JPS624698B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

この発明は、特定成分の組み合せより構成され
る感光性材料、および、このものを使用する像形
成法に関する。 この発明にかかる感光性材料はネガ型のそれで
あつて、このものは、プリント基板作製時の金属
腐食メツキもしくはソルダー工程のマスクまたは
レジスト材料、その他金属のケミカルミリング用
レジスト材料として、さらに、平版、多重金属平
版、グラビア版等の刷版作製時の感光性材料とし
て好適に使用される。また、この発明にかかる像
形成法は、前記のプリント基板や刷版の作製に好
適に適用される。 従来、種々のネガ型感光性材料が公知であつ
て、これら従来技術は下記の〜の方式のもの
に類別される。高分子化合物自体に不飽和基、
アジド基等の官能性基を化学的に結合し、必要に
応じ光活性剤を共存させて官能性高分子化合物間
で直接光架橋をおこさせる方式、官能性基をも
たない高分子化合物と、常温において不揮発性で
あつて通常２個以上の不飽和基またはアジド基等
の官能性基をもつ低分子量化合物の架橋剤と、光
活性剤との混合物からなり、架橋剤によつて非官
能性高分子化合物を光架橋させる方式、前記の
とを折衷し、官能性高分子化合物と架橋剤を
併用する方式。 前記のまたはの方式では、官能性基を高分
子化合物に導入する反応、または２種類の異なる
官能性基をもつ単量体の一方の官能性基をもつて
高分子化し、他方の官能性基を生成高分子に保持
させる反応のいずれかが関与するので、製造上品
質再現性に特別な配慮が必要となる。さらに、官
能性基が高分子自体に内蔵されるため、貯蔵中暗
反応によりゲル化し易い傾向があり、また、使用
時にスカム（Scum）またはウイスカー
（Whisker）状の現像残渣が出易く像の切れに問
題を生ずる場合がある。これに対しの方式で
は、高分子化合物が非官能性であるため、精製等
取り扱い上の制約が少く、高分子化合物選定の範
囲も広い。架橋剤の選択も、高分子化合物との相
溶性の面だけ配慮すれば独立に行うことができ、
像の切れ、貯蔵性において優れた組成が得易いと
いう一般的な特徴をもつている。 の代表例は、メタクリル酸−メタクリル酸メ
チル（モル比１：９）共重合物、エチレン性不飽
和基を有する化合物（架橋剤）、およびアントラ
キノン（増感剤）、またはビスイミダゾール誘導
体とジアミノベンゾイル誘導体との混合物（増感
剤）を使用する方式のものである（特公昭46−
35687号、同48−38403号）。そのほか、セルロー
スアセテートブチレートまたはセルロースアセテ
ートと、エチレン性不飽和基をもつ化合物（架橋
剤）と光活性剤とからなるものもある（特公昭49
−11936号）。 しかしながら、の方式のものでは、平面状の
基体表面に形成された感光性材料の被覆層の上
に、非感光性であつて活性光に対し透明な、酸素
透過性の低い保護層または保護フイルムを設ける
必要がある。この種の保護層がないと実用上十分
な感度と解像性が得られない。これは、エチレン
性不飽和基のラジカル機構による光架橋が空気中
の酸素により著しい阻害作用を受けることと関係
があると推定される。この点、高分子化合物に直
接官能基を導入したの方式では、空気中の酸素
の影響は実用上無視し得るのである。 この種の保護層を設けるには、たとえばポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶
性高分子化合物の水溶液を感光層上に流延し、保
護層を造膜する方法がとられる。また、保護フイ
ルムを設けるには、たとえば厚さ25μ程度の薄い
ポリエチレンテレフタレートフイルムまたはポリ
プロピレンフイルム等の不溶性熱可塑性フイルム
で被覆する方法がとられる。前記の水溶性高分子
化合物を使用した保護層の場合は、弱アルカリ現
像に当たり保護層も同時に除かれ、また、保護フ
イルムの場合は、不溶性熱可塑性保護フイルムを
剥離して現像が行われる。 一方、エチレン性不飽和基を有する化合物（架
橋剤）としては、通常、室温で粘稠な液状の化合
物が使用されるが、望ましい感度を得るために、
従来法では感光層がかなり粘着性を示す程度に架
橋剤を添加する必要があり、この場合、感光層に
