JPS63101B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63101B2 JPS63101B2 JP58223260A JP22326083A JPS63101B2 JP S63101 B2 JPS63101 B2 JP S63101B2 JP 58223260 A JP58223260 A JP 58223260A JP 22326083 A JP22326083 A JP 22326083A JP S63101 B2 JPS63101 B2 JP S63101B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- louver
- particulate matter
- reaction tank
- partition plate
- moving bed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/12—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ルーバーによつて充填保持された炭
素質吸着剤のような粒子状物質を上から下に移動
させながら、ルーバーを通つてくるSOx，NOx
含有排ガスのようなガスと接触させ、除塵とか脱
硫、脱硝のような吸着、各種反応等を行わせるた
めの移動層反応槽に関するものである。
素質吸着剤のような粒子状物質を上から下に移動
させながら、ルーバーを通つてくるSOx，NOx
含有排ガスのようなガスと接触させ、除塵とか脱
硫、脱硝のような吸着、各種反応等を行わせるた
めの移動層反応槽に関するものである。
従来のこの種の装置では、第１図に示すように
垂直方向に一列に配された一対のルーバー１及び
１′により充填保持された粒子状物質２が、上か
ら下に移動して移動層を形成し、ガス３は反応槽
４に導入され、移動層の側方からルーバー１を通
つて移動層を貫流し、この間に除塵、反応等を行
い、反対側のルーバー１′から排出される。
垂直方向に一列に配された一対のルーバー１及び
１′により充填保持された粒子状物質２が、上か
ら下に移動して移動層を形成し、ガス３は反応槽
４に導入され、移動層の側方からルーバー１を通
つて移動層を貫流し、この間に除塵、反応等を行
い、反対側のルーバー１′から排出される。
しかし、従来のこのような反応槽においては、
以下のような問題点があつた。
以下のような問題点があつた。
第１に、第２図に示すようにルーバー１の上に
粒子状物質２の非移動部分２−ａが形成される。
このため、ダストの高いガスを導入する場合に
は、非移動層２−ａのガス入口側にダストの層が
成長し、圧損の上昇をきたす。また、非移動部分
２−ａは化学反応的に飽和に達してしまい、反応
生成物の浸出によるルーバーの腐食を起すことも
あり、かつ全体の反応容量の減少をきたす。
粒子状物質２の非移動部分２−ａが形成される。
このため、ダストの高いガスを導入する場合に
は、非移動層２−ａのガス入口側にダストの層が
成長し、圧損の上昇をきたす。また、非移動部分
２−ａは化学反応的に飽和に達してしまい、反応
生成物の浸出によるルーバーの腐食を起すことも
あり、かつ全体の反応容量の減少をきたす。
第２には、第３図に示すように反応槽における
粒子状物質２の排出口は、通常ルーバー１及び
１′の間隔よりも狭く絞られており、このままで
は移動層内の粒子状物質の速度分布は第３図に示
す５−１〜５−４のようになつてしまう。このた
め第４図に示すような種々の整流体６を設け移動
層内の流速分布をできるだけ均等にしようとする
方法が取られてきた。しかし粒子状物質のもとも
との不均質性及び粒度、含塵量含水分量等の性状
の経時変化のため、その流動状態はコントロール
し難く、整流体６は設けたがあとは成行きまかせ
という要素が強かつた。
粒子状物質２の排出口は、通常ルーバー１及び
１′の間隔よりも狭く絞られており、このままで
は移動層内の粒子状物質の速度分布は第３図に示
す５−１〜５−４のようになつてしまう。このた
め第４図に示すような種々の整流体６を設け移動
層内の流速分布をできるだけ均等にしようとする
方法が取られてきた。しかし粒子状物質のもとも
との不均質性及び粒度、含塵量含水分量等の性状
