JPS62905B2 - - Google Patents
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- JPS62905B2 JPS62905B2 JP53106541A JP10654178A JPS62905B2 JP S62905 B2 JPS62905 B2 JP S62905B2 JP 53106541 A JP53106541 A JP 53106541A JP 10654178 A JP10654178 A JP 10654178A JP S62905 B2 JPS62905 B2 JP S62905B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアミン誘導体の新しい製造法に関す
る。更に詳しくは、本発明は一般式() (式中、R1,R2およびR3は水素原子、ハロゲ
ン原子、水酸基、トリハロゲノメチル基、フエニ
ル基、フエノキシ基、フエニルチオ基、直鎖もし
くは分枝状のC1〜C6のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシル基、アルキルチオ基、ジアルキ
ルアミノ基、アルキルスルホニル基を表わし、n
は1〜3までの整数を表わし、nが2以上の時
R3は同一であつても異なつていてもよく、また
R1とR2は同種または異種原子を介して連結して
いてもよく、Xはハロゲン原子を表わす。) で示されるハロゲン化合物と一般式() (式中、R4,R5は水素原子、ハロゲン原子、
水酸基、トリハロゲノメチル基、フエニル基、フ
エノキシ基、フエニルチオ基、直鎖もしくは、分
枝状のC1〜C6のアルキル基、アルケニル基、ア
ルコキシル基、アルキルチオ基、ジアルキルアミ
ノ基、アルキルスルホニル基を表わし、R4とR5
は同種または、異種原子を介して連結していても
よい) で示されるアセトニトリル化合物を縮合させて一
般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるニトリル化合物を得、次いで加水分解
して、一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるアミド化合物を得、次いでアルカリ性
下に分解反応させることからなる一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるアミン誘導体の改良された製造法であ
る。 本発明の目的とする上記一般式()で示され
る化合物は医薬、農薬等における光学分割剤とし
て重要な化合物であると同時に、優れた薬理効果
を有する医薬品、例えば抗コレステロール剤等の
重要な中間体であり、本発明の目的は、該化合物
を安価にして、かつ工業的に極めて有利に製造す
る方法を提供することにある。 従来、一般式()で示される化合物の合成法
としては、例えば前記式においてR1=4―CH3、
R2,R3,R4,R5=H、n=1の例では(A)コーン
トランデユ エプドマデーレ デ セアーンスド
ウルアカデミー デ シアーンス(Compt.Rend.
)第240巻100頁(1955年)、(B)ツアイトシユリフ
ト フェア フイズイオロジツシエ ヘミー(Z.
Physiol,Chem)第289巻220頁(1952年)、(C)特
公昭49―5350号公報、(D)特公昭49―6311号公報な
どに記載の方法が知られている。 しかるに(A)の方法は、クロルニトロソ誘導体を
中間原料として多量のニツケルを用いて脱クロル
と還元を行なつて、アミン誘導体を得るものであ
つて、クロルニトロソ体の合成が、煩雑な上に還
元工程も低収率で工業的製法として耐え得るもの
ではなく、(B)の方法は高価なp―メチルベンズア
ルデヒドとニトロベンジルを縮合することにより
ニトロメチルスチルベンを中間体として得、これ
を還元することにより、アミン誘導体を得るもの
であつて、この方法は原料の経済性に問題がある
ばかりでなく、ニトロベンジルが爆発性を有して
いることは、工業化には重大な障害となり、設備
費及び安全上にも問題があり工業化には使用不能
な用法といえる。また(C)の方法は(B)の方法と同じ
く、ニトロベンジルを原料に用いるため、同様に
爆発性の危険が有り、工業化は困難である。 さらに、(D)の方法は次式 に示す工程からなるものであるが、この方法は以
下に示す欠点を有す。 第1工程ではジアゾニウム塩の安定性の問
題。 第2工程ではジアゾニウム塩とオレフインと
の反応においてMeerwein反応と競争的に起る
Sandmyer反応によつて無用の副生物が生成
し、また概して収率が低いこと。 第3工程ではアンモニア存在下での反応であ
り、副生物の生成が多く、また装置的にも不利
である。 このような状況下で、本発明者らは一般式
()で示されるアミン誘導体の新しい合成法に
ついて研究し、従来の経路とは全く異なる新規な
経路に基づく方法で、かつ上述の各種の合成法の
もつ欠点を全て解決し、高収率、高純度で目的物
を得、さらに各工程も工業的に実施しやすい極め
て有利な方法を見出し、本発明を完成するに至つ
た。 すなわち本発明は (1) 一般式() (式中、R4,R5は前述と同じ意味を有す
る) で示されるアセトニトリル化合物と一般式
() (式中、R1,R2,R3,Xおよびnは前述と
同じ意味を有する) で示されるハロゲン化合物とを塩基の存在下に
縮合(第1工程)させて、一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前
述と同じ意味を有する) で示されるニトリル化合物を得る工程。 (2) 次いで、一般式()化合物を加水分解(第
工程)して一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前
述と同じ意味を有する) で示される化合物を得る工程。 (3) 次いで一般式()化合物をアルカリ分解
(第工程)する工程。 の3工程からなる一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前
述と同じ意味を有する。) で示されるアミン誘導体を製造する方法であ
る。 以下に本発明を詳細に説明する。 一般式()の化合物は一般式()の化合物
と一般式()の化合物を塩基の存在下に縮合反
応(第工程)させることによつて合成される。 ここで出発原料となる一般式()の化合物と
しては、例えばベンジルクロリドもしくはブロミ
ド o,mまたはp―クロロベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―ブロモベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―フロロベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―メトキシベンジルクロリドも
しくはブロミド o,mまたはp―エトキシベンジルクロリドも
しくはブロミド o,mまたはp―フエノキシベンジルクロリド
もしくはブロミド o,mまたはp―フエニルチオベンジルクロリ
ドもしくはブロミド o,mまたはp―メチルチオベンジルクロリド
もしくはブロミド o,mまたはp―ジメチルアミノベンジルクロ
リドもしくはブロミド o,mまたはp―メチルスルホニルベンジルク
ロリドもしくはブロミド o,mまたはp―イソプロペニルベンジルクロ
リドもしくはブロミド o,mまたはp―メチルベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―エチルベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―プロピルベンジルクロリドも
しくはブロミド o,mまたはp―ブチルベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―イソプロピルベンジルクロリ
ドもしくはブロミド o,mまたはp―イソブチルベンジルクロリド
もしくはブロミド o,mまたはp―トリクロロメチルベンジルク
ロリドもしくはブロミド o,mまたはp―トリフロロメチルベンジルク
ロリドもしくはブロミド o,mまたはp―ヒドロキシメチルベンジルク
ロリドもしくはブロミド 3,4―ジメトキシベンジルクロリドもしくは
ブロミド 3,4―ジクロルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 3,5―ジクロルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,4―ジクロルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 3,4―ジメチルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,5―ジメチルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,4―ジメチルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 3,4―メチレンオキシベンジルクロリドもし
くはブロミド 3,4―ジブロムベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,5―ジブロムベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,4―ジブロムベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 3,4―ジフロロベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,5―ジフロロベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,4―ジフロロベンジルクロリドもしくはブ
ロミド o,mまたはp―メチル―α―メチルベンジル
クロリドもしくはブロミド o,mまたはp―メチル―α―メトキシベンジ