原図パターンを密着焼き付けするとき、保護層な
しでは粘着性が障害となり、原図を損傷する。こ
のためにも、保護層の存在が従来法では不可欠と
なる。 保護層を設ける場合は、通常、基体表面上に感
光性材料の低沸点有機溶剤溶液を流延し、加熱乾
燥により感光層を形成させ、この感光層上に水溶
性高分子化合物溶液を流延し、再び加熱乾燥して
水を除き保護層を造成するが、このようなこと
は、工程上煩雑である。また、保護フイルムを設
ける場合は、感光層にフイルムをラミネートする
工程が必要となり、加えて、保護フイルムをおく
系では、フイルムの厚さより小さい線幅のパター
ンを解像することは実際上困難であつて、さら
に、感光層と保護層の境界面における活性光の散
乱も像の切れの低下に結びつく。 このように、前記の方式は、これまで、保護
層の存在を不可欠とするため、使用上の不利益と
制約を伴うものであつた。 この発明は、従来技術の欠点を改善したもの
で、前記の系列に属する感光性材料であり、ま
た、このものを使用する像形成法である。 第１の発明は、下記の感光性材料である。 スチレンとマレイン酸モノアルキルエステルよ
りなる共重合体〔共重合体(a)〕、５〜35モル％の
メタクリル酸（またはアクリル酸）と95〜65モル
％のメタクリル酸アルキルエステル（またはアク
リル酸アルキルエステル）よりなる共重合体〔共
重合体(b)〕、窒素原子を含有しまたは含有しない
エチレン性不飽和基を有する化合物〔架橋剤〕、
および、光活性剤より構成される感光性材料。 第２の発明は、下記の像形成法である。 前記第１の発明の感光性材料を使用して、基体
表面上に厚さ１〜200μの感光性被覆層を造成
し、その際該感光性被覆層に保護層または保護フ
イルムを設けることなく造成を行い、そして、活
性光を透過するフイルム上に形成した原図を通し
て、感光性被覆層に活性光を露光した後、弱アル
カリ性溶液現像により基体表面上に光架橋像を形
成することを特徴とする像形成法。 以下、各発明を詳しく説明する。 第１の発明にかかる感光性材料は、下記の成分
から構成されるものである。 共重合体(a)は、官能性基を有する架橋剤に対し
バインダー（結合剤）の機能を示すと同時に、光
照射時に架橋剤によつて架橋されて現像液に対し
不溶化する機能を示す高分子化合物であつて、ス
チレンとマレイン酸モノアルキルエステルよりな
る共重合体である。 共重合体(b)は、共重合体(a)と、同様の機能を示
す高分子化合物であつて、５〜35モル％のメタク
リル酸（またはアクリル酸）と95〜65モル％のメ
タクリル酸アルキルエステル（またはアクリル酸
アルキルエステル）よりなる共重合体である。 この発明の感光性材料では、共重合体(a)および
(b)の２種類の実質的に官能性基をもたない高分子
化合物が同時に必須成分として含まれている。こ
の両成分は共に、弱アルカリ現像液によつて非露
光部が基体表面より除去され得るよう、遊離カル
ボキシル基を含有している。 共重合体(a)はスチレンとマレイン酸モノアルキ
ルエステルとの組み合わせになるものである。こ
の組み合わせは、下記(イ)の群の化合物と(ロ)の群の
化合物との組み合せになる多数の共重合体につい
て検討した結果、特に選定されたものである。 (イ) スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトル
エン、ｐ−クロルスチレン、ｐ−メトキシスチ
レン等のスチレンまたはその誘導体、エチルビ
ニルエーテル、２−クロルエチルビニルエーテ
ル、フエニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、アクリルニトリル（またはメタクリルニ
トリル）等のニトリル類、シクロヘキセン、オ
クタデセン−１等のアルケン類、メチルビニル
ケトン、メチルイソプロペニルケトン等のケト
アルケン類。 (ロ) マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸
モノアルキルエステル、イタコン酸、ビニル酢
酸等の遊離カルボキシル基を有するビニル単量
体。 この発明においてスチレンとマレイン酸モノア
ルキルエステル（炭素原子数４個以下の低級アル
