JPS6250771B2 - - Google Patents
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- JPS6250771B2 JPS6250771B2 JP54025457A JP2545779A JPS6250771B2 JP S6250771 B2 JPS6250771 B2 JP S6250771B2 JP 54025457 A JP54025457 A JP 54025457A JP 2545779 A JP2545779 A JP 2545779A JP S6250771 B2 JPS6250771 B2 JP S6250771B2
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- Japan
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- concave
- reflector
- light beam
- concave reflector
- reflecting mirror
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学器械に係り、特に複式反射光学シ
ステムに係る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to optical instruments, and more particularly to dual reflection optical systems.
本発明は赤外線スペクトル光度測定に非常に有
効である。さらに、本発明は、複雑なガス混合物
の高速分析、例えば環境制御方法の一役をになう
ものとして重要性を増してきた大気汚染の量的測
定等の光学ガス分析においても有効に利用され得
る。 The present invention is very effective for infrared spectral photometry. Furthermore, the present invention can be effectively used for high-speed analysis of complex gas mixtures, such as optical gas analysis, such as quantitative measurement of air pollution, which has become increasingly important as a part of environmental control methods. .
現在、スペクトル光度測定においては、吸収測
定反応を増すべく、放射の吸収層通過を反復させ
るようにすることが一般的に行われている。その
ため、光源からの光束を損失最小で吸収媒質を透
して伝達せしめるために複数個の各種反射鏡を組
合わせて使用している。複式反射鏡システムの実
際の適用範囲はきわめて広く、揮発困難な化合物
のスペクトルを解析する特異な高温度装置及び連
続スペクトル生成器械も包含する。今日のすべて
の赤外線スペクトル光度計は非常に小さな濃度の
気体または吸収帯がきわめて弱い気体を解析する
のは光路の長いセル即ち容器が設けられている。
この形式の吸収セル即ち容器は定性分析にも定量
分析にも使用されている。片側に焦点距離Fを有
する対物反射鏡を有し、反対側に互いに或る角度
を成して配列された2個の視野反射鏡を有し、さ
らに、これら反射鏡に隣接して入射スリツトと出
射スリツトを有する複式光路光学システム(例え
ば、1940年第3巻米国光学協会誌第333頁参照)
が知られている。平面反射鏡が視野反射鏡として
使用され、それらから焦点距離の数倍の所に反射
鏡レンズが配置されている。 Currently, it is common practice in spectrophotometry to repeatedly pass radiation through an absorbing layer in order to increase the absorption measurement response. Therefore, in order to transmit the light beam from the light source through the absorption medium with minimum loss, a combination of a plurality of various reflecting mirrors is used. The practical scope of dual reflector systems is quite wide and includes unique high temperature devices and continuous spectrum generating instruments for analyzing spectra of difficult to volatilize compounds. All infrared spectrophotometers today are equipped with a long optical path cell or container for analyzing gases with very small concentrations or with very weak absorption bands.
Absorption cells or vessels of this type are used for both qualitative and quantitative analysis. It has an objective reflector with a focal length F on one side, two field reflectors arranged at an angle to each other on the opposite side, and an entrance slit adjacent to these reflectors. Dual-path optical system with exit slit (see, for example, Journal of the Optical Society of America, Vol. 3, 1940, p. 333)
It has been known. Planar reflectors are used as field reflectors, from which reflector lenses are placed several times the focal length.
上記システムにおいては、入射スリツトの中間
像は平面上で集光されるから、最も外側の光線は
圧縮されず、これによつて、複式反射は、かなり
の放射部分が反射鏡レンズの端縁を越えて散乱す
るという結果が生じ、―即ち、いわゆる傾斜光線
のビネツトぼけ現象―を生じさせることになる。 In the system described above, since the intermediate image of the entrance slit is focused on a plane, the outermost rays are not compressed, so that double reflections result in a significant portion of the radiation hitting the edge of the reflector lens. The result is a scattering beyond the beam, ie the so-called vignetting phenomenon of oblique rays.
さらにまた、対向配置された複数個の反射部材
を有し、それらのうち、1個が入射スリツトと出
射スリツトによつて隣接され、その他が2個の凹
面反射鏡を以て成る複式反射光学システム(例え
ば、米国光学協会誌1942年第32巻第285頁参照)
も知られている。前記入射スリツトと出射スリツ
トとによつて隣接される反射部材は同様に凹面反
射鏡として形成されており、全ての前記反射鏡は
同一の焦点距離を有し、対向配置される反射鏡の
間の距離は焦点距離の2倍にされている。 Furthermore, a double reflection optical system (e.g. , Journal of the Optical Society of America, 1942, Vol. 32, p. 285)
is also known. The reflecting elements adjacent to each other by the entrance slit and the exit slit are likewise formed as concave reflecting mirrors, all the reflecting mirrors having the same focal length, and the distance between the opposing reflecting mirrors being The distance is twice the focal length.