ルクロリドもしくはブロミド o,mまたはp―メチルスルホニル―α―メト
キシベンジルクロリドもしくはブロミド フエネチルクロリドもしくはブロミド、フエニ
ルプロピルクロリド等が例示される。 同様に出発原料である一般式()の化合物と
しては例えばベンジルニトリル o,mまたはp―クロロベンジルニトリル o,mまたはp―ブロモベンジルニトリル o,mまたはp―フロロベンジルニトリル o,mまたはp―メトキシベンジルニトリル o,mまたはp―エトキシベンジルニトリル o,mまたはp―フエノキシベンジルニトリル o,mまたはp―フエニルチオベンジルニトリ
ル o,mまたはp―メチルチオベンジルニトリル o,mまたはp―ジメチルアミノベンジルニト
リル o,mまたはp―メチルスルホニルベンジルニ
トリル o,mまたはp―イソプロペニルベンジルニト
リル o,mまたはp―メチルベンジルニトリル o,mまたはp―エチルベンジルニトリル o,mまたはp―プロピルベンジルニトリル o,mまたはp―ブチルベンジルニトリル o,mまたはp―イソプロピルベンジルニトリ
ル o,mまたはp―イソブチルベンジルニトリル o,mまたはp―トリクロロメチルベンジルニ
トリル o,mまたはp―トリフロロメチルベンジルニ
トリル o,mまたはp―ヒドロキシベンジルニトリル 3,4―ジメトキシベンジルニトリル 3,4―ジクロルベンジルニトリル 2,5―ジクロルベンジルニトリル 2,4―ジクロルベンジルニトリル 3,4―ジメチルベンジルニトリル 2,5―ジメチルベンジルニトリル 2,4―ジメチルベンジルニトリル 3,4―メチレンオキシベンジルニトリル 3,4―ジブロムベンジルニトリル 2,5―ジブロムベンジルニトリル 2,4―ジブロムベンジルニトリル 3,4―ジフロロベンジルニトリル 2,5―ジフロロベンジルニトリル 2,4―ジフロロベンジルニトリル 等が例示される。 一般式()の化合物と一般式()の化合物
との反応において、その原料割合としては通常一
般式()の化合物1モルに対し、一般式()
の化合物0.1モルから3モルの範囲が選ばれる
が、1モルより少ない場合は、未反応の一般式
()の化合物は、溶媒として用いられ反応後、
晶析、蒸留等の手段で反応混合物から分離して再
使用することができる。 また、1モルより多い場合は、同様に未反応の
一般式()の化合物を分離回収し、再使用する
ことができる。しかし、一般に一般式()の化
合物のハロゲン基は、反応性が高いため、生成し
た一般式()の化合物に更に過剰の一般式
()の化合物が縮合して、一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示される化合物が副生物として生成する。この
化合物は一般式()の化合物の収率低下の原因
となるため、一般式()の化合物を等モル以下
で反応するのが好ましい。 しかし、一般式()の化合物は後述の分解反
応が起らないため、次工程には影響を及ぼさな
い。反応溶媒には、一般に使用される溶媒、例え
ば水、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、ヘキサノール、ブタノール、t―ブタ
ノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼン類、ヘキサン、ヘプタン、メチルセロ
ソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミド、エーテル、ジメチルスルホキ
シド等の単独または混合物が使用されるが、前述
のごとく一般式()の化合物も溶媒として使用
することができる。この場合に一般式()及び
一般式()の化合物及び生成物である一般式
()の化合物が常温で固体の場合はそれを溶解
する溶媒を選ぶのが操作的により好適である。 なお、一般式()の化合物は通常、下記一般
式()の化合物をハロゲン化することにより製
造されているが、 (式中、R1,R2,R3,およびnは前述と同じ
意味を有する) 本発明においては該製造法において反応率を下
げてモノハライドの選択率を上げるようにして一
般式()化合物を製造すれば、反応生成物から
未反応の一般式()化合物を分離することなく
該化合物をそのまま溶媒として使用することがで
きる。 また使用される塩基としては、アルカリ金属、
水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、アルコ
キシアルカリ金属、水素化アルカリ金属等が例示
される。その使用量は通常反応原料に対し1〜8
倍モル好ましくは、1〜4倍モルの範囲が良い。
この反応で消費される塩基のモル数は原料の一般
式()の化合物と等モルであり、過剰分は未反
応のままで残存するが、残存塩基は分離してもよ
いし、或いは除去することなく、そのまま次工程
に使用することもできる。 さらに一般式()の化合物を得るためには、
有機第4級アンモニウム塩あるいは3級アミンを
触媒量添加することにより反応速度が比較的向上
し、反応率が増大するので、これらを触媒に使用
することが好ましい。有機第4級アンモニウム塩
あるいは3級アミンの例としては、 テトラ―n―ブチルアンモニウムクロリド、ブ
ロミドまたはヒドロキシド テトラエチルアンモニウムクロリド、ブロミド
またはヒドロキシド トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、ブ
ロミドまたはヒドロキシド トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブ
チルアミン、トリプロピルアミン等が例示され、
これらは各々の単独または混合物として使用され
る。添加する触媒の使用量は、原料である一般式
()の化合物1モルに対して1/200〜1/5モル
の範囲 で任意であるが、一般的には1/100モル程度であ る。 ここで用いた触媒は、反応後回収して再使用す
ることができる。 反応温度は−20℃から200℃の範囲で任意であ
るが、好ましくは0℃から100℃の範囲である。 反応圧力については特に制限はなく、常圧、加
圧いずれでも良い。 また反応形式は回分法、連続法いずれでも良
い。 このような反応により得られた反応混合物から
分液、濃縮、蒸留、結晶化等の操作により一般式
()の化合物は収率よく得られるが、次工程の
一般式()の化合物を得るためには必ずしも一
般式()の化合物を単離する必要はなく、反応
混合物のまま次工程へ進んでも良い。 一般式()の化合物から一般式()の化合
物を得る加水分解(第工程)において、その反
応方式は塩基を用いる加水分解、酸を用いる加水
分解、金属触媒を用いる加水分解等のいずれの方
法にも拘束されず任意の方法が選ばれる。なお、
この時に有機第4級アンモニウム塩あるいは、三
級アミンを存在させると反応が比較的低温で進行
し、反応速度も向上し非常に有効である。 ここで塩基としては、水酸化アルカリ金属、炭
酸アルカリ金属、アルコキシアルカリ金属、水酸
化アルカリ土金属等が例示され、酸としては硫
酸、塩酸、リン酸、ポリリン酸、酢酸、硝酸、臭
化水素酸、ギ酸等が例示される。 金属触媒としては硫酸銅、酸化銅、塩化銅、水
素化銅、酢酸銅、銅―バナジウム合金、銅―マグ
ネシウムクロムシリケート、酸化クロム、二酸化
マンガン、塩化パラジウム、塩化ロジウム、ルテ
ニウム等が例示される。反応は通常、溶媒存在下
或いは非存在下に行なわれるが、溶媒を使用する
場合には前述の一般式()の化合物と一般式
()の化合物から一般式()の化合物を得る
時に用いた溶媒が適用される。 有機第4級アンモニウム塩あるいは3級アミン
も前述の一般式()の化合物と一般式()の
化合物から一般式()の化合物を得る時に用い
た有機第4級アンモニウム塩あるいは3級アミン
が適用され、その使用モル数も同様である。 反応温度は通常0℃から300℃の範囲で任意で
あるが、好ましくは20℃から250℃が採用され
る。 反応圧力については、特に制限はなく、常圧加
圧いずれでも良い。 反応形式は液相、気相いずれでも良く、また回
分法、連続法いずれでも良い。 この反応では、目的の一般式()の化合物の
他に、このものがさらに加水分解された、一般式
()の化合物 (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) が副生して、目的の一般式()の化合物の収率
低下の原因となる場合もあるが、この場合も反応
率を下げ未反応の一般式()の化合物を回収
し、再使用する方法で一般式()の化合物を抑
制することが可能である。 また、加水分解試剤として塩基を用いる場合に
過酸化水素あるいは、ジメチルスルホキシドを存
在させると一般式()の化合物の副生を抑制す
る効果を有する。この場合の過酸化水素の使用モ
ル数は一般式()の化合物1モルに対し過酸化
水素1モル以上任意であるが、好ましくは2〜10
モルが採用され、その場合の反応温度は20℃〜80
℃の範囲が好ましい。反応時間は過酸化水素の使
用モル数との兼ね合いもあるが通常30分から10時
間の範囲で終了する。この過酸化水素を用いる場
合は溶媒は水だけでも反応が進行するが、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール等のアルコ
ール類を併用することが反応系の均一化と反応速
度の上昇の効果を与えるため、さらに好ましい。
塩基とジメチルスルホキシドの併用の場合のジメ
チルスルホキシドの使用モル数については、一般
式()の化合物1モルに対して1モル以上任意
であるが、好ましくは一般式()の化合物に対
する溶解度及びジメチルスルホキシドが水に良く
溶解するため回収が若干困難であるための経済的
見地から2〜10モルが採用される。反応温度は60
℃から150℃の範囲で任意であるが、好ましくは
80℃から130℃の範囲が採用される。反応時間は
通常10時間の範囲内で終了する。 また本発明の一般式()の化合物から一般式
()の化合物への加水分解反応に於いて特に有
利な点は、前工程の一般式()の化合物と一般
式()の化合物から一般式()の化合物を得
る工程において、若干副生する一般式()の化
