸着速度、誘電体層の厚さおよび誘電体層
の成分によつて影響される。 誘電体被覆層は「主に」AgCl、AgBr、AgIお
よびPbI2からなる群より選ばれる誘電性受容体の
少なくとも1つからなるものでなければならな
い。本明細書においては、誘電性受容体が層の少
なくともおよそ50重量%を構成する場合に被覆層
は「主に」これらの誘電性受容体からなると言う
ことにする。被覆層は全くこれらの誘電性受容体
からなるものであつてもよいが、CuCl、CuCl2お
よびCdCl2からなる群より選ばれる不純物
(dopant)が少量、例えばおよそ30重量%以下層
中に含まれるならばある場合に金属―誘電体層の
カラー像作像特性は改良される。これらの不純物
を含ませるか否かは薄膜の使用目的によつて決め
られる。もちろん被覆層は作像特性を妨げない他
の成分を含んでいてもよい。 下記第2表は良好な作像特性を有する金属―誘
電体層を得るために孤立金属層上に透明誘電体被
覆層を析出させるのに用いられる代表的な真空蒸
着条件を示すものである。表には数種の異なつた
誘電性受容体についての系のベース気圧、誘電体
の析出速度および基板温度が示されている。これ
らの条件もまた使用可能な条件範囲の一例にすぎ
ないものである。
上記第1表に述べられた条件と同様の条件が最初
の孤立金属層の析出のみならず、その後の孤立金
属層の析出にもまた用いられる。 孤立金属層の析出に続いて、誘電性受容体が孤
立金属層上に直接真空蒸着され、透明被覆層が設
けられる。生じる金属―誘電体層の作像特性は誘
電体の蒸着速度、誘電体層の厚さおよび誘電体層
の成分によつて影響される。 誘電体被覆層は「主に」AgCl、AgBr、AgIお
よびPbI2からなる群より選ばれる誘電性受容体の
少なくとも1つからなるものでなければならな
い。本明細書においては、誘電性受容体が層の少
なくともおよそ50重量%を構成する場合に被覆層
は「主に」これらの誘電性受容体からなると言う
ことにする。被覆層は全くこれらの誘電性受容体
からなるものであつてもよいが、CuCl、CuCl2お
よびCdCl2からなる群より選ばれる不純物
(dopant)が少量、例えばおよそ30重量%以下層
中に含まれるならばある場合に金属―誘電体層の
カラー像作像特性は改良される。これらの不純物
を含ませるか否かは薄膜の使用目的によつて決め
られる。もちろん被覆層は作像特性を妨げない他
の成分を含んでいてもよい。 下記第2表は良好な作像特性を有する金属―誘
電体層を得るために孤立金属層上に透明誘電体被
覆層を析出させるのに用いられる代表的な真空蒸
着条件を示すものである。表には数種の異なつた
誘電性受容体についての系のベース気圧、誘電体
の析出速度および基板温度が示されている。これ
らの条件もまた使用可能な条件範囲の一例にすぎ
ないものである。
【表】
もちろん、良好な作像に必要な層厚および孤立
金属層のサイズとサイズ分布が得られるならば、
不連続孤立金属層および誘電体被覆層を設けるの
に他の方法を用いてもよい。 次に実施例によつて本発明を説明する。 実施例 1 層の析出に適した平らな表面を有するきれいな
ガラススライドを多量のAgClと共に真空蒸着チ
エンバー中に設置した。チエンバーを5×
10-6Torrまで排気し、スライドをおよそ25℃に
保つた状態でAgClを加熱して蒸発させ、およそ
10Å/秒の速度でスライド上に析出させた。この
析出をガラス基板上のAgCl層がおよそ400Å厚に
なるまで続けた。 上述のAgClベース層の析出に続いて、Pbから
なる不連続孤立金属層をチエンバー中に導入した
多量のPbを加熱することによつてAgClベース層
上に真空蒸着した。蒸着の間チエンバーの気圧を
およそ5×10-6Torrに保つた。Pbの析出はおよ
そ1Å/秒の速度で起こり、この析出をおよそ30
Å厚になるまで続けた。その後、およそ400Å厚
のAgCl透明被覆層を上述AgClベース層の析出と
同じ方法でPb層上に真空蒸着した。 Pbの析出とそれに続くAgClの析出を3度繰返
し、AgClベース層とその上に重ねられた4層の
Pb金続―AgCl誘電体層からなる感光薄膜構造体
をガラススライド上に設けた。スライドを真空蒸
着チエンバーから取り出し試験した。光の透過に
よつて明るい紫色の着色を示す透明膜がガラス表
面に認められた。 このようにして得た薄膜構造体の一部分に強度
がおよそ10―20ミリワツト/cm2の数種の異なつた
波長の可視漂白光をおよそ1分間照射してその光
学特性を試験した。この漂白の結果を第4図およ
び第5図に示す。 第4図は波長が異なる4種の偏光されていない
光を用いた漂白によつて起される薄膜の透過率に
おける効果を示すグラフである。波長が異なる4
種の光はそれぞれその波長およびその波長に近い
波長域において漂白を生じ異なつた着色効果を生
じる。 第5図は波長が異なる3種の偏光を用いた漂白
によつて起される二色性を示すグラフである。漂
白された部分は着色を示すばかりでなく、漂白波
長付近において漂白光の偏光方向に垂直に偏光さ
れた光(破線)よりもそれに平行に偏光された光
(実線)に対して実質的により高い透過率を示
す。 実施例 2 層の析出に適した平らかな表面を有するきれい
なガラススライドを銀ターゲツトを有する三極型
無線周波数スパツタリング装置の基板ホルダーに