の経時変化のため、その流動状態はコントロール
し難く、整流体６は設けたがあとは成行きまかせ
という要素が強かつた。
一方、除塵、反応等の面からみれば、移動層内
の粒子状物質２には一般にガス入口側程高い負荷
がかかり、ガス・入口側ルーバー近傍の粒子状物
質は最高の負荷にさらされる。このため反応生成
物が付着性の強い場合などは、粒子状物質の移動
速度が遅いと塊が生じ、それが成長してガスに対
する圧損の上昇をきたす場合がある。従つて、こ
の部分の粒子状物質を比較的速い速度で移動、入
れ替えてやるのが得策であるが、従来の方法では
前述のように成行きまかせであり、まして、この
部分の移動速度を自在にコントロールすることは
できなかつた。
の粒子状物質２には一般にガス入口側程高い負荷
がかかり、ガス・入口側ルーバー近傍の粒子状物
質は最高の負荷にさらされる。このため反応生成
物が付着性の強い場合などは、粒子状物質の移動
速度が遅いと塊が生じ、それが成長してガスに対
する圧損の上昇をきたす場合がある。従つて、こ
の部分の粒子状物質を比較的速い速度で移動、入
れ替えてやるのが得策であるが、従来の方法では
前述のように成行きまかせであり、まして、この
部分の移動速度を自在にコントロールすることは
できなかつた。
本発明の目的は上述した従来法の諸欠点を解消
した移動層反応槽を提供することである。
した移動層反応槽を提供することである。
上記の目的を達成する本発明の要旨とするとこ
ろは、粒子状物質をルーバー構造によつて充填保
持し、該粒子状物質を上から下に移動させながら
ルーバーを通つてくるガスと接触させる移動層反
応槽において、粒子状物質を充填保持するために
垂直方向に一列に並んだメインルーバーの内側に
断面が逆Ｖ字型のサブルーバーを各メインルーバ
ーと平行に一列に設け、該Ｖ字型の一辺はメイン
ルーバーの各段の高さ方向の中間の位置に端を発
し、メインルーバーの内側に向つてメインルーバ
ーとは逆勾配で配し、Ｖ字型の頂点からの他の一
辺は垂直下方に向い、全ての段が同一垂直面内に
あるように配し、かつこの垂直下方向辺の下端
を、その下の段のＶ字型の頂点とが接しないよう
にしたことを特徴とする移動層反応槽を提供する
ことである。
ろは、粒子状物質をルーバー構造によつて充填保
持し、該粒子状物質を上から下に移動させながら
ルーバーを通つてくるガスと接触させる移動層反
応槽において、粒子状物質を充填保持するために
垂直方向に一列に並んだメインルーバーの内側に
断面が逆Ｖ字型のサブルーバーを各メインルーバ
ーと平行に一列に設け、該Ｖ字型の一辺はメイン
ルーバーの各段の高さ方向の中間の位置に端を発
し、メインルーバーの内側に向つてメインルーバ
ーとは逆勾配で配し、Ｖ字型の頂点からの他の一
辺は垂直下方に向い、全ての段が同一垂直面内に
あるように配し、かつこの垂直下方向辺の下端
を、その下の段のＶ字型の頂点とが接しないよう
にしたことを特徴とする移動層反応槽を提供する
ことである。
以下に本発明を詳述する。本発明の目的は、第
１にルーバー上の粒子状物質の滞留をなくし、良
好な移動状態をもたらすことにより、ガス入口側
ルーバー部へのダスト蓄積、圧損の過上昇を防
ぎ、第２にルーバー近傍の粒子状物質の移動速度
と、他の部分の粒子状物質の移動速度の比を反応
槽全体の粒子状物質の流量を変えることなしに自
由に変えることにより、高い負荷を負う入口側の
粒子状物質の移動速度を速くしたり、圧損の様子
を見ながらコントロールすることができる反応槽
を提供することにある。
１にルーバー上の粒子状物質の滞留をなくし、良
好な移動状態をもたらすことにより、ガス入口側
ルーバー部へのダスト蓄積、圧損の過上昇を防
ぎ、第２にルーバー近傍の粒子状物質の移動速度
と、他の部分の粒子状物質の移動速度の比を反応
槽全体の粒子状物質の流量を変えることなしに自
由に変えることにより、高い負荷を負う入口側の
粒子状物質の移動速度を速くしたり、圧損の様子
を見ながらコントロールすることができる反応槽
を提供することにある。
先ず、前記第１の目的に関し説明する。第２図
にて既に説明した如く、粒子状物質の非移動部分
２−ａが形成されるが、これは２−ａ部分に内側
から働く側圧と、２−ａ部分の自重による側圧が
釣り合うために起る。従つて内側から働く側圧を
