JPS626410B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS626410B2 JPS626410B2 JP53056723A JP5672378A JPS626410B2 JP S626410 B2 JPS626410 B2 JP S626410B2 JP 53056723 A JP53056723 A JP 53056723A JP 5672378 A JP5672378 A JP 5672378A JP S626410 B2 JPS626410 B2 JP S626410B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coolant
- rotor
- shaft
- channel
- field winding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Motor Or Generator Cooling System (AREA)
- Superconductive Dynamoelectric Machines (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電気機械に関し、殊に詳しくは低温冷
却装置を備えた電気機械に関する。
却装置を備えた電気機械に関する。
本発明は原子、蒸気及びその他の型式の発電所
は勿論のこと輸送機関や航空用に使用する電動
機、発電機、動力計のような電気機械に適用され
る。本発明は宇宙飛行機の動力装置や其の他回転
巻線を冷却して超伝導状態にする必要のある各種
装置に適用すると極めて有効であることが知られ
ている。
は勿論のこと輸送機関や航空用に使用する電動
機、発電機、動力計のような電気機械に適用され
る。本発明は宇宙飛行機の動力装置や其の他回転
巻線を冷却して超伝導状態にする必要のある各種
装置に適用すると極めて有効であることが知られ
ている。
通常、低温冷却装置付電気機械は中空状回転子
即ち回転式低温保持装置内に取付けた超伝導用界
磁巻線を備える。
即ち回転式低温保持装置内に取付けた超伝導用界
磁巻線を備える。
界磁巻線の超伝導状態は該巻線を約4.5〓の超
低温度に冷却することにより維持される。上記は
通常液体ヘリウムである冷却剤の助けにより達成
される。
低温度に冷却することにより維持される。上記は
通常液体ヘリウムである冷却剤の助けにより達成
される。
超伝導巻線の温度即ち超伝導体の温度が低下す
ると電流が大きくなり又超伝導巻線の許容磁界強
さが大きくなり、従つて該電気機械の効率が高ま
る。超伝導巻線の温度が1度ないし3度上昇する
と機械の効率がかなり低下する。
ると電流が大きくなり又超伝導巻線の許容磁界強
さが大きくなり、従つて該電気機械の効率が高ま
る。超伝導巻線の温度が1度ないし3度上昇する
と機械の効率がかなり低下する。
従来から、界磁巻線を液体ヘリウムに浸漬する
ことによつて回転界磁巻線の超伝導状態を維持す
るようにした種々の型式の超伝導電気機械が知ら
れている。
ことによつて回転界磁巻線の超伝導状態を維持す
るようにした種々の型式の超伝導電気機械が知ら
れている。
公知の低温冷却装置付電気機械の一つは母線を
接続した超伝導界磁巻線を備えている。超伝導界
磁巻線を回転子の空所に設け、該空所を冷却剤で
満たす。巻線を回転子のシヤフトに取付け、シヤ
フトの一端には超伝導界磁巻線に冷却剤を供給す
るための軸方向の溝を備える。回転子のシヤフト
の両端には冷却剤排出用の別の溝を備える。
接続した超伝導界磁巻線を備えている。超伝導界
磁巻線を回転子の空所に設け、該空所を冷却剤で
満たす。巻線を回転子のシヤフトに取付け、シヤ
フトの一端には超伝導界磁巻線に冷却剤を供給す
るための軸方向の溝を備える。回転子のシヤフト
の両端には冷却剤排出用の別の溝を備える。
回転空所に設けられているので液体ヘリウムは
遠心力の影響を受ける。このため液体ヘリウムの
温度及び圧力が上昇し、冷却剤の2相混合物を形
