JPS6315345B2 - - Google Patents
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- JPS6315345B2 JPS6315345B2 JP15828183A JP15828183A JPS6315345B2 JP S6315345 B2 JPS6315345 B2 JP S6315345B2 JP 15828183 A JP15828183 A JP 15828183A JP 15828183 A JP15828183 A JP 15828183A JP S6315345 B2 JPS6315345 B2 JP S6315345B2
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- Japan
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- film
- water vapor
- transparent
- magnesium oxide
- moisture
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
技術分野:
本発明は防湿性を有する透明薄膜の形成方法、
特に基材の種類にかかわらず透明で高い防湿性の
薄膜を形成する方法に関する。 従来技術: 包装材料、特に食品、薬品、化学製品などの包
装に用いられる包装材料は、内容物の変質を防ぐ
ために防湿機能をもつていることが必要である。
そのために、従来は、例えばベースプラスチツク
フイルムにアルミニウム箔を貼り合わせてアルミ
ニウム箔の防湿特性を利用することが行われてい
る。この場合の包装材料は、防湿性については優
れているがベースプラスチツクフイルムの透明性
が損われ内容物を透視することができない。しか
も、フレキシビリテイが極端に低減するためピン
ホールを生じるおそれがある。包装材料の別の例
としては、それ自体が防湿性を有する塩化ビニリ
デン系・フツ素系樹脂フイルムがある。これらフ
イルムは防湿性を厳しく要求される用途にはフイ
ルム厚を厚くしなければならず、製造作業上にも
種々の問題が生じる。 また、プラスチツクの表面に金属アルミを真空
蒸着することにより防湿性を向上させる試みがな
されている。しかし、アルミ蒸着膜は不透明であ
るために、これを包装材料に使用したときには内
容物を透視することができない。しかも、蒸着さ
れたアルミニウムとベースフイルムとの密着強度
も比較的低いためその界面において剥離の生じる
おそれがある。 このような従来の包装材料の欠点を改良すべ
く、例えば特公昭53−12953号公報にはプラスチ
ツク表面にSixOy(x=1、2;y=0、1、2、
3)を蒸着した透明プラスチツクフイルムが提案
されている。このSixOy蒸着フイルムは、しかし
ながら、カールしやすく、クラツクが発生しやす
い。そのために用途が極端に限定され実用的では
ない。特開昭54−152089号公報には金属、金属酸
化物および酸化ケイ素を蒸着したポリエステルフ
イルムが開示されている。この蒸着フイルムは基
材にポリエステルフイルムが用いられたときのみ
その防湿性能を発揮しうるにすぎない。 電子工業分野においても、近年ますます、EL
素子や太陽電池などに透明でしかも高度の耐湿性
能を有する膜が保護膜として要求されつつある。 発明の目的: 本発明の目的は、極めて優れた耐湿性を有する
透明薄膜の形成方法を提供することにある。本発
明の他の目的は、基材フイルムとの密着性に優れ
た耐湿性透明薄膜の形成方法を提供することにあ
る。 発明の要旨: 本発明は、系内へ水蒸気を導入しこれを所定の
レベルに制御することにより、その間に基材フイ
ルム上に形成される酸化マグネシウム薄膜中に
Mg(OH)2が含まれる酸化マグネシウム薄膜が透
湿度を極端に低下せしめるとの本発明者の新規な
知見にもとづいて完成された。それゆえ、本発明
の薄膜形成方法は、真空槽内に水蒸気を導入しな
がら酸化マグネシウムを加熱蒸発させることによ
り透明なプラスチツク基材上に厚さ100〜5000Å
の透明な酸化マグネシウム薄膜を形成するもので
あり、そのことにより上記目的が達成される。 基材として用いられる透明プラスチツクとして
は、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポ
リビニルブチラール、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエステルなどがある。しかし、これら
に限定される必要はない。これらプラスチツクス
から作られる基材フイルムはフレキシブルである
ことが好ましい。なお、基材は板状であつてもよ
いし、レンズ状のプラスチツク成形体であつても
よい。フレキシブルな基材フイルムの厚みは5〜
300μm好ましくは5〜100μmの範囲に選ばれる。
フイルムを連続的に蒸着するためには、通常、冷
却ロールを通した巻取り工程が必要である。フイ
ルムが例えば5μm以下のように薄すぎるとしわ
の発生や亀裂が生じやすくなる。厚すぎるとフイ
ルムのフレキシビリテイがなくなり、連続巻取り
操作が不可能となる。 これら透明プラスチツク基材に、水蒸気を導入
しながら酸化マグネシウムを加熱蒸発させ、透明
な酸化マグネシウム薄膜を形成する。具体的に
は、真空槽内に上記透明基材フイルムを入れ真空
槽を真空ポンプで排気しながら、酸化マグネシウ
ムを高周波誘導加熱、電子ビーム加熱などの既知
の加熱方法で加熱する。この加熱により発生する
酸化マグネシウムの蒸気の一部と水蒸気とが反応
し膜中にMg(OH)2を含んだ酸化マグネシウム薄
膜がこの基材フイルム上に形成される。槽内を排
気したときに水蒸気が残留ガスの大部分を占め、
その水蒸気も本発明方法に関与するが、水蒸気圧
を一定に制御するためには、水蒸気を外部から導
入するのが好ましい。 水蒸気圧は、通常、真空槽の容器、真空ポンプ
の排気能力、酸化マグネシウムの蒸発速度などに
よつて適宜決定されるが、水蒸気圧と酸化マグネ
シウムの蒸着速度との比が1×10-5torr/(Å/
sec)以上であつて1×10-3Torr/(Å/sec)
以下であることが好ましい。1×10-5Torr/
(Å/sec)以下の水蒸気導入量では、できたフイ
ルムの水蒸気透過量が多くなる。つまり、防湿特
性が劣る。その原因は詳細が不明ではあるがX線
回折や赤外線吸収による観察によれば、1×
10-5Torr/(Å/sec)以下の水蒸気圧において
は蒸着された酸化マグネシウム膜中に存在する
Mg(OH)2の量のためか、それともMg(OH)2が
微量存在するためにMgOの結晶配向性が変化し
たためかのいづれかの理由であろうと推察され
る。 水蒸気圧が1×10-3Torr/(Å/sec)以上に
なると、作業性の点で多くの問題が生じる。例え
ば、電子ビーム蒸着の場合には放電のために蒸着
できなくなる。蒸着速度を非常に遅くすれば導入
する水蒸気圧を低くすることができるが、生産効
率が極端に悪くなる。 蒸着膜の厚みは、通常、100Å〜5000Åの範囲
に選ばれる。膜層がこの範囲にあると蒸着膜は柔
軟性を有し、素材フイルムとの密着性も良好であ
る。JISD−0202によるセロフアンテープ剥離テ
ストに耐えうる。1000Å以下の膜厚でも優れた防
湿性を示す。蒸着膜の厚みが5000Å以上になる
と、蒸着膜の内部応力のためにフイルムがカール
しやすくなる。同時に、亀裂や剥離が生じやすく
なり、防湿機能が低下する。膜厚が100Å以下に
なると島状構造をとり連続的な膜にならない。そ
のため、防湿性が劣る。 実施例: 以下に本発明の実施例について説明する。 実施例 1 厚さ15μmのポリエチレンテレフタレート
(PET)フイルムを基材フイルムとして真空槽内
に配置した。槽内をあらかじめ1×10-5Torrに
排気したのち、5×10-4Torrの水蒸気を導入し、
純度99.9%の酸化マグネシウムを電子ビーム加熱
方式により蒸着した。マグネシウム酸化物の成膜
速度は約30Å/secになるよう、水晶発振式モニ
ターでモニターしながら蒸着した。そして、膜厚
が1000Åと2000Åの2種類の蒸着膜を得た。この
ようにして得られた透明蒸着フイルムの透湿度を
表に示す。透湿度はJISZ―0208に基づく40℃・
90%RHにおける水蒸気透過率である。 実施例 2 水蒸気圧を5×10-4torrに制御し、そして蒸着
速度を3Å/secとしたこと以外は実施例1と同
じである。蒸着膜の膜厚は1000Åであつた。得ら
れた透明蒸着フイルムの透湿度を表に示す。 実施例 3 水蒸気圧を5×10-5Torrそして蒸着速度を3
Å/secとし、膜厚1000Åの透明なマグネシウム
酸化物薄膜を形成したこと以外はすべて実施例1
と同じである。 実施例 4 基材フイルムに厚さ25μmの二軸延伸ポリプロ
ピレンフイルムも用いたこと以外はすべて実施例
1と同じである。結果を表に示す。 比較例 1 水蒸気圧を5×10-5Torrそして蒸着速度を30