設置した。基板ホルダーをおよそ25℃に保つてチ
エンバーを10-6Torrまで排気した。その後チエ
ンバー内にアルゴンガスを導入し気圧を5×
10-3Torrとし、ターゲツトに400Vのr―f電圧
を印加すると同時にターゲツトと基板間に45Vの
直流バイアス電圧を印加した。この条件によつて
Agがガラススライド上におよそ9Å/分のスパ
ツタリング速度で析出した。ガラススライド上の
Ag層が100Å厚となるまでスパツタリングを続け
た。 上述のAg層の析出の後、ガラススライドをス
パツタリング装置から取り出し、多量のAgClと
共に真空蒸着装置中に設置した。チエンバーを1
×10-6Torrまで排気し、ガラススライドをおよ
そ−70℃に保つた状態でAgClを加熱して蒸発さ
せ、およそ50Å/秒の速度でガラススライドの
Ag層上に析出させた。この折出をAgCl層がおよ
そ1500Å厚になるまで続けた。 このようにして得た感光薄膜表面に写真レンズ
を用いて100ワツトの沃化タングステンランプで
写真スライドの実像を照射して、この感光薄膜の
作像特性を試験した。およそ15秒の露光で優れた
色再現性、コントラストおよび解像力を有する像
が得られた。 実施例 3 層の析出に適した平らな表面を有するきれいな
ガラススライドを多量のAgと共に真空蒸着チエ
ンバー中に設置した。チエンバーを5×
10-6Torrまで排気し、ガラススライドをおよそ
50℃に保つた状態でAgを加熱して蒸発させ、ガ
ラススライドの表面におよそ1Å/秒の速度で析
出させた。この析出をAg層がおよそ50Å厚にな
るまで続けた。 上述のAg層の析出の後、少量のCdCl2を含有す
るAgClをチエンバー中に導入し加熱して、およ
そ10重量%のCdCl2を含有するAgCl層をおよそ
100Å/秒の速度でガラススライドのAg層上に析
出させた。この析出を透明被覆層がおよそ1500Å
になるまで続けた。 上述の方法で作られた単一のAg金属―AgCl誘
電体層からなる感光薄膜は色再現性、コントラス
トおよび解像力が非常に良好な作像特性を示し
た。 上述本発明の感光薄膜製造のすべての場合にお
いて、1つの層を他の層上に析出させる間に金属
と誘電体間に実質的な相互作用が起ることは明白
である。このために、金属層の孤立構造が析出工
程の間そのまま変らずに保存されるかどうかは疑
わしい。残念ながら、感光薄膜の最終的な構造の
解析は電子顕微鏡検査を妨げる揮発性成分のため
に現在のところ不可能である。それにもかかわら
ず、先に詳しく述べた構造の孤立層を形成するた
めの析出条件の使用は、適当に広い波長領域にわ
たつて感度を有する本発明の感光薄膜を製造する
にあたつて必須であることは明らかである。
金属層のサイズとサイズ分布が得られるならば、
不連続孤立金属層および誘電体被覆層を設けるの
に他の方法を用いてもよい。 次に実施例によつて本発明を説明する。 実施例 1 層の析出に適した平らな表面を有するきれいな
ガラススライドを多量のAgClと共に真空蒸着チ
エンバー中に設置した。チエンバーを5×
10-6Torrまで排気し、スライドをおよそ25℃に
保つた状態でAgClを加熱して蒸発させ、およそ
10Å/秒の速度でスライド上に析出させた。この
析出をガラス基板上のAgCl層がおよそ400Å厚に
なるまで続けた。 上述のAgClベース層の析出に続いて、Pbから
なる不連続孤立金属層をチエンバー中に導入した
多量のPbを加熱することによつてAgClベース層
上に真空蒸着した。蒸着の間チエンバーの気圧を
およそ5×10-6Torrに保つた。Pbの析出はおよ
そ1Å/秒の速度で起こり、この析出をおよそ30
Å厚になるまで続けた。その後、およそ400Å厚
のAgCl透明被覆層を上述AgClベース層の析出と
同じ方法でPb層上に真空蒸着した。 Pbの析出とそれに続くAgClの析出を3度繰返
し、AgClベース層とその上に重ねられた4層の
Pb金続―AgCl誘電体層からなる感光薄膜構造体
をガラススライド上に設けた。スライドを真空蒸
着チエンバーから取り出し試験した。光の透過に
よつて明るい紫色の着色を示す透明膜がガラス表
面に認められた。 このようにして得た薄膜構造体の一部分に強度
がおよそ10―20ミリワツト/cm2の数種の異なつた
波長の可視漂白光をおよそ1分間照射してその光
学特性を試験した。この漂白の結果を第4図およ
び第5図に示す。 第4図は波長が異なる4種の偏光されていない
光を用いた漂白によつて起される薄膜の透過率に
おける効果を示すグラフである。波長が異なる4
種の光はそれぞれその波長およびその波長に近い
波長域において漂白を生じ異なつた着色効果を生
じる。 第5図は波長が異なる3種の偏光を用いた漂白
によつて起される二色性を示すグラフである。漂
白された部分は着色を示すばかりでなく、漂白波
長付近において漂白光の偏光方向に垂直に偏光さ
れた光(破線)よりもそれに平行に偏光された光
(実線)に対して実質的により高い透過率を示
す。 実施例 2 層の析出に適した平らかな表面を有するきれい
なガラススライドを銀ターゲツトを有する三極型
無線周波数スパツタリング装置の基板ホルダーに
設置した。基板ホルダーをおよそ25℃に保つてチ
エンバーを10-6Torrまで排気した。その後チエ
ンバー内にアルゴンガスを導入し気圧を5×
10-3Torrとし、ターゲツトに400Vのr―f電圧
