JPS6242390B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置、集積回路装置等の電子装
置、特にその組立技術に関するものであり、電力
用電子装置の製作に有効に利用し得るものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to electronic devices such as semiconductor devices and integrated circuit devices, and particularly to assembly techniques thereof, and can be effectively utilized in the production of power electronic devices.
一般に電力用の電子装置は、小信号用の電子装
置と異なり、大きな放熱用フランジを必要とする
ことから素子、フランジ、リード線相互間の組立
が複雑となり、またレジン等によりモールド封止
等の封止に際してもモールド型が複雑となり、そ
れがため小信号用電子装置に比べその工業化が遅
れている。 Unlike electronic devices for small signals, power electronic devices generally require large heat dissipation flanges, which makes assembly between elements, flanges, and lead wires complicated. The mold used for sealing is also complicated, which has delayed its industrialization compared to small-signal electronic devices.
したがつて本願は電力用電子装置を工業化する
に有効な新規な技術を提供せんとするものであ
る。 Therefore, the present application seeks to provide a new technique that is effective for industrializing power electronic devices.
第1図は電子素子を取り付けるためのフランジ
の上面図を示し、また第2図はその縦断面図を示
すものであつて、板状体をプレスにより打ちぬく
ことによつて作られる。工業的には、例えば電子
装置10個分のフランジが一連に一体化された形で
製造される。 FIG. 1 shows a top view of a flange for mounting an electronic element, and FIG. 2 shows a longitudinal cross-sectional view thereof, which is made by punching out a plate-shaped body using a press. Industrially, for example, flanges for 10 electronic devices are manufactured in an integrated series.
図中1は例えば厚さ1.26mm巾8mm1個あたりの
長さ30mmの大きさのフランジ本体を示し、該フラ
ンジに接続される素子において生じた熱を有効に
外部に放散させるものであるから、熱伝導の良好
な銅、アルミニウム、またはそれらを主体とする
合金、さらには上記の物質を主板とするクラツド
板が利用される。そして上記フランジの表面には
防蝕その他の目的により、ニツケルその他のメツ
キ層を形成することは有効なことであり、このこ
とは後に詳細に説明される。 In the figure, 1 indicates a flange body with a thickness of 1.26 mm and a width of 8 mm and a length of 30 mm per piece, and the heat generated in the elements connected to the flange is effectively dissipated to the outside. Copper, aluminum, or an alloy mainly composed of these materials, which have good conductivity, or a clad plate made of the above-mentioned materials as a main plate are used. It is effective to form a plating layer of nickel or other material on the surface of the flange for corrosion prevention or other purposes, and this will be explained in detail later.
フランジ1に対し形成された切り込み部2は後
に行なうモールド封止工程において溶融状態のモ
ールド材料が不必要な部分に流れ出るのを防止す
るために形成されたモールド材流れ防止用切り込
みである。 The notch 2 formed in the flange 1 is a mold material flow prevention notch formed to prevent the molten mold material from flowing out to unnecessary portions in the mold sealing process to be performed later.
孔3は電子装置が完成された時、外部放熱体と
フランジとを密着させるためのボルト通し孔であ
り、それによつて熱放散を著しく大ならしめるこ
とが可能となる。 The holes 3 are bolt holes for tightly fitting the external heat sink and the flange when the electronic device is completed, thereby making it possible to significantly increase heat dissipation.
4は後に説明されるリードフレームのタブリー
ドを挿入するために形成された開孔スリツト状タ
ブリード挿入部である。 Reference numeral 4 designates an open slit tab lead insertion portion formed for inserting a tab lead of a lead frame, which will be explained later.
該タブリード挿入部4の外まわりを構成する細
巾の突起部5は上記タブリード挿入部4内に位置
するタブリードをかしめ付けるために形成された
タブリードおさえ部であつて、図では小なる圧力
でかしめつけられるようにタブリード挿入部、中
央上部で分離されているが、同図中タブリード挿
入部4の上部左右に形成されたタブリードおさえ
部5はタブリード挿入部中央上部で連結された形
であつてもよく、その場合タブリード挿入部4は
閉孔スリツト状となる。また上記タブリード挿入
部4はフランジの長さ方向(図中左右の方向)と
同一の方向に長く形成されているが、それは突起
部5をかしめることによつてタブリードをおさえ
付ける場合に矢印6の方向から力を加えればよく
作業上有効であり、またタブリード挿入部4が図
中上下方向に一対形成せしめたのはかしめ付けに
よる圧力により、リードフレームとフランジ1と
の位置関係に誤差を生じさせないため、およびか
しめ付けに際し、リードフレームの弾性を有効に
利用するためであり、これらの目的を考慮しなけ
ればタブリード挿入部の長さ方向を例えばフラン
ジの長さ方向に直交するが如き方向に変えてもよ
く、またタブリード挿入部を1つにしてもよい。 The narrow protrusion 5 forming the outer circumference of the tab lead insertion part 4 is a tab lead holding part formed to swage the tab lead located inside the tab lead insertion part 4, and in the figure, it is swaged with a small pressure. Although the tab lead insertion part is separated at the upper center as shown in FIG. In that case, the tab lead insertion portion 4 has a closed slit shape. Furthermore, the tab lead insertion portion 4 is formed to be long in the same direction as the length direction of the flange (left and right directions in the figure). It is effective for the work if force is applied from the direction shown in FIG. This is to prevent the lead frame from becoming loose and to make effective use of the elasticity of the lead frame when caulking.If these purposes are not taken into consideration, it is not possible to set the length direction of the tab lead insertion part in a direction perpendicular to the length direction of the flange. The number of tab lead insertion parts may be changed or the number of tab lead insertion parts may be changed to one.
