Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPS6240816B2 - - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPS6240816B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6240816B2
JPS6240816B2 JP55102502A JP10250280A JPS6240816B2 JP S6240816 B2 JPS6240816 B2 JP S6240816B2 JP 55102502 A JP55102502 A JP 55102502A JP 10250280 A JP10250280 A JP 10250280A JP S6240816 B2 JPS6240816 B2 JP S6240816B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filament
heating power
emission current
filament heating
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55102502A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5727549A (en
Inventor
Hiroyoshi Mori
Osamu Yamada
Hisahiro Furuya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP10250280A priority Critical patent/JPS5727549A/en
Publication of JPS5727549A publication Critical patent/JPS5727549A/en
Publication of JPS6240816B2 publication Critical patent/JPS6240816B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フイラメント加熱制御装置に係り、
特に、電子銃のフイラメントの加熱制御装置に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a filament heating control device,
In particular, the present invention relates to a heating control device for a filament of an electron gun.

従来は、最適なフイラメント加熱電力は、エミ
ツシヨン電流の変化に基づいて設定していた。す
なわち、フイラメント加熱電力を変化させるとエ
ミツシヨン電流が変化するわけであるが、この傾
向は、第1図に示すように、フイラメント加熱電
力が小さい部分においてはエミツシヨン電流の増
加は少なく、フイラメント加熱電力を徐々に増加
していくと、エミツシヨン電流は増加してゆく
が、次第に飽和する。そして、フイラメントの使
用最適状態は、例えば、図中のWaで示したよう
に、エミツシヨン電流が飽和する点である。した
がつて、あらかじめフイラメント加熱電力に対す
るエミツシヨン電流の変化を第1図のように求め
ておき、最適なフイラメント加熱電力Waに対す
るエミツシヨン電流Ia得ている。そして、エミツ
シヨン電流のメータを目視しながら、フイラメン
ト加熱電力を手動にて増加させ、エミツシヨン電
流が所定の値となつた時、増加を停止している。
このフイラメント加熱電力を自動的に行おうとす
る場合、次の理由によつて、半自動化は可能であ
るが、完全自動化は困難である。すなわち、単純
に自動化の方式を検討するならば、フイラメント
加熱電力を自動的に昇圧し、その時のエミツシヨ
ン電流を検出し、エミツシヨン電流が基準値と一
致した時に昇圧を停止する構成が考えられる。こ
こで、再度、第1図をみるに、同図中の各a,
b,cは、それぞれ加速電圧が変化した場合や、
フイラメント交換によつてフイラメントの取付位
置が変つた場合に、フイラメント加熱電力とエミ
ツシヨン電流の関係が変化することを示してい
る。したがつて、a,b,cのそれぞれについ
て、最適のフイラメント加熱電力Wa,Wb,Wc
が存在し、対応するエミツシヨン電流Ia,Ib,Ic
がそれぞれ異なることになる。したがつて、加速
電圧が変化した場合や取付位置が変つた場合に
は、上述した比較のための基準値を手動にて可変
しなければならない。かかる点において、半自動
といわざるを得ない。
Conventionally, the optimum filament heating power was set based on changes in the emission current. In other words, the emission current changes when the filament heating power is changed, but as shown in Figure 1, the increase in the emission current is small in areas where the filament heating power is small, and as the filament heating power is changed, the emission current changes. As the emission current increases gradually, it gradually saturates. The optimum state for use of the filament is, for example, the point at which the emission current is saturated, as indicated by Wa in the figure. Therefore, the change in the emission current with respect to the filament heating power is determined in advance as shown in FIG. 1, and the optimum emission current Ia with respect to the filament heating power Wa is obtained. Then, while visually checking the emission current meter, the filament heating power is manually increased, and when the emission current reaches a predetermined value, the increase is stopped.
When trying to automatically supply the filament heating power, semi-automation is possible, but complete automation is difficult for the following reasons. That is, if we simply consider an automation method, we can consider a configuration in which the filament heating power is automatically boosted, the emission current at that time is detected, and the boosting is stopped when the emission current matches a reference value. Now, looking at Figure 1 again, each a,
b and c are the cases where the acceleration voltage changes, and
This shows that the relationship between filament heating power and emission current changes when the attachment position of the filament changes due to filament replacement. Therefore, for each of a, b, and c, the optimal filament heating power Wa, Wb, Wc
exist, and the corresponding emission currents Ia, Ib, Ic
will be different for each. Therefore, when the accelerating voltage changes or the mounting position changes, the reference value for comparison described above must be changed manually. In this respect, it can only be called semi-automatic.

