JPS6320659B2 - - Google Patents
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- JPS6320659B2 JPS6320659B2 JP59152488A JP15248884A JPS6320659B2 JP S6320659 B2 JPS6320659 B2 JP S6320659B2 JP 59152488 A JP59152488 A JP 59152488A JP 15248884 A JP15248884 A JP 15248884A JP S6320659 B2 JPS6320659 B2 JP S6320659B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H5/00—Combined machining
- B23H5/02—Electrical discharge machining combined with electrochemical machining
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、導電性砥石を用い、全ゆる素材の被
加工物に対して電解、放電及び研削の各作用によ
り精密且つ効率的に切断、研削加工を行なうため
に加工方法及び同方法を実施するための加工装置
に関するものである。Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention uses a conductive grindstone to precisely and efficiently cut workpieces made of all kinds of materials through the actions of electrolysis, electrical discharge, and grinding. The present invention relates to a processing method for performing grinding processing and a processing device for carrying out the method.
(従来の技術)
従来、超硬合金等の難加工材の研削や精密切断
加工には、電気的エネルギーを利用する放電加工
が採用されている。(Prior Art) Conventionally, electrical discharge machining, which uses electrical energy, has been employed for grinding and precision cutting of difficult-to-process materials such as cemented carbide.
しかし、この放電加工法は、通電性を前提とし
た加工法であるため、セラミツクス、ガラス、石
英、水晶、サフアイヤ等の非導電性の難加工材の
加工に対して適用できないという欠点があつた。 However, since this electrical discharge machining method is based on electrical conductivity, it has the disadvantage that it cannot be applied to machining non-conductive and difficult-to-process materials such as ceramics, glass, quartz, crystal, and sapphire. .
この欠点を解消するために、本発明者等は先に
第11図に示すような、非導電性の研摩部2と導
電部3とを放射状に且つ交互に設けた円盤状砥石
1の中心部に前記導電部3と接続する導電環4を
設け、同導電環4と被加工物5との間に電源6を
接続して、回転する砥石1と被加工物間に特殊な
加工液をかけながら交流電圧又は直流電圧を印加
し、導電性及び非導電性の被加工物5を加工す
る、所謂「電解放電研削加工法」を提案した。 In order to eliminate this drawback, the present inventors previously developed a disc-shaped grindstone 1 in which non-conductive polishing parts 2 and conductive parts 3 are arranged radially and alternately, as shown in FIG. A conductive ring 4 is provided to connect with the conductive part 3, a power source 6 is connected between the conductive ring 4 and the workpiece 5, and a special machining liquid is applied between the rotating grindstone 1 and the workpiece. The authors proposed a so-called "electrolytic discharge grinding method" in which conductive and non-conductive workpieces 5 are machined by applying alternating current or direct current voltage.
この電解放電研削加工法は、砥石1が回転し、
その導電部3が被加工物5の近傍に来たとき、そ
こで加工液の介在で電解と放電とが起り、放電エ
ネルギーを受けて極めて脆くなつた部分を研摩部
2をもつて研削するものであると考えられてい
る。 In this electrolytic discharge grinding method, the grinding wheel 1 rotates,
When the conductive part 3 comes close to the workpiece 5, electrolysis and discharge occur due to the presence of machining fluid, and the part that has become extremely brittle due to the discharge energy is ground using the abrasive part 2. It is thought that there is.
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、この電解放電研削加工法は、研
摩部2と導電部3とが交互に形成される砥石1を
使用した場合に限つて前記加工を行なうことがで
きるものであり、他の砥石を、即ち非導性の砥石
は勿論のこと、全面導電性砥石によつても加工が
できないという欠点があつた。(Problems to be Solved by the Invention) However, this electrolytic discharge grinding method can perform the processing only when using a grindstone 1 in which abrasive portions 2 and conductive portions 3 are alternately formed. However, it has the disadvantage that it cannot be processed with other grindstones, that is, not only with non-conductive grindstones but also with completely conductive grindstones.