キルが好ましい。）の共重合体は、スチレン：マ
レイン酸モノアルキルエステルのモル比５〜
１：：１の組成のものが好ましい。 共重合体(a)は、公知法によつて容易に合成し得
るし、また、市販品として入手可能であるが、合
成法の一例を参考として挙げる。 参考例 １ 〔共重合体(a)〕 還流冷却器、窒素導入口、撹拌機つき反応器中
にベンゼン１と、スチレン62.4ｇ、無水マレイ
ン酸58.8ｇを加え、窒素雰囲気下室温に保持して
均一な溶液とし、これに過酸化ベンゾイル0.6ｇ
を添加し、還流下１時間反応させると、生成共重
合体が析出した。これを室温に放冷後、濾別乾燥
してポリ（スチレン−co−無水マレイン酸）91.5
ｇを得た。 次に、上記共重合体30ｇを270ｇのイソプロピ
ルアルコール270ｇ中に分散させ、35％塩酸0.1ml
を添加した後、82〜83℃で28時間かきまぜた後、
４％水酸化ナトリウムメチルアルコール溶液１ml
を加え濾別した。濾液の容量が約2/3〜1/2になる
までイソプロピルアルコールを留去し濃縮した。
得られた濃縮液を溶剤（ISOPAR−米国エツソ製
アルカン系溶剤）中に撹拌下注加し、ポリ（スチ
レンco−マレイン酸モノイソプロピレート）39ｇ
を得た。収率97.5％、〔η〕＝0.140（25℃、エチ
レングリコールモノメチルエーテル）、酸価172
〔スチレン：マレイン酸モノイソプロピル≒１：
１（モル比）〕。 共重合体(b)は、５〜35モル％のメタクリル酸
（またはアクリル酸）と95〜35モル％のメタクリ
ル酸アルキルエステル（またはアクリル酸アルキ
ルエステル）よりなる共重合体である。特にメタ
クリル酸とメタクリル酸アルキルエステルの組み
合せが望ましく、かつ、下記の参考例にみられる
ようなメルカプタン等の重合抑制剤を添加し重合
度を低目に抑えた共重合体の使用が有利である。
ちなみに、共重合体(b)についても遊離カルボキシ
ル基をもつ単量体との共重合体多数について検討
したが、感光性材料の塗膜形成性のよい上記の組
み合せが選定された。 共重合体(b)もまた公知法によつて容易に合成し
得るし、また、市販品として入手可能であるが、
合成法の一例を参考として挙げる。 参考例 ２ 窒素導入口を備えた撹拌機つき反応器中に、無
水塩化カルシウムで処理した市販灯油540ｇを加
え、70℃で窒素パージし、窒素雰囲気下メチルメ
タクリレート72ｇ、メタクリル酸15.5ｇ、アゾビ
スイソブチロニトリル0.7ｇ、およびｎ−ドデシ
ルメルカプタン1.8mlよりなる混合液を75℃にお
いて１時間で灯油中に滴下し、75℃において５時
間かきまぜ反応させて生成共重合体を析出せしめ
た。濾別後、減圧下85℃で乾燥し、ポリ（メタク
リル酸−co−メタクリル酸メチル）83ｇを得た。
収率95％、〔η〕＝0.169（25℃、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル）、酸価115〔メタクリル
酸：メタクリル酸メチル≒８：２（モル比％）〕。 この発明において共重合体(a)および(b)の併用は
必須不可欠であつて、いずれの一方を欠いてもこ
の発明の目的は達成されない。 共重合体(a)単独〔共重合体(b)不使用〕で、架橋
剤および光活性剤を加えて調製した感光性材料で
もつて、厚さ５〜30μの感光層を銅またはアルミ
基板上に形成させたところ、いずれも層にクラツ
ク（ひび割れ）が生じ、製品は実用性の全く乏し
いものであつた。次に、共重合体(b)単独（共重合
体(a)不使用）で同様な感光性材料を調製し、感光
層を形成させたところ、塗膜形成性は満足すべき
ものであつたが、実用上十分な感度を示さず、膜
は架橋剤によつてかなりの粘着性を示し使用上不
都合であつた。 しかし、共重合体(a)および(b)を共存させた系に
あつては、感光層は70〜80℃においても指触で粘
着性を示さず、感光速度も満足すべきものであつ
た。ここで意外な事実は、共重合体(a)および(b)を
共存させた感光性材料より造成された厚さ１〜
200μの感光層（感光性被覆層）にあつては、従
来技術の前記の方式で必要視されてきた保護層
または保護フイルムが不必要であつたことであ
る。このように、本発明にかかる感光性材料は、
従来技術の前記の方式の系列に属するにかかわ