溝部7は素子を取り付けるべき位置8を規定す
るために形成された4.5mmφ程度の溝である。 The groove portion 7 is a groove having a diameter of approximately 4.5 mm and is formed to define a position 8 where an element is to be attached.
以上フランジ本体は一回のプレス加工により製
作することができ、少なくとも溝7はタブリード
挿入部4を形成するためのプレス型と一体的に構
成されることが望ましい。すなわち素子取付位置
8とタブリード挿入部4とが一定の位置関係に規
定され、したがつてタブリード挿入部4によつて
保持されるリードフレームと素子取付位置8との
位置関係が正確に規定されるからである。 As described above, the flange main body can be manufactured by one press process, and it is desirable that at least the groove 7 is constructed integrally with the press mold for forming the tab lead insertion part 4. That is, the element mounting position 8 and the tab lead insertion part 4 are defined in a fixed positional relationship, and therefore the positional relationship between the lead frame held by the tab lead insertion part 4 and the element mounting position 8 is accurately defined. It is from.
第3図は上記第1図、第2図に示されたフラン
ジ本体1の表面に例えば5μのニツケル被膜9を
例えばメツキにより形成し、さらに上記素子取付
位置8におけるニツケル被膜9上に例えば500μ
の銀箔10を電気溶接によつて接続した状態を示
す縦断面図である。特に上記素子がトランジスタ
等の半導体素子または半導体集積回路素子のよう
な場合、銅、アルミニウム等のフランジ表面に直
接素子を取り付けることは望ましくなく、一方
200μ〜1200μ程度の銀を介在させればフレーム
の素子に対する影響はなく、熱放散も著しく良好
となり、また銀は軟質金属であることから4.5mm
×4.5mm程度のかなり大なる素子を取り付けても
熱歪による素子の破損は生じないから素子とフラ
ンジとの間の介在物10としては極めて有力なも
のである。また1μ〜10μ程度のニツケル被膜9
の介在は、フランジの防蝕被膜として作用し、さ
らにフランジ1と介在物10との電気溶接におけ
る抵抗材としても作用し、上記介在物10とフラ
ンジ本体との間を強力に接続する。上記抵抗材と
して作用するものとしてはニツケルの他クロム、
モリブデン、タングステンさらにはそれらの合金
またはそれらと他の金属との合金等があり、同様
に利用し得る。なお同図中11,12は電気溶接
用電極の一部を示す。 In FIG. 3, a nickel coating 9 of, for example, 5 μm is formed by plating on the surface of the flange main body 1 shown in FIGS.
FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view showing a state in which silver foils 10 of FIG. 1 are connected by electric welding. Particularly when the above-mentioned element is a semiconductor element such as a transistor or a semiconductor integrated circuit element, it is not desirable to attach the element directly to the surface of a flange made of copper, aluminum, etc.
If silver of about 200μ to 1200μ is inserted, there will be no effect on the frame elements, and heat dissipation will be extremely good.Also, since silver is a soft metal, 4.5mm
Even if a fairly large element of about 4.5 mm is attached, the element will not be damaged due to thermal strain, so it is extremely useful as the inclusion 10 between the element and the flange. Also, a nickel coating 9 of about 1μ to 10μ
The intervening material acts as a corrosion-proofing coating for the flange, and also acts as a resistance material in the electric welding between the flange 1 and the inclusion 10, thereby providing a strong connection between the inclusion 10 and the flange body. In addition to nickel, chromium,
Molybdenum, tungsten, alloys thereof, alloys of them with other metals, and the like can be used in the same manner. In addition, 11 and 12 in the same figure show a part of the electrode for electric welding.
上述の如く素子とフランジ1との間に銀箔等の
介在物10を必要とする場合、まず介在物10と
フランジ1との間を電気溶接により接続すること
は有力な方法であり、他の多くの場合にも利用し
得る。すなわち、フランジ1またはその表面のニ
ツケル等の被膜および介在物10の接触表面のみ
が溶融するように抵抗溶接すれば介在物の他の面
すなわち素子を取り付けるべき平坦面をそのまま
維持でき、後に行なわれる素子の取り付けを全面
にわたつて均一に行なうことができ、また電気溶
接は極部発熱によるものであり、上記溶接部以外
の部分の変質をおさえることができるからであ
る。 As mentioned above, when the inclusion 10 such as silver foil is required between the element and the flange 1, an effective method is to first connect the inclusion 10 and the flange 1 by electric welding, and there are many other methods. It can also be used in the case of That is, if resistance welding is performed so that only the contact surface of the flange 1 or the nickel coating on its surface and the inclusion 10 is melted, the other surface of the inclusion, that is, the flat surface to which the element is to be attached, can be maintained as is, which will be carried out later. This is because the element can be attached uniformly over the entire surface, and since electric welding is based on heat generation at the extreme part, deterioration of the quality of parts other than the welded part can be suppressed.