Å/secとし、膜厚1000Åの透明なマグネシウム
酸化物薄膜を形成したこと以外はすべて実施例1
と同じである。透湿度を測定した。 比較例 2 槽内を1×10-5Torrに排気したまま、外部か
ら水蒸気を導入せずに蒸着速度を30Å/secに調
整し膜厚1000Åの透明なマグネシウム酸化物薄膜
を形成したこと以外は実施例1と同じである。透
湿度を測定した。 比較例 3 厚さ15μmのPETフイルム上に膜厚1000Åおよ
び2000Åの透明なSiO2の保護膜を蒸着した。蒸
着速度は30Å/secであつた。得られた蒸着フイ
ルムの透湿度を表に示す。
特に基材の種類にかかわらず透明で高い防湿性の
薄膜を形成する方法に関する。 従来技術: 包装材料、特に食品、薬品、化学製品などの包
装に用いられる包装材料は、内容物の変質を防ぐ
ために防湿機能をもつていることが必要である。
そのために、従来は、例えばベースプラスチツク
フイルムにアルミニウム箔を貼り合わせてアルミ
ニウム箔の防湿特性を利用することが行われてい
る。この場合の包装材料は、防湿性については優
れているがベースプラスチツクフイルムの透明性
が損われ内容物を透視することができない。しか
も、フレキシビリテイが極端に低減するためピン
ホールを生じるおそれがある。包装材料の別の例
としては、それ自体が防湿性を有する塩化ビニリ
デン系・フツ素系樹脂フイルムがある。これらフ
イルムは防湿性を厳しく要求される用途にはフイ
ルム厚を厚くしなければならず、製造作業上にも
種々の問題が生じる。 また、プラスチツクの表面に金属アルミを真空
蒸着することにより防湿性を向上させる試みがな
されている。しかし、アルミ蒸着膜は不透明であ
るために、これを包装材料に使用したときには内
容物を透視することができない。しかも、蒸着さ
れたアルミニウムとベースフイルムとの密着強度
も比較的低いためその界面において剥離の生じる
おそれがある。 このような従来の包装材料の欠点を改良すべ
く、例えば特公昭53−12953号公報にはプラスチ
ツク表面にSixOy(x=1、2;y=0、1、2、
3)を蒸着した透明プラスチツクフイルムが提案
されている。このSixOy蒸着フイルムは、しかし
ながら、カールしやすく、クラツクが発生しやす
い。そのために用途が極端に限定され実用的では
ない。特開昭54−152089号公報には金属、金属酸
化物および酸化ケイ素を蒸着したポリエステルフ
イルムが開示されている。この蒸着フイルムは基
材にポリエステルフイルムが用いられたときのみ
その防湿性能を発揮しうるにすぎない。 電子工業分野においても、近年ますます、EL
素子や太陽電池などに透明でしかも高度の耐湿性
能を有する膜が保護膜として要求されつつある。 発明の目的: 本発明の目的は、極めて優れた耐湿性を有する
透明薄膜の形成方法を提供することにある。本発
明の他の目的は、基材フイルムとの密着性に優れ
た耐湿性透明薄膜の形成方法を提供することにあ
る。 発明の要旨: 本発明は、系内へ水蒸気を導入しこれを所定の
レベルに制御することにより、その間に基材フイ
ルム上に形成される酸化マグネシウム薄膜中に
Mg(OH)2が含まれる酸化マグネシウム薄膜が透
湿度を極端に低下せしめるとの本発明者の新規な
知見にもとづいて完成された。それゆえ、本発明
の薄膜形成方法は、真空槽内に水蒸気を導入しな
がら酸化マグネシウムを加熱蒸発させることによ
り透明なプラスチツク基材上に厚さ100〜5000Å
の透明な酸化マグネシウム薄膜を形成するもので
あり、そのことにより上記目的が達成される。 基材として用いられる透明プラスチツクとして
は、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポ
リビニルブチラール、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエステルなどがある。しかし、これら
に限定される必要はない。これらプラスチツクス
から作られる基材フイルムはフレキシブルである
ことが好ましい。なお、基材は板状であつてもよ
いし、レンズ状のプラスチツク成形体であつても
よい。フレキシブルな基材フイルムの厚みは5〜
300μm好ましくは5〜100μmの範囲に選ばれる。
フイルムを連続的に蒸着するためには、通常、冷
却ロールを通した巻取り工程が必要である。フイ
ルムが例えば5μm以下のように薄すぎるとしわ
の発生や亀裂が生じやすくなる。厚すぎるとフイ
ルムのフレキシビリテイがなくなり、連続巻取り
