JPS6248203B2 - - Google Patents
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- JPS6248203B2 JPS6248203B2 JP54013830A JP1383079A JPS6248203B2 JP S6248203 B2 JPS6248203 B2 JP S6248203B2 JP 54013830 A JP54013830 A JP 54013830A JP 1383079 A JP1383079 A JP 1383079A JP S6248203 B2 JPS6248203 B2 JP S6248203B2
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- JP
- Japan
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- pulse
- optical
- optical pulse
- envelope
- semi
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 126
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、任意の形状の光パルス特にレーザ
核融合に用いられる光パルスを得る光パルス整形
器に関するものである。
核融合に用いられる光パルスを得る光パルス整形
器に関するものである。
レーザ核融合に用いられる光パルスは、急激に
傾き(微係数)が増加しながら、数ナノ秒で立ち
上がる光パルスである。しかし、この様な形状の
高速光パルスは通常のレーザ発振器から得ること
も出来ないし、又、従来技術の低速(所望する光
パルスの立ち上がりに較べ)変調器を用いても得
ることができないので、新たに、光パルス整形器
を用いて整形する必要がある。
傾き(微係数)が増加しながら、数ナノ秒で立ち
上がる光パルスである。しかし、この様な形状の
高速光パルスは通常のレーザ発振器から得ること
も出来ないし、又、従来技術の低速(所望する光
パルスの立ち上がりに較べ)変調器を用いても得
ることができないので、新たに、光パルス整形器
を用いて整形する必要がある。
従来、レーザ核融合用の光パルス整形器として
は、後に第1図を参照して詳述するが、モード同
期レーザ発振器により得られたパルス列から1つ
のパルスを抽出し、多数個の半透鏡を用いて、適
当数のパルスに分割し、別々の相対的遅延時間を
与え、再合成する方法をとつていた。
は、後に第1図を参照して詳述するが、モード同
期レーザ発振器により得られたパルス列から1つ
のパルスを抽出し、多数個の半透鏡を用いて、適
当数のパルスに分割し、別々の相対的遅延時間を
与え、再合成する方法をとつていた。
この場合、パルス列から1つのパルスを抽出し
ているのでレーザ発振器から得られたエネルギー
の大半は遺棄され、エネルギーの有効利用が図ら
れていない。
ているのでレーザ発振器から得られたエネルギー
の大半は遺棄され、エネルギーの有効利用が図ら
れていない。
また、半透鏡や全反射鏡などの鏡を多数個用い
るため、光軸調整が著しく困難で、且つ、温度や
大気圧の環境条件の変動を受け易く、実用上保守
が難かしかつた。
るため、光軸調整が著しく困難で、且つ、温度や
大気圧の環境条件の変動を受け易く、実用上保守
が難かしかつた。
加えて、この場合の光パルス整形器において
は、同一のパルス波形しか得られず汎用性に乏し
い。
は、同一のパルス波形しか得られず汎用性に乏し
い。
他の従来の光パルス整形器においても、後に第
2図を参照して詳述するが、モード同期レーザ発
振器により得られた光パルス列から、抽出した1
つの光パルスを用いている。抽出された1つの光
パルスをエタロン板に入射することによつて得ら
れる包絡線光パルス(複数の光パルスを含む光パ
ルス)からパルス切り出し器によつて所望する形
状の光パルスを得ていた。
2図を参照して詳述するが、モード同期レーザ発
振器により得られた光パルス列から、抽出した1
つの光パルスを用いている。抽出された1つの光
パルスをエタロン板に入射することによつて得ら
れる包絡線光パルス(複数の光パルスを含む光パ
ルス)からパルス切り出し器によつて所望する形