合物がこの加水分解反応においては加水分解され
ず、未反応のままで残存し、最終工程で目的のア
ミン誘導体と容易に分離できるので、一般式
()を単離、除去することなく一般式()の
化合物との混合物のままで加水分解反応を実施で
きることである。 このような反応により、得られた反応混合物か
ら、分液、濃縮、蒸留、結晶化等の操作により一
般式()の化合物は収率よく得られらるが、次
工程の最終目的物である一般式()で示される
アミン誘導体を得るためには、必ずしも一般式
()の化合物を単離する必要はなく反応混合物
のままで次工程へ進んでも良い。 以下、一般式()の化合物のアルカリ分解を
経て、最終目的物の一般式()で示されるアミ
ン誘導体を得る工程(第工程)について説明す
る。 この反応は塩基の存在下にハロゲン、次亜ハロ
ゲン酸アルカリ金属塩あるいは次亜ハロゲン酸ア
ルカリ土類金属塩の作用による一般にホフマン反
応と言われている方法で、一般式()の化合物
から一般式()の化合物を得ることができる。 なお、この時に有機第4級アンモニウム塩ある
いは、三級アミンを存在させると反応が比較的低
温で進行し、反応速度も向上して非常に有効であ
る。 ここで、塩基としては水酸化アルカリ金属、炭
酸アルカリ金属、アルコキシアルカリ金属、水酸
化アルカリ土類金属等が例示される。 これらの塩基は一般式()の化合物1モルに
対して2モル以上任意であるが、経済的見地から
2〜10モルの範囲が好ましい。 ハロゲンとしては、塩基、臭素、フツ素等が例
示される。これらのハロゲンは一般式()の化
合物1モルに対して1モル以上任意であるが、好
ましくは、1〜5モルの範囲が採用される。また
この時塩基は、一般式()の化合物1モルに対
して4モル以上使用するのがより好ましい。 次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩あるいは次亜ハ
ロゲン酸アルカリ土類金属塩としては、次亜塩素
酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜臭素酸
ナトリウム、次亜臭素酸カリウム、次亜塩素酸カ
ルシウム、次亜臭素酸カルシウム等が例示され
る。 これらの次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩あるい
は次亜ハロゲン酸土類金属塩はハロゲンを用いる
場合と同様に、一般式()の化合物1モルに対
して1モル以上任意であるが、好ましくは1〜5
モルの範囲が採用される。 有機第4級アンモニウム塩あるいは、3級アミ
ンとしては、前述の一般式()の化合物と、一
般式()の化合物から一般式()の化合物を
得る時に用いる有機第4級アンモニウム塩あるい
は、3級アミンが適用され、その使用モル数も同
様である。 反応溶媒としては、前述した一般式()の化
合物と一般式()の化合物から一般式()の
化合物を得る時に用いた溶媒が適用される。反応
溶媒としてメタノール、エタノール等のアルコー
ル類を使用する場合、一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有し、R6はメチル基、エチル基等
のアルキル基を示す) で示されるカーバメート誘導体を経て一般式
()の化合物に変換する場合もあるが、この中
間体の生成については本発明は何ら拘束されな
い。 反応温度は通常−20℃から150℃の範囲で任意
であるが、好ましくは−10℃から100℃が採用さ
れる。 反応圧力については、特に制限はなく常圧、加
圧いずれでも良い。 反応形式については、回分法でも連続法でもよ
い。反応時間は通常20時間以内で終了する。 このような反応により得られた反応混合物から
分液、濃縮、蒸留、結晶化等の操作により一般式
()の化合物が収率よく得られる。 ここで得られた一般式()の化合物として
は、例えばα―フエニル―β―フエニルエチルア
ミン α―(o―,m―またはp―クロロフエニル)
―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―ブロモフエニル)
―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―フロロフエニル)
―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―メトキシフエニ
ル)―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―エトキシフエニ
ル)―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―フエノキシフエニ
ル)―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―フエニルチオフエ
ニル)―β―(o―,m―またはp―クロロフエ
ニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―メチルチオフエニ
ル)―β―(o―,m―またはp―ブロモフエニ
ル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―ジメチルアミノフ
エニル)―β―(o―,m―またはp―フロロフ
エニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―メチルスルホニル
フエニル)―β―(o―,m―またはp―メトキ
シフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―イソプロペニルフ
エニル)―β―(o―,m―またはp―エトキシ
フエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―トリル)―β―
(o―,m―またはp―フエノキシフエニル)エ
チルアミン α―(o―,m―またはp―エチルフエニル)
―β―(o―,m―またはp―メチルチオフエニ
ル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―プロピルフエニ
ル)―β―(o―,m―またはp―フエニルチオ
フエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―ブチルフエニル)
―β―(o―,m―またはp―ジメチルアミノフ
エニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―イソプロピルフエ
ニル)―β―(o―,m―またはp―メチルスル
ホニルフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―イソブチルフエニ
ル)―β―(o―,m―またはp―イソプロペニ
ルフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―トリクロロメチル
フエニル)―β―(o―,m―またはp―イソブ
チルフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―トリフロロメチル
フエニル)―β―(o―,m―またはp―イソプ
ロピルフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―ヒドロキシメチル
フエニル)―β―(o―,m―またはp―ブチル
フエニル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―プ
ロピルフエニル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―エ
チルフエニル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―ト
リル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―ト
リクロロメチルフエニル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―ト
リフロロメチルフエニル)エチルアミン α―(3,4―ジメトキシフエニル)―β―フ
エニルエチルアミン α―(3,4―ジクロルフエニル)―β―フエ
ニルエチルアミン α―(3,5―ジクロルフエニル)―β―フエ
ニルエチルアミン α―(2,4―ジクロルフエニル)―β―フエ
ニルエチルアミン α―(3,4―キシリル)―β―フエニルエチ
ルアミン α―(2,5―キシリル)―β―(3,4―ジ
メトキシフエニル)エチルアミン α―(2,4―キシリル)―β―(3,4―ジ
クロルフエニル)エチルアミン α―(3,4―メチレンオキシフエニル)―β
―(3,5―ジクロルフエニル)エチルアミン α―(3,4―ジブロムフエニル)―β―
(2,4―ジクロルフエニル)エチルアミン α―(2,5―ジブロムフエニル)―β―
(3,4―キシリル)エチルアミン α―(2,4―ジブロムフエニル)―β―
(2,5―キシリル)エチルアミン α―(3,4―ジフロロフエニル)―β―
(2,4―キシリル)エチルアミン α―(2,5―ジフロロフエニル)―β―
(3,4―メチレンオキシフエニル)エチルアミ
ン α―フエニル―β―(3,4―ジブロムフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―(2,5―ジブロムフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―(2,4―ジブロムフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―(3,4―ジフロロフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―(2,5―ジフロロフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―メチル―β―(o―,m―
またはp―トリル)エチルアミン α―フエニル―β―メトキシ―β―(o―,m