本発明は、上記の欠点を考慮してなされたもの
で、その目的は砥石とこの砥石に接触する被加工
物との間に、交番波形を半波毎に制御して得た、
加工に最適な波形からなる出力電圧又は電流を印
加することにより、砥石に導電性があれば、如何
なる砥石によつても上記研削加工を行なうことの
できる電解放電研削加工法及び装置を提供するこ
とにある。 The present invention has been made in consideration of the above drawbacks, and its purpose is to control an alternating waveform every half wave between a grinding wheel and a workpiece that comes into contact with the grinding wheel.
To provide an electrolytic discharge grinding method and device that can perform the above-mentioned grinding process using any grindstone as long as the grindstone has conductivity by applying an output voltage or current having a waveform most suitable for the process. It is in.
(問題点を解決するための手段及び作用)
このため、本発明は第1に電解放電研削加工法
として回転する円盤形状の導電性砥石と該砥石に
接触する被加工物との間に、交番波形を基本波形
とし、これにパルス波を重畳等して半波毎に加工
に適する波形に制御した出力電圧又は電流を印加
することを構成要件とし、第2に同加工装置とし
て第1の支持機構に支持された被加工物と、前記
第1の支持機構に対して相対的に移動できる第2
の支持機構に支持された円盤状の導電性砥石と、
前記第1又は第2の支持機構に接続され、前記第
1又は第2の支持機構を他方に対して相対的に駆
動する駆動機構と、前記導電性砥石と前記導電性
砥石に接触する被加工物との間に、交番波形を基
本波形とし、これにパルス波を重畳等して半波毎
に加工に適する波形に制御した出力電圧又は電流
を印加する電源を設けることをその構成として、
これらの構成をもつて上記問題点の解決手段とす
るものである。(Means and effects for solving the problems) Therefore, the present invention first provides an electrolytic discharge grinding method in which an alternating conductive grinding wheel is installed between a rotating disc-shaped conductive grinding wheel and a workpiece that comes into contact with the grinding wheel. The basic waveform is a basic waveform, and a pulse wave is superimposed on it to apply an output voltage or current controlled to a waveform suitable for processing every half wave.Secondly, the first support as the processing equipment is a workpiece supported by the mechanism; and a second support mechanism movable relative to the first support mechanism.
a disc-shaped conductive grindstone supported by a support mechanism;
a drive mechanism that is connected to the first or second support mechanism and drives the first or second support mechanism relative to the other; the conductive grindstone; and a workpiece that contacts the conductive grindstone. Its configuration is to provide a power source between the product and the object, which applies an output voltage or current controlled to a waveform suitable for processing every half wave by using an alternating waveform as a basic waveform and superimposing a pulse wave on it.
These configurations are intended to solve the above problems.
以下、本発明の構成及びその作用を更に具体的
に説明する。 Hereinafter, the structure and operation of the present invention will be explained in more detail.
第1図は本発明の電解放電研削加工法及び装置
を説明するためのブロツク図を示したもので、6
は交流電源、7は電源回路、8は信号発生回路、
9は波形成形回路、10は出力回路、11はスイ
ツチング回路であり、スイツチング回路11の出
力端子は被加工物13を支持する第1の支持機構
12と円盤状の導電性砥石14の間に印加されて
いる。 Figure 1 shows a block diagram for explaining the electrolytic discharge grinding method and apparatus of the present invention.
is an AC power supply, 7 is a power supply circuit, 8 is a signal generation circuit,
9 is a waveform shaping circuit, 10 is an output circuit, and 11 is a switching circuit, and the output terminal of the switching circuit 11 is used to apply an electric current between the first support mechanism 12 that supports the workpiece 13 and the disc-shaped conductive grindstone 14. has been done.
また、円盤状の導電性砥石14は第2の支持機
構15に支持され、第2の支持機構15は駆動機
構16により第1の支持機構12と相対的に駆動
される。 Further, the disc-shaped conductive grindstone 14 is supported by a second support mechanism 15 , and the second support mechanism 15 is driven by a drive mechanism 16 relative to the first support mechanism 12 .