状の光パルスを得ていた。
この光パルス整形器においても、光パルス列か
ら1つの光パルスを抽出しているので、レーザ発
振出力エネルギーの有効利用はなされていない。
ら1つの光パルスを抽出しているので、レーザ発
振出力エネルギーの有効利用はなされていない。
本発明の目的は、レーザ発振器により得られる
モード同期光パルス列の複数個の光パルスを利用
し、少数の鏡(最も少ない場合は3枚)しか必要
としない、光軸調整が簡単で、保守が容易な且
つ、パルス波形が適当に選べる特にレーザ核融合
に用いられる光パルス整形器を提供することにあ
る。
モード同期光パルス列の複数個の光パルスを利用
し、少数の鏡(最も少ない場合は3枚)しか必要
としない、光軸調整が簡単で、保守が容易な且
つ、パルス波形が適当に選べる特にレーザ核融合
に用いられる光パルス整形器を提供することにあ
る。
本発明によれば、等しい時間間隔のモード同期
光パルス列から所定の包絡線光パルスに整形する
光パルス整形器において、入射用半透鏡、出射用
半透鏡および少なくとも1枚の全反射鏡を有し、
上記入射用半透鏡に入射された1つの光パルスを
上記出射用半透鏡、上記全反射鏡および上記入射
用半透鏡に順次導き再び上記出射用半透鏡に向わ
せる光パルス周回ルートが構成されると該ともに
該光パルス周回ルートの途中の上記出射用半透鏡
から上記光パルスの一部が分岐出射されるように
構成され、かつ上記光パルスの一周回時間が上記
モード同期光パルス間の時間間隔値の近傍の値に
設定され、上記モード同期光パルス列が入射され
るリング型光回路と、該リング型光回路から出射
される複数個の包絡線光パルスから所定の1個の
包絡線パルスを抽出する光パルス抽出器とを有す
ることを特徴とする光パルス整形器が得られる。
光パルス列から所定の包絡線光パルスに整形する
光パルス整形器において、入射用半透鏡、出射用
半透鏡および少なくとも1枚の全反射鏡を有し、
上記入射用半透鏡に入射された1つの光パルスを
上記出射用半透鏡、上記全反射鏡および上記入射
用半透鏡に順次導き再び上記出射用半透鏡に向わ
せる光パルス周回ルートが構成されると該ともに
該光パルス周回ルートの途中の上記出射用半透鏡
から上記光パルスの一部が分岐出射されるように
構成され、かつ上記光パルスの一周回時間が上記
モード同期光パルス間の時間間隔値の近傍の値に
設定され、上記モード同期光パルス列が入射され
るリング型光回路と、該リング型光回路から出射
される複数個の包絡線光パルスから所定の1個の
包絡線パルスを抽出する光パルス抽出器とを有す
ることを特徴とする光パルス整形器が得られる。
次に図面を参照して詳しく説明する。
第1図は従来のパルス整形器の一例である。モ
ード同期レーザ発振器により得られた光パルス列
1から光パルス抽出器10を用いて単一光パルス
2が抽出される。単一光パルス2は、光パルス合
成器11により適当数の光パルス(図の場合4個
の光パルス)に分割され、別々の相対的遅延時間
が与えられ、包絡線光パルス3として合成され
る。第1図の光パルス整形器の原理に関しては、
アプライド オプテイツクス(Applied
Optics)誌15巻 12号 3054頁〜3061頁に詳細
に記述されているので省略する。
ード同期レーザ発振器により得られた光パルス列
1から光パルス抽出器10を用いて単一光パルス
2が抽出される。単一光パルス2は、光パルス合
成器11により適当数の光パルス(図の場合4個
の光パルス)に分割され、別々の相対的遅延時間
が与えられ、包絡線光パルス3として合成され
る。第1図の光パルス整形器の原理に関しては、
アプライド オプテイツクス(Applied
Optics)誌15巻 12号 3054頁〜3061頁に詳細
に記述されているので省略する。
この光パルス整形器においては、モード同期レ
ーザ発振器により得られた光パルス列の中から1
個の光パルスを抽出し利用しているので、光パル
ス列の他の光パルスは遺棄されエネルギーの有効
利用はなされていない。また第1図のパルス合成
器11は、半透鏡6枚および反射鏡2枚の計8枚
の鏡を用いて構成している(実際のものは、20枚
以上の鏡で構成している)ので光軸調整が困難
で、かつ、温度や大気圧の環境条件の変動を受け
易く保守が困難であつた。さらに、この光パルス