また他の有効な方法として銅フランジ1素子取
付位置8に銀箔10を冷間圧接により接続する方
法があり、かかる方法によれば銀およびフランジ
等は変質せずまたその表面も全面平坦に加圧され
るから平坦度は阻害されずしたがつて上記抵抗溶
接の場合と同様の利点を有する。この場合ニツケ
ル被膜9の形成は、冷間圧接後、上記銀箔をレジ
ン等の耐蝕性物質により保護した状態でメツキに
より行なうのが望ましい。 Another effective method is to connect the silver foil 10 to the copper flange 1 element mounting position 8 by cold pressure welding. According to this method, the silver and the flange etc. do not change in quality and the entire surface is pressed flat. Since the flatness is not impaired, the welding has the same advantages as the resistance welding described above. In this case, the formation of the nickel film 9 is preferably performed by plating after cold pressure welding, with the silver foil protected by a corrosion-resistant material such as resin.
上記銀箔10と銅フランジ1との他の有効な接
続方法としては銀と銅との界面における共晶を利
用して比較的低温で接続する方法があり、さらに
他の方法としては鑞材を介して接続する方法およ
び介在物全体を溶融せしめて接続する方法等があ
るが、これらの場合後に行なわれる素子取付温度
以上で加熱接続する必要があり、フランジ1、介
在物10の変質防止に充分な考慮をはらうべきで
ある。 Another effective method for connecting the silver foil 10 and the copper flange 1 is to use eutectic at the interface between silver and copper to connect at a relatively low temperature. There are two methods: one method is to connect by melting the entire inclusion, and the other is to connect by melting the entire inclusion. However, in these cases, it is necessary to heat the connection at a temperature higher than the element mounting temperature that will be performed later, and the temperature is sufficient to prevent deterioration of the flange 1 and the inclusion 10. consideration should be given.
第4図は上記銀箔10上に素子13を鑞接によ
つて取り付けた縦断面図を示すものであつて、素
子13としてSiを基体とする2.5mm×2.0mmの大き
さの電力増巾用半導体集積回路素子が用いられ、
その一主表面が金シリコン共晶鑞材14によつて
約440℃で上記平坦な銀箔10の平坦な面に均一
にろう接されている。また上記鑞接による接続に
かわる方法として本発明は、銀金等の導電性粉末
を含む導電性接着材が利用しており、その場合加
熱を必要としないから作業は容易である。それゆ
え、工業化に極めて有益である。上記素子の他の
一主表面には図示されていないが、SiO2,Si3N4
等の有孔絶縁膜と、半導体内部に形成されたトラ
ンジスタ、ダイオード、抵抗等の電子素子から上
記孔を通して上記絶縁被膜上に延在する配線路
と、後にワイヤーを接続するため素子の周辺部に
位置する電極端子とが形成されている。 FIG. 4 shows a vertical cross-sectional view of the element 13 mounted on the silver foil 10 by soldering, and the element 13 is a power amplifier with a size of 2.5 mm x 2.0 mm having Si as a base. Semiconductor integrated circuit elements are used,
One main surface thereof is uniformly soldered to the flat surface of the flat silver foil 10 at about 440° C. by a gold-silicon eutectic solder 14. Further, as an alternative to the above-mentioned soldering connection, the present invention utilizes a conductive adhesive containing conductive powder such as silver-gold, and in this case, the work is easy because no heating is required. Therefore, it is extremely beneficial for industrialization. Although not shown on the other main surface of the above element, SiO 2 , Si 3 N 4
A wiring path extends from an electronic element such as a transistor, diode, or resistor formed inside the semiconductor onto the insulating film through the hole, and a wiring path extends to the periphery of the element to connect a wire later. electrode terminals are formed.
上記銀箔、素子のフランジへの接続はかならず
しも上記工程において行なう必要はなく、例え
ば、上記フランジに対しリードフレームを接続し
た後において行なつてもよい。 The connection of the silver foil and the element to the flange does not necessarily have to be carried out in the above process, and may be carried out, for example, after the lead frame is connected to the flange.
第5図はリードフレーム20を示す上面図であ
り、例えば、リン青銅の如く適度の弾性をもつた
厚さ0.25mm電子装置1個あたりの長さ30mmの帯状
の金属板よりなり、それに写真処理をほどこしそ
れによつて形成された耐蝕性マスクを用いてエツ
チング処理をほどこす所謂ホトエツチング技術お
よびプレス成形加工技術を用いて作ることができ
る。他の方法としてはプレス打ちぬきおよびプレ
ス成形技術を用いて作ることができる。いずれの
場合においても前記フランジの場合と同様例えば
電子装置を10個連続した形で作る場合は、かかる
リードフレームも10個分が一連に接続された状態
のものを製作する必要があるが、ホトエツチング
技術を利用する場合は上記一連のフレームを同時
に1回の処理で作り、プレス成形加工も同時に1
回で処理することができるが、プレス打ちぬきお
よびプレス成形技術においては、プレス型が複雑
となるから多連のプレス型を利用して1回のプレ
スで同時に処理せず1組のプレス型で連続的に打
ちぬいて行き一連のフレームを作るのが望まし
い。 FIG. 5 is a top view showing the lead frame 20, which is made of a band-shaped metal plate made of, for example, phosphor bronze, which has a suitable elasticity, has a thickness of 0.25 mm, and has a length of 30 mm per electronic device. It can be manufactured using a so-called photo-etching technique and a press molding technique in which a corrosion-resistant mask is formed by etching. Alternatively, it can be made using press stamping and press molding techniques. In any case, as in the case of the flange, if, for example, 10 electronic devices are to be manufactured in a series, it is necessary to manufacture a lead frame in which 10 pieces are connected in series. When using this technology, the above series of frames can be made simultaneously in one process, and the press forming process can also be done in one process.