―またはp―トリル)エチルアミン α―フエニル―β―メトキシ―β―(o―,m
―またはp―メチルスルホニルフエニル)エチル
アミン 1―(o―,m―またはp―メチルフエニル)
―3―フエニルプロピルアミン 1―(2,4―ジクロロフエニル)―3―フエ
ニルプロピルアミン 1―(3,4―メトキシフエニル)―4―フエ
ニルブチルアミン 等が例示される。 以下に本発明を実施例により説明するが、本発
明がこれらの実施例のみに制約されるものではな
いことはいうまでもない。 実施例 1 ベンジルニトリル(―1)1.0モル,p―メ
チルベンジルクロリド(―1))0.6モル、水酸
化ナトリウム4.0モルおよびテトラ―n―ブチル
アンモニウムブロミド0.01モルを、(―1)に
対して同重量部のトルエンと水酸化ナトリウムに
対して3倍重量部の水を溶媒として60℃で2時間
反応させた。反応終了後水層を分液し、有機層か
ら蒸留によりトルエンと未反応ベンジルニトリル
0.42モルを回収し、濃縮残をさらに蒸留して、α
―フエニル―β―(p―トリル)プロピオニトリ
ル(bp135〜145℃)(―1)0.54モルを得た。 収率は反応した原料ニトリル(―1)に対し
て95%であつた。 次にここで得られた(―1)1.0モル,水酸
化ナトリウム0.25モル、過酸化水素4.0モル(35
%水溶液)、及びテトラ―n―ブチルアンモニウ
ムブロミド0.01モルを、(―1)に対して3倍
重量部のメタノールと水酸化ナトリウムに対して
3倍重量部の水を溶媒として、50℃で3時間反応
させた。 反応終了後メタノールを留去し、過、水洗し
て、α―フエニル―β―(p―トリル)プロピオ
ンアミド(―1)(mp150〜151℃)を98%以上
の収率で得た。 次にここで得られた(―1)1.0モル及び水
酸化ナトリウム10モルに、(―1)に対して3
倍重量部のメタノールを溶媒として加え、0℃で
撹拌下、臭素1.3モルを2時間で滴下し、60℃で
2時間保温したのち、さらに0.01モルのテトラ―
n―ブチルアンモニウムブロミドを添加して還流
下で10時間反応した。反応終了後メタノールを留
去し、トルエンで抽出分液後、得られた有機層か
らトルエンを留去し、α―フエニル―β―(p―
トリル)エチルアミン(bp131.0℃)を収率98%
以上で得た。 参考例 1 実施例1で得られた(―1)1.0モル及び水
酸化ナトリウム0.33モルを、(―1)に対して
1.8倍重量部のジメチルスルホキシドを溶媒とし
て110℃で4時間反応させた。 反応終了後ジメチルスルホキシドを留去し
過、水洗してα―フエニル―β―(p―トリル)
プロピオンアミド(―1)を収率97%以上で得
た。 参考例 2 実施例1で得た(―1)1.0モル、及び水酸
化カリウム4モルを、(―1)に対して5倍重
量部のt―ブタノールを溶媒として還流下3時間
反応させた。反応終了後t―ブタノールを留去
し、(―1)に対して2倍重量部の水を加え
て、過、水洗して(―1)を98%以上の収率
で得た。 参考例 3 実施例1で得た(―1)1.0モルを(―
1)に対して2倍重量部の65%H2SO4中で、140
〜145℃で1時間反応させた。反応終了後冷却
し、45%水酸化ナトリウム水溶液で中和後、
過、水洗して(―1)を収率85%以上で得た。 参考例 4 実施例1で得た(―1)1.0モルを90℃に予
熱しておき、二酸化マンガンを充填したジヤケツ
ト付反応管に下からポンプで送り込み、反応させ
た。反応管の温度は90℃で平均滞留時間は1時間
であつた。上から流出した反応混合物のガスクロ
マトグラフイー分析により、ニトリルの転化率が
30%で、選択率95%以上で(―1)を得た。 実施例 2 実施例1で得た(―1)1.0モル及びナトリ
ウムメトキシド3モルに、(―1)に対して3
倍重量部のメタノールを溶媒として加え、0℃、
撹拌下、臭素1.3モルを2時間で滴下し、60℃で
2時間保温したのち、さらに水酸化カリウム10モ
ル及び、水酸化カリウムに対して0.7倍重量部の
水と(―1)に対して3倍重量部のメタノール
の混合溶媒を追加して還流下で5時間反応させ
た。反応終了後、メタノールを留去し、トルエン
で抽出分液後、得られた有機層からトルエンを留
去し、α―フエニル―β―(p―トリル)エチル
アミンを収率98%以上で得た。 実施例 3 2,4―ジメチルベンジルニトリル(―2)
1.0モル、3,4―ジクロロベンジルクロリド
(―2)0.6モル、水酸化カリウム4.0モル及び
テトラ―n―ブチルアンモニウムヒドロキシド
0.01モル(―2)に対して同重量部のベンゼン
と水酸化カリウムに対して3倍重量部の水を溶媒
として60℃で2時間反応させた。反応終了後水層
を分液し、有機層から蒸留により、ベンゼンと未
反応の2,4―ジメチルベンジルニトリル0.43モ
ルを回収した。濃縮残をガスクロマトグラフイー
により分析したところα―2,4―キシリル―β
―(3,4―ジクロロフエニルプロピオニトリル
(―2)の選択率は反応した原料ニトリル(
―2)に対して94%であつた。 次にここで得られた濃縮残、炭酸ナトリウム
0.25モル、過酸化水素4.0モル(35%水溶液)及
びトリエチルベンジルアンモニウムクロリド0.01
モルを、濃縮残に対して3倍重量部のイソプロパ
ノールと炭酸ナトリウムに対して3倍重量部の水
を溶媒として50℃で4時間反応させた。反応終了
後、反応物をガスクロマトグラフイーにより分析
したところα―2,4―キシリル―β―(3,4
―ジクロロフエニル)プロピオンアミド(―
2)の選択率は濃縮残中の(―2)に対して96
%以上であつた。 次いで得られた反応混合物及び水酸化ナトリウ
ム5.0モルに0℃撹拌下にNaCC1.5モル(10%
水溶液)を2時間で滴下し、さらに60℃で4時間
加温した。反応終了後、イソプロパノールを留去
し、トルエンで抽出分液後、得られた有機層をガ
スクロマトグラフイーにより分析したところ、α
―2,4―キシリル―β―(3,4―ジクロロフ
エニル)エチルアミンの選択率は、反応混合物中
のアミド(―2)に対して90%以上であつた。 実施例 4 m―ヒドロキシベンジルニトリル(―3)
1.0モル、ベンジルクロリド(―3)0.6モル、
水酸化ナトリウム4.0モル及びトリエチルアミン
0.03モルを、(―3)に対して同重量部のトル
エンと水酸化ナトリウムに対して3倍重量部の水
を溶媒として60℃で4時間反応させた。反応終了
後水層を分液し、有機層から蒸留により、トルエ
ンと未反応のm―ヒドロキシベンジルニトリル
0.44モルを回収した。濃縮残をガスクロマトグラ
フイーにより分析したところ、α―(m―ヒドロ
キシフエニル)―β―フエニルプロピオニトリル
(―3)の選択率は、反応した原料ニリル(
―3)に対して93%であつた。 次いでここで得られた濃縮残、水酸化ナトリウ
ム0.25モル、過酸化水素4.0モル(35%水溶液)
及びトリブチルアミン0.02モルを濃縮残に対して
3倍重量部のエタノールと水酸化ナトリウムに対
して3倍重量部の水を溶媒として50℃で3時間反
応させた。反応終了後反応物をガスクロマトグラ
フイーにより分析したところα―(m―ヒドロキ
シフエニル)―β―フエニルプロピオンアミド
(―3)の選択率は、濃縮残中のニトリル(
―3)に対して97%以上であつた。 次に、ここで得られた反応混合物及び水酸化ナ
トリウム7.0モルに、0℃撹拌下に臭素1.3モルを
2時間で滴下し、60℃で2時間保温したのち、さ
らに還流下で10時間反応させた。反応終了後、エ
タノールを留去し、トルエンで抽出分液した後、
得られた有機層をガスクロマトグラフイーにより
分析したところα―(m―ヒドロキシフエニル)
―β―フエニルエチルアミンの選択率は反応混合
物中のアミド(―3)に対して90%以上であつ
た。 実施例 5〜24 前記各実施例に準じて行なつた結果を第1表に
示す。 【表】
る。更に詳しくは、本発明は一般式() (式中、R1,R2およびR3は水素原子、ハロゲ
ン原子、水酸基、トリハロゲノメチル基、フエニ
ル基、フエノキシ基、フエニルチオ基、直鎖もし
くは分枝状のC1〜C6のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシル基、アルキルチオ基、ジアルキ
ルアミノ基、アルキルスルホニル基を表わし、n
は1〜3までの整数を表わし、nが2以上の時
R3は同一であつても異なつていてもよく、また
R1とR2は同種または異種原子を介して連結して
いてもよく、Xはハロゲン原子を表わす。) で示されるハロゲン化合物と一般式() (式中、R4,R5は水素原子、ハロゲン原子、
水酸基、トリハロゲノメチル基、フエニル基、フ
エノキシ基、フエニルチオ基、直鎖もしくは、分
枝状のC1〜C6のアルキル基、アルケニル基、ア
ルコキシル基、アルキルチオ基、ジアルキルアミ
ノ基、アルキルスルホニル基を表わし、R4とR5
は同種または、異種原子を介して連結していても
よい) で示されるアセトニトリル化合物を縮合させて一
般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるニトリル化合物を得、次いで加水分解
して、一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるアミド化合物を得、次いでアルカリ性
下に分解反応させることからなる一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるアミン誘導体の改良された製造法であ
る。 本発明の目的とする上記一般式()で示され
る化合物は医薬、農薬等における光学分割剤とし
て重要な化合物であると同時に、優れた薬理効果
を有する医薬品、例えば抗コレステロール剤等の
重要な中間体であり、本発明の目的は、該化合物
を安価にして、かつ工業的に極めて有利に製造す
る方法を提供することにある。 従来、一般式()で示される化合物の合成法
としては、例えば前記式においてR1=4―CH3、
R2,R3,R4,R5=H、n=1の例では(A)コーン
トランデユ エプドマデーレ デ セアーンスド
ウルアカデミー デ シアーンス(Compt.Rend.