らず、これまで必要視されてきた保護層等を必要
としないのである。 共重合体(a)および(b)の重量比は、(a)：(b)＝10：
１〜１：３の範囲内にあつて、(a)＞(b)の関係を満
足することが望ましい。 この発明における架橋剤は、窒素原子を含有し
または含有しないエチレン性不飽和基を有する化
合物である。好ましくは常温における沸点が150
℃以上である２個以上のエチレン性不飽和基をも
つ化合物である。常温における沸点が150℃以上
である１個のエチレン性不飽和基を有する低粘度
の化合物は、低粘度であるため感光性材料溶液の
粘度調整の機能をも発揮する。 架橋剤の具体例を挙げると、フルフリルアクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、ヘキ
サメチレングリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパンジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、テトラメチロールメタンテ
トラアクリレート、レゾルシノールジアクリレー
ト、ｐ・p′−ジヒドロキシジフエニルジアクリレ
ート、ビスフエノールＡジグリシジルジアクリレ
ート、または、上記のアクリル基の代わりにメタ
クリル基を導入した同構体、ならびにジアリルフ
タレート、ジアリルアクリルアミド、メチレンビ
スアクリルアミド等である。 １個のエチレン性不飽和基を有する低粘度の化
合物としては、たとえば、２−エチレンヘキシル
アクリレート、ジエチレングリコールモノアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシヘキシルアクリレート、または、上記のアク
リル基の代りにメタクリル基を導入した同構体、
さらにはＮ−ビニルピロリドン等がある。 架橋剤は、上記例示のものの中より、感光速
度、共重合体混合物との相溶性、光架橋膜の耐食
性等を考慮して選定される。感光性材料中の架橋
剤の量は、通常、共重合体混合物に対し５〜150
重量％の範囲である。 この発明における光活性剤（光増感剤）は、既
知のものでよく、その具体例は、ケトン、その各
種誘導体またはキノイド化合物に属する、たとえ
ばベンゾフエノン、ベンジル、ｐ・p′−ビス（ジ
メチルアミノ）ベンゾフエノン、ｐ・p′−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフエノン、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、アントラキノン、アセナフテンキノン、β−
tert−ブチルアントラキノン、フエナントレキノ
ン等、さらに、複素環化合物に属する、たとえば
プリムリン、カルバゾール、Ｎ−メチル−３−ニ
トロカルバゾール、キサントン、チオキサントン
等、および、ポリハロアルカンとその誘導体に属
する、たとえば四臭化炭素、ω・ω・ω−トリブ
ロムメチルフエニルスルホン、トリフエニルアミ
ン等である。 感光性材料中の光活性剤の量は、通常、共重合
体混合物および架橋剤の合計量に対し0.01〜20重
量％、好ましくは0.1〜10重量％の範囲である。 この発明の感光性材料には、所望により他の成
分を加えることができる。このような成分とし
て、貯蔵中の早期架橋を抑制するための、熱重合
禁止剤、たとえばヒドロキノン、ｐ−メトキシフ
エノール、ピロガロール、２・６−ジ−tert−ブ
チル−ｐ−クレゾール、キユフエロン等がある。
熱重合禁止剤の量は、通常、共重合体混合物およ
び架橋剤の合計量に対し0.001〜１重量％の範囲
である。 また、感光性材料の塗布膜および光架橋像の識
別を容易にするため、着色剤、たとえば油溶性染
料または微細化された顔料粒子を添加することが
できる。そのほか、塗膜のレベリング性や基体表
面への濡れ性を向上させるため、界面活性剤を添
加し得る。着色剤および界面活性剤の具体的な例
は実施例に示されている。 第２の発明にかかる像形成法と、それに付随し
た感光性材料の特徴について記述する。 感光性材料は熱溶融して射出しシート状ないし
はフイルム状にすることもできるが、通常は有機
溶剤に溶解させ、基体すなわち被加工物表面に流