整形器の場合は同一形状の光パルスしか得られず
汎用性に乏しかつた。
ーザ発振器により得られた光パルス列の中から1
個の光パルスを抽出し利用しているので、光パル
ス列の他の光パルスは遺棄されエネルギーの有効
利用はなされていない。また第1図のパルス合成
器11は、半透鏡6枚および反射鏡2枚の計8枚
の鏡を用いて構成している(実際のものは、20枚
以上の鏡で構成している)ので光軸調整が困難
で、かつ、温度や大気圧の環境条件の変動を受け
易く保守が困難であつた。さらに、この光パルス
整形器の場合は同一形状の光パルスしか得られず
汎用性に乏しかつた。
第2図は他の光パルス整形器の従来例である。
モード同期レーザ発振器により得られた光パルス
列1から、光パルス抽出器10を用いて抽出され
た単一光パルス2が、エタロン12に入射する
と、エタロンの間隔による繰返し時間の光パルス
列4が得られる。所望する光パルスは光パルス列
4から、光パルス切り出し器13を用いて、切り
出された包絡線光パルス5として得られる。この
光パルス整形器に関しては、カリフオルニア大学
ローレンスリバモア研究所の発行資料UCRL−
51908 1976、1、7発行に詳しく述べられている
ので、ここでは詳細説明は省略する。
モード同期レーザ発振器により得られた光パルス
列1から、光パルス抽出器10を用いて抽出され
た単一光パルス2が、エタロン12に入射する
と、エタロンの間隔による繰返し時間の光パルス
列4が得られる。所望する光パルスは光パルス列
4から、光パルス切り出し器13を用いて、切り
出された包絡線光パルス5として得られる。この
光パルス整形器に関しては、カリフオルニア大学
ローレンスリバモア研究所の発行資料UCRL−
51908 1976、1、7発行に詳しく述べられている
ので、ここでは詳細説明は省略する。
こお光パルス整形器においても、モード同期レ
ーザ発振器により得られた光パルス列から、ただ
1個の光パルスしか用いていないので、エネルギ
ーを有効に利用していない。
ーザ発振器により得られた光パルス列から、ただ
1個の光パルスしか用いていないので、エネルギ
ーを有効に利用していない。
本発明の一実施例による光パルス整形器を第3
図、第4図に示す。この光パルス整形器は、リン
グ型光回路31と、光パルス抽出器32とで構成
されている。リング型光回路31は入射用半透鏡
311、出射用半透鏡312および、全反射鏡3
13の3枚の鏡から形成され、光の一周回時間t0
は例えば反射鏡302の位置を動かすことにより
可変である。
図、第4図に示す。この光パルス整形器は、リン
グ型光回路31と、光パルス抽出器32とで構成
されている。リング型光回路31は入射用半透鏡
311、出射用半透鏡312および、全反射鏡3
13の3枚の鏡から形成され、光の一周回時間t0
は例えば反射鏡302の位置を動かすことにより
可変である。
本光パルス整形器の機能をQスイツチモード同
期レーザ発振器から得られる様な包絡線光パルス
20が入射したときで説明する。包絡線光パルス
20は等しい時間間隔t1の成分パルス201,2
02,203,204,205,206,207
を持つ。
期レーザ発振器から得られる様な包絡線光パルス
20が入射したときで説明する。包絡線光パルス
20は等しい時間間隔t1の成分パルス201,2
02,203,204,205,206,207
を持つ。
最初にt1>t0でかつt0をt1付近の値に設定した場
合(第3図)を考える。最初に包絡線光パルス2
0の第1番目の成分パルス201がリング型光回
路31に入射すると、出射用半透鏡312を通し
成分パルス201の一部211が出射する。一方
312で反射された成分パルス201の一部は3
13,311で反射され、第2回目の周回に入る
が、その時点より(t1−t0)時間後に、包絡線光パ
ルス20の第2番目の成分パルス202がリング
型光回路31に入射するので、最初に出射された
光パルス211からt0時間後に、成分パルス20
1の一部および成分パルス202の一部を成分と
する包絡線光パルス212が出射される。包絡線
光パルス212の成分間の間隔はt2=t1−t0であ
る。
合(第3図)を考える。最初に包絡線光パルス2
0の第1番目の成分パルス201がリング型光回
路31に入射すると、出射用半透鏡312を通し
成分パルス201の一部211が出射する。一方