なんらかの方法で支え、２−ａ部分に直接作用し
ないようにしてやれば、２−ａ部分の粒子状物質
は下方に排出され、かわりに上方から新な粒子状
物質が供給されることになり連続した入れ替えが
行われる。その方法として第５図に示すような方
法が考案されている。１のメインルーバーの中間
にメインルーバーと同方向の傾斜でサブルーバー
７を設ける。メインルーバー上の２−ｂに内側か
ら作用する側圧をサブルーバーが支えるため、２
−ｂからの排出がスムーズに行われ、かわりに２
−ｃ部の粒子状物質が２−ｂの位置に入り、メイ
ンルーバー部の粒子状物質の入れ替えがスムーズ
に行われる。しかし、この方法ではサブルーバー
上に非移動部分２−ｄが形成されることになり、
程度の差こそあれ、同様の問題が生ずる。
にて既に説明した如く、粒子状物質の非移動部分
２−ａが形成されるが、これは２−ａ部分に内側
から働く側圧と、２−ａ部分の自重による側圧が
釣り合うために起る。従つて内側から働く側圧を
なんらかの方法で支え、２−ａ部分に直接作用し
ないようにしてやれば、２−ａ部分の粒子状物質
は下方に排出され、かわりに上方から新な粒子状
物質が供給されることになり連続した入れ替えが
行われる。その方法として第５図に示すような方
法が考案されている。１のメインルーバーの中間
にメインルーバーと同方向の傾斜でサブルーバー
７を設ける。メインルーバー上の２−ｂに内側か
ら作用する側圧をサブルーバーが支えるため、２
−ｂからの排出がスムーズに行われ、かわりに２
−ｃ部の粒子状物質が２−ｂの位置に入り、メイ
ンルーバー部の粒子状物質の入れ替えがスムーズ
に行われる。しかし、この方法ではサブルーバー
上に非移動部分２−ｄが形成されることになり、
程度の差こそあれ、同様の問題が生ずる。
本発明では、第６図の如く、８と９から成る逆
Ｖ字型のサブルーバーを設けることにより、サブ
ルーバーより外側の粒子状物質はジグザグにスム
ーズに流れ、内側の粒子状物質は９に沿つて垂直
下方にスムーズに流れ、滞留する部分は全くなく
なる。かつ隣り合う９の隙間からの粒子状物質の
出入りはほとんどなく、両者独立した流れとな
り、最下段から排出口に向つて流出する粒子状物
質は、最上段から入り込んだ粒子状物質とほぼ同
じものであるという状態が実現される。
Ｖ字型のサブルーバーを設けることにより、サブ
ルーバーより外側の粒子状物質はジグザグにスム
ーズに流れ、内側の粒子状物質は９に沿つて垂直
下方にスムーズに流れ、滞留する部分は全くなく
なる。かつ隣り合う９の隙間からの粒子状物質の
出入りはほとんどなく、両者独立した流れとな
り、最下段から排出口に向つて流出する粒子状物
質は、最上段から入り込んだ粒子状物質とほぼ同
じものであるという状態が実現される。
次に前記第２の目的に関し説明する。前述のよ
うなルーバー部粒子状物質の良好な移動が行われ
るためには、当然最下段から抜かれる粒子状物質
の流量が確保されていなければならない。しかし
一般に反応槽の排出口は第１図の如く、ルーバー
最下段から下り勾配の斜面の先端に設けられてい
るため、どのような整流体を用いたとしても、槽
内の粒子状物質２が排出口に向う角度としては、
この斜面の角度が最も緩く、斜面近傍の粒子状物
質の移動速度が最も遅くなる。まして、この部分
の移動速度を自在にコントロールすることなどは
できなかつた。
うなルーバー部粒子状物質の良好な移動が行われ
るためには、当然最下段から抜かれる粒子状物質
の流量が確保されていなければならない。しかし
一般に反応槽の排出口は第１図の如く、ルーバー
最下段から下り勾配の斜面の先端に設けられてい
るため、どのような整流体を用いたとしても、槽
内の粒子状物質２が排出口に向う角度としては、
この斜面の角度が最も緩く、斜面近傍の粒子状物
質の移動速度が最も遅くなる。まして、この部分
の移動速度を自在にコントロールすることなどは
できなかつた。
本発明はルーバー最下段から抜かれる粒子状物
質の流量を確保し、かつこれを自在にコントロー
ルするために、第７図及び第７図のＸ−Ｘ断面図
である第８図の如く、サブルーバー最下段の垂直
板９の下端から、反応槽のケーシング４に沿つ
て、仕切板１０を設け、仕切板１０の上、下にあ
る粒子状物質が混ざらないような構造とし、この
仕切板１０を排出ノズルの中まで連続させる。仕