However, in press punching and press forming technology, the press mold is complicated, so multiple press molds are used to process the process simultaneously in one press, and one set of press molds is used. It is preferable to punch out continuously to create a series of frames.
図中21aは後で説明される封止体内(図中2
点鎖線15で包囲された部分)に位置するリード
部分(内部リード部)を示し、その先端は上記素
子取り付け位置8の外周にほぼ一致するように形
成するとよい。21bは封止体外部に導出させる
リード部分(外部リード部)を示し、同図におい
てはリードとしての形状を示しているが、かなら
ずしもかかる形状をもつ必要はなく一平板状とし
ておき、封止後の打ちぬきによりリードとしての
形状となしてもよい。以上リード部21a,21
bは完成品において一体となつたリード線21を
構成する。 21a in the figure is a sealed body (21a in the figure) which will be explained later.
A lead portion (internal lead portion) located in a portion surrounded by a dashed dotted line 15 is shown, and its tip is preferably formed so as to substantially coincide with the outer periphery of the element mounting position 8. Reference numeral 21b indicates a lead portion (external lead portion) led out to the outside of the sealing body, and although it is shown in the shape of a lead in the figure, it does not necessarily have to have such a shape, and it may be made into a flat plate shape. It may also be formed into a lead shape by punching. Above lead parts 21a, 21
b constitutes the lead wire 21 that is integrated in the finished product.
上記多数の外部リード部21bの間はリードフ
レーム20の1部を構成するリード保持部22
a,22b(総称して22とする)によつて連結
されており、リード保持部22の位置は少なくと
も外部リード部21bであればどこでもよく全部
であつてもよいが、内部リード21aの機械的保
持の目的から少なくともその一部を封止部の境界
線15になるべく近く形成することが望まれる。
特にレジン等のトランスフアーモールド(射出成
形)による封止を採用する場合においては封止材
の流れどめの目的をかねさせることから重要な意
味をもつ。また外部リード部21bがリード線と
しての形をもつ本例において2つのリード保持部
22a,22bの巾が互に異なつているのはリー
ドフレーム20の表裏を一目して明確化し、かつ
巾の広い方22bはモールド材注入用パイプ(ラ
ンナー)の一部を構成せしめるためである。また
本例においてはリード部21bの先端を先細に形
成し、プリント基板等への挿入を容易にしたため
リード部21bに対し外界から不必要な機械的作
用を受けやすく、それを防止するためリードフレ
ーム20によつて外部リード部21bを包囲する
如く形成したのであり、これによつて装置として
完成するまでの各工程および各工程間の運搬にお
いてリード部21bの不必要な変形が防止され
る。 Between the many external lead parts 21b is a lead holding part 22 that constitutes a part of the lead frame 20.
a, 22b (generally referred to as 22), and the lead holding portion 22 may be located anywhere at least on the outer lead portion 21b, and may be located on all of the outer lead portions 21b. For the purpose of retention, it is desirable to form at least a portion of it as close as possible to the boundary line 15 of the sealing portion.
This is particularly important when sealing by transfer molding (injection molding) of resin or the like is used because it serves the purpose of stopping the flow of the sealing material. In addition, in this example where the external lead portion 21b is shaped as a lead wire, the widths of the two lead holding portions 22a and 22b are different from each other so that the front and back sides of the lead frame 20 can be clearly seen at a glance, and the width is wide. The end 22b is for forming a part of a molding material injection pipe (runner). In addition, in this example, the tip of the lead portion 21b is tapered to facilitate insertion into a printed circuit board, etc., so that the lead portion 21b is easily subjected to unnecessary mechanical action from the outside world. 20 so as to surround the external lead portion 21b, thereby preventing unnecessary deformation of the lead portion 21b during each step until the device is completed and during transportation between the steps.
リードフレーム20に形成された孔23は後に
行なわれる組立、リード保持部切断およびモール
ド時の位置合せ用ガイドとして利用されるガイド
孔である。 The hole 23 formed in the lead frame 20 is a guide hole used as a positioning guide during later assembly, cutting of the lead holder, and molding.
孔24はタブリード25を形成するために形成
されたタブリード孔であり、このタブリード25
はフランジ1に接続するためのタブリード25a
とフランジ1の主面とリードフレームの主面との
間隔を一定に保つためのタブリード25bとを有
し、特にタブリード25aと内部リード部21a
との位置関係を一定に保つことがフランジ1の素
子取付位置とを合せる上で重要であり、そのため
上記タブリード25の輪郭を形ずくる切り込み孔
24を第6図に示すように上記内部リード部21
aを形成するホトエツチング処理で同時に形成し
てその位置関係を一定に規定しておき、つぎにプ
レス成形によりタブリードとすべき部分25をお
り曲げればよい。さらに他の方法としてプレス打
ちぬきおよびプレス成形技術により同時または順
次に内部リード部21aおよびタブリード25を
形成すればよい。このようなリードフレームはリ
ード線のソルダビリテイーを高め、また後記する
素子リードフレーム間のワイヤーボンデイングの
接続を良好ならしめ、かつ防蝕の目的で例えば1
μ以上の厚さの銀メツキが施される。かかる銀メ
ツキ処理はホトエツチング処理を利用する場合は
エツチング後ただちに行なうかまたはプレス成形
後行なえばよく、また全てプレスで行なう場合に
はプレス前後いずれでもよい。また上記目的を達
成するための材料としては金があるが、高価であ
り、工業的には銀が好ましい。 The hole 24 is a tab lead hole formed for forming a tab lead 25.
is a tab lead 25a for connecting to flange 1
and a tab lead 25b for maintaining a constant distance between the main surface of the flange 1 and the main surface of the lead frame.