先行技術に基くこの既知光学システムは、前記
反射鏡の反射面上に関連した像システムを形成す
る。該光学システムにおいては光線は4進路を以
て通過し、光線進行方向において第1の凹面反射
鏡は、光源によつて照らされる入射スリツトの像
を対向する凹面反射鏡の表面上に伝達する。対向
凹面反射鏡はそれに隣接する他の凹面反射鏡上に
前記第1の凹面反射鏡の像を形成する。前記隣在
する他の凹面反射鏡は、前記対向凹面反射鏡から
の入射スリツトの中間像を前記光学システムの出
射スリツトへ伝達するのに用いられている。 This known optical system based on the prior art forms an associated image system on the reflective surface of the reflector. In the optical system, the light beam passes in four paths, and in the direction of the light beam, a first concave reflector transmits the image of the entrance slit illuminated by the light source onto the surface of the opposite concave reflector. The opposing concave reflector forms an image of the first concave reflector on another concave reflector adjacent thereto. The other adjacent concave mirror is used to transmit an intermediate image of the entrance slit from the opposing concave mirror to the exit slit of the optical system.
入射スリツトと出射スリツトに対向する凹面反
射鏡間の角度を変えることによつて、上記第2の
既知システムは、4進路より多い多数の光線進路
の通過ができるように調整しうるが、この光学シ
ステムは僅かな調整不良が生じると使用不能にな
つてしまう。 By varying the angle between the concave reflector facing the entrance and exit slits, the second known system can be adjusted to allow the passage of more than four ray paths; A slight misadjustment can render the system unusable.
スリツトに対向して配列された同様の凹面反射
鏡を含む先行技術の光学システムにおいては、光
線方向における第1の凹面反射鏡の幾何学的寸法
に直接的に関係づけられている該光学システムの
口径比は、スペクトルの赤外線範囲で必要回数の
調査を行うのには不適当であることが認められて
いる。 In prior art optical systems comprising similar concave mirrors arranged opposite a slit, the optical system's diameter is directly related to the geometrical dimension of the first concave mirror in the beam direction. It has been recognized that aperture ratios are inadequate to perform the necessary number of surveys in the infrared range of the spectrum.
従つて、本発明の目的は、複式反射光学システ
ムの口径比を増すことである。 It is therefore an object of the present invention to increase the aperture ratio of dual reflection optical systems.
本発明によれば、複数個の対向する反射部材を
有する複式反射光学システムにして、前記対向す
る反射部材の一方が入射スリツトと出射スリツト
とによつて隣接され、他方が2個の凹面反射鏡か
ら成るものにおいて、前記凹面反射鏡が互いに異
る幾何学的寸法を有し、前記スリツトに隣接する
反射部材が、2個の同一の反射鏡であつて前記ス
リツトの1個に対して対称的に配列された1群を
構成するものによつて成り、前記同一の反射鏡の
群と前記凹面反射鏡との間の距離並びに前記小寸
法の凹面反射鏡の焦点距離が、前記大寸法の凹面
反射鏡の焦点距離の約1.5倍にされている構成の
複式反射光学システムが提供される。 According to the present invention, there is provided a dual reflective optical system having a plurality of opposing reflective members, one of the opposing reflective members being adjacent to an entrance slit and an exit slit, and the other being adjacent to two concave reflective mirrors. wherein the concave reflecting mirrors have different geometric dimensions, and the reflecting members adjacent to the slits are two identical reflecting mirrors and are symmetrical with respect to one of the slits. The distance between the group of identical reflecting mirrors and the concave reflecting mirror and the focal length of the small-sized concave reflecting mirror are such that the concave reflecting mirror of the large size A dual-reflection optical system is provided with a configuration that is approximately 1.5 times the focal length of the reflector.
本明細書に開示された光学システムにおいて
は、口径比は増大され、収差が減じられている。
かつまた、開示されたシステムは、固定放射通路
を有し標準型のスペクトル光度計に組込むのに適
した特定寸法の容器即ちセルの光路長の1.5倍の
光路長を提供する。前記反射鏡の合理的な配列
は、複雑な形状のセルに代えて標準的円筒をセル
の製作に用いることを可能とする。このことは、
ガス・セルがゲージ圧下の使用に対してその仕様
を定格化されるとき、特に必要とされることであ
る。開示された光学システムは、光線がセルの全
直径に亘つて最大限度に利用されることを可能に
するとともに、すべての形式の赤外線スペクトル
光度計において多目的多光路セルとして組込まれ
得る。 In the optical system disclosed herein, the aperture ratio is increased and aberrations are reduced.