)第240巻100頁(1955年)、(B)ツアイトシユリフ
ト フェア フイズイオロジツシエ ヘミー(Z.
Physiol,Chem)第289巻220頁(1952年)、(C)特
公昭49―5350号公報、(D)特公昭49―6311号公報な
どに記載の方法が知られている。 しかるに(A)の方法は、クロルニトロソ誘導体を
中間原料として多量のニツケルを用いて脱クロル
と還元を行なつて、アミン誘導体を得るものであ
つて、クロルニトロソ体の合成が、煩雑な上に還
元工程も低収率で工業的製法として耐え得るもの
ではなく、(B)の方法は高価なp―メチルベンズア
ルデヒドとニトロベンジルを縮合することにより
ニトロメチルスチルベンを中間体として得、これ
を還元することにより、アミン誘導体を得るもの
であつて、この方法は原料の経済性に問題がある
ばかりでなく、ニトロベンジルが爆発性を有して
いることは、工業化には重大な障害となり、設備
費及び安全上にも問題があり工業化には使用不能
な用法といえる。また(C)の方法は(B)の方法と同じ
く、ニトロベンジルを原料に用いるため、同様に
爆発性の危険が有り、工業化は困難である。 さらに、(D)の方法は次式 に示す工程からなるものであるが、この方法は以
下に示す欠点を有す。 第1工程ではジアゾニウム塩の安定性の問
題。 第2工程ではジアゾニウム塩とオレフインと
の反応においてMeerwein反応と競争的に起る
Sandmyer反応によつて無用の副生物が生成
し、また概して収率が低いこと。 第3工程ではアンモニア存在下での反応であ
り、副生物の生成が多く、また装置的にも不利
である。 このような状況下で、本発明者らは一般式
()で示されるアミン誘導体の新しい合成法に
ついて研究し、従来の経路とは全く異なる新規な
経路に基づく方法で、かつ上述の各種の合成法の
もつ欠点を全て解決し、高収率、高純度で目的物
を得、さらに各工程も工業的に実施しやすい極め
て有利な方法を見出し、本発明を完成するに至つ
た。 すなわち本発明は (1) 一般式() (式中、R4,R5は前述と同じ意味を有す
る) で示されるアセトニトリル化合物と一般式
() (式中、R1,R2,R3,Xおよびnは前述と
同じ意味を有する) で示されるハロゲン化合物とを塩基の存在下に
縮合(第1工程)させて、一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前
述と同じ意味を有する) で示されるニトリル化合物を得る工程。 (2) 次いで、一般式()化合物を加水分解(第
工程)して一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前
述と同じ意味を有する) で示される化合物を得る工程。 (3) 次いで一般式()化合物をアルカリ分解
(第工程)する工程。 の3工程からなる一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前
述と同じ意味を有する。) で示されるアミン誘導体を製造する方法であ
る。 以下に本発明を詳細に説明する。 一般式()の化合物は一般式()の化合物
と一般式()の化合物を塩基の存在下に縮合反
応(第工程)させることによつて合成される。 ここで出発原料となる一般式()の化合物と
しては、例えばベンジルクロリドもしくはブロミ
ド o,mまたはp―クロロベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―ブロモベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―フロロベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―メトキシベンジルクロリドも
しくはブロミド o,mまたはp―エトキシベンジルクロリドも
しくはブロミド o,mまたはp―フエノキシベンジルクロリド
もしくはブロミド o,mまたはp―フエニルチオベンジルクロリ
ドもしくはブロミド o,mまたはp―メチルチオベンジルクロリド
もしくはブロミド o,mまたはp―ジメチルアミノベンジルクロ
リドもしくはブロミド o,mまたはp―メチルスルホニルベンジルク
ロリドもしくはブロミド o,mまたはp―イソプロペニルベンジルクロ
リドもしくはブロミド o,mまたはp―メチルベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―エチルベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―プロピルベンジルクロリドも
しくはブロミド o,mまたはp―ブチルベンジルクロリドもし
くはブロミド o,mまたはp―イソプロピルベンジルクロリ
ドもしくはブロミド o,mまたはp―イソブチルベンジルクロリド
もしくはブロミド o,mまたはp―トリクロロメチルベンジルク
ロリドもしくはブロミド o,mまたはp―トリフロロメチルベンジルク
ロリドもしくはブロミド o,mまたはp―ヒドロキシメチルベンジルク
ロリドもしくはブロミド 3,4―ジメトキシベンジルクロリドもしくは
ブロミド 3,4―ジクロルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 3,5―ジクロルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,4―ジクロルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 3,4―ジメチルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,5―ジメチルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,4―ジメチルベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 3,4―メチレンオキシベンジルクロリドもし
くはブロミド 3,4―ジブロムベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,5―ジブロムベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,4―ジブロムベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 3,4―ジフロロベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,5―ジフロロベンジルクロリドもしくはブ
ロミド 2,4―ジフロロベンジルクロリドもしくはブ
ロミド o,mまたはp―メチル―α―メチルベンジル
クロリドもしくはブロミド o,mまたはp―メチル―α―メトキシベンジ
ルクロリドもしくはブロミド o,mまたはp―メチルスルホニル―α―メト
キシベンジルクロリドもしくはブロミド フエネチルクロリドもしくはブロミド、フエニ
ルプロピルクロリド等が例示される。 同様に出発原料である一般式()の化合物と
しては例えばベンジルニトリル o,mまたはp―クロロベンジルニトリル o,mまたはp―ブロモベンジルニトリル o,mまたはp―フロロベンジルニトリル o,mまたはp―メトキシベンジルニトリル o,mまたはp―エトキシベンジルニトリル o,mまたはp―フエノキシベンジルニトリル o,mまたはp―フエニルチオベンジルニトリ
ル o,mまたはp―メチルチオベンジルニトリル o,mまたはp―ジメチルアミノベンジルニト
リル o,mまたはp―メチルスルホニルベンジルニ
トリル o,mまたはp―イソプロペニルベンジルニト
リル o,mまたはp―メチルベンジルニトリル o,mまたはp―エチルベンジルニトリル o,mまたはp―プロピルベンジルニトリル o,mまたはp―ブチルベンジルニトリル o,mまたはp―イソプロピルベンジルニトリ
ル o,mまたはp―イソブチルベンジルニトリル o,mまたはp―トリクロロメチルベンジルニ
トリル o,mまたはp―トリフロロメチルベンジルニ
トリル o,mまたはp―ヒドロキシベンジルニトリル 3,4―ジメトキシベンジルニトリル 3,4―ジクロルベンジルニトリル 2,5―ジクロルベンジルニトリル 2,4―ジクロルベンジルニトリル 3,4―ジメチルベンジルニトリル 2,5―ジメチルベンジルニトリル 2,4―ジメチルベンジルニトリル 3,4―メチレンオキシベンジルニトリル 3,4―ジブロムベンジルニトリル 2,5―ジブロムベンジルニトリル 2,4―ジブロムベンジルニトリル 3,4―ジフロロベンジルニトリル 2,5―ジフロロベンジルニトリル 2,4―ジフロロベンジルニトリル 等が例示される。 一般式()の化合物と一般式()の化合物
との反応において、その原料割合としては通常一
般式()の化合物1モルに対し、一般式()
の化合物0.1モルから3モルの範囲が選ばれる
が、1モルより少ない場合は、未反応の一般式
()の化合物は、溶媒として用いられ反応後、
晶析、蒸留等の手段で反応混合物から分離して再
使用することができる。 また、1モルより多い場合は、同様に未反応の
一般式()の化合物を分離回収し、再使用する
ことができる。しかし、一般に一般式()の化
合物のハロゲン基は、反応性が高いため、生成し
た一般式()の化合物に更に過剰の一般式
()の化合物が縮合して、一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示される化合物が副生物として生成する。この
化合物は一般式()の化合物の収率低下の原因
となるため、一般式()の化合物を等モル以下
で反応するのが好ましい。 しかし、一般式()の化合物は後述の分解反
応が起らないため、次工程には影響を及ぼさな