本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、自動的に最適のフイラメン
ト加熱電力に設定でき、操作性のよいフイラメン
ト加熱制御装置を提供するにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its object is to provide a filament heating control device that can automatically set the optimum filament heating power and has good operability.

本発明者は、第1図に示すフイラメント加熱電
力とエミツシヨン電流の関係について検討を加え
た結果、フイラメント加熱電力の増加に伴つて変
化するエミツシヨン電流の変化分、すなわち、微
分値に着目した。そして、フイラメント加熱電力
とエミツシヨン電流の微分値の関係についてプロ
ツトしたものが第2図である。この中で、エミツ
シヨン電流の微分値の最大値Ida・max、Idb・
max、Idc・maxに最初に着目し、これらの最大
値と最適なフイラメント加熱電力Wa,Wb,Wc
に対応するエミツシヨン電流の微分値Ida、Idb、
Idcの相関をみた。その結果、両微分値の比はほ
ぼ一定であることがわかつた。
As a result of studying the relationship between the filament heating power and the emission current shown in FIG. 1, the inventors of the present invention focused on the amount of change in the emission current that changes as the filament heating power increases, that is, the differential value. FIG. 2 is a plot of the relationship between the filament heating power and the differential value of the emission current. Among these, the maximum value of the differential value of the emission current Ida・max, Idb・
max, Idc・max, and calculate these maximum values and the optimal filament heating power Wa, Wb, Wc.
The differential values of the emission current corresponding to Ida, Idb,
I looked at the correlation between Idc. As a result, it was found that the ratio of both differential values was almost constant.

Ida/Ida・max=Idb/Idb・max
=Idc/Idc・max≒K 上式においてKは定数である。
Ida/Ida・max=Idb/Idb・max
=Idc/Idc·max≒K In the above formula, K is a constant.

本発明は、上述の本願発明者の知見に基づいて
なされたものである。
The present invention has been made based on the above-mentioned knowledge of the inventor of the present application.

本発明の一実施例について、第3図乃至第6図
を用いて説明する。フイラメント1から放射され
た熱電子は加速電圧8によりフイラメント1と陽
極3の間に作られた電界によつて加速される。加
速された電子ビーム4は試料5に照射される。フ
イラメント1とウエーネルト2の間にはバイアス
抵抗7が接続され、このバイアス電圧によりフイ
ラメントから発生する電子電流の強度を一定に保
つように制御する。
An embodiment of the present invention will be described using FIGS. 3 to 6. Thermionic electrons emitted from the filament 1 are accelerated by an electric field created between the filament 1 and the anode 3 by an accelerating voltage 8. The accelerated electron beam 4 is irradiated onto the sample 5. A bias resistor 7 is connected between the filament 1 and Wehnelt 2, and this bias voltage controls the intensity of the electron current generated from the filament to be kept constant.

マイクロコンピユータ15はインターフエース
12を通つてフイラメント加熱電力データをD/
A変換器11に送りアナログ量に変換する。該ア
ナログ量は、電力増幅器10によつてフイラメン
ト1に加熱電力を供給する。
The microcomputer 15 inputs the filament heating power data via the interface 12.
It is sent to the A converter 11 and converted into an analog quantity. The analog quantity supplies heating power to the filament 1 by means of a power amplifier 10.