操作が不可能となる。 これら透明プラスチツク基材に、水蒸気を導入
しながら酸化マグネシウムを加熱蒸発させ、透明
な酸化マグネシウム薄膜を形成する。具体的に
は、真空槽内に上記透明基材フイルムを入れ真空
槽を真空ポンプで排気しながら、酸化マグネシウ
ムを高周波誘導加熱、電子ビーム加熱などの既知
の加熱方法で加熱する。この加熱により発生する
酸化マグネシウムの蒸気の一部と水蒸気とが反応
し膜中にMg(OH)2を含んだ酸化マグネシウム薄
膜がこの基材フイルム上に形成される。槽内を排
気したときに水蒸気が残留ガスの大部分を占め、
その水蒸気も本発明方法に関与するが、水蒸気圧
を一定に制御するためには、水蒸気を外部から導
入するのが好ましい。 水蒸気圧は、通常、真空槽の容器、真空ポンプ
の排気能力、酸化マグネシウムの蒸発速度などに
よつて適宜決定されるが、水蒸気圧と酸化マグネ
シウムの蒸着速度との比が1×10-5torr/(Å/
sec)以上であつて1×10-3Torr/(Å/sec)
以下であることが好ましい。1×10-5Torr/
(Å/sec)以下の水蒸気導入量では、できたフイ
ルムの水蒸気透過量が多くなる。つまり、防湿特
性が劣る。その原因は詳細が不明ではあるがX線
回折や赤外線吸収による観察によれば、1×
10-5Torr/(Å/sec)以下の水蒸気圧において
は蒸着された酸化マグネシウム膜中に存在する
Mg(OH)2の量のためか、それともMg(OH)2が
微量存在するためにMgOの結晶配向性が変化し
たためかのいづれかの理由であろうと推察され
る。 水蒸気圧が1×10-3Torr/(Å/sec)以上に
なると、作業性の点で多くの問題が生じる。例え
ば、電子ビーム蒸着の場合には放電のために蒸着
できなくなる。蒸着速度を非常に遅くすれば導入
する水蒸気圧を低くすることができるが、生産効
率が極端に悪くなる。 蒸着膜の厚みは、通常、100Å〜5000Åの範囲
に選ばれる。膜層がこの範囲にあると蒸着膜は柔
軟性を有し、素材フイルムとの密着性も良好であ
る。JISD−0202によるセロフアンテープ剥離テ
ストに耐えうる。1000Å以下の膜厚でも優れた防
湿性を示す。蒸着膜の厚みが5000Å以上になる
と、蒸着膜の内部応力のためにフイルムがカール
しやすくなる。同時に、亀裂や剥離が生じやすく
なり、防湿機能が低下する。膜厚が100Å以下に
なると島状構造をとり連続的な膜にならない。そ
のため、防湿性が劣る。 実施例: 以下に本発明の実施例について説明する。 実施例 1 厚さ15μmのポリエチレンテレフタレート
(PET)フイルムを基材フイルムとして真空槽内
に配置した。槽内をあらかじめ1×10-5Torrに
排気したのち、5×10-4Torrの水蒸気を導入し、
純度99.9%の酸化マグネシウムを電子ビーム加熱
方式により蒸着した。マグネシウム酸化物の成膜
速度は約30Å/secになるよう、水晶発振式モニ
ターでモニターしながら蒸着した。そして、膜厚
が1000Åと2000Åの2種類の蒸着膜を得た。この
ようにして得られた透明蒸着フイルムの透湿度を
表に示す。透湿度はJISZ―0208に基づく40℃・
90%RHにおける水蒸気透過率である。 実施例 2 水蒸気圧を5×10-4torrに制御し、そして蒸着
速度を3Å/secとしたこと以外は実施例1と同
じである。蒸着膜の膜厚は1000Åであつた。得ら
れた透明蒸着フイルムの透湿度を表に示す。 実施例 3 水蒸気圧を5×10-5Torrそして蒸着速度を3
Å/secとし、膜厚1000Åの透明なマグネシウム
酸化物薄膜を形成したこと以外はすべて実施例1
と同じである。 実施例 4 基材フイルムに厚さ25μmの二軸延伸ポリプロ
ピレンフイルムも用いたこと以外はすべて実施例
1と同じである。結果を表に示す。 比較例 1 水蒸気圧を5×10-5Torrそして蒸着速度を30
Å/secとし、膜厚1000Åの透明なマグネシウム
酸化物薄膜を形成したこと以外はすべて実施例1
と同じである。透湿度を測定した。 比較例 2 槽内を1×10-5Torrに排気したまま、外部か
ら水蒸気を導入せずに蒸着速度を30Å/secに調
整し膜厚1000Åの透明なマグネシウム酸化物薄膜
を形成したこと以外は実施例1と同じである。透
湿度を測定した。 比較例 3 厚さ15μmのPETフイルム上に膜厚1000Åおよ
び2000Åの透明なSiO2の保護膜を蒸着した。蒸
着速度は30Å/secであつた。得られた蒸着フイ
ルムの透湿度を表に示す。
【表】
発明の効果:
水蒸気を系内に導入しながら形成される本発明
の透明薄膜は、水蒸気を導入しないで得られる透
明薄膜に比較して防湿性能が飛躍的に向上する。
基材フイルムとの間の密着性においても優れてい
る。この薄膜は、従来のSiO2蒸着膜に比較して
も防湿性能、耐クラツク性などにおいて格段に優
れている。本発明による透明薄膜をつけたフイル
ムは、透明プラスチツクフイルムとしては従来に
ない極端に高度な防湿性能を有し、それがため
に、透明でかつ高防湿性の要求される食品、医薬
品、化学薬品などの包装材および電子工業分野に
おけるEL素子や太陽電池の保護膜として最適で
ある。
の透明薄膜は、水蒸気を導入しないで得られる透
明薄膜に比較して防湿性能が飛躍的に向上する。
基材フイルムとの間の密着性においても優れてい
る。この薄膜は、従来のSiO2蒸着膜に比較して
も防湿性能、耐クラツク性などにおいて格段に優
れている。本発明による透明薄膜をつけたフイル
ムは、透明プラスチツクフイルムとしては従来に
ない極端に高度な防湿性能を有し、それがため
に、透明でかつ高防湿性の要求される食品、医薬
品、化学薬品などの包装材および電子工業分野に
おけるEL素子や太陽電池の保護膜として最適で
ある。
Claims (1)
- 1 真空槽内に水蒸気を導入しながら酸化マグネ
シウムを加熱し蒸発させることにより透明なプラ
スチツク基材上に厚さ100〜5000Åの透明な酸化
マグネシウム薄膜を形成する防湿性を有する透明
薄膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15828183A JPS6050164A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15828183A JPS6050164A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6050164A JPS6050164A (ja) | 1985-03-19 |
| JPS6315345B2 true JPS6315345B2 (ja) | 1988-04-04 |
Family
ID=15668165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15828183A Granted JPS6050164A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6050164A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02129426A (ja) * | 1988-11-05 | 1990-05-17 | Tokai Rubber Ind Ltd | 流体封入式マウント装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62154676A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | スパツタ薄膜の配向強度の改良方法 |
| JPH0759747B2 (ja) * | 1988-03-09 | 1995-06-28 | 日本真空技術株式会社 | 透明導電膜の製造方法 |
| JPH05311412A (ja) * | 1992-05-11 | 1993-11-22 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着材料および透明バリヤーフィルムの製造方法 |
| JP2006010066A (ja) | 2004-05-25 | 2006-01-12 | Nichido Kogyo Kk | 結束バンドおよび結束バンドセット |
-
1983
- 1983-08-29 JP JP15828183A patent/JPS6050164A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02129426A (ja) * | 1988-11-05 | 1990-05-17 | Tokai Rubber Ind Ltd | 流体封入式マウント装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6050164A (ja) | 1985-03-19 |
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