なお、ここでいう導電性砥石14としては、一
般に砥粒に金属粉末を混ぜ、これにバインダーと
してガラスやレジンを混入し、これを円盤状にし
て焼結したもの、砥粒にバインダーを混入して焼
結した一般の円盤状砥石に無電解メツキを施して
導電性を与えたもの、或は金属製円盤の周縁にダ
イヤモンド粒子やCBN粒子を合金(主に銅合金)
をバインダーとして焼き固めるか、又は電着させ
たものがある。 The conductive whetstone 14 mentioned here is generally made by mixing abrasive grains with metal powder, mixing glass or resin as a binder, and sintering this into a disk shape, or by mixing a binder with abrasive grains. A general disc-shaped grindstone sintered with electroless plating to give it conductivity, or a metal disc with diamond particles or CBN particles alloyed around the periphery (mainly copper alloy)
There are products that are baked or electrodeposited as a binder.
また、第2図イに示すように一般の円盤状砥石
14の端面及び側面に溝17を設け、この溝17
に金属を挿入したり、或は導電性塗料を塗布した
りしたもの、第2図ロに示すような円盤状の砥石
14が薄い場合には、円盤状砥石14の両側面か
ら端面に重ならないよう表裏両面に交互に溝18
を設け、この溝18内に金属を挿入するか、内面
に金属を接着するか、又は導電性塗料を塗布する
ものがある。 In addition, as shown in FIG.
If the disc-shaped grinding wheel 14 is thin as shown in FIG. Grooves 18 alternately on both the front and back sides.
In some cases, a metal is inserted into the groove 18, a metal is bonded to the inner surface, or a conductive paint is applied.
更に、第2図ハに示すように円盤状砥石14の
端部から中心に穴19を貫通させ、この穴19に
金属を挿入するものもある。また、第2図ニに示
すように円盤状砥石14の両側面に互い違いに放
射状の凹部20及び凸部21を設け、この凹部2
0の内面に金属層又は導電性塗料層を設けること
もある。 Furthermore, as shown in FIG. 2C, there is also one in which a hole 19 is penetrated from the end of the disc-shaped grindstone 14 to the center, and a metal is inserted into this hole 19. In addition, as shown in FIG.
A metal layer or a conductive paint layer may be provided on the inner surface of the 0.
このように構成した本発明では、電源6は商用
周波数電源又はこの商用周波数に近い交流電源で
あり、電源6からの交流電圧は電源回路7で全波
整流されるか、そのままの波形で波高値の異なる
電圧をスイツチング回路11へ入力する。また、
信号発生回路8はサイリスタ(SCR)又はシリ
コンシンメトリカルスイツチ(SSS)等を使用し
てパルス信号を発生し、スイツチング回路11に
入力する。波形成形回路9は電源回路7からの電
圧を方形波信号に成形して出力する。制御回路1
0はトランジスタ又はサイリスタ等からなり、電
源回路7、信号発生回路8及び波形成形回路9か
らの出力によりトランジスタ又はサイリスタの出
力を制御し、砥石14及び被加工物13に流れる
電流を制御する。スイツチング回路11は電源回
路7、信号発生回路8及び波形成形回路9からの
半波毎に制御された出力を組み合わせて被加工物
13及び導電性砥石14の構造に合つたパルスを
重畳させた電圧を導電性砥石14と被加工物の間
に印加する。 In the present invention configured in this manner, the power source 6 is a commercial frequency power source or an AC power source close to this commercial frequency, and the AC voltage from the power source 6 is either full-wave rectified in the power source circuit 7 or the waveform is changed as it is to the peak value. Different voltages are input to the switching circuit 11. Also,
The signal generating circuit 8 generates a pulse signal using a thyristor (SCR) or a silicon symmetrical switch (SSS), and inputs it to the switching circuit 11. The waveform shaping circuit 9 shapes the voltage from the power supply circuit 7 into a square wave signal and outputs the square wave signal. Control circuit 1
0 is composed of a transistor, a thyristor, etc., and controls the output of the transistor or thyristor by the output from the power supply circuit 7, signal generation circuit 8, and waveform shaping circuit 9, and controls the current flowing to the grindstone 14 and the workpiece 13. A switching circuit 11 generates a voltage by combining outputs controlled every half wave from a power supply circuit 7, a signal generation circuit 8, and a waveform shaping circuit 9, and superimposing pulses suitable for the structure of a workpiece 13 and a conductive grindstone 14. is applied between the conductive grindstone 14 and the workpiece.
