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JPS6262461B2 - - Google Patents
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JPS6262461B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6262461B2
JPS6262461B2 JP54091551A JP9155179A JPS6262461B2 JP S6262461 B2 JPS6262461 B2 JP S6262461B2 JP 54091551 A JP54091551 A JP 54091551A JP 9155179 A JP9155179 A JP 9155179A JP S6262461 B2 JPS6262461 B2 JP S6262461B2
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JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
marking
semiconductor
cutting
semiconductor devices
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54091551A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5617028A (en
Inventor
Hiroshi Takao
Juji Ikeda
Toshio Hoshino
Takatoshi Hagiwara
Seiichi Takei
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5617028A publication Critical patent/JPS5617028A/en
Publication of JPS6262461B2 publication Critical patent/JPS6262461B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W95/00Packaging processes not covered by the other groups of this subclass

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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体装置の製造装置、特にリードフ
レーム(連繋体)上に順次ペレツトボンデイン
グ、ワイヤボンデイング、レジン封止を行なつた
半完成品である半導体装置群(ワーク群)に対し
て、マーキングを施こすとともに、各ワークをリ
ードフレームから成形させながら切断分離させ、
さらにワークの特性選別をする半導体装置の製造
装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor device manufacturing apparatus, and particularly to a semiconductor device group (workpiece) that is a semi-finished product in which pellet bonding, wire bonding, and resin sealing are sequentially performed on a lead frame (connecting body). group), marking is applied, and each workpiece is cut and separated while being molded from the lead frame.
The present invention further relates to a semiconductor device manufacturing apparatus that selects the characteristics of a workpiece.

半導体装置のパツケージの一形態として大量生
産が可能で安価であることからレジンモールドパ
ツケージが多く採用され、この種の半導体装置は
その組立時、第1図に示すように単位リードパタ
ーンを多連たとえば7連に連ねた金属板からなる
リードフレーム1を用いて行なつている。
Resin molded packages are often used as a type of package for semiconductor devices because they can be mass-produced and are inexpensive.When assembling this type of semiconductor device, for example, multiple unit lead patterns are connected in series as shown in Figure 1. This is carried out using a lead frame 1 consisting of seven metal plates connected in series.

このようなリードフレーム1を用いて半導体装
置を組み立てるには、先ず、タブ4上にペレツト
3を固定(ペレツトボンデイング)した後、ワイ
ヤ9でワイヤボンデイングしたのち、1対の副枠
2およびダム7で囲まれるモールド領域10をレ
ジンでモールドし、モールド部11を形成する。
To assemble a semiconductor device using such a lead frame 1, first, the pellet 3 is fixed on the tab 4 (pellet bonding), wire bonding is performed with the wire 9, and then the pair of sub-frames 2 and the dam are bonded. A mold region 10 surrounded by 7 is molded with resin to form a mold part 11.

ついでリード6を主枠1の付け根で切断すると
ともに、ダム7を切断除去する。その後、タブリ
ード5を切断するとともにリード6を同一方向に
折り曲げて第3図で示すようなデユアルインライ
ン形の半導体装置を製造する。
Next, the lead 6 is cut at the base of the main frame 1, and the dam 7 is cut and removed. Thereafter, the tab leads 5 are cut and the leads 6 are bent in the same direction to manufacture a dual in-line type semiconductor device as shown in FIG.

ところで、従来、レジンモールド後の作業工程
は第4図に示すような順序となつている。すなわ
ち、レジンモールド後に切断成形してリードフレ
ームから各半導体装置を個別化すると、トリクロ
ルエチレン等の有機溶剤で洗浄してモールド部表
面のマーキング面を清浄化し、このマーキング面
にマークを印刷し、インキ(熱硬化型インキ)を
乾燥させた後、各半導体装置の電気特性等を検査
し、不良を含む各等級別に半導体装置を分類選別
する。そして、これら各作業はそれぞれ独立した
装置を用いて行なつている。
Incidentally, conventionally, the work steps after resin molding have been performed in the order shown in FIG. In other words, after resin molding, cutting is performed to separate each semiconductor device from the lead frame, the marking surface on the surface of the mold is cleaned by cleaning with an organic solvent such as trichlorethylene, a mark is printed on this marking surface, and ink is applied. After drying the (thermosetting ink), the electrical characteristics of each semiconductor device are inspected, and the semiconductor devices are sorted by grade, including defects. Each of these operations is performed using independent equipment.

しかし、このような従来の作業装置群ではつぎ
のような欠点がある。
However, such conventional working devices have the following drawbacks.

(1) 各作業は個別の装置を用いて行なわれている
ことから、各装置間のワークの運搬が面倒であ
るとともに、一連の装置群を据え付ける面積が
広いもので作業スペースをも加味するとその占
有面積が大なるものである。
(1) Since each work is carried out using individual equipment, transporting workpieces between each equipment is troublesome, and the installation of a series of equipment requires a large area, so taking into account the work space, It occupies a large area.

(2) ワークは各装置間を人手等によつて搬送され
ているため、ごみが付着し易く、マーキング面
に付着しやすくそれによつてマークが不鮮明と
なつたりしている。特に従来工程ではマーキン
グ前にリードの切断成形を行なつているので、
この切断成形時に切断成形による多量な金属
屑、レジン屑が発生し、その後に洗浄がなされ
ても、それらが良く取り去ることができずマー
キング不良が多発し歩留が低いという難点があ
る。
(2) Since the workpiece is transported between each device by hand, dirt tends to adhere to the marking surface, making the mark unclear. In particular, in the conventional process, the leads are cut and formed before marking.
A large amount of metal scraps and resin scraps are generated during this cutting and forming process, and even if cleaning is performed afterwards, these pieces cannot be removed well, resulting in frequent marking defects and low yields.

(3) 各作業は個別の装置で行なわれていることか
ら、作業性は悪く工完が長いものとなる。特
に、マーキングに使用するインキは熱硬化型イ
ンキが用いられているため、その乾燥には数時
間も必要である。さらに、従来の作業工程では
洗浄作業およびマーク乾燥作業はバツチ処理に
よつて行なつているものであることから単品処
理と混在した工程となり全体の作業を連続化
し、自動化を行なわしめることができないもの
である。
(3) Since each work is performed using individual equipment, work efficiency is poor and it takes a long time to complete the work. In particular, since the ink used for marking is a thermosetting ink, it takes several hours to dry. Furthermore, in conventional work processes, cleaning work and mark drying work are performed by batch processing, so the process is mixed with single item processing, making it impossible to continuousize and automate the entire work. It is.

(4) 各作業は個別の装置を用いて行なわれてお
り、各装置間のワーク搬送も人手によつて行な
われるため、多数の作業者がタツチしており人
件費が大なるものである。
(4) Each work is carried out using individual equipment, and workpieces are transferred between each equipment manually, so many workers touch each other and the labor costs are high.

したがつて、本発明の目的は従来の諸問題を解
決することをもつてレジンモールド後でかつ洗浄
完了のワークに対するマーキング、リード切断成
形、特性選別等の作業の連続化を図つた装置を提
供するものであつて、このような装置により歩留
向上、工完短縮、人員低減、コスト低減を図るこ
とにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the conventional problems by providing an apparatus that allows continuous work such as marking, lead cutting, molding, and characteristic selection for workpieces that have been resin molded and cleaned. The purpose of this system is to improve yields, shorten process completion, reduce manpower, and reduce costs.

以下実施例により本発明を説明する。 The present invention will be explained below with reference to Examples.