を印加すると同時にターゲツトと基板間に45Vの
直流バイアス電圧を印加した。この条件によつて
Agがガラススライド上におよそ9Å/分のスパ
ツタリング速度で析出した。ガラススライド上の
Ag層が100Å厚となるまでスパツタリングを続け
た。 上述のAg層の析出の後、ガラススライドをス
パツタリング装置から取り出し、多量のAgClと
共に真空蒸着装置中に設置した。チエンバーを1
×10-6Torrまで排気し、ガラススライドをおよ
そ−70℃に保つた状態でAgClを加熱して蒸発さ
せ、およそ50Å/秒の速度でガラススライドの
Ag層上に析出させた。この折出をAgCl層がおよ
そ1500Å厚になるまで続けた。 このようにして得た感光薄膜表面に写真レンズ
を用いて100ワツトの沃化タングステンランプで
写真スライドの実像を照射して、この感光薄膜の
作像特性を試験した。およそ15秒の露光で優れた
色再現性、コントラストおよび解像力を有する像
が得られた。 実施例 3 層の析出に適した平らな表面を有するきれいな
ガラススライドを多量のAgと共に真空蒸着チエ
ンバー中に設置した。チエンバーを5×
10-6Torrまで排気し、ガラススライドをおよそ
50℃に保つた状態でAgを加熱して蒸発させ、ガ
ラススライドの表面におよそ1Å/秒の速度で析
出させた。この析出をAg層がおよそ50Å厚にな
るまで続けた。 上述のAg層の析出の後、少量のCdCl2を含有す
るAgClをチエンバー中に導入し加熱して、およ
そ10重量%のCdCl2を含有するAgCl層をおよそ
100Å/秒の速度でガラススライドのAg層上に析
出させた。この析出を透明被覆層がおよそ1500Å
になるまで続けた。 上述の方法で作られた単一のAg金属―AgCl誘
電体層からなる感光薄膜は色再現性、コントラス
トおよび解像力が非常に良好な作像特性を示し
た。 上述本発明の感光薄膜製造のすべての場合にお
いて、1つの層を他の層上に析出させる間に金属
と誘電体間に実質的な相互作用が起ることは明白
である。このために、金属層の孤立構造が析出工
程の間そのまま変らずに保存されるかどうかは疑
わしい。残念ながら、感光薄膜の最終的な構造の
解析は電子顕微鏡検査を妨げる揮発性成分のため
に現在のところ不可能である。それにもかかわら
ず、先に詳しく述べた構造の孤立層を形成するた
めの析出条件の使用は、適当に広い波長領域にわ
たつて感度を有する本発明の感光薄膜を製造する
にあたつて必須であることは明らかである。
第1図はガラス基板と感光薄膜とからなる本発
明の感光材料の具体例の概略正面断面図であり、
感光薄膜が単一の金属―誘電体層からなる場合で
ある。第2図は本発明の感光材料の別の具体例の
概略正面断面図であり、感光薄膜が5層の金属―
誘電体層からなる場合である。なお、第1図およ
び第2図においてMeは孤立金属を表わす。第3
図はガラス基板上に析出した不連続銀孤立層の電
子顕微鏡写真であり、白い帯は0.5ミクロンを表
わす。第4図は本発明の感光薄膜を波長が異なる
4種の偏光されていない漂白光で漂白した場合
の、漂白部分の各波長における透過率を、漂白さ
れていない感光薄膜の各波長における透過率と共
に示すグラフである。第5図は本発明の感光薄膜
を波長が異なる3種の偏光漂白光で漂白した場合
の、漂白部分の各波長における偏光透過率を、漂
白光の偏光方向に平行に偏光された光(実線)お
よび垂直に偏光された光(破線)について示すグ
ラフである。
明の感光材料の具体例の概略正面断面図であり、
感光薄膜が単一の金属―誘電体層からなる場合で
ある。第2図は本発明の感光材料の別の具体例の
概略正面断面図であり、感光薄膜が5層の金属―
誘電体層からなる場合である。なお、第1図およ
び第2図においてMeは孤立金属を表わす。第3
図はガラス基板上に析出した不連続銀孤立層の電
子顕微鏡写真であり、白い帯は0.5ミクロンを表
わす。第4図は本発明の感光薄膜を波長が異なる
4種の偏光されていない漂白光で漂白した場合
の、漂白部分の各波長における透過率を、漂白さ
れていない感光薄膜の各波長における透過率と共
に示すグラフである。第5図は本発明の感光薄膜
を波長が異なる3種の偏光漂白光で漂白した場合
の、漂白部分の各波長における偏光透過率を、漂
白光の偏光方向に平行に偏光された光(実線)お
よび垂直に偏光された光(破線)について示すグ
ラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a) 光透過性あるいは光反射性材料からなる
基板の形をした支持手段 と (b) Ag、Pb、Cu、Al、CrおよびGeからなる群
より選ばれる金属からなり、およそ15―150Å
の範囲の厚さを有し、種々の照射光波長に相当
するピーク吸収を生じさせるように種々の形状
を有するとともに100―1000Åのサイズ範囲で
の分布を有した孤立金属を含む不連続孤立金属
層と、主にAg Cl、Ag Br、AgIおよびPb I2か
らなる群より選ばれる誘電性受容体の少なくと
も1つからなり、前記不連続孤立金属層を被覆
する透明被覆層とからなる金属―誘電体層を少
なくとも1つ含む 前記支持手段上に析出された感光薄膜とを含む
投射される光の色、強度および偏光状態等の光学