一方、エミツシヨン電流は検出抵抗9によつて
検出される。この検出抵抗9の両端電圧をA/D
変換器13により、デイジタル量に変換し、イン
ターフエース14を通してマイクロコンピユータ
15にデータを転送する。
On the other hand, the emission current is detected by a detection resistor 9. The voltage across this detection resistor 9 is A/D
A converter 13 converts the data into digital quantities and transfers the data to a microcomputer 15 through an interface 14 .

第3,4,5,6図により動作説明をする。 The operation will be explained with reference to FIGS. 3, 4, 5, and 6.

操作者が、自動フイラメント加熱制御スタート
スイツチ16を押すと、マイクロコンピユータ1
5より、フイラメント1に第4図に示すW1の加
熱電力を注入する指令が発生し、フイラメントが
加熱される。するとフイラメント1より電子ビー
ム4が放射される。エミツシヨン電流が変化した
後に、エミツシヨン電流をA/D変換器13によ
りA/D変換しマイクロコンピユータ13にデー
タを転送する。該測定値を第5図に示したエミツ
シヨン電流I1とし、この値を記憶する。
When the operator presses the automatic filament heating control start switch 16, the microcomputer 1
5, a command is generated to inject heating power of W1 shown in FIG. 4 into the filament 1, and the filament is heated. Then, an electron beam 4 is emitted from the filament 1. After the emission current changes, the emission current is A/D converted by the A/D converter 13 and the data is transferred to the microcomputer 13. This measured value is set as the emission current I1 shown in FIG. 5, and this value is stored.

同様の要領で動作させ、フイラメント1に第4
図に示すW2の加熱電力を注入したときに得られ
たエミツシヨン電流の測定値を第5図に示したI2
とする。第4図に示すように加熱電力の変化は一
定とし、設定したステツプで徐々に増加させてゆ
く。
Operate in the same manner, and place the fourth filament on filament 1.
Figure 5 shows the measured values of the emission current obtained when the heating power of W 2 shown in the figure is injected.
shall be. As shown in FIG. 4, the heating power is kept constant and gradually increased in set steps.

ここで、マイクロコンピユータにおいて、I2
I1との差Id1を演算させ記憶する。
Here, in the microcomputer, I 2 and
The difference Id 1 from I 1 is calculated and stored.

Id1=I2−I1 ……(2) もし、一連の動作をn回実行したと仮定すれ
ば、 Id2=I3−I2 ……(3) Id3=I4−I3 ……(4) 〓 Ido=Io+1−Io ……(5) の情報が得られる。加熱電力の変化は一定である
ため、これらの情報は、エミツシヨン電流Iの微
分値をあらわしている。
Id 1 = I 2 − I 1 …(2) If we assume that the series of operations is executed n times, Id 2 = I 3I 2 …(3) Id 3 = I 4I 3 … …(4) 〓 Id o =I o+1 −I o …(5) Information can be obtained. Since the change in heating power is constant, this information represents the differential value of the emission current I.

これらの情報をグラフにしたのが第6図である
Id1からIdoのデータの中で最大値をIdmaxとする
と、最適使用状態におけるエミツシヨン電流の微
分値Ideの間には次の関係式が成り立つ。
Figure 6 is a graph of this information.
Assuming that the maximum value among the data from Id 1 to Id o is Idmax, the following relational expression holds between the differential value Ide of the emission current in the optimum usage state.

Ide=K・Idmax ……(6) Kは定数で、第3図における定数設定用スイツ
チ17によつて与えておく。
Ide=K·Idmax (6) K is a constant, which is given by the constant setting switch 17 in FIG.