第6図は本発明の半導体装置の製造装置の一実
施例による概略平面図である。この装置は左から
右に向かつて、ローデイング装置12、拭取装置
13、マーキング装置14、UV乾燥装置(紫外
線ultravioletraysを用いた乾燥装置)15、切断
成形装置16、ストア装置17、4台の特性検査
装置18、選別箱詰装置19が順次並んで配設さ
れている。また、各装置間は第9図a,bで示す
移送機構20あるいは第15図で示すエアー搬送
機構21によつて連結され、各ワークは順次前記
移送・搬送機構20,21で順次各装置間を移動
するようになつている。また、ワークの移送空間
および処理空間は図示はしないがカバー等で被わ
れ、ワークにごみが付着しないように配慮されて
いる。
FIG. 6 is a schematic plan view of an embodiment of the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention. This equipment consists of, from left to right, a loading device 12, a wiping device 13, a marking device 14, a UV drying device (a drying device using ultraviolet rays) 15, a cutting and forming device 16, and a storing device 17. An inspection device 18 and a sorting and packaging device 19 are arranged in sequence. Further, each device is connected by a transfer mechanism 20 shown in FIGS. 9a and 9b or an air transfer mechanism 21 shown in FIG. It's starting to move. Furthermore, although not shown, the workpiece transfer space and processing space are covered with a cover or the like to prevent dust from adhering to the workpieces.

つぎに、第7図〜第18図を用いながら各装置
について説明する。ローデイング装置12は45度
ずつ回転するテーブル22と、第8図に示す分離
機構23とからなつている。前記テーブル22に
は45度間隔で第7図で示す構造のワークを入れる
マガジン24が収容できる貫通した孔からなる収
容部25が設けられている。前記マガジン24は
その両端面にそれぞれ1対の小孔からなる挿込孔
26が設けられ、これら挿込孔26には第7図で
示すようにU字状のストツパピン27が挿入され
る。マガジン24にワークを積み重ねて収容する
場合には、マガジン24の最下段の挿込孔26に
ストツパピン27を挿入した後、この上に順次レ
ジンモールド完のリードフレーム(ワーク)を積
み重ねる。そして、たとえばワークが100枚入る
と、最上段の挿込孔26にストツパピン27を挿
し込み、ワークがマガジン24から脱落しないよ
うに収容する。なお、ワークの洗浄はこの状態で
行なうとよい。そして、ワークを収容したマガジ
ン24をテーブル22の収容部25に装填した後
は上下のストツパピン27を抜く。各収容部25
の下部にはそれぞれシヤツタ28が配設されてい
ることから、ワークはこのシヤツタ28上に載
る。また、このシヤツタ28はU字状となつてい
てこの中間中空部には後で説明する受け棒29が
下方から突入するようになつている。
Next, each device will be explained using FIGS. 7 to 18. The loading device 12 consists of a table 22 that rotates by 45 degrees and a separation mechanism 23 shown in FIG. The table 22 is provided with accommodating portions 25 consisting of through holes capable of accommodating magazines 24 containing workpieces having the structure shown in FIG. 7 at intervals of 45 degrees. The magazine 24 is provided with insertion holes 26 consisting of a pair of small holes on each end surface thereof, and a U-shaped stopper pin 27 is inserted into these insertion holes 26 as shown in FIG. When storing workpieces in a stacked manner in the magazine 24, a stopper pin 27 is inserted into the insertion hole 26 at the lowest stage of the magazine 24, and then resin-molded lead frames (workpieces) are sequentially stacked on top of the stopper pin 27. When, for example, 100 workpieces are loaded, the stopper pin 27 is inserted into the insertion hole 26 at the uppermost stage to accommodate the workpieces so that they do not fall out of the magazine 24. Note that it is preferable to clean the workpiece in this state. After loading the magazine 24 containing the work into the storage section 25 of the table 22, the upper and lower stopper pins 27 are pulled out. Each housing section 25
Since a shutter 28 is disposed at the bottom of each, the workpiece is placed on this shutter 28. Further, this shutter 28 is U-shaped, and a receiving rod 29, which will be described later, is inserted into this intermediate hollow portion from below.

一方、ワークを送り出す送出ステーシヨンにお
けるテーブル22上にはモータ30によつて引き
上げられるウエイト31が配設され、このウエイ
ト31は送出ステーシヨンに位置したマガジン2
4内のワーク32上に載り、ワーク32を下方に
押し付けるようになつている。このウエイト31
はテーブル22が回動する前にモータ30によつ
て上方に引き上げられ、空のマガジン内から引き
上げられる。
On the other hand, a weight 31 that is pulled up by a motor 30 is disposed on the table 22 at the delivery station that sends out the workpiece, and this weight 31 is attached to the magazine 2 located at the delivery station.
It rests on the workpiece 32 in 4 and presses the workpiece 32 downward. This weight 31
is pulled upward by the motor 30 before the table 22 rotates, and is lifted out of the empty magazine.

他方、送出ステーシヨンのテーブル22の下方
には分離機構23が配設されている。分離機構2
3は分離ガイド33、プツシヤ34、受け棒29
とからなり、前記分離ガイド33は2枚の平行の
板からなつている。上板35には1個のワーク
(リードフレーム)が通過できるガイド孔36が
設けられるとともに、下板37には前記受け棒2
9が通過できる通過孔38が設けられている。ま
た、上板35と下板37との間は1個のワーク3
2しか移動できない程度の間隔となつている。プ
ツシヤ34はガイド孔36を通過して下板37上
に載つたワーク32を上板35と下板37間で奥
に平行移動するようになつている。
On the other hand, a separation mechanism 23 is provided below the table 22 of the delivery station. Separation mechanism 2
3 is a separation guide 33, a pusher 34, and a receiving rod 29
The separation guide 33 is made up of two parallel plates. The upper plate 35 is provided with a guide hole 36 through which one workpiece (lead frame) can pass, and the lower plate 37 is provided with a guide hole 36 through which one workpiece (lead frame) can pass.
A passage hole 38 is provided through which 9 can pass. Moreover, one workpiece 3 is located between the upper plate 35 and the lower plate 37.
The distance is such that only 2 can be moved. The pusher 34 is configured to pass through a guide hole 36 and move a workpiece 32 placed on a lower plate 37 in parallel to the back between an upper plate 35 and a lower plate 37.

また、分離ガイド33の奥に送り込まれたワー
ク32は第9図a,bで示す移送機構20で最初
の拭取装置13に送られる。ワーク32は同図b
で示すように、リードフレーム枠39の両側をガ
イド(搬送路)40によつて支持されながら移動
する。ワーク32の移動は送りブロツク41にピ
ン42を介して回動自在に取り付けられた送り爪
43によつて引つ掛けられて1ピツチずつ移動す
る。移動は送りブロツク41の移動により、送り
ブロツク41は回転軸44に固定された送りカム
45にばね46によつて常に接触するカムフオロ
ア47を介して送りカム45のカム曲線に沿つて
移動する。また、送り爪43は一端をばね48で
支持され、戻り時には送り爪43がワークの下面
に接触しながら送り爪だけで戻り、ワーク32を
後退させないように配慮されている。また、ワー
クの上方には戻り防止爪49が設けられている。
この戻り防止爪49もピン50を中心に回動可能
となり、ワーク32の前進時にはばね51が延び
てワーク32は前進するが、ワーク32が後退し
ようとすると、戻り防止爪49の先端をワークの
モールド部11に当設させてワークを後退させな
いようになつている。なお、送りブロツク41に
は多数送り爪43が設けられている。また、切断
成形装置16までのワークの移送はこの構造の移
送機構20によつて行なわれる。
Further, the workpiece 32 sent to the back of the separation guide 33 is sent to the first wiping device 13 by the transfer mechanism 20 shown in FIGS. 9a and 9b. Work 32 is shown in figure b.
As shown, the lead frame frame 39 moves while being supported by guides (conveyance paths) 40 on both sides. The workpiece 32 is moved one pitch at a time by being hooked by a feed claw 43 rotatably attached to a feed block 41 via a pin 42. The movement is caused by the movement of the feed block 41, which moves along the cam curve of the feed cam 45 via a cam follower 47 which is always in contact with the feed cam 45 fixed to the rotating shaft 44 by means of a spring 46. Further, the feed claw 43 is supported at one end by a spring 48, and when returning, the feed claw 43 returns only by the feed claw while contacting the lower surface of the workpiece, so that the workpiece 32 is not moved backward. Furthermore, a return prevention claw 49 is provided above the workpiece.
This return prevention claw 49 is also rotatable around the pin 50, and when the work 32 moves forward, the spring 51 extends and the work 32 moves forward, but when the work 32 tries to move back, the tip of the return prevention claw 49 is It is placed in contact with the mold part 11 to prevent the workpiece from retreating. Note that the feed block 41 is provided with a large number of feed pawls 43. Further, the workpiece is transferred to the cutting and forming device 16 by a transfer mechanism 20 having this structure.