成し、かつ混合物中の蒸気成分を増大する。この
場合回転子の周速度が大きく又その半径が大きく
なればなるほど液体ヘリウムの温度及び圧力が上
昇する。液体ヘリウムの温度が上昇すること、従
つて回転式超伝導界磁巻線の温度が上昇すること
は、現在製造される超伝導装置及び超伝導巻線が
5〓以下の温度でのみ充分に機能を発揮するので
望しいことではない。
遠心力の影響を受ける。このため液体ヘリウムの
温度及び圧力が上昇し、冷却剤の2相混合物を形
成し、かつ混合物中の蒸気成分を増大する。この
場合回転子の周速度が大きく又その半径が大きく
なればなるほど液体ヘリウムの温度及び圧力が上
昇する。液体ヘリウムの温度が上昇すること、従
つて回転式超伝導界磁巻線の温度が上昇すること
は、現在製造される超伝導装置及び超伝導巻線が
5〓以下の温度でのみ充分に機能を発揮するので
望しいことではない。
超伝導巻線の温度は巻線とシヤフト間の接触部
の熱伝導により定まるので本論の機械にとつても
不利益である。超伝導界磁巻線がシヤフトに及ぼ
す圧縮力により圧縮応力が増加すると液体ヘリウ
ムが圧縮され、該圧縮によつて液体ヘリウムの温
度が上昇し、従つて超伝導界磁巻線の温度が上昇
する。上記圧縮力は超伝導巻線から駆動装置にト
ルクを伝えるのに不可欠である。超伝導巻線を所
定の位置に取付けて冷却する方法では表面方向及
び半径方向の両方を均一な温度領域に保つことは
困難である。もし回転子の内部空所が液体ヘリウ
ムで完全に満たされている場合は、該空所からヘ
リウムの気相を除去することは困難である。又冷
却液の熱損失及び温度上昇が生ずる。上記は遠心
力領域におけるヘリウム2相間の摩擦と圧縮に原
因するものである。
の熱伝導により定まるので本論の機械にとつても
不利益である。超伝導界磁巻線がシヤフトに及ぼ
す圧縮力により圧縮応力が増加すると液体ヘリウ
ムが圧縮され、該圧縮によつて液体ヘリウムの温
度が上昇し、従つて超伝導界磁巻線の温度が上昇
する。上記圧縮力は超伝導巻線から駆動装置にト
ルクを伝えるのに不可欠である。超伝導巻線を所
定の位置に取付けて冷却する方法では表面方向及
び半径方向の両方を均一な温度領域に保つことは
困難である。もし回転子の内部空所が液体ヘリウ
ムで完全に満たされている場合は、該空所からヘ
リウムの気相を除去することは困難である。又冷
却液の熱損失及び温度上昇が生ずる。上記は遠心
力領域におけるヘリウム2相間の摩擦と圧縮に原
因するものである。
本発明の目的は超伝導界磁巻線の熱的保護が極
めて効果的であり従つて効率の高い低温冷却装置
付電気機械を提供することである。
めて効果的であり従つて効率の高い低温冷却装置
付電気機械を提供することである。
上述の目的は、低温冷却装置付電気機械であつ
て、母線を接続した超伝導界磁巻線を冷却剤で満
たした回転子の空所内に設けかつ該巻線を回転子
のシヤフトに直接取付け、上記シヤフトの一端に
冷却剤を超伝導界磁巻線に供給する軸線方向のチ
ヤンネルを設け、またシヤフトの両端に冷却剤排
出用チヤンネルを設け、超伝導界磁巻線をその全
長に亘つて回転子のシヤフトに取付ける箇所に室
を軸線に平行に設け、上記室は冷却剤供給用チヤ
ンネルと、超伝導界磁巻線内に設けた半径方向の
チヤンネルとに連通され、又上記室はシヤフトの
他端において回転子のシヤフトの軸線に沿つて設
けられた気相冷却剤排出用チヤンネルと、超伝導
界磁巻線の全長に亘つて該巻線の外面に設けられ
て回転子の空所から気相冷却剤を排出する長手方
向のチヤンネルとに連通されていることを特徴と
する低温冷却装置付電気機械によつて達成され
る。
て、母線を接続した超伝導界磁巻線を冷却剤で満
たした回転子の空所内に設けかつ該巻線を回転子
のシヤフトに直接取付け、上記シヤフトの一端に
冷却剤を超伝導界磁巻線に供給する軸線方向のチ
ヤンネルを設け、またシヤフトの両端に冷却剤排
出用チヤンネルを設け、超伝導界磁巻線をその全
長に亘つて回転子のシヤフトに取付ける箇所に室
を軸線に平行に設け、上記室は冷却剤供給用チヤ
ンネルと、超伝導界磁巻線内に設けた半径方向の
チヤンネルとに連通され、又上記室はシヤフトの