実際の動作としては、フイラメント加熱電力を
徐々に増加してゆくと、エミツシヨン電流の差分
値IdもId1からIdmaxまで増加する。そして、フ
イラメント加熱電力を1ステツプ増加すると、Id
は減少し、Idmaxが求められる。これより、停止
レベルIde演算され、iIdが Id≦Ide ……(7) となるまで、フイラメント加熱電力を増加してゆ
き、(7)式を満足した時点でフイラメント加熱電力
の増加を停止すれば、フイラメントを最適使用状
態に設定することができる。
In actual operation, when the filament heating power is gradually increased, the difference value Id of the emission current also increases from Id 1 to Idmax. Then, when the filament heating power is increased by one step, Id
decreases and Idmax is determined. From this, the stop level Ide is calculated, and the filament heating power is increased until iId becomes Id≦Ide...(7), and when the formula (7) is satisfied, the increase in the filament heating power is stopped. , the filament can be set to optimal usage conditions.

この実施例においては、フイラメントの取付位
置、加速電圧等によるエミツシヨン電流の変化に
拘らず、フイラメントの加熱電力を最適に設定で
きる。
In this embodiment, the heating power for the filament can be optimally set regardless of changes in the emission current due to the attachment position of the filament, acceleration voltage, etc.

前記実施例においては、フイラメント加熱電力
の増加ステツプを大きくとつて第4図に表わした
が、増加幅を小さくすればより精密な制御ができ
る。
In the above embodiment, the increase step of the filament heating power is shown in FIG. 4 as being large, but more precise control can be achieved by making the increase step smaller.

また、定数設定スイツチ17を特別に設けるか
わりに、標準値をCPUのROMに記憶しておき、
必要に応じて、操作パネルのテンキーから入力す
るようにしてもよい。
Also, instead of providing a special constant setting switch 17, standard values are stored in the ROM of the CPU,
If necessary, input may be made using the numeric keypad on the operation panel.

第4図には、フイラメント加熱電力を小さい方
から変化させるように書いたが、Idmaxが求めら
れればよいので、Idmaxになるフイラメント加熱
電力より少し少ないフイラメント加熱電力から
徐々に増加させてもよい。こうすれば、フイラメ
ント加熱電力を設定するに要する時間を短縮でき
る効果がある。
In FIG. 4, it is written that the filament heating power is changed from the smallest, but since it is sufficient to find Idmax, it is also possible to gradually increase the filament heating power from a slightly lower filament heating power than the filament heating power that will give Idmax. This has the effect of shortening the time required to set the filament heating power.

動作説明中に、Id1〜Idoすべてを記憶するよう
に記述したが、Id1〜Idoのうち必要なデータは
Idmaxなので、常に測定したIdのうちの最大値の
みを記憶しておけばよい。こうすれば、記憶する
データが少なくなりメモリ容量を小さくすること
ができる。
In the operation explanation, it was written to memorize all Id 1 to Id o , but the necessary data among Id 1 to Id o is
Since Idmax, it is only necessary to always remember the maximum value of the measured Ids. In this way, the amount of data to be stored can be reduced and the memory capacity can be reduced.