ここで、ローデイング装置12および最初の移
送機構20によるワークの拭取装置13へのロー
デイングについて説明する。まず、テーブル22
の各収容部25にワーク32を収容したマガジン
24を取り付ける。そして、送出ステーシヨンに
位置したマガジン24中にはウエイト31を入
れ、ウエイト31でワーク32を下方に押し付け
る。つぎに分離機構23の受け棒29を上昇さ
せ、上端をシヤツタ28内に突入させて最下層の
ワーク32の下面を支える。その後、シヤツタ2
8を開いて収容部25から外し、徐々に受け棒2
9を下降させ、ワーク32を分離ガイド33の下
板37上に載せる。つぎに、プツシヤ34によつ
て最下層のワーク32を押して下板37上に沿つ
て滑動させ、ワーク32を分離ガイド33の奥に
送る。分離ガイド33の奥に送り込まれたワーク
32は移送機構20の送り爪43によつて1ピツ
チずつ送られる。また、プツシヤ34は送り爪4
3と同期して動き、1個ずつワーク32を分離ガ
イド33の奥に入る。このようにして、ワークは
そのモールド部間隔(1ピツチ)毎に送られ、順
次モールド部が拭取装置13に達する。
Here, loading of a work onto the wiping device 13 by the loading device 12 and the first transfer mechanism 20 will be explained. First, table 22
A magazine 24 containing a workpiece 32 is attached to each accommodating portion 25. Then, a weight 31 is placed in the magazine 24 located at the delivery station, and the workpiece 32 is pressed downward by the weight 31. Next, the receiving rod 29 of the separation mechanism 23 is raised, and its upper end is thrust into the shutter 28 to support the lower surface of the workpiece 32 in the lowest layer. After that, shutter 2
8, remove it from the housing part 25, and gradually remove the receiving rod 2.
9 is lowered and the workpiece 32 is placed on the lower plate 37 of the separation guide 33. Next, the lowermost workpiece 32 is pushed by the pusher 34 and slid along the lower plate 37, and the workpiece 32 is sent to the back of the separation guide 33. The workpiece 32 sent into the depths of the separation guide 33 is sent one pitch at a time by the feeding claw 43 of the transfer mechanism 20. In addition, the pusher 34 is connected to the feed claw 4.
3, the workpieces 32 are moved one by one into the depths of the separation guide 33. In this way, the workpiece is sent for each mold part interval (one pitch), and the mold parts reach the wiping device 13 one after another.

拭取装置13は第10図に示すように、ワーク
32の移動域上に沿つて移動する無端状(無限軌
道を描く)の布ベルト52を有している。この布
ベルト52は多数のガイドローラ53によつて案
内され、有機溶剤(たとえばトリクロルエチレ
ン)54を入れたタンク55内を通過するように
なつている。また、この布ベルト52はタンク5
5から出たところで1対の絞りローラ56間をも
通過し、この絞りローラ56によつて適度の有機
溶剤が布ベルト52に付着するようになつてい
る。また、この布ベルト52は拭取ガイド57に
よつて案内され、この拭取ガイド57を通過する
際、拭取ガイド57の真下を通過するワーク32
のモールド部11の上面(マーキング面)を含浸
している有機溶剤で拭き、マーキング面に付着し
ているごみや汚れを取り除くようになつている。
As shown in FIG. 10, the wiping device 13 has an endless cloth belt 52 that moves along the moving area of the workpiece 32 (describing an endless track). The cloth belt 52 is guided by a number of guide rollers 53 and passes through a tank 55 containing an organic solvent (for example, trichlorethylene) 54 . Moreover, this cloth belt 52 is attached to the tank 5.
When the organic solvent leaves the cloth belt 52, it also passes between a pair of squeezing rollers 56, and the squeezing rollers 56 cause an appropriate amount of organic solvent to adhere to the cloth belt 52. Further, this cloth belt 52 is guided by a wiping guide 57, and when passing through this wiping guide 57, the workpiece 32 passing directly under the wiping guide 57
The upper surface (marking surface) of the mold part 11 is wiped with the impregnated organic solvent to remove dust and dirt adhering to the marking surface.

拭取装置13が設けられたステーシヨンの次の
ステーシヨンには第11図で示すようなマーキン
グ装置14が配設されている。このマーキング装
置14はワーク32のマーキング面にマークを転
写する転写胴58を有している。この転写胴58
は遊星歯車59を一 に取り付けた軸60に固定
されている。この遊星歯車59は内歯歯車61に
噛み合い、自公転(遊星)運動する。また、内歯
歯車61の上部には円柱状の刻印胴62が配設さ
れ、自公転して上方に移動して来た転写胴58は
この刻印胴62の外周面に転動接触する。また、
刻印胴62の外周には刻印胴62にインキを付着
する役割を果す着肉ローラ63が接触している。
また、この着肉ローラ63の外周面にはインキ塗
布ローラ64が接触しインキタンク65のインキ
66を着肉ローラ63に付着させるようになつて
いる。また、インキ塗布ローラ64へのインキ6
6の供給量の調整はドクタ67によつて行なうよ
うになつている。
A marking device 14 as shown in FIG. 11 is disposed at a station next to the station in which the wiping device 13 is provided. The marking device 14 has a transfer cylinder 58 that transfers marks onto the marking surface of the workpiece 32. This transfer cylinder 58
is fixed to a shaft 60 to which a planetary gear 59 is attached. This planetary gear 59 meshes with the internal gear 61 and performs rotational (planetary) movement. Further, a cylindrical marking cylinder 62 is disposed above the internal gear 61, and the transfer cylinder 58, which has rotated and moved upward, comes into rolling contact with the outer peripheral surface of the marking cylinder 62. Also,
An inking roller 63 is in contact with the outer periphery of the marking cylinder 62 and serves to apply ink to the marking cylinder 62.
Further, an ink applicator roller 64 comes into contact with the outer circumferential surface of the inking roller 63 to cause ink 66 from an ink tank 65 to adhere to the inking roller 63. Also, the ink 6 is applied to the ink application roller 64.
Adjustment of the supply amount of 6 is performed by a doctor 67.