通常のパルス発生能力のない電源を用いる場
合、上記の如く導電部と研摩部を交互に形成した
砥石でしか加工ができず、全面導電性の砥石を使
うと砥石と被加工物の接触領域ではたまにしか放
電が発生せず、従つてこのときの加工は主に機械
的研削作用と電解作用により行なわれることにな
り、放電作用の占める割合は僅かなものとなる。
このため、高能率の加工が期待できないものであ
つた。 When using a normal power source that does not have the ability to generate pulses, processing can only be done with a grindstone that has alternating conductive parts and abrasive parts as described above. Electric discharge occurs only occasionally, and therefore machining at this time is performed mainly by mechanical grinding action and electrolytic action, and the ratio of the electric discharge action is small.
For this reason, high efficiency machining could not be expected.
しかるに、本発明によれば交番電源にパルス発
生機能を付加した電源を使用し、且つその周波数
を自由に変更し得るようにしてあるため、全面導
電性の砥石を使用しても、その出力波形を適切な
波形に形成することで、砥石と被加工物の接触領
域でパルスの周波数に対応する頻繁な放電を発生
させることが可能となり、被加工物には常に機械
研削、電解及び放電の三作用が有効に働くように
なる。 However, according to the present invention, a power supply with a pulse generation function added to an alternating box power supply is used, and the frequency can be changed freely, so even if a completely conductive grinding wheel is used, the output waveform will not change. By forming the pulse into an appropriate waveform, it is possible to generate frequent electrical discharges corresponding to the frequency of the pulses in the contact area of the grinding wheel and the workpiece, and the workpiece is constantly exposed to three types of mechanical grinding, electrolysis, and electrical discharge. The action becomes effective.
その結果、パルス発生能力をもたず、且つ波形
自体を複雑に制御できない従来の電源を使用する
加工法に較べると、本発明では全面導電性の砥石
を使つて著しく高効率の加工が可能となり、同時
に放電スパークによつて被加工面のヘリにおける
バリの発生が抑制されて精密な加工をも可能にす
る。 As a result, compared to the conventional machining method that uses a power source that does not have pulse generation capability and cannot control the waveform itself in a complex manner, the present invention enables significantly more efficient machining using a fully conductive grindstone. At the same time, the generation of burrs on the edge of the workpiece surface is suppressed by the discharge spark, making it possible to perform precise machining.
また、本発明の加工法にあつては交番波形を基
本として半波毎にその波形を制御するため、例え
ば半波を被加工物の加工に適した波形とし、残る
半波を砥石のドレスに適した波形にすることも可
能であり、被加工物に対する加工と砥石のドレス
とを同時に且つそれぞれに最も適する出力とする
ことができるようになる。一方、半波毎に波形を
制御できない従来の加工法では、一般に被加工物
の加工に最適な波形と砥石のドレスに最適な波形
とは一致しないにも拘らず、それぞれに最適な波
形が形成できないままに加工が行なわれるため、
この点でも高能率な加工が期待できない。即ち、
本発明によれば、砥石の切れ味が長く続き効率的
で、且つ被加工物に歪や欠陥を残すことなく効果
的な切断、研削加工が可能になる。 In addition, in the processing method of the present invention, the waveform is controlled every half wave based on an alternating waveform, so for example, one half wave is a waveform suitable for processing the workpiece, and the remaining half wave is used to dress the grindstone. It is also possible to create a suitable waveform, and it becomes possible to process the workpiece and dress the grindstone at the same time, with the most suitable output for each. On the other hand, with conventional machining methods that cannot control the waveform for each half wave, the optimal waveform for processing the workpiece and the optimal waveform for dressing the grinding wheel generally do not match, but the optimal waveforms are formed for each. Because processing is performed without being able to do it,
In this respect as well, highly efficient machining cannot be expected. That is,
According to the present invention, the sharpness of the whetstone continues for a long time, and effective cutting and grinding processing can be performed without leaving any distortion or defects on the workpiece.