It is important to maintain a constant positional relationship with the element mounting position of the flange 1. Therefore, the notch hole 24 that forms the outline of the tab lead 25 is inserted into the internal lead part as shown in FIG. 21
It is sufficient to form the tab lead at the same time as the photo-etching process used to form the tab lead a, and to prescribe the positional relationship to be constant. As another method, the inner lead portion 21a and the tab lead 25 may be formed simultaneously or sequentially by press punching and press molding techniques. Such a lead frame increases the solderability of the lead wires, improves the wire bonding connection between the element lead frames described later, and is used for corrosion prevention purposes, such as 1.
Silver plating with a thickness of μ or more is applied. Such silver plating treatment may be carried out immediately after etching when photoetching is used or after press molding, or may be carried out either before or after pressing when all is carried out by press. Further, although gold is a material for achieving the above object, it is expensive, and silver is preferable from an industrial standpoint.
上記のいずれの方法によつてもリードフレーム
20の長さ方向(図中左右の方向)と同じ方向に
そつてタブリード25aを曲げるようにした場合
にはタブリード25aの一側端20と内部リード
部21a群の中心27(素子取付位置8の中心と
合致する)とのリードフレーム20平面上での長
さ方向の距離Wが上記タブ25aの曲げ成形前後
において全く変動しないということは重要なこと
であり、それによつて極めて精度の高い位置関係
を保つことができる。そしてかかるタブリード2
5aは原理的には一連のリードフレームに対し1
個所あればその基本的目的を達成することができ
る。 In any of the above methods, when the tab lead 25a is bent in the same direction as the length direction of the lead frame 20 (the left and right direction in the figure), the one side end 20 of the tab lead 25a and the internal lead portion It is important that the distance W in the length direction on the plane of the lead frame 20 from the center 27 of the group 21a (coinciding with the center of the element mounting position 8) does not change at all before and after bending the tab 25a. This allows extremely accurate positional relationships to be maintained. And that tab lead 2
5a is 1 for a series of lead frames in principle.
If there is a certain point, the basic purpose can be achieved.
第7図および第8図は上記リードフレーム20
の上記タブリード形成部を拡大して示す斜視図お
よびそのB−B縦断面図であつてリードフレーム
20の主面28と直交する一基線29に対し互に
対称な一対のタブリード25aを有し、リードフ
レーム20の長さ方向と直交する方向の位置ずれ
が生じないようにしてある。そしてこの場合上記
タブリード25aが一連のリードフレームに対し
一対であれば原理的にはその基本目的を達するこ
とができる。さらにタブリード25とそれと連な
るリードフレーム20の主面部分28との成す角
度30は90゜より若干大きく180゜より充分小さ
く形成されており、これとリードフレーム20の
弾性によつてフランジ1との接続を強固なものと
することができる。またタブリード25aの先端
はさらに外方に曲げられているがこれは上記フラ
ンジ1との接続さらに強固なものとするためであ
り、また上記タブリード25aの先端をフランジ
1における一対のタブリード挿入部4のそれぞれ
ほぼ中心に位置するようにすればフランジ1に対
するリードフレーム20の接続は極めて容易なも
のとなる。上述の如く弾性を利用する場合の材質
としてはリン青銅の他コバール、鉄ニツケル合
金、ニツケル等が利用し得る。またタブリード2
5bはかならずしもタブリード25aと同一の部
分に形成する必要はないがプレス成形型を簡単化
する上において同一部分の方が有効であり、また
タブリード25aをフランジ1にかしめ付けると
きの応力が内部リード部21a等へ達しないよう
補強する意味においてタブリード25aの両側に
それと一体に形成することは有効である。さらに
リードフレーム20とフランジとの間隔を一定に
制御する他の方法としては、上記フランジの下に
平坦にしてフランジと密着する治具をおき、その
面に対し、タブリード25aの先端が接するよう
に成す方法がある。 7 and 8 show the lead frame 20
FIG. 2 is an enlarged perspective view and a BB longitudinal cross-sectional view of the tab lead forming portion of the lead frame 20, and includes a pair of tab leads 25a that are symmetrical with respect to a base line 29 perpendicular to the main surface 28 of the lead frame 20; This is to prevent positional displacement in a direction perpendicular to the length direction of the lead frame 20. In this case, if the tab leads 25a are provided as a pair for a series of lead frames, the basic purpose can be achieved in principle. Furthermore, the angle 30 formed by the tab lead 25 and the main surface portion 28 of the lead frame 20 connected thereto is formed to be slightly larger than 90 degrees and sufficiently smaller than 180 degrees, and the connection with the flange 1 is made possible by this and the elasticity of the lead frame 20. can be made stronger. The tip of the tab lead 25a is further bent outward, but this is to further strengthen the connection with the flange 1. If they are located approximately at the center, the lead frame 20 can be connected to the flange 1 very easily. In addition to phosphor bronze, Kovar, iron-nickel alloy, nickel, and the like can be used as the material when elasticity is utilized as described above. Also tab lead 2
5b does not necessarily have to be formed in the same part as the tab lead 25a, but it is more effective to form the same part in order to simplify the press molding die, and the stress when caulking the tab lead 25a to the flange 1 is reduced to the internal lead part. It is effective to form them on both sides of the tab lead 25a integrally with the tab lead 25a in order to reinforce the tab leads 25a and the like so that they do not reach there. Furthermore, another method for controlling the distance between the lead frame 20 and the flange is to place a jig under the flange that is flattened and brought into close contact with the flange, and set the tip of the tab lead 25a in contact with the surface of the jig. There is a way to do it.