このようなマーキング装置によれば、リードフ
レーム枠39によつて一体化状態の各半導体装置
のモールド部11のマーキング面に順次マークを
印刷する。すなわち、転写胴58が上方に位置し
右から左い向かつて移動する際、転写胴58の外
周転写面には刻印胴62のマークを反転した原マ
ークが転写される。そして、転写胴58が下降し
て停止しているワーク32のマーキング面にマー
クを印刷する。なお、マーキングに使用するイン
キは紫外線(UV)照射によつて硬化する紫外線
硬化型インキを用いる。この型のインキは数秒か
ら数十秒の紫外線照射によつて硬化する。
According to such a marking device, marks are sequentially printed on the marking surface of the mold portion 11 of each semiconductor device integrated by the lead frame frame 39. That is, when the transfer cylinder 58 is positioned above and moves from right to left, an original mark that is an inversion of the mark on the marking cylinder 62 is transferred to the outer peripheral transfer surface of the transfer cylinder 58. Then, the transfer cylinder 58 descends and prints a mark on the marking surface of the stopped workpiece 32. Note that the ink used for marking is an ultraviolet curing ink that is cured by ultraviolet (UV) irradiation. This type of ink is cured by ultraviolet irradiation for several seconds to several tens of seconds.

マーキング後のインキを硬化させるUV乾燥装
置15は第12図に示すように、ワーク32の移
送路上に沿つて延びる長いランプ68を有してい
る。このランプ68は紫外線を発光する。また、
ランプ68はランプハウス69内に収容されると
ともに、ランプ68の上部および側部を被いかつ
ランプ68から発する紫外線の下方のワーク32
に向かわせる反射型の反射ミラー70を有してい
る。また、ランプ68の側部にはシヤツタ71が
配設されている。このシヤツタ71はワーク32
の移動が停止すると自動的にランプ68の下方に
移動して、ランプ68から発光される紫外線がワ
ークに達しないような遮光板となり、ワーク32
の加熱過多を防止し、半導体装置の熱による特性
劣化を防止するようになつている。ワークはラン
プハウスの下方を約20秒前後で通過し、インキは
硬化する。
The UV drying device 15 for curing the ink after marking has a long lamp 68 extending along the transfer path of the workpiece 32, as shown in FIG. This lamp 68 emits ultraviolet light. Also,
The lamp 68 is housed in a lamp house 69, and covers the upper and side parts of the lamp 68 and exposes the workpiece 32 below the ultraviolet light emitted from the lamp 68.
It has a reflective mirror 70 that directs the light toward the target. Further, a shutter 71 is provided on the side of the lamp 68. This shutter 71 is the workpiece 32
When the movement of the workpiece 32 stops, it automatically moves below the lamp 68 and acts as a light shielding plate that prevents the ultraviolet rays emitted from the lamp 68 from reaching the workpiece.
This prevents excessive heating of the semiconductor device, thereby preventing deterioration of the characteristics of the semiconductor device due to heat. The workpiece passes under the lamp house in about 20 seconds, and the ink hardens.

第14図はリードを切断成形し、リードフレー
ム枠から各半導体装置を分離独立させる切断成形
装置である。この切断成形装置16はレジン落
し、ダム切断、リード切断を行なう1対の上下型
からなるプレス部72と、タブリード分断および
リード成形を行なう曲げ部73とからなつてい
る。前記プレス部72にはワーク32の移送方向
に沿つてそれぞれレジン落し型部74、ダム切断
型部75、リード切断型部76が設けられてい
る。レジン落し型部74はプレス部72の上型7
7に1対複数組の細いレジン落し用ポンチ78が
設けられ、プレス部72の下型79には前記レジ
ン落し用ポンチ78に対応するダイ80が設けら
れ、リード6とモールド部11およびダム7等内
に流出して凝固した不要レジンを打ち落とすよう
になつている。また、ダム切断型部75はプレス
部72の上型77にダム切断用ポンチ81を有
し、下型79にはこれに対応するダイ82が設け
られている。さらに、リード切断型部76は上型
77にリード切断用ポンチ83、下型79にこれ
に対応するダイ84が設けられている。このリー
ド切断型部76ではリードフレームの副枠2、す
なわちワーク32の移動方向に直交する方向に延
在するリードフレーム枠39の1本のみを切断す
るようになつている。したがつて、プレス部72
の上型77と下型79との相対的接近による一回
のプレス作業で、レジン落し作業、ダム切断作
業、リード切断作業が同時に行なわれ、ワーク3
2の1ピツチずつの動きで一つのワークは順次こ
れらの加工が行なわれる。そして、プレス部72
を通過した状態では半導体装置はタブリード5の
みによつてリードフレーム枠39に連結されてい
る。
FIG. 14 shows a cutting and forming apparatus that cuts and forms leads and separates each semiconductor device from a lead frame frame. The cutting and forming device 16 includes a press section 72 consisting of a pair of upper and lower molds for removing resin, cutting dams, and cutting leads, and a bending section 73 for cutting tab leads and forming leads. The press section 72 is provided with a resin drop mold section 74, a dam cutting mold section 75, and a lead cutting mold section 76, respectively, along the direction in which the workpiece 32 is transferred. The resin dropping mold part 74 is the upper mold 7 of the press part 72.
7 is provided with a pair of thin resin removing punches 78, and the lower die 79 of the press section 72 is provided with a die 80 corresponding to the resin removing punch 78, and the lead 6, the mold section 11 and the dam 7 It is designed to shoot off unnecessary resin that has flowed out and solidified inside the machine. Further, the dam cutting die section 75 has a dam cutting punch 81 on the upper die 77 of the press section 72, and a corresponding die 82 on the lower die 79. Further, in the lead cutting die section 76, an upper die 77 is provided with a lead cutting punch 83, and a lower die 79 is provided with a corresponding die 84. This lead cutting die section 76 is designed to cut only one of the sub-frames 2 of the lead frame, that is, one of the lead frame frames 39 extending in a direction orthogonal to the moving direction of the workpiece 32. Therefore, the press section 72
In one press operation by relatively approaching the upper mold 77 and the lower mold 79, resin dropping work, dam cutting work, and lead cutting work are performed at the same time, and workpiece 3
These processes are sequentially performed on one workpiece by moving one pitch at a time. And press section 72
In the state where the semiconductor device has passed through, the semiconductor device is connected to the lead frame frame 39 only by the tab lead 5.

前記曲げ部73はワーク32の上方に位置する
上ストリツパ85、ワーク32の下方に位置する
下ストリツパ86、上ストリツパ85のわずか下
方に位置する1対のローラ87とからなつてい
る。前記上・下ストリツパ85,86はモールド
部11から突出するリード6の付け根部分のみを
上下から挾み込むようになつている。そして、動
作時には上・下ストリツパ85,86は互いにワ
ーク32に接近してリード6の付け根部分を挾ん
で把み、その後上昇する。この際、タブリード5
はモールド部11とリードフレーム枠39の副枠
2との間で引き千切れる。なお、この破断部分は
あらかじめ応力集中が働き簡単に切れるように溝
(V字溝)を設けておく。また、上・下ストリツ
パ85,86のその後の上昇によつて、モールド
部11から突出したリード6はローラ87によつ
て徐々に下方に折れ曲がり、デユアルインライン
型の半導体装置(ワーク)32が製造される。そ
の後、上ストリツパ85は上昇し、下ストリツパ
86は下降してそれぞれ所定の位置に戻る。ワー
ク32は下ストリツパ86上に単に載るだけの状
態となる。そこで、下ストリツパ86の側方から
シリンダ機構88のプランジヤ89が前進してワ
ーク32の一端面を押すとともに、プランジヤ8
9の先端から空気を吹き出してワーク32を第1
5図に示す断面形状のエアー搬送機構(エアーシ
ユータ)21内に送り込む。エアーシユータ21
内に入つたワーク32は第16図に示すストア装
置17にエアーシユータ21内を流れる気流によ
つて送られる。
The bending section 73 consists of an upper stripper 85 located above the work 32, a lower stripper 86 located below the work 32, and a pair of rollers 87 located slightly below the upper stripper 85. The upper and lower strippers 85 and 86 are adapted to sandwich only the base portion of the lead 6 protruding from the mold portion 11 from above and below. During operation, the upper and lower strippers 85 and 86 approach the workpiece 32 and pinch and grip the base of the lead 6, and then rise. At this time, tab lead 5
is torn apart between the mold part 11 and the sub frame 2 of the lead frame frame 39. Note that a groove (V-shaped groove) is provided in advance at this fractured portion so that stress can be concentrated and the blade can be easily cut. Further, as the upper and lower strippers 85 and 86 are subsequently raised, the leads 6 protruding from the mold part 11 are gradually bent downward by the rollers 87, and a dual in-line type semiconductor device (workpiece) 32 is manufactured. Ru. Thereafter, the upper stripper 85 is raised and the lower stripper 86 is lowered and returned to their respective predetermined positions. The workpiece 32 is simply placed on the lower stripper 86. Therefore, the plunger 89 of the cylinder mechanism 88 moves forward from the side of the lower stripper 86 and pushes one end surface of the workpiece 32.
Air is blown out from the tip of 9 and the workpiece 32 is
It is fed into an air transport mechanism (air shooter) 21 having a cross-sectional shape shown in FIG. Air shooter 21
The workpiece 32 that has entered the storage device 32 is sent to the storage device 17 shown in FIG. 16 by the airflow flowing through the air shooter 21.