Additionally, the disclosed system provides an optical path length that is 1.5 times the optical path length of a container or cell with a fixed radiation path and of a particular size suitable for incorporation into a standard spectrophotometer. The rational arrangement of the reflectors allows standard cylinders to be used in the fabrication of cells instead of cells with complex shapes. This means that
This is especially needed when the gas cell is rated for use under gauge pressure. The disclosed optical system allows the light beam to be utilized to its fullest extent over the entire diameter of the cell and can be incorporated as a versatile multi-pass cell in all types of infrared spectrophotometers.
本発明に基く複式反射光学システムは、複式反
射セルにおけるその実施例との関連において、さ
らに詳細に説明される。 The dual-reflection optical system according to the invention will be described in more detail in connection with its embodiment in a dual-reflection cell.
本発明に基く複式反射セルは、たがいに対向配
置された反射部材即ちユニツトを有し、これら反
射ユニツトの一方は、入射スリツト(第1図)に
隣接し、他方は、2個の凹面反射鏡3と4で構成
されている。凹面反射鏡3と4は異る幾何寸法を
有する。即ち、凹面反射鏡3の幾何寸法は凹面反
射鏡4の各幾何寸法に比べ、実質的に大きく、凹
面反射鏡4の焦点距離は、大きな凹面反射鏡3の
約1.5倍である。本実施例においては凹面反射鏡
3,4は球面としているが、非球面としてもよ
い。入射スリツト1と出射スリツト2とにそれぞ
れ隣接する反射部材即ちユニツトは、出射スリツ
ト2に対して対称的な一群の2個の同一の平面反
射鏡5と6で構成される。本光学システムにおけ
る僅かな収差を補正するため、概ね平らな平面反
射鏡5,6の反射面は特別の形状、例えば円柱形
状あるいはトロイド形状にされ得る。より大きい
凹面反射鏡3の幾何中心と出射スリツト2の中心
は本光学システムの光学軸となる一本の直線に帰
属する。同一の平面反射鏡5,6の群と凹面反射
鏡3,4との間の距離は、大きな凹面反射鏡3の
焦点距離の約1.5倍である。反射鏡3,4,5,
6のおのおのは、それぞれ保持体7,8,9,1
0中に固定され、かつ標準型の調整装置11と組
合わされている。反射鏡システム3,4,5,6
は、円筒形部分12と2個のふた13,14とに
よつて構成される密閉ハウジング内に装着されて
いる。窓15と16が、それぞれ、入射スリツト
1と出射スリツト2との前方において、ふた13
に設けられている。 A double reflection cell according to the invention has reflection members or units arranged opposite each other, one of which is adjacent to the entrance slit (FIG. 1) and the other of which is adjacent to two concave reflection mirrors. It consists of 3 and 4. Concave reflectors 3 and 4 have different geometric dimensions. That is, the geometric dimensions of the concave reflector 3 are substantially larger than those of the concave reflector 4, and the focal length of the concave reflector 4 is about 1.5 times that of the large concave reflector 3. Although the concave reflecting mirrors 3 and 4 are spherical in this embodiment, they may be aspherical. The reflecting elements or units adjoining the entrance slit 1 and the exit slit 2, respectively, consist of a group of two identical plane reflectors 5 and 6 symmetrical with respect to the exit slit 2. In order to correct slight aberrations in the present optical system, the reflective surfaces of the generally flat mirrors 5, 6 can be given a special shape, for example cylindrical or toroidal. The geometric center of the larger concave reflector 3 and the center of the exit slit 2 belong to one straight line, which is the optical axis of the optical system. The distance between the group of identical plane reflectors 5, 6 and the concave reflectors 3, 4 is about 1.5 times the focal length of the large concave reflector 3. Reflector 3, 4, 5,
6 are respectively holding bodies 7, 8, 9, 1
0 and is combined with a standard adjustment device 11. Reflector system 3, 4, 5, 6
is mounted in a closed housing constituted by a cylindrical part 12 and two lids 13,14. Windows 15 and 16 are provided in the lid 13 in front of the entrance slit 1 and the exit slit 2, respectively.
It is set in.