延し、溶剤を蒸発させて感光層を形成させる。有
機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等の環状エーテル類、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル等のグリ
コール類のモノまたはジエーテル類、さらに、メ
チルグリコールアセテート等のグリコールエステ
ル類を単独で用いるか、あるいは、ジクロルエ
タン等のハロアルカン類、またはクロルベンゼ
ン、トルエン等の芳香族化合物と混合して使用す
る。感光性材料溶液の濃度は、基体への塗布方
式、たとえばデツプコート、カーテンコート、ロ
ールコート、キスコート、ワイヤーバーコート、
スピナー（またはホエラー）コート等によつて決
められ、さらに所望の感光層の厚さに依存して決
められる。基体表面上に造成した１〜200μの感
光性被覆層（感光層）では従来技術のような非感
光性の保護層や保護フイルムを設ける必要がな
い。１μ未満の場合には、近接露光（プロキシミ
テイプロジエクシヨン）を行うと感光速度がかな
り遅くなり、感光性材料の特質は生かし得ない。
また、200μ超の場合には、それに見合つた効果
の増大が見込めず、しかも、経済的でもない。し
たがつて、この発明の感光性材料は、感光層の厚
さが１〜200μの範囲において密着露光により使
用されるべきである。 活性光を透過するフイルム上に形成した原図を
通して感光層を露光すれば、露光部において光架
橋がおきる。この活性光の光源としては、紫外
部・近紫外部に強く発生する低圧、高圧、超高圧
の水銀灯、メタルハライド水銀灯、カーボンアー
ク灯等が有利に使用される。 次に、露光済みの基体上の感光層を炭酸ナトリ
ウム、ケイ酸ナトリウム等の無機塩基、またはア
ンモニア、エタノールアミン等の有機塩基の濃度
数％程度の水溶液に浸漬すれば、非露光部は容易
に除去され、原図のネガ像が得られる。 光架橋剤を残した基体表面を使用目的に応じ、
腐食、メツキ等の工程にかけた後、光架橋部は濃
度５％程度の苛性アルカリ水溶液に浸漬すること
により容易に剥離することができる。 以下、この発明を実施例によつて説明する。 実施例 １ 〔共重合体(a)〕 参考例１のポリ（スチレン−co−マレイン酸モノ
イソプロピル） 30重量部 〔共重合体(b)〕 参考例２のポリ（メタクリル酸−co−メタクリル
酸メチル） 40重量部 〔架橋剤〕 テトラエチレングリコールジアクリレート
41重量部 〔光活性剤〕 ベンゾインエチルエーテル ６重量部 〔熱重合禁止剤〕 ｐ−メトキシフエノール 0.01重量部 〔着色剤〕 C.I.ソルベントレツドNo.109 0.5重量部 〔界面活性剤〕 ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート
0.5重量部 上記をエチレングリコールモノメチルエーテル
265重量部に溶解させ、30cps（25℃）の感光液
を得た。 この感光液をロールコーターで、１オンス銅箔
片面張りフエノール樹脂積層板に塗布し、80℃で
加熱乾燥し、厚さ10μの感光層を銅表面上につく
つた。なお、銅表面は、１・１・１−トリクロル
エタンで脱脂した後、５％HClで処理し水洗した
ものを使用した。 感光層にポリエチレンテレフタレートフイルム
ベースのテストパターンを真空窒着し、高圧水銀
灯（3kW）を１ｍの距離で60秒間照射した（強
度4.7ｍＷ／m²）。 露光済み積層板を0.5％Na₂CO₃水溶液に25℃で
２分間浸漬した後、水洗し、３％H₃PO₄でリンス
し再水洗して乾燥した。 次に、積層板を40゜BeのFeCl₃水溶液に25℃で
５分間浸漬しエツチングしたのち、水洗し、５％
NaOH水溶液に25℃で２分間浸漬し光架橋部を剥
離した。 上記の処理によつて得られた銅パターンはエツ
ジの切れが極めて良好であつて、銅エツチング液
の廻り込みは認められず、20μ線幅を解像した。 実施例 ２ 〔共重合体(a)〕 ポリ（スチレン−co−マレイン酸モノエチル）
〔モル比1.5：1.1〕 35重量部 〔共重合体(b)〕 ポリ（メタクリル酸−co−メタクリル酸メチル）
〔モル比8.3：1.7〕 28重量部 〔架橋剤〕 トリメチロールプロパントリアクリレート