ストア装置17は第16図に示すように、エア
ー搬送機構21の途中に配設され、外周母線方向
に沿つて平行に複数設けられる収容部90を外周
部に有する回動するドラム91と、エアーシユー
タ21の延長線上の上部に沿つて設けられる複数
のエアーノズル92を有するエアー噴射機構93
とからなつている。前記収容部90は第17図に
示すようにワーク32が跨がつて滑動できる凸状
の台座94を中央底部に有し、側壁板95および
天井板96で囲まれた搬送収容空間97からなつ
ている。また、天井板96の中央部には軸方向に
沿つて延びる細いエアー通過孔98が設けられて
いる。そして、このエアー通過孔98は収容部9
0が前記エアー噴射機構93の真下に位置した際
には、エアー噴射機構93のエアーノズル92か
ら噴き出されるエアーが通過して搬送収容空間9
7内に流れ込み、ワーク32はこれらエアーが作
り出す流れによつて台座94上を滑動しながら移
動する。なお、このストア装置17は次工程の特
性検査装置18の測定時間が短かく、前工程の切
断成形装置16のインデツクスタイムよりも短か
い場合には、回動することもなく、単に一つの収
容部90がワーク32の搬送路として機能する。
しかし、測定時間は製品によつて異なり、必ずし
もインデツクスタイムよりも測定時間が短かいと
は限らず、多くの場合は測定時間はインデツクス
タイムよりも長くなる。すると、エアー噴射機構
93の終端近傍に位置するストツパ99が下降し
て搬送収容空間97の終端面を塞ぎワーク32の
移動を停止させる。そして、1本の収容部90に
所定数のワーク32が入るとドラム91は1ピツ
チ回動し、かつストツパ99は上昇する。このた
め、搬送されるワーク32は次の特性検査装置1
8に送られ、隣りの収容部90に入つたワーク3
2はドラム91に収容される。また、所定数、す
なわち供給過多気味にワーク32が特性検査装置
18に送られると、再びストツパ99が下降して
ストア動作をする。このようにして、特性検査装
置18における測定時間と前工程におけるインデ
ツクスタイムとの違いを調整しながら自動的に作
業を行なう。また、ドラム91の全ての収容部9
0にワーク32が収容されると、切断成形装置1
6およびそれ以前の各装置は自動的に運転を停止
するようになつている。そして、今度はドラム9
1が順次1ピツチずつ所定時間毎に回転して、各
収容部90のワーク32を順次特性検査装置18
に供給する。このため、特性検査装置18は常に
連続運転する。その後、ドラム91の収容部90
が全て空状態になると、切断成形装置16および
それ以前の工程の各装置は再び運転を開始するよ
うになつている。
As shown in FIG. 16, the store device 17 is disposed in the middle of the air conveyance mechanism 21 and includes a rotating drum 91 having a plurality of storage portions 90 provided in parallel along the outer circumferential generatrix direction on its outer circumference, and an air shooter. an air injection mechanism 93 having a plurality of air nozzles 92 provided along the upper part of the extension line of 21;
It is made up of. As shown in FIG. 17, the storage section 90 has a convex pedestal 94 at the center bottom on which the workpiece 32 can slide astride, and consists of a transport storage space 97 surrounded by side wall plates 95 and a ceiling plate 96. There is. Further, a narrow air passage hole 98 extending along the axial direction is provided in the center of the ceiling plate 96. This air passage hole 98 is connected to the housing portion 9.
0 is located directly below the air injection mechanism 93, the air ejected from the air nozzle 92 of the air injection mechanism 93 passes through and enters the transport accommodation space 9.
7, and the workpiece 32 moves while sliding on the pedestal 94 due to the flow created by these airs. Note that if the measurement time of the characteristic inspection device 18 in the next process is short and shorter than the index time of the cutting and forming device 16 in the previous process, this storage device 17 does not rotate and simply stores one item. The storage section 90 functions as a conveyance path for the workpiece 32.
However, the measurement time varies depending on the product, and is not necessarily shorter than the index time; in many cases, the measurement time is longer than the index time. Then, the stopper 99 located near the end of the air injection mechanism 93 is lowered to close the end surface of the transport accommodation space 97 and stop the movement of the workpiece 32. When a predetermined number of works 32 are placed in one storage section 90, the drum 91 rotates one pitch and the stopper 99 rises. Therefore, the transported workpiece 32 is transferred to the next characteristic inspection device 1.
8 and entered the adjacent storage section 90.
2 is housed in the drum 91. Further, when a predetermined number of works 32, that is, a slightly oversupplied number of works 32 are sent to the characteristic testing device 18, the stopper 99 is lowered again to perform a storing operation. In this way, the work is automatically performed while adjusting the difference between the measurement time in the characteristic testing device 18 and the index time in the previous process. In addition, all the housing parts 9 of the drum 91
When the workpiece 32 is accommodated in the cutting/forming device 1
6 and earlier devices automatically stop operating. And now drum 9
1 sequentially rotates one pitch at a predetermined time interval, and the workpieces 32 in each storage section 90 are sequentially inspected by the characteristic inspection device 18.
supply to. Therefore, the characteristic testing device 18 always operates continuously. After that, the storage section 90 of the drum 91
When all of the machines are empty, the cutting and forming device 16 and the devices in the previous processes start operating again.