切板の末端に、末端の辺と平行な軸を有する回転
仕切板１１を設け、仕切板１０の下端と回転仕切
板１１の上端の隙間を粒子状物質が貫通しない程
度とする。この回転仕切板の角度は外部から変更
できるような構造とする。
質の流量を確保し、かつこれを自在にコントロー
ルするために、第７図及び第７図のＸ−Ｘ断面図
である第８図の如く、サブルーバー最下段の垂直
板９の下端から、反応槽のケーシング４に沿つ
て、仕切板１０を設け、仕切板１０の上、下にあ
る粒子状物質が混ざらないような構造とし、この
仕切板１０を排出ノズルの中まで連続させる。仕
切板の末端に、末端の辺と平行な軸を有する回転
仕切板１１を設け、仕切板１０の下端と回転仕切
板１１の上端の隙間を粒子状物質が貫通しない程
度とする。この回転仕切板の角度は外部から変更
できるような構造とする。
以上のような構造により、ルーバー下端から排
出される粒子状物質は仕切板１０の上側にある粒
子状物質からの干渉を受けずに、ケーシング４と
の間を通り、排出ノズルに達する。排出ノズル部
に設けられた回転仕切板１１は、その角度を変え
ることにより、その出口部の左右の断面積が変え
られる。全体の抜出量が一定であつても、回転仕
切板１１の角度次段で、左右の流量比を０から無
限大まで連続して変えることができる。これによ
り、全体の抜出量を増加させることなしに、槽内
の粒子状物質の移動速度分布を効果的なものにす
ることができる。
出される粒子状物質は仕切板１０の上側にある粒
子状物質からの干渉を受けずに、ケーシング４と
の間を通り、排出ノズルに達する。排出ノズル部
に設けられた回転仕切板１１は、その角度を変え
ることにより、その出口部の左右の断面積が変え
られる。全体の抜出量が一定であつても、回転仕
切板１１の角度次段で、左右の流量比を０から無
限大まで連続して変えることができる。これによ
り、全体の抜出量を増加させることなしに、槽内
の粒子状物質の移動速度分布を効果的なものにす
ることができる。
以下に実施例を説明する。
第９図は本発明による乾式脱流脱硝装置の一実
施例の説明図である。第９図において、１２は平
均粒径8φ程度の活性コークスであり、１３のホ
ツパーにて粉面を一定に保つように充填されてお
り、１４の反応槽を径て、１５の定量フイーダに
て抜き出される。ガス２５は反応槽の側面から入
り、ルーバー及び活性コークス層を通つて脱硫、
脱硝、除塵が成され反対側の側面から出る。反応
槽内の活性コークスは入口側のメインルーバー１
７及び出口側ルーバー１７′により保持されてい
る。入口側は１８，１９からなるサブルーバー及
び２０の仕切板、２１の回転仕切板から成り、更
に活性コークス層の中間に全体の移動速度分布を
コントロールするための仕切板２２及び回転仕切
板２３、及び整流体２４が設けられており、移動
速度のコントロールは１６のサイトグラスから活
性コークスの降下速度を測定しながら行う。
施例の説明図である。第９図において、１２は平
均粒径8φ程度の活性コークスであり、１３のホ
ツパーにて粉面を一定に保つように充填されてお
り、１４の反応槽を径て、１５の定量フイーダに
て抜き出される。ガス２５は反応槽の側面から入
り、ルーバー及び活性コークス層を通つて脱硫、
脱硝、除塵が成され反対側の側面から出る。反応
槽内の活性コークスは入口側のメインルーバー１
７及び出口側ルーバー１７′により保持されてい
る。入口側は１８，１９からなるサブルーバー及
び２０の仕切板、２１の回転仕切板から成り、更
に活性コークス層の中間に全体の移動速度分布を
コントロールするための仕切板２２及び回転仕切
板２３、及び整流体２４が設けられており、移動
速度のコントロールは１６のサイトグラスから活
性コークスの降下速度を測定しながら行う。
第１０図は入口側ルーバー部の詳細である。θ1
は60゜、θ2は60゜、Ａは400mm、Ｂは300mm、Ｃは217
mm、Ｄは20mm、Ｅは75mm、第１１図は入口側ルー
バー下端から排出口までの詳細である。θ3は60゜、
Ｇは125mm、Ｈは108mm、Ｉは70mm、Ｊは150mm。
は60゜、θ2は60゜、Ａは400mm、Ｂは300mm、Ｃは217
mm、Ｄは20mm、Ｅは75mm、第１１図は入口側ルー
バー下端から排出口までの詳細である。θ3は60゜、