い。反応溶媒には、一般に使用される溶媒、例え
ば水、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、ヘキサノール、ブタノール、t―ブタ
ノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼン類、ヘキサン、ヘプタン、メチルセロ
ソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミド、エーテル、ジメチルスルホキ
シド等の単独または混合物が使用されるが、前述
のごとく一般式()の化合物も溶媒として使用
することができる。この場合に一般式()及び
一般式()の化合物及び生成物である一般式
()の化合物が常温で固体の場合はそれを溶解
する溶媒を選ぶのが操作的により好適である。 なお、一般式()の化合物は通常、下記一般
式()の化合物をハロゲン化することにより製
造されているが、 (式中、R1,R2,R3,およびnは前述と同じ
意味を有する) 本発明においては該製造法において反応率を下
げてモノハライドの選択率を上げるようにして一
般式()化合物を製造すれば、反応生成物から
未反応の一般式()化合物を分離することなく
該化合物をそのまま溶媒として使用することがで
きる。 また使用される塩基としては、アルカリ金属、
水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、アルコ
キシアルカリ金属、水素化アルカリ金属等が例示
される。その使用量は通常反応原料に対し1〜8
倍モル好ましくは、1〜4倍モルの範囲が良い。
この反応で消費される塩基のモル数は原料の一般
式()の化合物と等モルであり、過剰分は未反
応のままで残存するが、残存塩基は分離してもよ
いし、或いは除去することなく、そのまま次工程
に使用することもできる。 さらに一般式()の化合物を得るためには、
有機第4級アンモニウム塩あるいは3級アミンを
触媒量添加することにより反応速度が比較的向上
し、反応率が増大するので、これらを触媒に使用
することが好ましい。有機第4級アンモニウム塩
あるいは3級アミンの例としては、 テトラ―n―ブチルアンモニウムクロリド、ブ
ロミドまたはヒドロキシド テトラエチルアンモニウムクロリド、ブロミド
またはヒドロキシド トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、ブ
ロミドまたはヒドロキシド トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブ
チルアミン、トリプロピルアミン等が例示され、
これらは各々の単独または混合物として使用され
る。添加する触媒の使用量は、原料である一般式
()の化合物1モルに対して1/200〜1/5モル
の範囲 で任意であるが、一般的には1/100モル程度であ る。 ここで用いた触媒は、反応後回収して再使用す
ることができる。 反応温度は−20℃から200℃の範囲で任意であ
るが、好ましくは0℃から100℃の範囲である。 反応圧力については特に制限はなく、常圧、加
圧いずれでも良い。 また反応形式は回分法、連続法いずれでも良
い。 このような反応により得られた反応混合物から
分液、濃縮、蒸留、結晶化等の操作により一般式
()の化合物は収率よく得られるが、次工程の
一般式()の化合物を得るためには必ずしも一
般式()の化合物を単離する必要はなく、反応
混合物のまま次工程へ進んでも良い。 一般式()の化合物から一般式()の化合
物を得る加水分解(第工程)において、その反
応方式は塩基を用いる加水分解、酸を用いる加水
分解、金属触媒を用いる加水分解等のいずれの方
法にも拘束されず任意の方法が選ばれる。なお、
この時に有機第4級アンモニウム塩あるいは、三
級アミンを存在させると反応が比較的低温で進行
し、反応速度も向上し非常に有効である。 ここで塩基としては、水酸化アルカリ金属、炭
酸アルカリ金属、アルコキシアルカリ金属、水酸
化アルカリ土金属等が例示され、酸としては硫
酸、塩酸、リン酸、ポリリン酸、酢酸、硝酸、臭
化水素酸、ギ酸等が例示される。 金属触媒としては硫酸銅、酸化銅、塩化銅、水
素化銅、酢酸銅、銅―バナジウム合金、銅―マグ
ネシウムクロムシリケート、酸化クロム、二酸化
マンガン、塩化パラジウム、塩化ロジウム、ルテ
ニウム等が例示される。反応は通常、溶媒存在下
或いは非存在下に行なわれるが、溶媒を使用する
場合には前述の一般式()の化合物と一般式
()の化合物から一般式()の化合物を得る
時に用いた溶媒が適用される。 有機第4級アンモニウム塩あるいは3級アミン
も前述の一般式()の化合物と一般式()の
化合物から一般式()の化合物を得る時に用い
た有機第4級アンモニウム塩あるいは3級アミン
が適用され、その使用モル数も同様である。 反応温度は通常0℃から300℃の範囲で任意で
あるが、好ましくは20℃から250℃が採用され
る。 反応圧力については、特に制限はなく、常圧加
圧いずれでも良い。 反応形式は液相、気相いずれでも良く、また回
分法、連続法いずれでも良い。 この反応では、目的の一般式()の化合物の
他に、このものがさらに加水分解された、一般式
()の化合物 (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) が副生して、目的の一般式()の化合物の収率
低下の原因となる場合もあるが、この場合も反応
率を下げ未反応の一般式()の化合物を回収
し、再使用する方法で一般式()の化合物を抑
制することが可能である。 また、加水分解試剤として塩基を用いる場合に
過酸化水素あるいは、ジメチルスルホキシドを存
在させると一般式()の化合物の副生を抑制す
る効果を有する。この場合の過酸化水素の使用モ
ル数は一般式()の化合物1モルに対し過酸化
水素1モル以上任意であるが、好ましくは2〜10
モルが採用され、その場合の反応温度は20℃〜80
℃の範囲が好ましい。反応時間は過酸化水素の使
用モル数との兼ね合いもあるが通常30分から10時
間の範囲で終了する。この過酸化水素を用いる場
合は溶媒は水だけでも反応が進行するが、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール等のアルコ
ール類を併用することが反応系の均一化と反応速
度の上昇の効果を与えるため、さらに好ましい。
塩基とジメチルスルホキシドの併用の場合のジメ
チルスルホキシドの使用モル数については、一般
式()の化合物1モルに対して1モル以上任意
であるが、好ましくは一般式()の化合物に対
する溶解度及びジメチルスルホキシドが水に良く
溶解するため回収が若干困難であるための経済的
見地から2〜10モルが採用される。反応温度は60
℃から150℃の範囲で任意であるが、好ましくは
80℃から130℃の範囲が採用される。反応時間は
通常10時間の範囲内で終了する。 また本発明の一般式()の化合物から一般式
()の化合物への加水分解反応に於いて特に有
利な点は、前工程の一般式()の化合物と一般
式()の化合物から一般式()の化合物を得
る工程において、若干副生する一般式()の化
合物がこの加水分解反応においては加水分解され
ず、未反応のままで残存し、最終工程で目的のア
ミン誘導体と容易に分離できるので、一般式
()を単離、除去することなく一般式()の
化合物との混合物のままで加水分解反応を実施で
きることである。 このような反応により、得られた反応混合物か
ら、分液、濃縮、蒸留、結晶化等の操作により一
般式()の化合物は収率よく得られらるが、次
工程の最終目的物である一般式()で示される
アミン誘導体を得るためには、必ずしも一般式
()の化合物を単離する必要はなく反応混合物
のままで次工程へ進んでも良い。 以下、一般式()の化合物のアルカリ分解を
経て、最終目的物の一般式()で示されるアミ
ン誘導体を得る工程(第工程)について説明す
る。 この反応は塩基の存在下にハロゲン、次亜ハロ
ゲン酸アルカリ金属塩あるいは次亜ハロゲン酸ア
ルカリ土類金属塩の作用による一般にホフマン反
応と言われている方法で、一般式()の化合物
から一般式()の化合物を得ることができる。 なお、この時に有機第4級アンモニウム塩ある
いは、三級アミンを存在させると反応が比較的低
温で進行し、反応速度も向上して非常に有効であ
る。 ここで、塩基としては水酸化アルカリ金属、炭
酸アルカリ金属、アルコキシアルカリ金属、水酸
化アルカリ土類金属等が例示される。 これらの塩基は一般式()の化合物1モルに
対して2モル以上任意であるが、経済的見地から
2〜10モルの範囲が好ましい。 ハロゲンとしては、塩基、臭素、フツ素等が例
示される。これらのハロゲンは一般式()の化
合物1モルに対して1モル以上任意であるが、好
ましくは、1〜5モルの範囲が採用される。また
この時塩基は、一般式()の化合物1モルに対
して4モル以上使用するのがより好ましい。 次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩あるいは次亜ハ
ロゲン酸アルカリ土類金属塩としては、次亜塩素
酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜臭素酸
ナトリウム、次亜臭素酸カリウム、次亜塩素酸カ
ルシウム、次亜臭素酸カルシウム等が例示され
る。 これらの次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩あるい
は次亜ハロゲン酸土類金属塩はハロゲンを用いる
場合と同様に、一般式()の化合物1モルに対
して1モル以上任意であるが、好ましくは1〜5
モルの範囲が採用される。 有機第4級アンモニウム塩あるいは、3級アミ