更に、本発明で被加工物側のみをプラスとする
ように全波整流する場合には、被加工物に対して
半波長毎に独立して交互に異なる加工作用を加え
ることが可能となる。これは半波毎の制御を行な
わない従来の加工法に比較して、半波毎の作用を
相乗的に且つ効果的に利用する本発明の方が遥か
に高い加工能率が達成できるという知見に基づく
ものである。即ち、半波毎の波形制御が行なえな
い従来の加工方法では、電解作用と放電作用を分
離できないため、被加工物には常に両作用が同時
に作用する結果、それぞれの作用が中途半端なも
のになつてしまつて、被加工物にそれ以上の高効
率な加工が期待できないことになる。これに反し
本発明では、電源の結線と調節により両作用を半
波長毎に完全に分離させ、それぞれをその作用に
対して最適な波形として独立させ、電解と放電の
各作用を交互に働かせることができるものであ
り、その結果、被加工物には両作用が相乗的に作
用して加工能率を大巾に改善させられる。 Furthermore, in the case of full-wave rectification in the present invention so that only the side of the workpiece is positive, it becomes possible to independently and alternately apply different processing effects to the workpiece for every half wavelength. This is based on the knowledge that compared to conventional machining methods that do not control each half-wave, the present invention, which utilizes the effects of each half-wave synergistically and effectively, can achieve much higher machining efficiency. It is based on In other words, in conventional machining methods that do not allow waveform control for each half-wave, it is not possible to separate the electrolytic action and the electrical discharge action, so both actions always act on the workpiece at the same time, resulting in each action being incomplete. Once the machine gets used to it, it is no longer possible to expect the workpiece to be processed more efficiently. On the other hand, in the present invention, both effects are completely separated every half wavelength by wiring and adjustment of the power supply, and each effect is made independent as the optimum waveform for that effect, and each effect of electrolysis and discharge is made to work alternately. As a result, both effects act synergistically on the workpiece, greatly improving machining efficiency.
(実施例)
以下、本発明の実施例を図面に基づいて更に具
体的に説明する。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in more detail based on the drawings.
第3図は、第1図の回路の具体的実施例の一部
の回路を示した図で、電源回路7において、トラ
ンスPT1が接続された回路は加工電源出力の主電
源回路であり、このトランスPT1は電源6に一次
巻線が接続され、二次巻線はロータリスイツチ
RS、整流回路REC1を介して端子A,Bが接続さ
れており、また端子A′,B′に接続した場合には
整流回路REC1が外される。トランスPT2が接続
された回路はパルス発生回路8に入力を与える電
源回路であり、一次巻線は電源に接続され、二次
巻線の一端は整流回路REC2、抵抗R1を介して端
子Cに接続され、他端は整流回路REC2を介して
端子Dに接続され、更に端子CD間にコンデンサ
C1、ゼナーダイオードZ1が接続されている。ト
ランスPT3が接続された回路は出力回路10に平
滑又は正弦波全波バイアス電流を与えるための電
源回路であり、一次巻線の一端は整流回路REC3、
抵抗R2を介して端子Eに接続され、他端は整流
回路REC3を介して端子Fに接続され、端子EF間
にコンデンサC2、ゼナーダイオードZ2が接続さ
れている。 FIG. 3 is a diagram showing a part of a specific embodiment of the circuit shown in FIG. 1. In the power supply circuit 7, the circuit to which the transformer PT 1 is connected is the main power supply circuit for outputting the processing power; The primary winding of this transformer PT 1 is connected to the power supply 6, and the secondary winding is connected to the rotary switch.