第18図は特性検査装置18の概要を示す断面
図である。同図に示すように、特性検査装置18
はエアー搬送機構21の途中にそれぞれ4台(第
6図参照)設けられている。この特性検査装置1
8はエアー搬送機構21間を上下に昇降する本体
100を有している。この本体100には上段、
下段にそれぞれワーク通過路(空間)101を有
している。これらワーク通過路101は第15図
で示すエアー搬送機構21および第17図で示す
ドラム91の収容器90と同様にワーク32が跨
がるようにして通過するようになつている。しか
し、下段のワーク通過路101の中央部にあつて
は、リード6が本体外に突出するように両側下部
は切り欠かれている。また、下段のワーク通過路
101の上部にはストツパ片102および押圧片
103を有する駆動体105が設けられ、常時は
ストツパ片102が下段のワーク通過路101内
に突出し、移動して来たワーク32がこのストツ
パ片102に引つ掛つて停止するようになつてい
る。また、下段のワーク通過路101の側壁には
ホトトランジスタ等からなるワーク検出機構10
6が設けられ、前記ストツパ片102によつてワ
ーク32が停止存在しているか否かを検出するよ
うになつている。また、ワーク32がストツパ片
102によつて停止していることをワーク検出機
構106が検出すると、前記駆動体105は下降
してワーク32のモールド部11上面を下方に押
し付けて保持する。その後、本体100は下降
し、本体100の下方に配設されたソケツト10
7にワーク32のリード6を押し込み、ワークの
特性検査を行なう。この際、上段のワーク通過路
101はエアー搬送機構21の搬送路の高さと一
致するため、エアー搬送機構21を移動して来た
ワーク32はこの上段のワーク通過路101を通
過して次の特性検査装置18に達する。そして、
その後に連なる特性検査装置18も同様に動作す
る。この結果、4台の特性検査装置18を配して
いることから、ストア装置17を稼動しない場合
であつても測定時間はインデツクスタイムの4倍
以内であるならば連続してワーク32を流すこと
ができる。
FIG. 18 is a sectional view showing an outline of the characteristic testing device 18. As shown in the figure, the characteristic testing device 18
Four units (see FIG. 6) are provided in the middle of the air conveyance mechanism 21. This characteristic testing device 1
8 has a main body 100 that moves up and down between the air conveyance mechanisms 21. This main body 100 includes an upper stage,
Each of the lower stages has a work passage (space) 101. The workpieces 32 are designed to pass through these workpiece passageways 101 so as to straddle them, similar to the air conveyance mechanism 21 shown in FIG. 15 and the container 90 of the drum 91 shown in FIG. 17. However, at the center of the lower work passage 101, the lower portions on both sides are cut out so that the leads 6 protrude outside the main body. Further, a drive body 105 having a stopper piece 102 and a pressing piece 103 is provided at the upper part of the lower workpiece passage 101, and the stopper piece 102 normally protrudes into the lower workpiece passage 101 to prevent the moving workpiece from moving. 32 is adapted to be stopped by catching on this stopper piece 102. Further, on the side wall of the lower work passage 101, a work detection mechanism 10 consisting of a phototransistor, etc.
6 is provided, and the stopper piece 102 detects whether or not the workpiece 32 is stopped. Further, when the workpiece detection mechanism 106 detects that the workpiece 32 is stopped by the stopper piece 102, the driving body 105 descends to press and hold the upper surface of the mold portion 11 of the workpiece 32 downward. Thereafter, the main body 100 is lowered, and the socket 10 disposed below the main body 100 is opened.
The lead 6 of the workpiece 32 is pushed into the hole 7, and the characteristics of the workpiece are inspected. At this time, since the upper work passage 101 matches the height of the conveyance passage of the air conveyance mechanism 21, the work 32 that has moved through the air conveyance mechanism 21 passes through this upper work passage 101 and moves to the next one. The characteristic testing device 18 is reached. and,
The subsequent characteristic testing device 18 operates in the same manner. As a result, since four characteristic testing devices 18 are arranged, even if the store device 17 is not operated, the workpieces 32 can be continuously fed if the measurement time is within four times the index time. be able to.

また、特性検査装置18を出たワークはその測
定結果に基づいて選別されて、不良も含むそれぞ
れの等級に分けられてステイツク、マガジン、箱
等の収容体に自動的に収納される。この作業は選
別箱詰装置19によつて行なわれる。選別箱詰装
置19は一般公知の装置を用いればよいことか
ら、ここではその構造等についての説明は省略す
る。なお、各装置を制御しかつ工程管理を行なう
制御装置系は各装置の背面、下部等に組み込まれ
ている。
Further, the workpieces leaving the characteristic testing device 18 are sorted based on the measurement results, divided into different grades including defective ones, and automatically stored in storage bodies such as stakes, magazines, and boxes. This operation is performed by the sorting and packaging device 19. Since a generally known device may be used as the sorting and packaging device 19, a description of its structure and the like will be omitted here. Note that a control device system for controlling each device and performing process management is built into the back, bottom, etc. of each device.

つぎに、このような半導体装置の製造装置の動
作(運転状況)について説明する。まず、レジン
モールドされ、かつ洗浄が完了したリードフレー
ム(連繋体)で連結された半完成状態の半導体装
置(ワーク)を第7図に示すマガジン24に詰め
た後、多数のマガジン24をテーブル22の収容
部25にそれぞれ取り付けるとともに、ストツパ
ピン27を取り外す。その後、装置全体を始動さ
せる。すると、第8図に示すように送出ステーシ
ヨンにおけるマガジン24内にはウエイト31が
入つてワーク32を下方に押し下げる。また、送
出ステーシヨンの収容部25のシヤツタ28が開
きワーク群は下方に移動し分離ガイド33の下板
37上に載る。この際、受け棒29がシヤツタ高
さまでワーク32を抑えに行く。分離ガイド33
に移つた最下層のワーク32はプツシヤ34で分
離ガイド33の奥に送り込まれ、奥に送り込まれ
たワーク32は第9図a,bで示す移送機構20
によつて拭取装置13に達し、この拭取装置13
でワーク32のマーキング面であるモールド部1
1の上面を有機溶剤で拭かれ、清浄化される。清
浄化されたワーク32は再び移送機構20によつ
て運ばれ第11図で示すマーキング装置14に達
し、このマーキング装置14によつてマーキング
面にUVインキからなるマークが印刷される。マ
ーキングされたワーク32は再び移送機構20に
よつて運ばれ、第12図で示すUV乾燥装置15
で数十秒乾燥されて第14図に示す切断成形装置
16に達する。切断成形装置16ではワーク32
はモールド部周縁に滲み出たレジンのばりを除去
された後、ダムが切断され、さらにリードフレー
ム枠39の副枠2が切断される。さらに、切断成
形装置16の曲げ部73ではタブリード5が分断
されて半導体装置はリードフレーム枠39から外
れる。また、ワーク(半導体装置)32はリード
フレーム枠39から外れるとすぐに1対のローラ
87によつてリード6をその途中から折り曲げら
れ、デユアルインライン形の完成した半導体装置
(ワーク32)となる。このリードの折り曲げが
完了すると、ワーク32は曲げ部73からシリン
ダ機構88のプランジヤ89によつて、第15図
に示すようなエアー搬送機構21に送り込まれ
る。エアー搬送機構21によつて運ばれたワーク
32の一部は第16図で示すストア装置17を通
過して第18図に示す特性検査装置18で特性検
査され、その結果によつて不良を含む分類毎にス
テイツク、マガジン、箱等の収容体に選別収容さ
れる。また、ワークの一部はストア装置17に一
時的に収容される。
Next, the operation (operating status) of such a semiconductor device manufacturing apparatus will be explained. First, semi-finished semiconductor devices (workpieces) connected by resin-molded and cleaned lead frames (connecting bodies) are loaded into the magazine 24 shown in FIG. At the same time, the stopper pins 27 are removed. Then start the entire device. Then, as shown in FIG. 8, a weight 31 enters the magazine 24 in the delivery station and pushes the workpiece 32 downward. Further, the shutter 28 of the storage section 25 of the delivery station is opened, and the work group moves downward and is placed on the lower plate 37 of the separation guide 33. At this time, the receiving rod 29 moves to hold down the workpiece 32 up to the height of the shutter. Separation guide 33
The lowermost workpiece 32 that has been moved to is sent to the back of the separation guide 33 by the pusher 34, and the workpiece 32 sent to the back is moved to the transfer mechanism 20 shown in FIGS. 9a and 9b.
reaches the wiping device 13, and this wiping device 13
mold part 1, which is the marking surface of the workpiece 32.
The top surface of 1 is wiped with an organic solvent to clean it. The cleaned workpiece 32 is transported again by the transport mechanism 20 and reaches the marking device 14 shown in FIG. 11, where the marking device 14 prints a mark made of UV ink on the marking surface. The marked workpiece 32 is transported again by the transfer mechanism 20, and the UV drying device 15 shown in FIG.
After being dried for several tens of seconds, it reaches the cutting and forming device 16 shown in FIG. In the cutting and forming device 16, the workpiece 32
After the resin burrs seeping out around the periphery of the mold part are removed, the dam is cut, and further the sub-frame 2 of the lead frame frame 39 is cut. Further, the tab lead 5 is separated at the bending portion 73 of the cutting and forming device 16, and the semiconductor device is removed from the lead frame frame 39. Further, as soon as the workpiece (semiconductor device) 32 is removed from the lead frame frame 39, the leads 6 are bent from the middle by a pair of rollers 87, resulting in a completed dual-in-line type semiconductor device (workpiece 32). When the bending of the lead is completed, the workpiece 32 is sent from the bending portion 73 to the air conveyance mechanism 21 as shown in FIG. 15 by the plunger 89 of the cylinder mechanism 88. A part of the workpiece 32 carried by the air conveyance mechanism 21 passes through the storage device 17 shown in FIG. 16 and is subjected to a characteristic inspection by the characteristic inspection device 18 shown in FIG. The materials are sorted and stored in containers such as stakes, magazines, and boxes for each category. Further, a part of the workpiece is temporarily stored in the storage device 17.