図示実施例においては、平面反射鏡5,6(第
2図)は概ね矩形であり、本光学システムのハウ
ジングの円筒形部分の直径の範囲内に納められる
寸法にされている。入射スリツト1の幾何寸法と
出射スリツト2の幾何寸法は同じである。 In the illustrated embodiment, the planar mirrors 5, 6 (FIG. 2) are generally rectangular and sized to fit within the diameter of the cylindrical portion of the housing of the optical system. The geometric dimensions of the entrance slit 1 and the exit slit 2 are the same.
凹面反射鏡3,4(第3図)は同様に概ね矩形
であり、本光学システムのハウジング内に最適な
態様で収容されている。即ち、大きな凹面反射鏡
3はハウジングの円筒形部分12の円に内接して
位置され、一方、小さな凹面反射鏡4は残る空間
に収容されている。 The concave reflectors 3, 4 (FIG. 3) are likewise generally rectangular and are optimally housed within the housing of the optical system. That is, the large concave reflector 3 is located inscribed in the circle of the cylindrical part 12 of the housing, while the small concave reflector 4 is accommodated in the remaining space.
図示された複式反射セルは次ぎのように働ら
く。 The illustrated dual reflection cell works as follows.
垂直方向に細長くされた光源(図示されていな
い)から、光線は窓15(第1図)と入射スリツ
ト1とを通過して凹面反射鏡3に達する。光線は
凹面反射鏡3によつて反射されて平面反射鏡5に
達する。平面反射鏡は光線を凹面反射鏡4へ向け
て反射する。これによつて、より大きい凹面反射
鏡3は、より小さい凹面反射鏡4の表面に入射ス
リツト1の拡大像を形成する。次いで、凹面反射
鏡4は光線を平面反射鏡6へ導き、該反射鏡6は
光線を凹面反射鏡3へ反射する。凹面反射鏡3は
最終的に光線を出射スリツト2の平面へ反射する
とともに該平面に光線を集中する。その寸法は原
寸法と同じである。かようにして、光線は窓16
を経て本複式反射セルから出て行く。 From a vertically elongated light source (not shown), the light beam passes through a window 15 (FIG. 1) and an entrance slit 1 to reach a concave reflector 3. The light beam is reflected by the concave reflector 3 and reaches the plane reflector 5. The plane reflector reflects the light beam towards the concave reflector 4. Thereby, the larger concave reflector 3 forms an enlarged image of the entrance slit 1 on the surface of the smaller concave reflector 4. Concave reflector 4 then directs the light beam to plane reflector 6, which reflects the light to concave reflector 3. The concave reflector 3 finally reflects the light beam onto the plane of the exit slit 2 and concentrates the light beam on the plane. Its dimensions are the same as the original dimensions. In this way, the rays pass through window 16.
The light exits the multiple reflection cell through the .
ここに開示された光学システムは可逆システム
であるから、光線は出射スリツト2(第2図)を
通じて反射セルに進入し、入射スリツト1を通じ
て出て行くようにもすることができる。この場
合、反射セルの動作態様は同じである。 Since the optical system disclosed here is a reversible system, the light beam can also enter the reflection cell through the exit slit 2 (FIG. 2) and exit through the entrance slit 1. In this case, the mode of operation of the reflection cell is the same.
凹面反射鏡4(第3図)は、大きな凹面反射鏡
3の反射像の精密な一致像を提供する。光線は凹
面反射鏡3の端縁を越えて全く散乱しない。この
ようにして、傾斜光線のビネツトぼけ現象は完全
に防止される。 Concave reflector 4 (FIG. 3) provides a precise coincidence of the reflected image of large concave reflector 3. No light rays are scattered beyond the edge of the concave reflector 3. In this way, the vignetting phenomenon of oblique rays is completely prevented.
大きな凹面反射鏡3は本反射セルのハウジング
の円筒形部分12内に内接しているから、本シス
テムの口径比は最大限まで利用される。 Since the large concave reflector 3 is inscribed within the cylindrical part 12 of the housing of the reflector cell, the aperture ratio of the system is utilized to the maximum.
以上説明された複式反射光学セルの構造上の特
色によつて、反射鏡3,4,5,6は、個々に連
続的に簡単且つ高信頼度で調整ができる。この結
果として、本システムの僅少の不調整はその性能
の安定性に影響を及ぼさないと考えられる。 Due to the structural features of the double-reflection optical cell described above, the reflectors 3, 4, 5, 6 can be adjusted individually and continuously in a simple and reliable manner. As a result of this, minor misadjustments of the system are not expected to affect the stability of its performance.