他端において回転子のシヤフトの軸線に沿つて設
けられた気相冷却剤排出用チヤンネルと、超伝導
界磁巻線の全長に亘つて該巻線の外面に設けられ
て回転子の空所から気相冷却剤を排出する長手方
向のチヤンネルとに連通されていることを特徴と
する低温冷却装置付電気機械によつて達成され
る。
本発明の目的と利益は添付図面を参照して適宜
実施例についての以下の詳細な説明を読めば容易
に理解されるであろう。
実施例についての以下の詳細な説明を読めば容易
に理解されるであろう。
本発明によれば、低温冷却装置付電気機械は空
所状回転子1(第1図)を備え、該回転子1のシ
ヤフト2は密封した架構5の両端壁4に設置した
軸受装置3により担持される。架構5の内側面に
固定子巻線6を設ける(固定子巻線6の詳細説明
は省略する)。
所状回転子1(第1図)を備え、該回転子1のシ
ヤフト2は密封した架構5の両端壁4に設置した
軸受装置3により担持される。架構5の内側面に
固定子巻線6を設ける(固定子巻線6の詳細説明
は省略する)。
回転子1と密封した架構5間の空間を真空状態
に保つて回転子1を熱的に絶縁する。真空は端壁
4内に設置した回転式真空密封部材7により保た
れる。空所状の回転子1は回転子1のシヤフト2
上に設けかつ殻9内に配設した超伝導界磁巻線を
備え、上記殻9は冷却剤10で満した回転子1の
空所を形成する。界磁巻線8は超低温において超
伝導装置となり得る材料、例えば純銅のマトリツ
クスで固定したニオブ・チタン・ワイヤから製造
する。温度が4.2〓の液体ヘリウムである冷却剤
10を用いて界磁巻線8を超伝導状態になるまで
冷却する。
に保つて回転子1を熱的に絶縁する。真空は端壁
4内に設置した回転式真空密封部材7により保た
れる。空所状の回転子1は回転子1のシヤフト2
上に設けかつ殻9内に配設した超伝導界磁巻線を
備え、上記殻9は冷却剤10で満した回転子1の
空所を形成する。界磁巻線8は超低温において超
伝導装置となり得る材料、例えば純銅のマトリツ
クスで固定したニオブ・チタン・ワイヤから製造
する。温度が4.2〓の液体ヘリウムである冷却剤
10を用いて界磁巻線8を超伝導状態になるまで
冷却する。
界磁巻線8には冷却用に半径方向のチヤンネル
11を設ける。このチヤンネルの数は超伝導界磁
巻線の構造的強度によつてのみ制限を受ける。超
伝導界磁巻線8は公知の方法、例えばガラス薄片
の帯金によりシヤフト2に固定する(図には巻線
8の固定を便宜上示す)。界磁巻線8を回転子1
のシヤフト2に取付ける個所に、シヤフト2上に
回転子1の軸に平行でまた界磁巻線8の全長に亘
つて延びる室12を設ける。室12を青銅のよう
な熱伝導性材料でできた弓形部材13で被覆す
る。弓形部材13は超伝導界磁巻線8のチヤンネ
ル11と整合する開口部を備えている。
11を設ける。このチヤンネルの数は超伝導界磁
巻線の構造的強度によつてのみ制限を受ける。超
伝導界磁巻線8は公知の方法、例えばガラス薄片
の帯金によりシヤフト2に固定する(図には巻線
8の固定を便宜上示す)。界磁巻線8を回転子1
のシヤフト2に取付ける個所に、シヤフト2上に
回転子1の軸に平行でまた界磁巻線8の全長に亘
つて延びる室12を設ける。室12を青銅のよう
な熱伝導性材料でできた弓形部材13で被覆す
る。弓形部材13は超伝導界磁巻線8のチヤンネ
ル11と整合する開口部を備えている。
回転子1のシヤフト2の両端部をねじ結合した
同軸心の管14及び15で形成し、両管間の〓間
は冷却剤10排出用チヤンネル16の働らきをす
る。上記チヤンネル16は回転子1の空所と連通
している。
同軸心の管14及び15で形成し、両管間の〓間
は冷却剤10排出用チヤンネル16の働らきをす
る。上記チヤンネル16は回転子1の空所と連通
している。
界磁巻線8に冷却剤10を供給するために、回
転子1のシヤフト2に軸方向のチヤンネル17を
設け、該チヤンネルはシヤフト2の一端に向つて
延びる真空が漏らない管状に形成される。上記と
反対側の他端に向つて回転子1のシヤフト2の軸
に沿つて冷却剤10排出用チヤンネル18が延び
