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JPS6257269B2 - - Google Patents
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JPS6257269B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6257269B2
JPS6257269B2 JP56130422A JP13042281A JPS6257269B2 JP S6257269 B2 JPS6257269 B2 JP S6257269B2 JP 56130422 A JP56130422 A JP 56130422A JP 13042281 A JP13042281 A JP 13042281A JP S6257269 B2 JPS6257269 B2 JP S6257269B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zno
cdte
sintered
mol
sintered film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56130422A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5831584A (ja
Inventor
Seiji Ikegami
Nobuo Nakayama
Hitoshi Matsumoto
Hiroshi Uda
Akihiko Nakano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP56130422A priority Critical patent/JPS5831584A/ja
Publication of JPS5831584A publication Critical patent/JPS5831584A/ja
Publication of JPS6257269B2 publication Critical patent/JPS6257269B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
    • H10F71/125The active layers comprising only Group II-VI materials, e.g. CdS, ZnS or CdTe
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/543Solar cells from Group II-VI materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は太陽電池の製造方法に関するものであ
る。CdTeは禁制帯巾1.4eVの半導体で、太陽電
池用光吸収材料として最適の禁制帯巾を有し、適
当な窓材料例えばCdSと組合わせてCdS/CdTe
太陽電池として実用化されている。またZnOは禁
制帯巾3.3.eVの半導体で、CdSよりも禁制帯巾が
大きく、CdSよりも太陽光特に短波長側をよく通
すため、太陽電池用窓材料として有望である。そ
こで従来ZnOとCdTeとの組合せによる太陽電池
に関心が寄せられ研究されているが、いずれも単
結晶半導体を用いたもので実用性に乏しい。本発
明は、石油資源の涸渇が予想されエネルギー転換
の必要性に迫られている現状に鑑み、このZnOと
CdTeとの組合せの太陽電池の製造方法に改良を
加へて、充分な変換効率を有し、しかも安価で量
産性に富む太陽電池の製造方法を提案しようとす
るものである。 以下本発明に係る太陽電池の製造方法を実施例
に基いて説明する。先ずZnOの高純度粉末に1〜
10モル%の少量のCdCl2またはZnCl2を加え、こ
れに更に有機粘結剤として例えばプロピレングリ
コールを適量加え、よく混練してペーストを調製
する。このペーストをガラス基板上に薄く塗布す
る。この際スクリーン印刷機を用いるのも一つの
方法である。この塗布膜中の粘結剤を乾燥器で蒸
発させた後、N2雰囲気中で焼成し、N型ZnO焼結
膜を形成する。焼成温度はCdCl2を混入したとき
は500℃〜700℃の範囲内とし、ZnCl2を混入した
ときは400℃〜650℃の範囲内とする。 従来低抵抗のZnO膜を700℃以下の低温度で焼
結させることは困難であつたが、前記添加物を前
記量加えることによりこの焼結が可能となる。 次いでCdTeの高純度粉末に0.5〜10モル%の少
量のSb2Te3を加え、これに更に有機粘結剤とし
て例えばプロピレングリコールを適量加え、よく
混練してペーストを調製し、このペーストを、ス
クリーン印刷などの方法で前記N型ZnO焼結膜上
に塗布する。粘結剤を蒸発させた後、N2雰囲気
中500℃〜700℃で焼成し、N型ZnO焼結膜上にP
型CdTe焼結膜を形成する。 こうしてガラス基板上に重畳形成されたN型
ZnO焼結膜とP型CdTe焼結膜とに夫々オーミツ
ク接触の電極、例えばAl,Teを付着させてでき
上つた太陽電池を第1図に示す。1はガラス基
板、2はN型ZnO焼結膜、3はP型CdTe焼結
膜、4はCdTe側オーミツク電極、5はZnO側オ
ーミツク電極である。 前記実施例の方法によつて得られた太陽電池の
製造条件と、ガラス基板側からAM1.5,75cmw/
cm2の太陽光を入射させたときの変換効率とを第1
表に示す。同表中参考例とあるのは、比較のため
に少くとも一方の焼結膜が融剤の添加量または焼
成温度において実施例に挙げた条件に一致しない
太陽電池の例を示したものである。
【表】 第1表からも明らかなように参考例の太陽電池
ではいずれも膜の焼結性が不良であるか、あるい
は変換効率が3%にも達しないのに対し、本発明
方法によつて製造された太陽電池は充分実用性の
ある6%以上の高い変換効率を有する。 本発明に係る太陽電池の製造方法によれば、充
分実用性のある高い変換効率を有するものが得ら
れる。しかもN型ZnOの焼結膜とP型CdTe焼結
膜とが700℃以下の低温で焼結でき、従つてまた
ガラス基板上に重畳焼結でき、消費電力も少く、
製造が容易であり、安価で量産に適する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法によつて製造された太陽電
池の断面図である。 1……ガラス基板、2……N型ZnO焼結膜、3
……P型CdTe焼結膜、4……CdTe側オーミツ
ク電極、5……ZnO側オーミツク電極。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ZnO粉末に1〜10モル%のCdCl2および適量
    の有機粘結剤を加えて混合したペーストをガラス
    基板上に塗布しN2中500℃〜700℃で焼成してN
    型ZnO焼結膜を形成し、次いでこのZnO焼結膜上
    にCdTe粉末に0.5〜10モル%のSb2Te3および適
    量の有機粘結剤を加えて混合したペーストを塗布
    しN2中500℃〜700℃で焼成してP型CdTe焼結膜
    を形成し、これら焼結膜に夫々オーミツク電極を
    取付けることを特徴とする太陽電池の製造方法。 2 ZnO粉末に1〜10モル%のZnCl2および適量
    の有機粘結剤を加えて混合したペーストをガラス
    基板上に塗布しN2中400℃〜650℃で焼成してN
    型ZnO焼結膜を形成し、次いでこのZnO焼結膜上
    にCdTe粉末に0.5〜10モル%のSb2Te3および適
    量の有機粘結剤を加えて混合したペーストを塗布
    しN2中500℃〜700℃で焼成してP型CdTe膜を形
    成し、これら焼結膜に夫々オーミツク電極を取付
    けることを特徴とする太陽電池の製造方法。
JP56130422A 1981-08-19 1981-08-19 太陽電池の製造方法 Granted JPS5831584A (ja)

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JPS5831584A JPS5831584A (ja) 1983-02-24
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4612411A (en) * 1985-06-04 1986-09-16 Atlantic Richfield Company Thin film solar cell with ZnO window layer
DE102005047907A1 (de) * 2005-10-06 2007-04-12 Basf Ag Photovoltaische Zelle mit einem darin enthaltenen photovoltaisch aktiven Halbleitermaterial

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