このような装置によればつぎのような効果を生
ずる。
Such a device produces the following effects.

(1) ワークに対するマーキング、リード切断成
形、特性検査選別等の作業は連続して行なわれ
た一貫処理作業流れである。このため、作業人
員を少なくできるとともに、各装置間の受け渡
しも無人化されているため一連の装置の小型化
も可能となり、据付面積も少なくなる。
(1) Works such as marking workpieces, cutting leads, molding leads, inspecting characteristics, and sorting are performed continuously in an integrated process flow. Therefore, the number of workers can be reduced, and since the transfer between each device is automated, it is possible to downsize the series of devices, and the installation area is also reduced.

(2) ワークの移動経路はカバー等で被われること
と、ごみの発生し易い切断成形作業はマーキン
グ後に行なわれること、さらには作業人員の低
減によるごみの発生も少ないことからマーキン
グ面へのごみの付着もなく、良好なマーキング
が行なえる。
(2) The moving path of the workpiece is covered with a cover, etc., cutting and forming operations that tend to generate dust are performed after marking, and the reduction in the number of workers generates less dust, so dust on the marking surface is avoided. Good marking can be done without any adhesion.

(3) ワークに対する各作業が連続しかつ自動的に
行なわれることから、ワークは効率的に移動す
ることと、マーキングにはその乾燥は数秒から
数十秒と従来の熱硬化型インキに較べて遥かに
短時間となる紫外線硬化型のインキを用いるこ
ともできることからも工完が短かいものであ
る。
(3) Each work on the workpiece is performed continuously and automatically, so the workpiece can be moved efficiently, and markings take a few seconds to several tens of seconds to dry, compared to conventional thermosetting inks. It is also possible to use ultraviolet curing ink, which takes much less time to complete.

(4) リードの折り曲げはローラによつて徐々に行
なわれるため、リードには加工時大きな力は加
わらない。このため、レジンとリードとの間に
クラツクが発生したり、リードが抜け出るよう
なことも起きず、耐湿性も低下しない。また、
マーキングされたインキの乾燥も短時間である
ことから熱によつて半導体装置の特性の劣化は
生じにくい。特にワークの搬送が停止すると、
紫外線ランプが消されなくともシヤツタ71が
働いてワークの加熱過多を防止するようになつ
ているので、装置の故障時でもワークの特性劣
化を防止できる。このようなことから、製品の
信頼性も高い。
(4) Since the lead is gradually bent by the rollers, no large force is applied to the lead during processing. Therefore, cracks do not occur between the resin and the lead, the lead does not come out, and moisture resistance does not deteriorate. Also,
Since the marked ink dries in a short time, the characteristics of the semiconductor device are less likely to deteriorate due to heat. Especially when the workpiece transportation stops,
Since the shutter 71 operates to prevent the workpiece from being overheated even if the ultraviolet lamp is not turned off, deterioration of the characteristics of the workpiece can be prevented even in the event of equipment failure. Because of this, the reliability of the product is also high.

(5) 従来は第4図に示すようなプロセスをもつて
行なわれていたため洗浄、乾燥のようなバツ
チ処理が切断成形、マーキング、選別などの単
品処理の中に混在しており、選別は品種によ
りテステイングタイムが異なり他の工程と同期
をとるのが困難であることより、これらのプロ
セスに用いる多くの装置を連続一貫化のために
ドツキングしようとすると全体の信頼度が低下
し稼動率の確保が困難である。このことより、
従来においてはこの種の処理工程を連続一貫化
することができなかつた。しかしながら、本発
明においては、第5図に図示するように各プロ
セスの順序を従来のものと比較して変更し、
同一インデツクスで処理できるものはフレーム
状態で処理を行ない、それらの送り方式を統一
してなり、選別前にストツカ(ストア装置)
を設けテステイングタイムの相違によるインデ
ツクスのアンマツチを防止してなり、UV乾
燥を用いてマークの乾燥をバツチ処理から連続
処理化にしており、切断成形を個別抜きとし
型の故障確率を減らすことによつて装置の信頼
度の向上を計つており、切断成形前にリード
フレーム状態でマーキングを行ない封止用レジ
ンカスの付着防止、マーキング位置ずれの防止
を図つているものである。そのため、本発明
は、人員低減、工完短縮、歩留向上、有害な物
の混入防止ができるものであると共に信頼性の
向上が一段と計ることができるものである。
(5) Conventionally, the process was as shown in Figure 4, so batch processing such as washing and drying was mixed with single product processing such as cutting, forming, marking, and sorting, and sorting was performed by product type. Testing times vary depending on the process and it is difficult to synchronize with other processes. Therefore, if you try to dock the many devices used in these processes for continuous consistency, the overall reliability will decrease and the operation rate will decrease. Difficult to secure. From this,
Conventionally, it has not been possible to perform this type of processing step continuously and consistently. However, in the present invention, as shown in FIG. 5, the order of each process is changed compared to the conventional one,
Items that can be processed with the same index are processed in a frame state, their feeding method is unified, and the items are sent to a stocker (store device) before sorting.
This prevents index unmatching due to differences in testing time, and UV drying is used to dry marks from batch processing to continuous processing, and cutting molding is performed individually to reduce the probability of mold failure. This is intended to improve the reliability of the device, and by marking the lead frame before cutting and molding, it is possible to prevent the adhesion of sealing resin residue and to prevent the marking from shifting. Therefore, the present invention can reduce the number of personnel, shorten the process completion period, improve yield, prevent the contamination of harmful substances, and further improve reliability.

なお、本発明は前記実施例に限定されない。 Note that the present invention is not limited to the above embodiments.