18重量部 ジエチレングリコールジアクリレート 17重量部 〔光活性剤〕 ｐ・p′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノン
0.35重量部 ベンジル 0.24重量部 〔熱重合禁止剤〕 キユフエロン 0.01重量部 〔着色剤〕 １−メチルアミノアントラキノン（赤色分散染
料） 0.7重量部 〔界面活性剤〕 ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート
0.4重量部 上記をエチレングリコールモノメチルエーテル
203重量部に溶解させ、38cps（25℃）の感光液
を得た。 鉄を基板とする鉄−銅−クロム（最上層）より
なる市販のトライタル版板の表面に、上詰感光液
を、ホアラーを60r.p.m.で回転させて塗布し、75
℃で乾燥し、乾燥膜厚約15μの感光層をつくつ
た。印刷用テストパターンを用い、実施例１と同
一条件で露光した後、１％エタノールアミン水溶
液に25℃で２分間浸漬し現像、水洗、乾燥した
後、CaCl₂30重量％、ZnCl₂25重量％、NH₄Cl₂重
量％、濃硝酸３重量％を含む水性クロム腐食液に
25℃で、非露光部の銅表面が出るまで浸漬しトラ
イメタル版を作製したところ、175線／インチを
解像し、５〜95％の網点再現性も良好であつた。
なお、この場合の剥膜は実施例１と同一条件で行
つた。 実施例 ３ 〔共重合体(a)〕 ポリ（スチレン−co−マレイン酸モノメチレー
ト） 35重量部 〔スチレン：無水マレイン酸＝２：１（モル
比）の米国アルコケミカル社製SMA＃2000をメ
チアルコールでモノエステル化したもの〕 〔共重合体(b)〕 ポリ（メタクリル酸−co−メタクリル酸メチル）
〔モル比：7.2：2.8〕 30重量部 〔架橋剤〕 トリメチロールプロパントリアクリレート
22重量部 トリメチロールプロパンジアクリレート19重量部 〔光活性剤〕 ｐ・p′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフエノン
0.4重量部 アセナフテンキノン 0.05重量部 〔熱重合禁止剤〕 ｐ−メトキシフエノール 0.02重量部 〔着色剤〕 C.I.ピグメントブルー３ ５重量部 上記をエチレングリコールモノメチルエーテル
200重量部、ジエチレングリコールジエチルエー
テル100重量部の混合溶剤に溶解し、26cps（25
℃）の感光液を得た。 この感光液をドクターブレードでもつて、乾燥
膜厚25μに、ポリイミドベースの１オンス銅箔つ
きフレキシブルプリント基板上に塗布、乾燥し
て、耐メツキ性、耐ハンダ性を試験した。 すなわち、銅表面を３％HClで処理した後、錫
−鉛ホウフツ化メツキ液（曙産業社製ハイスロ
ー）を使用し、陰極電流密度1.62A／ｄm²、陽極
対陰極比２：１、３分間で厚さ2.5μのメツキ層
が形成される条件下で試験を行つた。また、耐ハ
ンダ性については260℃に保つたハンダ浴に10秒
間浸漬することを３回繰り返えした。 試験の結果、上記の感光材料が十分な耐メツキ
および耐ハンダ性をもつものと判断された。 また、この感光液は18か月の間実験室中の冷暗
所に保存したが、感光速度、解像性に変化はな
く、ゲル化の徴候は認められなかつた。 以下に比較例を挙げる。 比較例 １〜３ 〔架橋剤〕 トリエチレングリコールジアクリレート50重量部 〔光活性剤〕 ベンゾインイソプロピルエーテル 0.55重量部 〔熱重合禁止剤〕 ｐ−メトキシフエノール 0.02重量部 〔着色剤〕 C.I.ソルベントブルー73 0.5重量部 〔界面活性剤〕 ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート
0.5重量部 上記の各成分を共通とし、比較例１〜３ではそ
れぞれ次の共重合体を使用した。

【表】 比較例１〜３につき各共重合体および共通成分
を、それぞれエチレングリコールモノエチルエー
テル250重量部、エチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート80重量部の混合溶媒に溶解
し、３種類の感光液を調製した。 各感光液をそれぞれ回転塗布機により60r.p.m.