先行技術と比較されるとき、本明細書に開示さ
れた複式反射光学システムは、増加された倍率、
減少された収差、簡単化された調整、及び反射鏡
の性能の増進された安定性を提供する。 When compared to the prior art, the dual reflection optical system disclosed herein provides increased magnification,
Provides reduced aberrations, simplified alignment, and enhanced stability of reflector performance.
第1図は本発明を実施された複式反射セルの縦
断面図;第2図は第1図の−線に沿つて切ら
れた断面図;第3図は第1図の−線に沿つて
切られた断面図である。
図面上、1は〓入射スリツト〓;2は〓出射ス
リツト〓;3,4は〓凹面反射鏡〓;5,6は
〓平面反射鏡〓;7,8,9,10は〓保持
体〓;11は〓調整装置〓;12は〓円筒形部
分〓;15,16は〓窓〓を示す。
FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view of a double reflection cell in which the present invention is implemented; FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line - in FIG. 1; FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line - in FIG. FIG. In the drawing, 1 is an entrance slit; 2 is an exit slit; 3 and 4 are concave reflectors; 5 and 6 are flat reflectors; 7, 8, 9, and 10 are holders; Reference numeral 11 indicates an adjustment device; 12 indicates a cylindrical portion; and 15 and 16 indicate a window.
Claims (1)
於ける第1凹面反射鏡と、 前記第1凹面反射鏡から反射された光束の光路
に設けられ、該第1凹面反射鏡の焦点距離の1.5
倍の距離で該第1凹面反射鏡から離して設けた第
1平面状反射鏡と、 前記第1凹面反射鏡に隣接して設けられ、該第
1凹面反射鏡の焦点距離の1.5倍の焦点距離を有
するが、幾何学上の平面的寸法はこれより小さ
く、かつ前記第1平面状反射鏡から前記第1凹面
反射鏡の焦点距離の1.5倍の焦点距離をもつて離
して対向配置した第2凹面反射鏡と、 前記第1平面状反射鏡と同一平面で、前記第2
凹面反射鏡から反射される光束の光路上に設けら
れ、該第2凹面反射鏡からの光束を前記第1凹面
反射鏡に向けて反射するようになつた第2平面状
反射鏡と、 前記入射スリツトと同一平面に設けられ、前記
第2平面状反射鏡を経由して前記第1凹面反射鏡
で反射した光束を出射する出射スリツトと を有し、前記第1および第2平面状反射鏡は前記
スリツトのいずれか1つに対して対称的に配置さ
れた同一反射鏡群を構成する複式反射光学システ
ム。[Scope of Claims] 1. A double-reflection optical system comprising: an entrance slit through which a light beam passes; a first concave reflector in the optical path of the light beam passing through the entrance slit; and a light beam reflected from the first concave reflector. 1.5 of the focal length of the first concave reflecting mirror.
a first planar reflector provided at a distance twice the distance from the first concave reflector; and a focal point provided adjacent to the first concave reflector and whose focal length is 1.5 times the focal length of the first concave reflector. a distance from the first concave reflector, but the geometric planar dimension is smaller than this, and the first concave reflector has a focal length that is 1.5 times the focal length of the first concave reflector. two concave reflecting mirrors, and a second concave reflecting mirror that is coplanar with the first planar reflecting mirror;
a second planar reflecting mirror provided on the optical path of the light beam reflected from the second concave reflecting mirror, and configured to reflect the light beam from the second concave reflecting mirror toward the first concave reflecting mirror; an output slit that is provided on the same plane as the slit and outputs the light beam reflected by the first concave reflector via the second planar reflector, and the first and second planar reflectors are A multiple reflection optical system comprising a group of identical reflection mirrors arranged symmetrically with respect to any one of the slits.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2545779A JPS55119025A (en) | 1979-03-05 | 1979-03-05 | Combined reflection optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2545779A JPS55119025A (en) | 1979-03-05 | 1979-03-05 | Combined reflection optical system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55119025A JPS55119025A (en) | 1980-09-12 |
| JPS6250771B2 true JPS6250771B2 (en) | 1987-10-27 |
Family
ID=12166555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2545779A Granted JPS55119025A (en) | 1979-03-05 | 1979-03-05 | Combined reflection optical system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55119025A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4842582B2 (en) * | 2005-08-04 | 2011-12-21 | トヨタ自動車株式会社 | Gas analyzer |
-
1979
- 1979-03-05 JP JP2545779A patent/JPS55119025A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55119025A (en) | 1980-09-12 |
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