312で反射された成分パルス201の一部は3
13,311で反射され、第2回目の周回に入る
が、その時点より(t1−t0)時間後に、包絡線光パ
ルス20の第2番目の成分パルス202がリング
型光回路31に入射するので、最初に出射された
光パルス211からt0時間後に、成分パルス20
1の一部および成分パルス202の一部を成分と
する包絡線光パルス212が出射される。包絡線
光パルス212の成分間の間隔はt2=t1−t0であ
る。
以下、同様にしてt0毎に包絡線パルス213,
214,215,…が、リング型光回路31から
順次出射され、そのn番目(ただしn入射包絡
線光パルス20の成分パルスの数とする。)出射
包絡線光パルスは、n個の成分パルスを持ち、又
時間幅は(n−1)×(t1−t0)である。n番目の出
射包絡線光パルスのN番目の成分パルスの光強度
PNputは次式となる。
214,215,…が、リング型光回路31から
順次出射され、そのn番目(ただしn入射包絡
線光パルス20の成分パルスの数とする。)出射
包絡線光パルスは、n個の成分パルスを持ち、又
時間幅は(n−1)×(t1−t0)である。n番目の出
射包絡線光パルスのN番目の成分パルスの光強度
PNputは次式となる。
PNput=PNio×Tn1×Tn2(Rn1×Rn2×Rn3)n-N
(但し、nN)
ここで、PNioは入射包絡線光パルス20のN
番目の成分パルスの光強度、Tn1、Tn2はそれぞ
れ半透鏡311,312の透過率、Rn1、Rn2、
Rn3はそれぞれ311,312,313の反射率
である。
番目の成分パルスの光強度、Tn1、Tn2はそれぞ
れ半透鏡311,312の透過率、Rn1、Rn2、
Rn3はそれぞれ311,312,313の反射率
である。
最後に、211,212,213,214,2
15,…からなる出射包絡線光パルス群21から
光パルス抽出器32によつて、所望する包絡線パ
ルス22が抽出出射される。
15,…からなる出射包絡線光パルス群21から
光パルス抽出器32によつて、所望する包絡線パ
ルス22が抽出出射される。
次にt1<t0でかつt0をt1付近の値に設定した場合
(第4図)を説明する。
(第4図)を説明する。
最初に包絡線光パルス20の第1番目の成分パ
ルス201がリング型光回路31に入射すると、
出射用半透鏡312を通し、成分パルス201の
一部231が出射する。一方312で反射された
成分パルス201の一部は313,311で反射
され第2回目の周回に入るが、その時点より(t0
−t1)時間前に既に包絡線光パルス20の第2番
目の成分パルス202が入射しているので、最初
に出射された光パルス231からt1時間後に出射
される包絡線光パルス232は、入射包絡線光パ
ルス20と順序が反転している。以下同様にして
t1毎に包絡線光パルス233,234,235,
…が出射される。これら包絡線光パルス231,
232,233,234,235,…からなる包
絡線光パルス群23のn番目の包絡線光パルスは
n個の成分パルスを持ち、そのN番目の成分パル
スは入射包絡線光パルス20の(n−N+1)
(ただしNnである)番目の成分パルスに対応
し、その光強度PNputは PNput=P(o-N+1)io×Tn1×Tn2×(Rn1×Rn2 ×Rn3)(N-1) となる。ここでP(o-N+1)ioは入射包絡線光パルス
の(n−N+1)番目の成分パルスの光強度であ
る。
ルス201がリング型光回路31に入射すると、
出射用半透鏡312を通し、成分パルス201の
一部231が出射する。一方312で反射された
成分パルス201の一部は313,311で反射
され第2回目の周回に入るが、その時点より(t0
−t1)時間前に既に包絡線光パルス20の第2番
目の成分パルス202が入射しているので、最初
に出射された光パルス231からt1時間後に出射
される包絡線光パルス232は、入射包絡線光パ
ルス20と順序が反転している。以下同様にして
t1毎に包絡線光パルス233,234,235,
…が出射される。これら包絡線光パルス231,
232,233,234,235,…からなる包
絡線光パルス群23のn番目の包絡線光パルスは
n個の成分パルスを持ち、そのN番目の成分パル
スは入射包絡線光パルス20の(n−N+1)
(ただしNnである)番目の成分パルスに対応