Terminals A and B are connected via RS and a rectifier circuit REC 1 , and when connected to terminals A' and B', the rectifier circuit REC 1 is disconnected. The circuit to which the transformer PT 2 is connected is a power supply circuit that provides input to the pulse generation circuit 8, the primary winding is connected to the power supply, and one end of the secondary winding is connected to the rectifier circuit REC 2 and a terminal via the resistor R 1 . C, the other end is connected to terminal D via the rectifier circuit REC 2 , and a capacitor is connected between terminals CD.
C 1 and Zener diode Z 1 are connected. The circuit to which the transformer PT 3 is connected is a power supply circuit for providing a smooth or sinusoidal full-wave bias current to the output circuit 10, and one end of the primary winding is connected to a rectifier circuit REC 3 .
It is connected to a terminal E via a resistor R2 , the other end is connected to a terminal F via a rectifier circuit REC3 , and a capacitor C2 and a Zener diode Z2 are connected between the terminals EF.
信号発生回路8は出力に重畳されるパルスを発
生する回路であり、端子Gは端子Kに接続され、
端子Hは可変抵抗VR1、シリコンシンメトリカル
スイツチSS、可変抵抗VR2を介して可変抵抗
VR3の一端に接続され、他端は端子Kに接続さ
れ、摺動子は端子Jに接続され、コンデンサC3
の一端は可変抵抗VR1とシリコンシンメトリカル
スイツチSSの接続点に接続され、他端は端子G
に接続されている。 The signal generation circuit 8 is a circuit that generates a pulse to be superimposed on the output, and the terminal G is connected to the terminal K.
Terminal H is a variable resistor via variable resistor VR 1 , silicon symmetrical switch SS, and variable resistor VR 2 .
VR 3 is connected to one end, the other end is connected to terminal K, the slider is connected to terminal J, and capacitor C 3
One end is connected to the connection point of variable resistor VR 1 and silicon symmetrical switch SS, and the other end is connected to terminal G.
It is connected to the.
波形成形回路9は出力回路10の出力を方形波
にする回路であり、端子L,Mは整流回路REC4
を介して端子N,Pに接続されるとともに、端子
Nは端子Sに接続され、端子QはコイルCHを介
して端子Rに接続され、コデンサC4の一端は端
子Rに、他端は端子Sに接続されている。 The waveform shaping circuit 9 is a circuit that converts the output of the output circuit 10 into a square wave, and the terminals L and M are rectifier circuits REC 4
The terminal N is connected to the terminal S, the terminal Q is connected to the terminal R via the coil CH, one end of the capacitor C4 is connected to the terminal R, and the other end is connected to the terminal R. Connected to S.
出力回路10は導電性砥石14及び被加工物1
3の間に加えられる電圧及びそれらに流れる電流
を制御する回路であり、端子T,Uの間に可変抵
抗VR4,VR5が接続され、可変抵抗VR4の摺動子
は可変抵抗VR6及びダイオードD1を介してトラ
ンジスタTRのベースに接続され、端子Vはダイ
アツクDIの一端及びトランジスタTRのコレクタ
に接続され、エミツタは抵抗R3を介して端子W
に接続され、またダイアツクDIの他端は端子W
に接続されている。更に端子XはダイオードD2
を介してトランジスタTRのベースに接続されて
いる。 The output circuit 10 includes a conductive grindstone 14 and a workpiece 1
This circuit controls the voltage applied between terminals 3 and the current flowing through them, and variable resistors VR 4 and VR 5 are connected between terminals T and U, and the slider of variable resistor VR 4 is connected to variable resistor VR 6. and the base of the transistor TR via the diode D1 , the terminal V is connected to one end of the diode DI and the collector of the transistor TR, and the emitter is connected to the terminal W via the resistor R3 .
and the other end of the diac DI is connected to terminal W.
It is connected to the. Furthermore, terminal X is a diode D 2
is connected to the base of transistor TR through.
なお、端子X及びYは導電性砥石14及び被加
工物13に接続されている。 Note that the terminals X and Y are connected to the conductive grindstone 14 and the workpiece 13.