ている。チヤンネル17と同様にチヤンネル18
も真空が漏らない管で形成される。
転子1のシヤフト2に軸方向のチヤンネル17を
設け、該チヤンネルはシヤフト2の一端に向つて
延びる真空が漏らない管状に形成される。上記と
反対側の他端に向つて回転子1のシヤフト2の軸
に沿つて冷却剤10排出用チヤンネル18が延び
ている。チヤンネル17と同様にチヤンネル18
も真空が漏らない管で形成される。
冷却剤10供給用チヤンネル17と冷却剤排出
用チヤンネル18は室12で連通する。チヤンネ
ル16及び18を通過した冷却剤10はシヤフト
2の端部に配設したガス集収器19に取入れられ
る。界磁巻線は銅製の母線により付勢される。母
線20を冷却剤10排出用チヤンネル18内に設
け又冷却剤10排出用チヤンネル18側において
シヤフト2上に設けた集電リング21に接続す
る。
用チヤンネル18は室12で連通する。チヤンネ
ル16及び18を通過した冷却剤10はシヤフト
2の端部に配設したガス集収器19に取入れられ
る。界磁巻線は銅製の母線により付勢される。母
線20を冷却剤10排出用チヤンネル18内に設
け又冷却剤10排出用チヤンネル18側において
シヤフト2上に設けた集電リング21に接続す
る。
第2図に示す如く界磁巻線8は2セクシヨンか
らなる2極巻線である。室12の数はセクシヨン
の数に等しい。本発明の場合室12は2個であ
る。
らなる2極巻線である。室12の数はセクシヨン
の数に等しい。本発明の場合室12は2個であ
る。
種々の極数を有する界磁巻線8において巻線の
各セクシヨンの下に室12を設ける。室12の幅
と深さはシヤフト2の強さ特性によつて定まる。
各セクシヨンの下に室12を設ける。室12の幅
と深さはシヤフト2の強さ特性によつて定まる。
界磁巻線8の極相互間に電気的及び熱的絶縁材
料の例えば雲母からなる挿入部材22(第2図)
が介在する。
料の例えば雲母からなる挿入部材22(第2図)
が介在する。
界磁巻線8(第1図)には、半径方向のチヤン
ネル11と極間の挿入部材22(第2図)とに長
手方向のチヤンネル23を設け、該チヤンネル2
3は殻9と界磁巻線8間の〓間とチヤンネル23
の全長に亘つた半径方向の開口を介して連通す
る。
ネル11と極間の挿入部材22(第2図)とに長
手方向のチヤンネル23を設け、該チヤンネル2
3は殻9と界磁巻線8間の〓間とチヤンネル23
の全長に亘つた半径方向の開口を介して連通す
る。
冷却剤10排出用チヤンネル18(第1図)は
2個の同軸心管24及び25(第3図)からな
る。夫々の母線20は内側管24内に収めた異つ
た極性の銅製の2本の導線からなる。管24は管
25内部に配置され、また電気的及び熱的に絶縁
した材料で作つたアーチ型支持部材26で担持す
る。外側管25をシヤフト2の軸方向の内腔に配
置し、電気的及び熱的に絶縁した材料、例えば
Al2O3製の球状支持部材27で担持する。
2個の同軸心管24及び25(第3図)からな
る。夫々の母線20は内側管24内に収めた異つ
た極性の銅製の2本の導線からなる。管24は管
25内部に配置され、また電気的及び熱的に絶縁
した材料で作つたアーチ型支持部材26で担持す
る。外側管25をシヤフト2の軸方向の内腔に配
置し、電気的及び熱的に絶縁した材料、例えば
Al2O3製の球状支持部材27で担持する。
第1ないし第3図において、冷却剤10の循環
径路を矢印で示す。
径路を矢印で示す。
本発明にかかる低温冷却装置付電気機械の界磁
巻線8(第1図)は下記の如くにして冷却され
る。
巻線8(第1図)は下記の如くにして冷却され
る。
冷却剤10(第1図)の液体ヘリウムを加圧し
て冷凍機械(図示せず)からチヤンネル17を介
して回転子1の空所に送り込む。最初冷却剤10
がシヤフト2の室12に到達し、そこで遠心力に
より冷却剤の液相を弓形部材13の内面に向けて
駆動する。一方遠心力による圧縮と摩擦により発
生した気相をシヤフトの軸方向に駆動する。遠心
力及び圧力によつて駆動されて冷却剤10の液相
は弓形部材13に設けた開口をさらには界磁巻線