情報を記録するためのカラー光学像用感光材料。 2 前記支持手段がガラスであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の感光材料。 3 前記透明被覆層の厚さが少なくとも300Åで
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の感光材料。 4 前記透明被覆層がCu Cl、Cu Cl2およびCd
Cl2からなる群より選ばれる不純物をおよそ30重
量%以下含むことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の感光材料。 5 前記誘電性受容体がAg Clであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の感光材料。 6 前記不連続孤立金属層がAgもしくはPbから
なることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の感光材料。 7 (a) 光透過性あるいは光反射性材料からなる
基板の形をした支持手段 と (b) Ag、Pb、Cu、Al、CrおよびGeからなる群
より選ばれる金属からなり、およそ15―150Å
の範囲の厚さを有し、種々の照射光波長に相当
するピーク吸収を生じさせるように種々の形状
を有するとともに100―1000Åのサイズ範囲で
の分布を有した孤立金属を含む不連続孤立金属
層と、主にAg Cl、Ag Br、AgIおよびPb I2か
らなる群より選ばれる誘電性受容体の少なくと
も1つからなり、前記不連続孤立金属層を被覆
する透明被覆層とからなる金属―誘電体層を少
なくとも1つ含む 前記支持手段上に析出された感光薄膜とを含む
感光材料の前記感光薄膜上にカラー実像を投射す
る工程とからなるカラー光学像の写真的記録方
法。 8 (a) 光透過性あるいは光反射性材料からなる
基板の形をした支持手段 と (b) Ag、Pb、Cu、Al、CrおよびGeからなる群
より選ばれる金属からなり、およそ15―150Å
の範囲の厚さを有し、種々の照射光波長に相当
するピーク吸収を生じさせるように種々の形状
を有するとともに100―1000Åのサイズ範囲で
の分布を有した孤立金属を含む不連続孤立金属
層と、主にAg Cl、Ag Br、AgIおよびPb I2か
らなる群より選ばれる誘電性受容体の少なくと
も1つからなり、前記不連続孤立金属層を被覆
する透明被覆層とからなる金属―誘電体層を少
なくとも1つ含む 前記支持手段上に析出された感光薄膜とを含む
感光材料の前記感光薄膜上に選択された記録軸に
沿つて直線偏光された光によつてつくられるカラ
ー実像を投射する工程からなる、直線偏光された
透過光で見る時強められた色質およびコントラス
トを示す二色性記録像を得るためのカラー光学像
の写真的記録方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US73912176A | 1976-11-05 | 1976-11-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5358226A JPS5358226A (en) | 1978-05-26 |
| JPS6240695B2 true JPS6240695B2 (ja) | 1987-08-29 |
Family
ID=24970913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13140877A Granted JPS5358226A (en) | 1976-11-05 | 1977-11-01 | Photosensitive film and method of producing same |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5358226A (ja) |
| CA (1) | CA1092877A (ja) |
| DE (1) | DE2747856A1 (ja) |
| FR (1) | FR2370303A1 (ja) |
| GB (1) | GB1570546A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62251900A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-02 | 株式会社日立ビルシステムサービス | ビル遠隔監視装置 |
| JPS62276695A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-01 | 株式会社日立ビルシステムサービス | ビル遠隔監視装置 |
| JPS6488897A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Nippon Telegraph & Telephone | Burglar device |
| JPS6488896A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Nippon Telegraph & Telephone | Burglar device |