で１オンス銅箔片面張りフエノール樹脂積層板上
に塗布し、80℃で乾燥し、10〜15μ膜厚の感光層
をつくつた。なお、銅箔表面は１・１・１−トリ
クロルエタンで脱脂した後、５％HClで処理し水
洗したものを使用した。 ３種類の感光層に、それぞれ、ボリエチレンテ
レフタレートフイルムベースのテストパターンを
真空密着し、超高圧水銀灯（3kW）を１ｍの距
離で60秒間照射した（強度4.7ｍＷ／cm²）。 露光後、各積層板を0.5％Na₂CO₃水溶液に25℃
で２分間浸漬し、水洗、３％H₃PO₄リンス、再水
洗を順に行つた後、加熱乾燥した。 上記３種類の感光液および感光層につき比較試
験を行い、下表の結果を得た。

【表】

【表】 はそれぞれ優、良およ
び不可に対応する。
試験項目の評価方法は次の通りである。 塗膜性：塗膜形成を感光層表面の均一性によつて
評価する。 感光速度：／２ステツプタブレツト〔Kodak社
製）を露光現像した後、６段ベタになるまで焼
き付けるのに要する時間により評価する。 解像性：線幅100μの直線画像の解像とエツジの
切れによつて評価する。 粘着性：ベトツキの指触試験および銀塩画像をも
つ原図との密着露光後の原図付着の有無により
判定する。 現像性：0.5％Na₂CO₃水溶液現像の際の現像所要
時間と現線残渣の有無により評価する。 剥離性：５％NaOH水溶液による剥離の難易によ
り判定する。 耐食性：銅箔腐食用の40゜BeのFeCl₃水溶液によ
る腐食像の切れ、および腐食液の廻り込みの有
無より判定する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ スチレンとマレイン酸モノアルキルエステル
   よりなる共重合体〔共重合体(a)〕、５〜35モル％
   のメタクリル酸（またはアクリル酸）と95〜65モ
   ル％のメタクリル酸アルキルエステル（またはア
   クリル酸アルキルエステル）よりなる共重合体
   〔共重合体(b)〕、窒素原子を含有しまたは含有しな
   いエチレン性不飽和基を有する化合物〔架橋
   剤〕、および、光活性剤より構成される感光性材
   料。 ２ スチレンとマレイン酸モノアルキルエステル
   よりなる共重合体〔共重合体(a)〕、５〜35モル％
   のメタクリル酸（またはアクリル酸）と95〜65モ
   ル％のメタクリル酸アルキルエステル（またはア
   クリル酸アルキルエステル）よりなる共重合体
   〔共重合体(b)〕、窒素原子を含有しまたは含有しな
   いエチレン性不飽和基を有する化合物〔架橋
   剤〕、および、光活性剤より構成される感光性材
   料を使用して、基体表面上に厚さ１〜200μの感
   光性被覆層を造成し、その際該感光性被覆層に保
   護層または保護フイルムを設けることなく造成を
   行い、そして、活性光を透過するフイルム上に形
   成した原図を通して、感光性被覆層に活性光を露
   光した後、弱アルカリ性溶液現像により基体表面
   上に光架橋像を形成することを特徴とする像形成
   法。