以上のように、本発明の半導体装置の製造装置
によれば、レジンモールド後でかつ洗浄完了のワ
ークに対するマーキング、リード切断成形、特性
選別等の作業の連続自動化を図ることによつて、
歩留向上、工完短縮、人員削減、コスト低減を図
ることができる。
As described above, according to the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention, by continuously automating operations such as marking, lead cutting molding, and characteristic selection for a workpiece after resin molding and cleaning,
It is possible to improve yield, shorten the completion time, reduce personnel, and reduce costs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第3図はレジン封止型半導体装置の製
造段階を示す図であつて、第1図はリードフレー
ムの平面図、第2図はモールド完了後であつてリ
ード、ダム切断完了後のワークの平面図、第3図
は完成品の外観図である。第4図は従来のモール
ド完了後の各作業工程を示す工程図である。第5
図は本発明の一実施例による半導体装置の製造装
置における各作業順序を示す工程図、第6図は同
じく半導体装置の製造装置の概略平面図、第7図
〜第18図は各装置部を示す図であつて、第7図
はローデイング装置におけるマガジンおよびスト
ツパピンの斜視図、第8図はローデイング装置に
おける分離機構を示す断面図、第9図a,bは搬
送路上でのワーク移送機構を示す断面図および側
断面図、第10図はワークのマーキング面を清浄
化する拭取装置の概略図、第11図はワークのマ
ーキング面にマークを印刷するマーキング装置の
概略図、第12図はマーキングによるインキを乾
燥するUV乾燥装置の断面図、第13図は同じく
UV乾燥装置におけるシヤツタ機構を示す概略
図、第14図は切断成形装置の断面図、第15図
はシユータの断面図、第16図はストア装置の概
要を示す斜視図、第17図はストア装置の一部を
示す拡大断面図、第18図は特性検査装置を示す
断面図である。 1……主枠、2……副枠、3……ペレツト、4
……タブ、5……タブリード、6……リード、7
……ダム、11……モールド部、12……ローデ
イング装置、13……拭取装置、14……マーキ
ング装置、15……UV乾燥装置、16……切断
成形装置、17……ストア装置、18……特性検
査装置、19……選別箱詰装置、20……移送機
構、21……エアー搬送機構、22……テーブ
ル、23……分離機構、24……マガジン、32
……ワーク、33……分離ガイド、34……プツ
シヤ、39……リードフレーム枠、40……ガイ
ド、43……送り爪、49……戻り防止爪、52
……布ベルト、53……ガイドローラ、54……
有機溶剤、55……タンク、56……絞りロー
ラ、57……拭取ガイド、58……転写胴、59
……遊星歯車、61……内歯歯車、62……刻印
胴、63……着肉ローラ、64……インキ塗布ロ
ーラ、65……インキタンク、66……インキ、
67……ドクタ、68……ランプ、71……シヤ
ツタ、72……プレス部、73……曲げ部、74
……レジン落し型部、75……ダム切断型部、7
6……リード切断型部、77……上型、79……
下型、85……上ストリツパ、86……下ストリ
ツパ、87……ローラ、90……収容部、91…
…ドラム、92……エアーノズル、93……エア
ー噴射機構、97……搬送収容空間、100……
本体、101……ワーク通過路、102……スト
ツパ片、103……押圧片、105……駆動体、
106……ワーク検出機構、107……ソケツ
ト。
Figures 1 to 3 are diagrams showing the manufacturing stages of a resin-sealed semiconductor device, in which Figure 1 is a plan view of the lead frame, and Figure 2 is after molding is completed and after lead and dam cutting is completed. Fig. 3 is a plan view of the workpiece, and Fig. 3 is an external view of the finished product. FIG. 4 is a process diagram showing each work step after completion of conventional molding. Fifth
The figure is a process diagram showing each work order in a semiconductor device manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 6 is a schematic plan view of the semiconductor device manufacturing apparatus, and FIGS. 7 to 18 show each device part. FIG. 7 is a perspective view of the magazine and stopper pin in the loading device, FIG. 8 is a sectional view showing the separation mechanism in the loading device, and FIGS. 9 a and 9 b show the work transfer mechanism on the conveyance path. A sectional view and a side sectional view, Fig. 10 is a schematic diagram of a wiping device for cleaning the marking surface of a workpiece, Fig. 11 is a schematic diagram of a marking device that prints a mark on the marking surface of a workpiece, and Fig. 12 is a schematic diagram of a marking device for cleaning the marking surface of a workpiece. Figure 13 is a cross-sectional view of a UV drying device for drying ink.
A schematic diagram showing the shutter mechanism in the UV drying device, FIG. 14 is a cross-sectional view of the cutting and forming device, FIG. 15 is a cross-sectional view of the shutter, FIG. 16 is a perspective view showing an overview of the store device, and FIG. 17 is a store device. FIG. 18 is an enlarged cross-sectional view showing a part of the characteristic testing device. 1...Main frame, 2...Subframe, 3...Pellet, 4
...Tab, 5...Tab lead, 6...Lead, 7
... Dam, 11 ... Mold section, 12 ... Loading device, 13 ... Wiping device, 14 ... Marking device, 15 ... UV drying device, 16 ... Cutting and forming device, 17 ... Store device, 18 ... Characteristic inspection device, 19 ... Sorting and packaging device, 20 ... Transfer mechanism, 21 ... Air conveyance mechanism, 22 ... Table, 23 ... Separation mechanism, 24 ... Magazine, 32
... Workpiece, 33 ... Separation guide, 34 ... Pusher, 39 ... Lead frame frame, 40 ... Guide, 43 ... Feed claw, 49 ... Return prevention claw, 52
...Cloth belt, 53...Guide roller, 54...
Organic solvent, 55... Tank, 56... Squeezing roller, 57... Wiping guide, 58... Transfer cylinder, 59
... Planetary gear, 61 ... Internal gear, 62 ... Stamp cylinder, 63 ... Inking roller, 64 ... Ink application roller, 65 ... Ink tank, 66 ... Ink,
67...Doctor, 68...Lamp, 71...Shutter, 72...Press part, 73...Bending part, 74
...Resin dropping mold part, 75...Dam cutting mold part, 7
6...Lead cutting mold section, 77...Upper mold, 79...
Lower mold, 85...Upper stripper, 86...Lower stripper, 87...Roller, 90...Accommodating part, 91...
...Drum, 92...Air nozzle, 93...Air injection mechanism, 97...Transportation accommodation space, 100...
Main body, 101... Work passage path, 102... Stopper piece, 103... Pressing piece, 105... Drive body,
106... Work detection mechanism, 107... Socket.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 リードフレームを介して連繋状態にある複数
の半導体装置を搬送路上に順次送り出すローデイ
ング装置と、前記半導体装置を搬送路に沿つて間
欠的に移動させるとともに順次各装置間を転送さ
せる移送機構と、停止した前記半導体装置のマー
キング面を清浄化する清浄化装置と、清浄化され
た前記半導体装置のマーキング面にマークを印刷
するマーキング装置と、前記半導体装置のマーキ
ング面に付着したインキを乾燥する乾燥装置と、
前記半導体装置を連繋体から分離しかつ前記半導
体装置の一部を成形する切断成形装置と、個別化
された前記半導体装置を一時的に収容するストア
装置と、ストア装置から送られる前記半導体装置
の特性等を検査する検査装置と、検査結果により
前記半導体装置を分類してそれぞれ所定のマガジ
ンに前記半導体装置を詰める分類装置とを有する
半導体装置の製造装置。
1. A loading device that sequentially sends out a plurality of semiconductor devices connected to each other via a lead frame onto a transport path; a transfer mechanism that intermittently moves the semiconductor devices along the transport path and sequentially transfers the semiconductor devices between the devices; a cleaning device that cleans the marking surface of the stopped semiconductor device; a marking device that prints a mark on the cleaned marking surface of the semiconductor device; and a drying device that dries ink adhering to the marking surface of the semiconductor device. a device;
A cutting and molding device that separates the semiconductor device from the interconnection body and molds a part of the semiconductor device, a storage device that temporarily stores the individualized semiconductor devices, and a storage device that stores the semiconductor devices sent from the storage device. A semiconductor device manufacturing apparatus comprising an inspection device for inspecting characteristics, etc., and a sorting device for classifying the semiconductor devices according to the inspection results and packing the semiconductor devices into respective predetermined magazines.
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