JPS63164218U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63164218U JPS63164218U JP15788486U JP15788486U JPS63164218U JP S63164218 U JPS63164218 U JP S63164218U JP 15788486 U JP15788486 U JP 15788486U JP 15788486 U JP15788486 U JP 15788486U JP S63164218 U JPS63164218 U JP S63164218U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- plasma reaction
- reaction processing
- microwave
- microwave plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案に係るマイクロ波プラズマ反応
処理装置の全体図、第２図は同軸ケーブルの断面
図、第３図は別実施例に係る装置の全体図、第４
図はＴＶカメラ取り付け部の拡大図、第５図は従
来装置の全体図である。 尚、図面中２はケース、３はチヤンバー、７は
テーブル、８はマイクロ波発振器、９は可撓性同
軸ケーブル、１５はアンテナ、Ｗは被処理体であ
る。
処理装置の全体図、第２図は同軸ケーブルの断面
図、第３図は別実施例に係る装置の全体図、第４
図はＴＶカメラ取り付け部の拡大図、第５図は従
来装置の全体図である。 尚、図面中２はケース、３はチヤンバー、７は
テーブル、８はマイクロ波発振器、９は可撓性同
軸ケーブル、１５はアンテナ、Ｗは被処理体であ
る。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 発振器にて発生したマイクロ波をチヤンバ
ー内に伝送し、チヤンバー内に導入した処理ガス
をプラズマ化して被処理体を処理するようにした
マイクロ波プラズマ反応処理装置において、前記
マイクロ波に先端部にアンテナを備えた可撓性同
軸ケーブルにて伝送されることを特徴とするマイ
クロ波プラズマ反応処理装置。 (2) 前記チヤンバーの周囲には磁場発生用コイ
ルが配設されていることを特徴とする実用新案登
録請求の範囲第１項記載のマイクロ波プラズマ反
応処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15788486U JPS63164218U (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15788486U JPS63164218U (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63164218U true JPS63164218U (ja) | 1988-10-26 |
Family
ID=31080851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15788486U Pending JPS63164218U (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63164218U (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51101243A (en) * | 1975-03-04 | 1976-09-07 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Koshuhakanetsusochi |
| JPS5696842A (en) * | 1979-12-28 | 1981-08-05 | Fujitsu Ltd | Microwave plasma treating apparatus |
| JPS60124823A (ja) * | 1983-12-09 | 1985-07-03 | Hitachi Ltd | エツチング・モニタ方法 |
| JPS60232702A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-19 | Nippon Soken Inc | マイクロ波プロ−ブ |
| JPS61168921A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-30 | Hitachi Ltd | マイクロ波処理装置 |
| JPS62291922A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-18 | Canon Inc | プラズマ処理装置 |
-
1986
- 1986-10-15 JP JP15788486U patent/JPS63164218U/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51101243A (en) * | 1975-03-04 | 1976-09-07 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Koshuhakanetsusochi |
| JPS5696842A (en) * | 1979-12-28 | 1981-08-05 | Fujitsu Ltd | Microwave plasma treating apparatus |
| JPS60124823A (ja) * | 1983-12-09 | 1985-07-03 | Hitachi Ltd | エツチング・モニタ方法 |
| JPS60232702A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-19 | Nippon Soken Inc | マイクロ波プロ−ブ |
| JPS61168921A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-30 | Hitachi Ltd | マイクロ波処理装置 |
| JPS62291922A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-18 | Canon Inc | プラズマ処理装置 |
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