Ｇは125mm、Ｈは108mm、Ｉは70mm、Ｊは150mm。
第１２図は仕切板２０の下端と回転仕切板２１
部の詳細断面図である。回転仕切板２１と２２の
回転軸、２３のナツトは一体化されており一緒に
回転する。ケーシング１４の外部とのガス洩れを
防ぐためのカバーとして、２４の外筒及び２５の
キヤツプがあり、２６は回転軸に対するロツクボ
ルトである。Ｋは155mm、Ｌは153mm。
部の詳細断面図である。回転仕切板２１と２２の
回転軸、２３のナツトは一体化されており一緒に
回転する。ケーシング１４の外部とのガス洩れを
防ぐためのカバーとして、２４の外筒及び２５の
キヤツプがあり、２６は回転軸に対するロツクボ
ルトである。Ｋは155mm、Ｌは153mm。
第９，１０，１１図に示すサブルーバーのうち
１９の部分を多孔板を用いることにより、ガスの
流通面積を増加及び均質化させると同時にガス圧
損を低下させることができる。
１９の部分を多孔板を用いることにより、ガスの
流通面積を増加及び均質化させると同時にガス圧
損を低下させることができる。
本実施例を設けた移動層反応槽と設けない移動
層反応槽との運転結果を比較すると、設けないも
のでは、運転開始後200〜300時間で反応槽の圧力
損失が過大となり運転不能に陥いる。開放点検す
ると入口側ルーバー部の非移動粒子状物質の上流
側に厚いダストの層が形成されており、ルーバー
の内面側には反応生成物が塊となつて成長してお
り、そのところどころにガスの流入口が口を開け
ているという状態となる。
層反応槽との運転結果を比較すると、設けないも
のでは、運転開始後200〜300時間で反応槽の圧力
損失が過大となり運転不能に陥いる。開放点検す
ると入口側ルーバー部の非移動粒子状物質の上流
側に厚いダストの層が形成されており、ルーバー
の内面側には反応生成物が塊となつて成長してお
り、そのところどころにガスの流入口が口を開け
ているという状態となる。
一方、設けたものでは、サブルーバー部の粒子
状物質の流量を全体の10％程度にすると、反応槽
の圧力損失が運転開始後50時間程度の間わずかに
上昇していくが、それ以後上昇はなく安定した連
続運転が可能である。開放点検すると、入口側ル
ーバー部にはダストが蓄積した形跡はなく、ルー
バーの内面側にも反応生成物の塊は認められな
い。
状物質の流量を全体の10％程度にすると、反応槽
の圧力損失が運転開始後50時間程度の間わずかに
上昇していくが、それ以後上昇はなく安定した連
続運転が可能である。開放点検すると、入口側ル
ーバー部にはダストが蓄積した形跡はなく、ルー
バーの内面側にも反応生成物の塊は認められな
い。
ダストの濃度、反応生成物の単位時間当りの生
成量等からサブルーバー部の粒子状物質流量を適
当に調節することにより、広範囲な条件に適応す
る移動層反応槽となる。
成量等からサブルーバー部の粒子状物質流量を適
当に調節することにより、広範囲な条件に適応す
る移動層反応槽となる。
第１図は従来のルーバーによつて粒子状物質を
保持する移動層反応槽の概略を示す断面図、第２
図はルーバー近傍を示す部分拡大図、第３図およ
び第４図はこの種移動層反応槽における粒子状物
質の流速分布を示す概念図、第５図は従来のサブ
ルーバーの位置、構造を示すルーバー近傍図、第
６図は本発明のサブルーバーの位置、構造を示す
ルーバー近傍図、第７図は本発明のサブルーバー
の一実施態様を示す部分図、第８図は第７図のＸ
−Ｘ線に沿つた断面図、第９図は本発明の移動層
反応槽の一実施態様を示す断面図、第１０図、第
１１図は本発明のサブルーバーおよび仕切板の具
体例を示す部分設計図、第１２図は本発明のサブ
ルーバーに設けられた仕切板と仕切板に設けられ
た回転板の詳細を示す断面図である。
保持する移動層反応槽の概略を示す断面図、第２
図はルーバー近傍を示す部分拡大図、第３図およ
び第４図はこの種移動層反応槽における粒子状物
質の流速分布を示す概念図、第５図は従来のサブ
ルーバーの位置、構造を示すルーバー近傍図、第
６図は本発明のサブルーバーの位置、構造を示す
ルーバー近傍図、第７図は本発明のサブルーバー
の一実施態様を示す部分図、第８図は第７図のＸ
−Ｘ線に沿つた断面図、第９図は本発明の移動層
反応槽の一実施態様を示す断面図、第１０図、第