上述のようにして得られたリードフレーム20
のタブリード25aを素子13を取り付けたフラ
ンジ1のタブリード挿入部4に挿入する。このと
きタブリード25bは上記フランジの上面に接
し、フランジリードフレーム間の間隔を一定に規
定する。一方リードフレームのタブリード25b
の先端と同じ高さにおけるタブリード25a巾3
1はタブリード挿入部4の長さ16とほぼ同一と
すればよくその差はリードフレーム20の内部リ
ード部21a先端と素子取り付け位置8との間で
許容される値以内に定められるべきであり、タブ
リード25aの先端部の巾はそれより充分小さく
しておいてタブリード挿入部4への挿入をスムー
ズにするとよい。前述した如く考慮をはらつて作
られリードフレーム20およびフランジを用いた
場合上記の内部リード部21aと素子取り付け部
8との位置関係は上記タブリード25aの挿入の
みによつて一義的に決定される。 Lead frame 20 obtained as described above
The tab lead 25a is inserted into the tab lead insertion portion 4 of the flange 1 to which the element 13 is attached. At this time, the tab lead 25b is in contact with the upper surface of the flange, and defines a constant interval between the flange lead frames. On the other hand, the tab lead 25b of the lead frame
Tab lead 25a width 3 at the same height as the tip of
1 should be approximately the same as the length 16 of the tab lead insertion portion 4, and the difference should be determined within an allowable value between the tip of the internal lead portion 21a of the lead frame 20 and the element mounting position 8. It is preferable that the width of the distal end of the tab lead 25a is made sufficiently smaller than that to allow smooth insertion into the tab lead insertion portion 4. When the lead frame 20 and flange are used, which are made with consideration as described above, the positional relationship between the internal lead portion 21a and the element mounting portion 8 is uniquely determined only by the insertion of the tab lead 25a.
上述の如く位置合せされた後第1図に矢印6で
示す方向より圧力を加えタブリードおさえ部5を
変形させてタブリードをスリツト4内に固定させ
る。このとき第9図に断面図にて示す如く矢印6
の方向の圧力によつてタブリード25aがスリツ
ト内の上部および下部に接し、さらに加圧されし
かもリードフレームにはある程度の弾性をもたせ
てあるから両者の接触は極めて強固なものとな
る。 After being aligned as described above, pressure is applied in the direction shown by arrow 6 in FIG. At this time, as shown in the cross-sectional view in FIG.
The tab lead 25a comes into contact with the upper and lower parts of the slit due to the pressure in the direction, and since the lead frame is further pressurized and has a certain degree of elasticity, the contact between the two is extremely strong.
第10図は上述したタブリード25aをスリツ
ト4内においてかしめ付けした状態を示す要部上
面図であり、ここで注意すべき事項はタブリード
25aの中央部すなわち本例ではタブリードおさ
え部5の先端部のみによつてかしめ付けが行なわ
れている点であり、封止後上記かしめ付が行なわ
れているスリツト4の中央部のみでフランジの切
断を行なう如く成してある点であり、これによつ
て、かしめ圧力を低減でき、かつ切断可能な巾が
大きくとれる。 FIG. 10 is a top view of the main part showing the state in which the tab lead 25a described above is caulked in the slit 4. Here, it is important to pay attention to only the central part of the tab lead 25a, that is, the tip of the tab lead holding part 5 in this example. After sealing, the flange is cut only at the center of the slit 4 where the slit 4 is crimped. , the caulking pressure can be reduced, and the width that can be cut can be increased.
第11図は素子13の一主表面に位置する電極
端子と内部リード部21aとの間をワイヤーボン
デイングにより電気的に接続する一例を示してい
る。図面中32は例えば50μφ程度の金、アルミ
ニウム等のコネクタワイヤであり、その材質は電
極端子および内部リード部21aの先端表面材質
および接続技術によつて種々選択され得る。例え
ば電極端子がアルミニウム、内部リード端子21
aの先端表面材質が銀で、接続技術が熱圧着法に
である場合には、金が適しており、超音波溶接に
よる場合はアルミニウムが適している。上述の如
きワイヤーボンデイングにおいては内部リード部
21aとコネクタワイヤ32との接続において多
少なりとも圧力を加える必要があり、そのため内
部リード部21aが曲がる。一方熱圧着による場
合内部リード部21aの先端および素子電極を
350℃程度に加熱する必要があり、また超音波溶
接においても該部を100℃程度に加熱しておくこ
とが望ましい。このために第11図a,bに示す
如く鉄、銅等の熱伝導良好な金属スペーサ33を
フランジの長さ方向と直交する方向より介入せし
め、介在させボンデイング后とりさる如く成せば
よい。このとき上記金属スペーサ33を加熱して
おけば内部リード部21aを直接加熱することも
できる。また第12図においてはセラミツクリン
グ等の絶縁物スペーサをフランジ1とリードフレ
ームとの接続以前に銀箔10によつて位置定めし
て介在させておき完成後もそのまま付けたままの
状態となしたものである。いずれの場合において
も上記加熱はフランジの載置台34を加熱体とす
るのが簡単であるから上記スペーサ33を熱伝導
の良好な金属またはアルミナセラミツクス、ベリ
リア磁器の如き熱伝導の良好な絶縁物であること
が好まれる。 FIG. 11 shows an example in which the electrode terminal located on one main surface of the element 13 and the internal lead portion 21a are electrically connected by wire bonding. In the drawing, reference numeral 32 denotes a connector wire made of gold, aluminum, or the like with a diameter of about 50 μΦ, and its material can be selected from various types depending on the tip surface material and connection technology of the electrode terminal and internal lead portion 21a. For example, if the electrode terminal is aluminum, the internal lead terminal 21