ンとしては、前述の一般式()の化合物と、一
般式()の化合物から一般式()の化合物を
得る時に用いる有機第4級アンモニウム塩あるい
は、3級アミンが適用され、その使用モル数も同
様である。 反応溶媒としては、前述した一般式()の化
合物と一般式()の化合物から一般式()の
化合物を得る時に用いた溶媒が適用される。反応
溶媒としてメタノール、エタノール等のアルコー
ル類を使用する場合、一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有し、R6はメチル基、エチル基等
のアルキル基を示す) で示されるカーバメート誘導体を経て一般式
()の化合物に変換する場合もあるが、この中
間体の生成については本発明は何ら拘束されな
い。 反応温度は通常−20℃から150℃の範囲で任意
であるが、好ましくは−10℃から100℃が採用さ
れる。 反応圧力については、特に制限はなく常圧、加
圧いずれでも良い。 反応形式については、回分法でも連続法でもよ
い。反応時間は通常20時間以内で終了する。 このような反応により得られた反応混合物から
分液、濃縮、蒸留、結晶化等の操作により一般式
()の化合物が収率よく得られる。 ここで得られた一般式()の化合物として
は、例えばα―フエニル―β―フエニルエチルア
ミン α―(o―,m―またはp―クロロフエニル)
―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―ブロモフエニル)
―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―フロロフエニル)
―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―メトキシフエニ
ル)―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―エトキシフエニ
ル)―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―フエノキシフエニ
ル)―β―フエニルエチルアミン α―(o―,m―またはp―フエニルチオフエ
ニル)―β―(o―,m―またはp―クロロフエ
ニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―メチルチオフエニ
ル)―β―(o―,m―またはp―ブロモフエニ
ル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―ジメチルアミノフ
エニル)―β―(o―,m―またはp―フロロフ
エニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―メチルスルホニル
フエニル)―β―(o―,m―またはp―メトキ
シフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―イソプロペニルフ
エニル)―β―(o―,m―またはp―エトキシ
フエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―トリル)―β―
(o―,m―またはp―フエノキシフエニル)エ
チルアミン α―(o―,m―またはp―エチルフエニル)
―β―(o―,m―またはp―メチルチオフエニ
ル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―プロピルフエニ
ル)―β―(o―,m―またはp―フエニルチオ
フエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―ブチルフエニル)
―β―(o―,m―またはp―ジメチルアミノフ
エニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―イソプロピルフエ
ニル)―β―(o―,m―またはp―メチルスル
ホニルフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―イソブチルフエニ
ル)―β―(o―,m―またはp―イソプロペニ
ルフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―トリクロロメチル
フエニル)―β―(o―,m―またはp―イソブ
チルフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―トリフロロメチル
フエニル)―β―(o―,m―またはp―イソプ
ロピルフエニル)エチルアミン α―(o―,m―またはp―ヒドロキシメチル
フエニル)―β―(o―,m―またはp―ブチル
フエニル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―プ
ロピルフエニル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―エ
チルフエニル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―ト
リル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―ト
リクロロメチルフエニル)エチルアミン α―フエニル―β―(o―,m―またはp―ト
リフロロメチルフエニル)エチルアミン α―(3,4―ジメトキシフエニル)―β―フ
エニルエチルアミン α―(3,4―ジクロルフエニル)―β―フエ
ニルエチルアミン α―(3,5―ジクロルフエニル)―β―フエ
ニルエチルアミン α―(2,4―ジクロルフエニル)―β―フエ
ニルエチルアミン α―(3,4―キシリル)―β―フエニルエチ
ルアミン α―(2,5―キシリル)―β―(3,4―ジ
メトキシフエニル)エチルアミン α―(2,4―キシリル)―β―(3,4―ジ
クロルフエニル)エチルアミン α―(3,4―メチレンオキシフエニル)―β
―(3,5―ジクロルフエニル)エチルアミン α―(3,4―ジブロムフエニル)―β―
(2,4―ジクロルフエニル)エチルアミン α―(2,5―ジブロムフエニル)―β―
(3,4―キシリル)エチルアミン α―(2,4―ジブロムフエニル)―β―
(2,5―キシリル)エチルアミン α―(3,4―ジフロロフエニル)―β―
(2,4―キシリル)エチルアミン α―(2,5―ジフロロフエニル)―β―
(3,4―メチレンオキシフエニル)エチルアミ
ン α―フエニル―β―(3,4―ジブロムフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―(2,5―ジブロムフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―(2,4―ジブロムフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―(3,4―ジフロロフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―(2,5―ジフロロフエニ
ル)エチルアミン α―フエニル―β―メチル―β―(o―,m―
またはp―トリル)エチルアミン α―フエニル―β―メトキシ―β―(o―,m
―またはp―トリル)エチルアミン α―フエニル―β―メトキシ―β―(o―,m
―またはp―メチルスルホニルフエニル)エチル
アミン 1―(o―,m―またはp―メチルフエニル)
―3―フエニルプロピルアミン 1―(2,4―ジクロロフエニル)―3―フエ
ニルプロピルアミン 1―(3,4―メトキシフエニル)―4―フエ
ニルブチルアミン 等が例示される。 以下に本発明を実施例により説明するが、本発
明がこれらの実施例のみに制約されるものではな
いことはいうまでもない。 実施例 1 ベンジルニトリル(―1)1.0モル,p―メ
チルベンジルクロリド(―1))0.6モル、水酸
化ナトリウム4.0モルおよびテトラ―n―ブチル
アンモニウムブロミド0.01モルを、(―1)に
対して同重量部のトルエンと水酸化ナトリウムに
対して3倍重量部の水を溶媒として60℃で2時間
反応させた。反応終了後水層を分液し、有機層か
ら蒸留によりトルエンと未反応ベンジルニトリル
0.42モルを回収し、濃縮残をさらに蒸留して、α
―フエニル―β―(p―トリル)プロピオニトリ
ル(bp135〜145℃)(―1)0.54モルを得た。 収率は反応した原料ニトリル(―1)に対し
て95%であつた。 次にここで得られた(―1)1.0モル,水酸
化ナトリウム0.25モル、過酸化水素4.0モル(35
%水溶液)、及びテトラ―n―ブチルアンモニウ
ムブロミド0.01モルを、(―1)に対して3倍
重量部のメタノールと水酸化ナトリウムに対して
3倍重量部の水を溶媒として、50℃で3時間反応
させた。 反応終了後メタノールを留去し、過、水洗し
て、α―フエニル―β―(p―トリル)プロピオ
ンアミド(―1)(mp150〜151℃)を98%以上
の収率で得た。 次にここで得られた(―1)1.0モル及び水
酸化ナトリウム10モルに、(―1)に対して3
倍重量部のメタノールを溶媒として加え、0℃で
撹拌下、臭素1.3モルを2時間で滴下し、60℃で
2時間保温したのち、さらに0.01モルのテトラ―
n―ブチルアンモニウムブロミドを添加して還流
下で10時間反応した。反応終了後メタノールを留
去し、トルエンで抽出分液後、得られた有機層か
らトルエンを留去し、α―フエニル―β―(p―
トリル)エチルアミン(bp131.0℃)を収率98%
以上で得た。 参考例 1 実施例1で得られた(―1)1.0モル及び水
酸化ナトリウム0.33モルを、(―1)に対して
1.8倍重量部のジメチルスルホキシドを溶媒とし
て110℃で4時間反応させた。 反応終了後ジメチルスルホキシドを留去し