8のチヤンネル11を通つて回転子1の内部空間
に進入する。殻9の内側面上で冷却剤10は再び
液相と気相に分離する。液相は殻9の内側面に留
まり、他方気相は半径方向の開口及び長手方向の
ガス用チヤンネル23(第2図)を通つて前進し
て殻9の端面及び界磁巻線8により形成した環状
〓間に到達する。この場所から気相はシヤフト2
の両端において冷却剤を排出するためのチヤンネ
ル16に向い、ガス集収器19内に収集される。
上記の進行中に室12内にあつた冷却剤10の気
相は冷却剤排出用のチヤンネル18に進入し母線
20を冷却した後ガス集収器19に送り込まれ
る。ガス集収器19よりガス状冷却剤を図示せぬ
冷凍機械に送り込む。
て冷凍機械(図示せず)からチヤンネル17を介
して回転子1の空所に送り込む。最初冷却剤10
がシヤフト2の室12に到達し、そこで遠心力に
より冷却剤の液相を弓形部材13の内面に向けて
駆動する。一方遠心力による圧縮と摩擦により発
生した気相をシヤフトの軸方向に駆動する。遠心
力及び圧力によつて駆動されて冷却剤10の液相
は弓形部材13に設けた開口をさらには界磁巻線
8のチヤンネル11を通つて回転子1の内部空間
に進入する。殻9の内側面上で冷却剤10は再び
液相と気相に分離する。液相は殻9の内側面に留
まり、他方気相は半径方向の開口及び長手方向の
ガス用チヤンネル23(第2図)を通つて前進し
て殻9の端面及び界磁巻線8により形成した環状
〓間に到達する。この場所から気相はシヤフト2
の両端において冷却剤を排出するためのチヤンネ
ル16に向い、ガス集収器19内に収集される。
上記の進行中に室12内にあつた冷却剤10の気
相は冷却剤排出用のチヤンネル18に進入し母線
20を冷却した後ガス集収器19に送り込まれ
る。ガス集収器19よりガス状冷却剤を図示せぬ
冷凍機械に送り込む。
本発明の電気機械によつて回転子の超伝導巻線
の有効な冷却が得られるので、巻線の温度は冷却
剤の温度より上昇することがない。尚遠心力によ
る溝内の圧縮は温度に顕著な影響を及ぼさない。
本発明による巻線冷却装置により液体ヘリウムを
加圧して又低温状態で使用することができる。従
つて超伝導巻線の熱的保護をさらに効率化でき、
電気機械の効率を高める。その結果本発明を用い
た電気機械の出力を同一寸法の従来機械に比較し
て50%高めることが可能である。
の有効な冷却が得られるので、巻線の温度は冷却
剤の温度より上昇することがない。尚遠心力によ
る溝内の圧縮は温度に顕著な影響を及ぼさない。
本発明による巻線冷却装置により液体ヘリウムを
加圧して又低温状態で使用することができる。従
つて超伝導巻線の熱的保護をさらに効率化でき、
電気機械の効率を高める。その結果本発明を用い
た電気機械の出力を同一寸法の従来機械に比較し
て50%高めることが可能である。
第1図は本発明にかかる低温冷却装置を備えた
電気機械の縦断面図、第2図は本発明にかかる低
温冷却装置を備えた電気機械の第1図の―線
に沿つた回転子の拡大横断面図、第3図は本発明
にかかる電気機械の要部で、母線の配置を示した
冷却剤排出用チヤンネルの部分拡大縦断面図であ
る。 1…回転子、2…回転子のシヤフト、8…超伝
導界磁巻線、10…冷却剤、11…半径方向のチ
ヤンネル、12…室、16…冷却剤排出用チヤン
ネル、17…冷却剤供給用チヤンネル、18…冷
却剤排出用の別のチヤンネル、20…母線。
電気機械の縦断面図、第2図は本発明にかかる低
温冷却装置を備えた電気機械の第1図の―線
に沿つた回転子の拡大横断面図、第3図は本発明
にかかる電気機械の要部で、母線の配置を示した
冷却剤排出用チヤンネルの部分拡大縦断面図であ
る。 1…回転子、2…回転子のシヤフト、8…超伝
導界磁巻線、10…冷却剤、11…半径方向のチ
ヤンネル、12…室、16…冷却剤排出用チヤン
ネル、17…冷却剤供給用チヤンネル、18…冷
却剤排出用の別のチヤンネル、20…母線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 低温冷却装置付電気機械であつて、母線20