If the tip surface material of a is silver and the connection technique is thermocompression bonding, gold is suitable, and if ultrasonic welding is used, aluminum is suitable. In wire bonding as described above, it is necessary to apply some pressure to connect the internal lead part 21a and the connector wire 32, so that the internal lead part 21a is bent. On the other hand, in the case of thermocompression bonding, the tip of the internal lead part 21a and the element electrode
It is necessary to heat the part to about 350°C, and it is desirable to heat the part to about 100°C even in ultrasonic welding. For this purpose, as shown in FIGS. 11a and 11b, a metal spacer 33 having good thermal conductivity such as iron or copper may be inserted from a direction perpendicular to the length direction of the flange and removed after bonding. At this time, if the metal spacer 33 is heated, the internal lead portion 21a can be directly heated. Furthermore, in Fig. 12, an insulating spacer such as a ceramic ring is positioned and interposed with a silver foil 10 before connecting the flange 1 and the lead frame, and is left in place even after completion. It is. In either case, it is easy to heat the flange by using the flange mounting table 34 as the heating element, so the spacer 33 is made of a metal with good heat conduction or an insulator with good heat conduction such as alumina ceramics or beryllia porcelain. Something is preferred.
さらに他の例によればキヤピラリ35により、
コネクタワイヤ32を電極端子に接続し、次に第
13図aに示すように内部リード部21aの弾性
を利用して接続時に内部リード部21aの先端を
フランジ1または銀箔上に接触せしめて該部を加
熱してコネクタワイヤを接続し、その後内部リー
ド部21aの弾性を利用して第13図bに示すよ
うにもとの位置に復帰せしめることにより実施す
ることができる。この場合素子13に対する接続
を先に行なうと第13図bに示すように内部リー
ド部21bがもとの位置に復帰するときにコネク
タワイヤ32を上方に引くという問題があり、そ
の対策としてはコネクタワイヤ32に充分なタワ
ミを設けておいてコネクタワイヤを第13図aに
示す如く接続する。または、はじめ内部リード部
21aへのコネクタワイヤ32の接続を行ない、
内部リード21aがもとの位置に復帰したのち素
子13の電極端子にコネクタワイヤを接続するよ
うにしてもよい。 According to yet another example, the capillary 35
Connect the connector wire 32 to the electrode terminal, and then use the elasticity of the internal lead part 21a to bring the tip of the internal lead part 21a into contact with the flange 1 or the silver foil at the time of connection, as shown in FIG. 13a. This can be carried out by heating the connector wire to connect the connector wire, and then using the elasticity of the internal lead portion 21a to return it to its original position as shown in FIG. 13b. In this case, if the connection to the element 13 is made first, there is a problem that the connector wire 32 is pulled upward when the internal lead part 21b returns to its original position, as shown in FIG. 13b. With sufficient sag in the wire 32, connect the connector wires as shown in FIG. 13a. Alternatively, first connect the connector wire 32 to the internal lead part 21a,
The connector wire may be connected to the electrode terminal of the element 13 after the internal lead 21a returns to its original position.
つぎに上記により組立の完了したものをモール
ド型内におさめ、第14図a,bに示すように上
記リードフレーム20における巾の広い方のリー
ド保持部22bを底とするレジン注入パイプライ
ン(ランナー)36を構成せしめ、レジン等の封
入材を注入せしめ、レジンの固化後モールド治具
を取りはずし、リード保持部22および外部リー
ド部21bの先端がリードフレーム20に接して
いる場合は該部も切断し、前述の如くフランジ1
を各装置毎に切断すれば第15図に示す如き構造
物が得られ、これをさらに適当におりまげれば第
16図に示すようにプリント基板の孔にリード部
21を挿入しやすい構造とすることができる。 Next, the assembly completed as described above is placed in a mold, and as shown in FIGS. 14a and 14b, a resin injection pipeline (runner ) 36, inject an encapsulant such as resin, and after solidifying the resin, remove the molding jig, and if the tips of the lead holding part 22 and external lead part 21b are in contact with the lead frame 20, cut those parts as well. Then, as mentioned above, flange 1
If the is cut for each device, a structure as shown in FIG. 15 will be obtained, and if this is further folded appropriately, a structure will be obtained in which the lead part 21 can be easily inserted into the hole in the printed circuit board, as shown in FIG. 16. can do.