このように構成した本実施例の回路において、
端子Aが端子Zに、端子Bが端子Mに、端子Zが
端子Lに、端子Cが端子Gに、端子Dが端子H
に、端子Nが端子Vに、端子Sが端子Wに、端子
Eが端子Uに、端子Fが端子Tに、端子Jは端子
Xに、端子Kは端子Wにそれぞれ接続されると、
第4図イに示したように全波整流された波形にパ
ルスが重畳された波形が出力される。このパルス
の幅、即ち半波に重畳されるパルスの数は可変抵
抗VR1を可変することによつて1個以上任意に設
定することができる。 In the circuit of this embodiment configured in this way,
Terminal A becomes terminal Z, terminal B becomes terminal M, terminal Z becomes terminal L, terminal C becomes terminal G, terminal D becomes terminal H
When terminal N is connected to terminal V, terminal S to terminal W, terminal E to terminal U, terminal F to terminal T, terminal J to terminal X, and terminal K to terminal W,
As shown in FIG. 4A, a waveform in which pulses are superimposed on a full-wave rectified waveform is output. The width of this pulse, that is, the number of pulses superimposed on a half wave, can be arbitrarily set to one or more by varying the variable resistor VR1 .
また上記の接続において、端子A,Bの代りに
端子A′,B′に接続すると、第4図ロに示したよ
うに電源6からの交流にパルスが重畳された波形
となる。 Furthermore, in the above connection, if the terminals A' and B' are connected instead of terminals A and B, the waveform will be such that pulses are superimposed on the alternating current from the power source 6, as shown in FIG. 4B.
更に、端子A′を端子Pに、端子B′を端子Qに、
端子Rを端子Zに接続することにより、第4図ハ
に示すような正弦波を方形波にしてパルスを重畳
した波形が得られる。またロータリスイツチRS
によつて電圧を変えることにより平均電圧を可変
にすることができる。 Furthermore, terminal A' becomes terminal P, terminal B' becomes terminal Q,
By connecting terminal R to terminal Z, a waveform in which a sine wave is converted into a square wave and pulses are superimposed as shown in FIG. 4C can be obtained. Also rotary switch RS
The average voltage can be made variable by changing the voltage.
以上のようにその出力電圧を半波毎に制御させ
ることにより、導電性砥石14と被加工物13の
間にパルスが重畳された波形の電圧が印加され、
従つて重畳されたパルスにより連続して微小放電
が行なわれ、砥粒部分で被加工物が研削されると
共にドレスがなされる。 By controlling the output voltage every half wave as described above, a voltage with a waveform in which pulses are superimposed is applied between the conductive grindstone 14 and the workpiece 13,
Therefore, the superimposed pulses cause continuous micro-discharge, and the abrasive grain portion grinds and dresses the workpiece.
第5図は、本発明の他の具体的実施例の一部の
構成図を示したもので、第3図と同じ符号の素子
は同じものを示しているが、この実施例の電源回
路7では、端子A,Bに整流器REC1を省き、ま
た端子E1は抵抗R1を介して整流器REC3に接続
し、端子E2とE3を接続して、端子E2,E3及び端
子Fの間にコンデンサC2及びゼナーダイオード
ZD2を接続している。 FIG. 5 shows a partial configuration diagram of another specific embodiment of the present invention, in which elements with the same symbols as in FIG. 3 indicate the same elements, and the power supply circuit 7 of this embodiment In this case, the rectifier REC 1 is omitted from the terminals A and B, and the terminal E 1 is connected to the rectifier REC 3 via the resistor R 1 , the terminals E 2 and E 3 are connected, and the terminals E 2 , E 3 and the terminal capacitor C between 2 and zener diode
Connecting ZD 2 .
信号発生回路8はシリコンシンメトリカルスイ
ツチSS、可変抵抗VR1,VR2及びコンデンサC3
の回路に平列にシリコンシンメトリカルスイチ
SS′、可変抵抗VR′1,VR′2及びコンデンサC′3が
接続され、可変抵抗VR2,VR′2のそれぞれの摺
動子は端子J1,J2に接続されている。 The signal generation circuit 8 includes a silicon symmetrical switch SS, variable resistors VR 1 and VR 2 , and a capacitor C 3.