本発明によれば、自動的に最適のフイラメント
加熱電力に設定でき、操作性が向上する。
According to the present invention, the optimum filament heating power can be automatically set, improving operability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、フイラメント加熱電力に対するエミ
ツシヨン電流の関係を示す曲線図であり、第2図
は、本発明の原理を説明するための曲線図であ
り、第3図は、本発明の一実施例のブロツク図で
あり、第4図乃至第6図は、本発明の一実施例の
動作説明図である。 1……フイラメント、9……エミツシヨン電流
検出用抵抗、11……D/A変換器、13……
A/D変換器、15……マイクロコンピユータ、
16……スタートスイツチ、17……定数設定用
スイツチ。
FIG. 1 is a curve diagram showing the relationship between the emission current and the filament heating power, FIG. 2 is a curve diagram for explaining the principle of the present invention, and FIG. 3 is a curve diagram showing an embodiment of the present invention. FIG. 4 to FIG. 6 are explanatory diagrams of the operation of one embodiment of the present invention. 1...Filament, 9...Emission current detection resistor, 11...D/A converter, 13...
A/D converter, 15... microcomputer,
16...Start switch, 17...Constant setting switch.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 フイラメントと、該フイラメントに電力を供
給しかつその電力を順次増加させる手段と、前記
フイラメントに電力を供給しかつその電力を順次
増加させたときのエミツシヨン電流を検出する手
段と、前記エミツシヨン電流を微分し、その微分
の最大値を検出して、この最大値と前記フイラメ
ントの最適加熱電力に対応するエミツシヨン電流
の微分値の前記最大値に対する比を実質的に表わ
す一定値とにもとづいて基準値を計算し、そして
前記最大値の検出後前記エミツシヨン電流の微分
値が前記基準値に達したとき前記フイラメント加
熱電力の増加を停止させる手段とを備えているフ
イラメント加熱制御装置。
1 a filament, means for supplying electric power to the filament and increasing the electric power sequentially, means for detecting an emission current when electric power is supplied to the filament and increasing the electric power sequentially, a reference value based on this maximum value and a constant value substantially representing the ratio of the differential value of the emission current corresponding to the optimum heating power of the filament to the maximum value; and, after detecting the maximum value, stopping the increase in the filament heating power when the differential value of the emission current reaches the reference value.
JP10250280A 1980-07-28 1980-07-28 Filament heating controller Granted JPS5727549A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10250280A JPS5727549A (en) 1980-07-28 1980-07-28 Filament heating controller

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10250280A JPS5727549A (en) 1980-07-28 1980-07-28 Filament heating controller

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5727549A JPS5727549A (en) 1982-02-13
JPS6240816B2 true JPS6240816B2 (en) 1987-08-31

Family

ID=14329175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10250280A Granted JPS5727549A (en) 1980-07-28 1980-07-28 Filament heating controller

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5727549A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4594554A (en) * 1983-06-30 1986-06-10 International Business Machines Corporation Programmed control of electron beam power
JPH03171542A (en) * 1989-11-28 1991-07-25 Apuko:Kk Electron beam generator
JP6943932B2 (en) * 2019-09-10 2021-10-06 日本電子株式会社 Control method of electron microscope and electron microscope

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5819809U (en) * 1981-08-01 1983-02-07 本田技研工業株式会社 Adhesive window device for vehicles

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5727549A (en) 1982-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4277679A (en) Apparatus and method for contact-free potential measurements of an electronic composition
JPS62143353A (en) Device and method for controlling ion source of ion implantation device
US3413517A (en) Filament current control by a superposed dithering voltage
JPS6240816B2 (en)
US3936756A (en) Field emission electron gun having automatic current control
US4021636A (en) Beam current control device for a technical corpuscular beam apparatus
US4317983A (en) Setting the electron gun cathode heating current of an electron beam machine
JPH0644472B2 (en) Method of automatically setting operating point of particle beam measuring device
US6204882B1 (en) γ matching of a video processor by means of three measured currents
US4059783A (en) Field emission apparatus
US2588924A (en) Electronic trigger circuit
US4686466A (en) Method for automatically setting the voltage resolution in particle beam measuring devices and apparatus for implementation thereof
JP3535387B2 (en) Electron beam equipment
JP3418941B2 (en) Electron beam generator
JP3400697B2 (en) electronic microscope
JP2818014B2 (en) Field emission type electron gun
JPS586142Y2 (en) Wehnelt power supply for electron guns
US4684782A (en) Control system for a charged particle beam apparatus
JP3074851B2 (en) Ion implanter
KR910001508B1 (en) Method for measuring hot electron emission of cathode ray tube
JP2010192808A (en) Electron beam drawing device, and device and method for controlling power for heating cathode of electron gun of the same
JP3740336B2 (en) Particle beam equipment
JP2834195B2 (en) Adjustment method for filament current of electron gun
JP3365600B2 (en) Method of determining operating temperature of filament in electron gun and electron beam apparatus
JP3659547B2 (en) X-ray generator