第1図はフランジを示す上面図、第2図は第1
図におけるA−A面縦断面図、第3図は第2図に
おけるフランジにニツケル被膜を形成し、かつ銀
箔を接続する状態を示す縦断面図、第4図は第3
図に示すフランジに電子素子を接続した状態を示
す縦断面図、第5図はリードフレームを示す上面
図、第6図はリードフレームを製作する一工程に
おけるリードフレームの一部を示す拡大図、第7
図および第8図はそれぞれリードフレームの一部
を拡大して示す斜視図およびB−B面縦断面図、
第9図および第10図はそれぞれリードフレーム
とフランジとの接続状態を示す断面図および上面
図、第11図aはリードフレームと素子との間を
電気的に接続する状態を示す平面図、第11図
b,第12図および第13図a,bはいずれもリ
ードフレームと素子との間を電気的に接続する状
態を示す断面図、第14図a,bはそれぞれレジ
ン注入パイプラインの位置を示す上面図および側
断面図、第15図は完成された電子装置の一例を
示す斜視図であり、第16図は完成された電子装
置の他の一例を示す斜視図である。
1はフランジ本体、2はモールド材流れ防止用
切り込み部、3はボルト通し孔、4はタブリード
挿入部、5はタブリードおさえ部、6はタブリー
ドおさえ部に加える圧力の方向、7は素子取り付
け位置を示す溝、8は素子取り付け位置、9はニ
ツケル被膜、10は銀箔、11は電気溶接用電
極、12は電気溶接用電極、13は電子素子、1
4は金・シリコン共晶ろう材、15は封止体の境
界線、16はタブ挿入部の長さ、20はリードフ
レーム、21はリード線、21aは内部リード
部、21bは外部リード部、22はリード保持
部、22aは巾の狭いリード保持部、22bは巾
の広いリード保持部、23はガイド孔、24はタ
ブ形成用切り込み孔、25はタブリード、26は
タブリード側端、27は内部リード部群の中心、
28はリードフレームの一主面、29はリードフ
レームの一主面と直交する一基線、30はリード
フレームとタブリードとの成す角、31はタブリ
ード25aの巾、32はコネクタワイヤ、33は
スペーサ、34はフランジ載置台、35はキヤピ
ラリ、36はレジン注入パイプライン、37はレ
ジン等の封止材。
Figure 1 is a top view showing the flange, Figure 2 is the top view of the flange.
3 is a vertical sectional view showing the state in which a nickel coating is formed on the flange in FIG. 2 and silver foil is connected; FIG.
5 is a top view showing the lead frame; FIG. 6 is an enlarged view showing a part of the lead frame in one step of manufacturing the lead frame; 7th
FIG. 8 is a perspective view and a vertical cross-sectional view taken along the line B-B, respectively, showing an enlarged part of the lead frame.
9 and 10 are a cross-sectional view and a top view showing the state of connection between the lead frame and the flange, respectively, FIG. 11a is a plan view showing the state of electrical connection between the lead frame and the element, and FIG. Figures 11b, 12 and 13a and 13a and 13a and 13b are all cross-sectional views showing the state of electrical connection between the lead frame and the element, and Figures 14a and b are the positions of the resin injection pipeline, respectively. 15 is a perspective view showing an example of a completed electronic device, and FIG. 16 is a perspective view showing another example of a completed electronic device. 1 is the flange body, 2 is the notch for preventing mold material flow, 3 is the bolt through hole, 4 is the tab lead insertion part, 5 is the tab lead holding part, 6 is the direction of pressure to be applied to the tab lead holding part, and 7 is the element mounting position. The groove shown, 8 is the element mounting position, 9 is the nickel coating, 10 is the silver foil, 11 is the electric welding electrode, 12 is the electric welding electrode, 13 is the electronic element, 1
4 is a gold-silicon eutectic brazing material, 15 is a boundary line of a sealing body, 16 is a length of a tab insertion part, 20 is a lead frame, 21 is a lead wire, 21a is an internal lead part, 21b is an external lead part, 22 is a lead holding part, 22a is a narrow lead holding part, 22b is a wide lead holding part, 23 is a guide hole, 24 is a notch hole for forming a tab, 25 is a tab lead, 26 is a tab lead side end, 27 is an inside Center of lead group,
28 is one main surface of the lead frame, 29 is a base line perpendicular to the one main surface of the lead frame, 30 is the angle formed by the lead frame and the tab lead, 31 is the width of the tab lead 25a, 32 is the connector wire, 33 is the spacer, 34 is a flange mounting table, 35 is a capillary, 36 is a resin injection pipeline, and 37 is a sealing material such as resin.
Claims (1)
付けられた半導体素子と、その半導体素子に近接
して配置された板状リードと、その半導体素子の
主表面に設けられた電極端子とその板状リードと
を電気的接続するコネクタワイヤとより成る電子
装置であつて、その半導体素子は金属板に対して
銀を含む導電性接着材により固着されてなること
を特徴とする電子装置。1. A metal plate with good thermal conductivity, a semiconductor element attached to the metal plate, a plate-shaped lead placed close to the semiconductor element, and an electrode terminal provided on the main surface of the semiconductor element. 1. An electronic device comprising a connector wire for electrically connecting a plate-shaped lead, the semiconductor element being fixed to a metal plate with a conductive adhesive containing silver.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57096167A JPS584960A (en) | 1982-06-07 | 1982-06-07 | Electronic device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57096167A JPS584960A (en) | 1982-06-07 | 1982-06-07 | Electronic device |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52154495A Division JPS5810861B2 (en) | 1977-12-23 | 1977-12-23 | electronic equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS584960A JPS584960A (en) | 1983-01-12 |
| JPS6242390B2 true JPS6242390B2 (en) | 1987-09-08 |
Family
ID=14157772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57096167A Granted JPS584960A (en) | 1982-06-07 | 1982-06-07 | Electronic device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS584960A (en) |
-
1982
- 1982-06-07 JP JP57096167A patent/JPS584960A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS584960A (en) | 1983-01-12 |
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