１１図は本発明のサブルーバーおよび仕切板の具
体例を示す部分設計図、第１２図は本発明のサブ
ルーバーに設けられた仕切板と仕切板に設けられ
た回転板の詳細を示す断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 粒子状物質をルーパー構造によつて充填保持
し、該粒子状物質を上から下に移動させながらル
ーバーを通つてくるガスと接触させる移動層反応
槽において、粒子状物質を充填保持するために垂
直方向に一列に並んだメインルーバーの内側に断
面が逆Ｖ字型のサブルーバーを各メインルーバー
と平行に一列に設け該Ｖ字型の一辺はメインルー
バーの各段の高さ方向の中間の位置に端を発し、
メインルーバーの内側に向つてメインルーバーと
は逆勾配で配し、Ｖ字型の頂点からの他の一辺は
垂直下方に向い、全ての段が同一垂直面内にある
ように配し、かつこの垂直下方向辺の下端と、そ
の下の段のＶ字型の頂点とが接しないようにした
ことを特徴とする移動層反応槽。 ２ サブルーバーのうち、最下段のサブルーバー
の垂直下方向辺の下端から、移動層反応槽のケー
シング内壁に沿つて仕切板を設け、該仕切板を移
動層反応槽の粒子状物質排出ノズル内まで連続さ
せた特許請求の範囲１の移動層反応槽。 ３ 仕切板の排出ノズル内の端部に、該仕切板と
平行な中心軸を有する回転仕切板を設けた特許請
求の範囲２の移動層反応槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58223260A JPS60118232A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 移動層反応槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58223260A JPS60118232A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 移動層反応槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60118232A JPS60118232A (ja) | 1985-06-25 |
| JPS63101B2 true JPS63101B2 (ja) | 1988-01-05 |
Family
ID=16795312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58223260A Granted JPS60118232A (ja) | 1983-11-29 | 1983-11-29 | 移動層反応槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60118232A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2828193B2 (ja) * | 1993-11-18 | 1998-11-25 | 住友重機械工業株式会社 | 脱硫・脱硝塔 |
| CN105148681B (zh) * | 2015-09-29 | 2017-09-22 | 北京首钢国际工程技术有限公司 | 一种烧结球团烟气吸附和下料装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5298674A (en) * | 1976-02-13 | 1977-08-18 | Kobe Steel Ltd | Denitration apparatus for exhasut gas |
| JPS5881424A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-16 | Hitachi Ltd | 充填層粒子支持用ル−バ−の構造 |
-
1983
- 1983-11-29 JP JP58223260A patent/JPS60118232A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60118232A (ja) | 1985-06-25 |
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