| JPH02103697A (ja) * | 1988-10-12 | 1990-04-16 | Hitachi Elevator Eng & Service Co Ltd | 遠隔監視装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4246337A (en) * | 1978-05-01 | 1981-01-20 | Corning Glass Works | Photosensitive medium for optical information storage |
| US4239338A (en) * | 1979-10-22 | 1980-12-16 | Corning Glass Works | Silver halide optical information storage media |
| JPS56132335A (en) * | 1980-02-11 | 1981-10-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Optical recording medium and its manufacture |
| US4425570A (en) * | 1981-06-12 | 1984-01-10 | Rca Corporation | Reversible recording medium and information record |
| EP0518019A1 (en) * | 1991-06-13 | 1992-12-16 | Corning Incorporated | Birefringent glass waveplate |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1054323B (de) * | 1957-11-29 | 1959-04-02 | Renker Belipa G M B H | Funkenregistrierpapier |
| GB977291A (en) * | 1960-11-14 | 1964-12-02 | Technical Operations Inc | Improvements in or relating to sensitizing photographic materials |
| BE687248A (ja) * | 1966-09-22 | 1967-03-22 | ||
| BG17681A1 (ja) * | 1971-07-30 | 1973-12-25 |
-
1977
- 1977-09-26 CA CA287,518A patent/CA1092877A/en not_active Expired
- 1977-10-26 DE DE19772747856 patent/DE2747856A1/de active Granted
- 1977-11-01 JP JP13140877A patent/JPS5358226A/ja active Granted
- 1977-11-03 GB GB4574577A patent/GB1570546A/en not_active Expired
- 1977-11-04 FR FR7733212A patent/FR2370303A1/fr active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62251900A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-02 | 株式会社日立ビルシステムサービス | ビル遠隔監視装置 |
| JPS62276695A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-01 | 株式会社日立ビルシステムサービス | ビル遠隔監視装置 |
| JPS6488897A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Nippon Telegraph & Telephone | Burglar device |
| JPS6488896A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Nippon Telegraph & Telephone | Burglar device |
| JPH02103697A (ja) * | 1988-10-12 | 1990-04-16 | Hitachi Elevator Eng & Service Co Ltd | 遠隔監視装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2370303A1 (fr) | 1978-06-02 |
| GB1570546A (en) | 1980-07-02 |
| DE2747856A1 (de) | 1978-05-11 |
| DE2747856C2 (ja) | 1991-08-14 |
| CA1092877A (en) | 1981-01-06 |
| JPS5358226A (en) | 1978-05-26 |
| FR2370303B1 (ja) | 1985-03-01 |
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