過、水洗してα―フエニル―β―(p―トリル)
プロピオンアミド(―1)を収率97%以上で得
た。 参考例 2 実施例1で得た(―1)1.0モル、及び水酸
化カリウム4モルを、(―1)に対して5倍重
量部のt―ブタノールを溶媒として還流下3時間
反応させた。反応終了後t―ブタノールを留去
し、(―1)に対して2倍重量部の水を加え
て、過、水洗して(―1)を98%以上の収率
で得た。 参考例 3 実施例1で得た(―1)1.0モルを(―
1)に対して2倍重量部の65%H2SO4中で、140
〜145℃で1時間反応させた。反応終了後冷却
し、45%水酸化ナトリウム水溶液で中和後、
過、水洗して(―1)を収率85%以上で得た。 参考例 4 実施例1で得た(―1)1.0モルを90℃に予
熱しておき、二酸化マンガンを充填したジヤケツ
ト付反応管に下からポンプで送り込み、反応させ
た。反応管の温度は90℃で平均滞留時間は1時間
であつた。上から流出した反応混合物のガスクロ
マトグラフイー分析により、ニトリルの転化率が
30%で、選択率95%以上で(―1)を得た。 実施例 2 実施例1で得た(―1)1.0モル及びナトリ
ウムメトキシド3モルに、(―1)に対して3
倍重量部のメタノールを溶媒として加え、0℃、
撹拌下、臭素1.3モルを2時間で滴下し、60℃で
2時間保温したのち、さらに水酸化カリウム10モ
ル及び、水酸化カリウムに対して0.7倍重量部の
水と(―1)に対して3倍重量部のメタノール
の混合溶媒を追加して還流下で5時間反応させ
た。反応終了後、メタノールを留去し、トルエン
で抽出分液後、得られた有機層からトルエンを留
去し、α―フエニル―β―(p―トリル)エチル
アミンを収率98%以上で得た。 実施例 3 2,4―ジメチルベンジルニトリル(―2)
1.0モル、3,4―ジクロロベンジルクロリド
(―2)0.6モル、水酸化カリウム4.0モル及び
テトラ―n―ブチルアンモニウムヒドロキシド
0.01モル(―2)に対して同重量部のベンゼン
と水酸化カリウムに対して3倍重量部の水を溶媒
として60℃で2時間反応させた。反応終了後水層
を分液し、有機層から蒸留により、ベンゼンと未
反応の2,4―ジメチルベンジルニトリル0.43モ
ルを回収した。濃縮残をガスクロマトグラフイー
により分析したところα―2,4―キシリル―β
―(3,4―ジクロロフエニルプロピオニトリル
(―2)の選択率は反応した原料ニトリル(
―2)に対して94%であつた。 次にここで得られた濃縮残、炭酸ナトリウム
0.25モル、過酸化水素4.0モル(35%水溶液)及
びトリエチルベンジルアンモニウムクロリド0.01
モルを、濃縮残に対して3倍重量部のイソプロパ
ノールと炭酸ナトリウムに対して3倍重量部の水
を溶媒として50℃で4時間反応させた。反応終了
後、反応物をガスクロマトグラフイーにより分析
したところα―2,4―キシリル―β―(3,4
―ジクロロフエニル)プロピオンアミド(―
2)の選択率は濃縮残中の(―2)に対して96
%以上であつた。 次いで得られた反応混合物及び水酸化ナトリウ
ム5.0モルに0℃撹拌下にNaCC1.5モル(10%
水溶液)を2時間で滴下し、さらに60℃で4時間
加温した。反応終了後、イソプロパノールを留去
し、トルエンで抽出分液後、得られた有機層をガ
スクロマトグラフイーにより分析したところ、α
―2,4―キシリル―β―(3,4―ジクロロフ
エニル)エチルアミンの選択率は、反応混合物中
のアミド(―2)に対して90%以上であつた。 実施例 4 m―ヒドロキシベンジルニトリル(―3)
1.0モル、ベンジルクロリド(―3)0.6モル、
水酸化ナトリウム4.0モル及びトリエチルアミン
0.03モルを、(―3)に対して同重量部のトル
エンと水酸化ナトリウムに対して3倍重量部の水
を溶媒として60℃で4時間反応させた。反応終了
後水層を分液し、有機層から蒸留により、トルエ
ンと未反応のm―ヒドロキシベンジルニトリル
0.44モルを回収した。濃縮残をガスクロマトグラ
フイーにより分析したところ、α―(m―ヒドロ
キシフエニル)―β―フエニルプロピオニトリル
(―3)の選択率は、反応した原料ニリル(
―3)に対して93%であつた。 次いでここで得られた濃縮残、水酸化ナトリウ
ム0.25モル、過酸化水素4.0モル(35%水溶液)
及びトリブチルアミン0.02モルを濃縮残に対して
3倍重量部のエタノールと水酸化ナトリウムに対
して3倍重量部の水を溶媒として50℃で3時間反
応させた。反応終了後反応物をガスクロマトグラ
フイーにより分析したところα―(m―ヒドロキ
シフエニル)―β―フエニルプロピオンアミド
(―3)の選択率は、濃縮残中のニトリル(
―3)に対して97%以上であつた。 次に、ここで得られた反応混合物及び水酸化ナ
トリウム7.0モルに、0℃撹拌下に臭素1.3モルを
2時間で滴下し、60℃で2時間保温したのち、さ
らに還流下で10時間反応させた。反応終了後、エ
タノールを留去し、トルエンで抽出分液した後、
得られた有機層をガスクロマトグラフイーにより
分析したところα―(m―ヒドロキシフエニル)
―β―フエニルエチルアミンの選択率は反応混合
物中のアミド(―3)に対して90%以上であつ
た。 実施例 5〜24 前記各実施例に準じて行なつた結果を第1表に
示す。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中、R1,R2,R3,R4およびR5は水素原
子、ハロゲン原子、水酸基、トリハロゲノメチル
基、フエニル基、フエノキシ基、フエニルチオ
基、直鎖もしくは分枝状のC1〜C6のアルキル
基、アルケニル基、アルコキシル基、アルキルチ
オ基、ジアルキルアミノ基、アルキルスルホニル
基を表わし、nは1〜3までの整数を表わし、n
が2以上の時R3は同一であつても異なつていて
もよく、またR1とR2及びR4とR5は同種または異
種原子を介して連結していてもよい。) で示されるニトリル化合物を加水分解して一般式
() (式中、R1,R2,R3,R4.R5およびnは前述と
同じ意味を有する) で示されるアミド化合物を得、次いでアルカリ性
下に分解反応させることを特徴とする一般式
() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるアミン誘導体の製造法。 2 一般式() (式中、R1,R2およびR3は水素原子、ハロゲ
ン原子、水酸基、トリハロゲノメチル基、フエニ
ル基、フエノキシ基、フエニルチオ基、直鎖もし
くは分枝状のC1〜C6のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシル基、アルキルチオ基、ジアルキ
ルアミノ基、アルキルスルホニル基を表わし、n
は1〜3までの整数を表わし、nが2以上の時
R3は同一であつても異なつていてもよく、R1と
R2は同種または異種原子を介して連結していて
もよく、Xはハロゲン原子を表わす。) で示されるハロゲン化合物と一般式() (式中、R4,R5は水素原子、ハロゲン原子、
水酸基、トリハロゲノメチル基、フエニル基、フ
エノキシ基、フエニルチオ基、直鎖もしくは分枝
状のC1〜C6のアルキル基、アルケニル基、アル
コキシル基、アルキルチオ基、ジアルキルアミノ
基、アルキルスルホニル基を表わし、R4とR5は
同種または異種原子を介して連結していてもよ
い) で示されるアセトニトリル化合物を縮合させて一
般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるニトリル化合物を得、次いで加水分解
して一般式() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する) で示されるアミド化合物を得、次いでアルカリ性
下に分解反応させることを特徴とする一般式
() (式中、R1,R2,R3,R4,R5およびnは前述
と同じ意味を有する。) で示されるアミン誘導体の製造法。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP10654178A JPS5533442A (en) | 1978-08-30 | 1978-08-30 | Preparation of amine derivative |
| EP79301696A EP0008532B1 (en) | 1978-08-22 | 1979-08-20 | Synthesis of amines |
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| DE8181200767T DE2966944D1 (en) | 1978-08-22 | 1979-08-20 | Synthesis of amides |
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| JP10654178A JPS5533442A (en) | 1978-08-30 | 1978-08-30 | Preparation of amine derivative |
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Family Applications (1)
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-
1978
- 1978-08-30 JP JP10654178A patent/JPS5533442A/ja active Granted
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|---|---|
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