し、その光強度PNputは PNput=P(o-N+1)io×Tn1×Tn2×(Rn1×Rn2 ×Rn3)(N-1) となる。ここでP(o-N+1)ioは入射包絡線光パルス
の(n−N+1)番目の成分パルスの光強度であ
る。
また、n番目の包絡線光パルスの時間幅は
(n−1)(t0−t1)
である。
この場合も、最後に出射包絡線光パルス群23
から、光パルス抽出器32によつて、所望する包
絡線光パルス22が抽出出射される。
から、光パルス抽出器32によつて、所望する包
絡線光パルス22が抽出出射される。
ところで、前記した様に第3図、第4図の例の
リング型光回路31の一周回時間t0が可変である
ので、t0をt1付近の別の値に設定することによ
り、得られる包絡線光パルス22又は24の時間
幅 (n−1)|t0−t1| は可変となる。
リング型光回路31の一周回時間t0が可変である
ので、t0をt1付近の別の値に設定することによ
り、得られる包絡線光パルス22又は24の時間
幅 (n−1)|t0−t1| は可変となる。
そこで、第3図や第4図の光パルス整形器を用
いると、入射包絡線光パルスの形を反転された
り、又は時間幅を可変したりすることが出来従来
のものに較べ広範囲な使用ができる。
いると、入射包絡線光パルスの形を反転された
り、又は時間幅を可変したりすることが出来従来
のものに較べ広範囲な使用ができる。
また、リング型光回路31は、半透鏡311,
312、全反射鏡313の3枚の鏡しか用いてい
ないので、光軸調整が簡単で又、保守が容易であ
る。
312、全反射鏡313の3枚の鏡しか用いてい
ないので、光軸調整が簡単で又、保守が容易であ
る。
第5図は、第3図の光パルス整形器に光強度変
調器30を付加した、本発明の実施例である光パ
ルス整形器である。
調器30を付加した、本発明の実施例である光パ
ルス整形器である。
この場合は、モード同期レーザ発振器により得
られた光パルス列1から光強度変調器30を用い
て、適当な形の包絡線光パルス25を得ている。
なお、光パルス列1から包絡線光パルス25を得
る、光強度変調器30は比較的低速で良いため、
従来技術により容易に得ることができる。
られた光パルス列1から光強度変調器30を用い
て、適当な形の包絡線光パルス25を得ている。
なお、光パルス列1から包絡線光パルス25を得
る、光強度変調器30は比較的低速で良いため、
従来技術により容易に得ることができる。
包絡線光パルス25が、リング型光回路31に
入射すると包絡線光パルス群26が出射され、こ
の中から、光パルス抽出器32を用いることによ
り所望する包絡線光パルス27が抽出出射され
る。
入射すると包絡線光パルス群26が出射され、こ
の中から、光パルス抽出器32を用いることによ
り所望する包絡線光パルス27が抽出出射され
る。
本光パルス整形器は光強度変調器30を用いて
いるため得られる光包絡線光パルス27の形状は
任意となり、より汎用性の高いものである。
いるため得られる光包絡線光パルス27の形状は
任意となり、より汎用性の高いものである。
第3図、第4図、第5図の光パルス整形器にお
いては、複数個の光パルスを用いて整形している
ので第1図、第2図に示す従来型の光パルス整形
器に較べ、エネルギーの利用効率は大である。
いては、複数個の光パルスを用いて整形している
ので第1図、第2図に示す従来型の光パルス整形
器に較べ、エネルギーの利用効率は大である。
以上詳述した様に、本発明によれば、リング型
光回路を用いた、複数個の光パルスを利用する、
時間幅可変、形状反転可能な光パルス整形器が得
られる。
光回路を用いた、複数個の光パルスを利用する、
時間幅可変、形状反転可能な光パルス整形器が得
られる。
第1図は従来の多数個の鏡を用いた光パルス整
形器のブロツク図、第2図は従来のエタロン板と
パルス切り出し器とを用いた光パルス整形器のブ
ロツク図、第3図、第4図および第5図はそれぞ
れ本発明の実施例による光パルス整形器のブロツ
ク図である。図において、31は入射包絡線パル
スと形状の異なる出射包絡線光パルス群が得られ
るリング型光回路、32は出射包絡線光パルス群
から所望する1個の包絡線光パルスを得るパルス
抽出器、30は光強度変調器である。
形器のブロツク図、第2図は従来のエタロン板と