を接続した超伝導界磁巻線8を冷却剤10で満た
した回転子1の空所内に設けかつ該巻線を回転子
1のシヤフト2に直接取付け、上記シヤフト2の
一端に冷却剤10を超伝導界磁巻線8に供給する
軸線方向のチヤンネル17を設け、またシヤフト
2の両端に冷却剤10排出用チヤンネル16を設
け、超伝導界磁巻線8をその全長に亘つて回転子
1のシヤフト2に取付ける箇所に室12を軸線に
平行に設け、上記室12は冷却剤10供給用チヤ
ンネル17と、超伝導界磁巻線8内に設けた半径
方向のチヤンネル11とに連通され、又上記室1
2はシヤフト2の他端において回転子1のシヤフ
ト2の軸線に沿つて設けられた気相冷却剤10排
出用チヤンネル18と、超伝導界磁巻線8の全長
に亘つて該巻線の外面に設けられて回転子1の空
所から気相冷却剤を排出する長手方向のチヤンネ
ル23とに連通されていることを特徴とする低温
冷却装置付電気機械。 2 母線20が、室12から気相冷却剤10の排
出用の軸線方向のチヤンネル18内に設けられた
特許請求の範囲第1項記載の低温冷却装置付電気
機械。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5672378A JPS54150605A (en) | 1978-05-15 | 1978-05-15 | Electrical machine for low temperature cooling device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5672378A JPS54150605A (en) | 1978-05-15 | 1978-05-15 | Electrical machine for low temperature cooling device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54150605A JPS54150605A (en) | 1979-11-27 |
| JPS626410B2 true JPS626410B2 (ja) | 1987-02-10 |
Family
ID=13035401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5672378A Granted JPS54150605A (en) | 1978-05-15 | 1978-05-15 | Electrical machine for low temperature cooling device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54150605A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5716571A (en) * | 1980-07-01 | 1982-01-28 | Hitachi Ltd | Superconductive rotor |
| JPS57166865A (en) * | 1981-04-06 | 1982-10-14 | Toshiba Corp | Rotor for rotary electric machine |
| WO2025057298A1 (ja) * | 2023-09-12 | 2025-03-20 | 三菱ジェネレーター株式会社 | 発電システム |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4956104A (ja) * | 1972-09-29 | 1974-05-31 |
-
1978
- 1978-05-15 JP JP5672378A patent/JPS54150605A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54150605A (en) | 1979-11-27 |
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