パルス切り出し器とを用いた光パルス整形器のブ
ロツク図、第3図、第4図および第5図はそれぞ
れ本発明の実施例による光パルス整形器のブロツ
ク図である。図において、31は入射包絡線パル
スと形状の異なる出射包絡線光パルス群が得られ
るリング型光回路、32は出射包絡線光パルス群
から所望する1個の包絡線光パルスを得るパルス
抽出器、30は光強度変調器である。
Claims (1)
- 1 等しい時間間隔のモード同期光パルス列から
所定の包絡線光パルスに整形する光パルス整形器
において、入射用半透鏡、出射用半透鏡および少
なくとも1枚の全反射鏡を有し、上記入射用半透
鏡に入射された1つの光パルスを上記出射用半透
鏡、上記全反射鏡および上記入射用半透鏡に順次
導き再び上記出射用半透鏡に向わせる光パルス周
回ルートが構成されるとともに該光パルス周回ル
ートの途中の上記出射用半透鏡から上記光パルス
の一部が分岐出射されるように構成され、かつ上
記光パルスの一周回時間が上記モード同期光パル
ス間の時間間隔値の近傍の値に設定され、上記モ
ード同期光パルス列が入射されるリング型光回路
と、該リング型光回路から出射される複数個の包
絡線光パルスから所定の1個の包絡線パルスを抽
出する光パルス抽出器とを有することを特徴とす
る光パルス整形器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1383079A JPS55106413A (en) | 1979-02-10 | 1979-02-10 | Optical pulse shaping device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1383079A JPS55106413A (en) | 1979-02-10 | 1979-02-10 | Optical pulse shaping device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55106413A JPS55106413A (en) | 1980-08-15 |
| JPS6248203B2 true JPS6248203B2 (ja) | 1987-10-13 |
Family
ID=11844183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1383079A Granted JPS55106413A (en) | 1979-02-10 | 1979-02-10 | Optical pulse shaping device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55106413A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63104014A (ja) * | 1986-10-22 | 1988-05-09 | Hamamatsu Photonics Kk | 単一光パルスを光パルス列に変換する光学素子 |
| JP2599916B2 (ja) * | 1987-05-29 | 1997-04-16 | 三菱電機株式会社 | 光パルス波形整形装置 |
| US5148318A (en) * | 1987-05-29 | 1992-09-15 | Mitsubishi Denki K.K. | Optical pulse waveform shaper |
| DE102019206318A1 (de) * | 2019-05-03 | 2020-11-05 | Robert Bosch Gmbh | Kumulative Kurzpulsemission für gepulste LIDAR-Vorrichtungen mit langer Belichtungszeit |
-
1979
- 1979-02-10 JP JP1383079A patent/JPS55106413A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55106413A (en) | 1980-08-15 |
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