Silicon symmetrical switch in parallel to the circuit of
SS', variable resistors VR' 1 , VR' 2 and capacitor C' 3 are connected, and respective sliders of variable resistors VR 2 and VR' 2 are connected to terminals J 1 and J 2 .
出力回路10はトランジスタTR、ダイオード
D1,D2,D3、抵抗R3及び可変抵抗VR4の回路に
平列にトランジスタTR′、ダイオードD′1,D′2,
D′3、抵抗R′3及び可変抵抗VR′4回路が接続され
ている。 The output circuit 10 is a transistor TR and a diode.
Transistor TR ' , diode D'1 , D' 2 ,
D′ 3 , resistor R′ 3 and variable resistor VR′ 4 circuit are connected.
このように構成された本実施例の回路では、電
源6から基本波である交番波形に対して、その半
周期毎にそれぞれ別々の波形として制御すること
ができるので、それぞれ独立した波形の出力を出
すことができる。従つて、導電性砥石14と被加
工物13間に交流を印加した場合には、例えば波
形の半周期を被加工物の研削に適した波形の出力
とし、他の半周期には、導電性砥石の目直しに適
した波形の電圧を出力することができる。 In the circuit of this embodiment configured in this way, the alternating waveform, which is the fundamental wave, can be controlled from the power supply 6 as separate waveforms for each half cycle, so that the output of each independent waveform can be controlled. I can put it out. Therefore, when an alternating current is applied between the conductive grinding wheel 14 and the workpiece 13, for example, a half cycle of the waveform is outputted as a waveform suitable for grinding the workpiece, and the other half cycle is outputted as a waveform suitable for grinding the workpiece. It is possible to output a voltage with a waveform suitable for refinishing a grindstone.
こうした波形を得るための各端子の接続関係と
導電性砥石14及び被加工物13に印加される電
圧波形を第5図乃至第10図について説明する。 The connection relationship of each terminal and the voltage waveforms applied to the conductive grindstone 14 and the workpiece 13 to obtain such waveforms will be explained with reference to FIGS. 5 to 10.
() 第1の接続
まず、端子Aを端子Yに、端子Bを端子V1に、
端子Cを端子Gに、端子Dを端子Hに、端子E1
を端子E2に、端子E3を端子Tに、端子Fを端子
Uに、端子J1,J2を端子X1,X2にそれぞれ接続
し、端子Zを端子V2に接続し、電源回路7のロ
ータリスイツチRSで任意の電圧を選び、信号発
生器8の可変抵抗VR1,VR′1で重畳するパルス
発生間隔、及びパルスの高さを選択すると、第6
図イ,ロ,ハ,ニ,ホの波形を得ることができ
る。() First connection First, terminal A is connected to terminal Y, terminal B is connected to terminal V1 ,
Terminal C to terminal G, terminal D to terminal H, terminal E 1
Connect terminal E 2 to terminal E 2, terminal E 3 to terminal T, terminal F to terminal U, terminals J 1 and J 2 to terminals X 1 and X 2 , respectively, connect terminal Z to terminal V 2 , and connect the power supply. By selecting an arbitrary voltage with the rotary switch RS of the circuit 7 and selecting the pulse generation interval and pulse height to be superimposed with the variable resistors VR 1 and VR' 1 of the signal generator 8, the sixth
The waveforms shown in Figures A, B, C, D, and Ho can be obtained.
() 第2の接続
また、上記において、端子E1とE2を接続せず、
端子E2とE3をオープンにし、端子E1に端子Tを
接続すれば、第7図イ,ロの波形を得ることがで
きる。() Second connection Also, in the above, terminals E 1 and E 2 are not connected,
By opening terminals E 2 and E 3 and connecting terminal T to terminal E 1 , the waveforms shown in FIG. 7 A and B can be obtained.
以上、第1及び第2の接続により形成される出
力波形は、図から明らかなように交番変形を変形
し、或はその半波毎にパルス波を重畳させている
もので、被加工物の加工と砥石のドレスを半波毎
に行なおうとしているものである。 As is clear from the figure, the output waveform formed by the first and second connections is one in which alternating deformation is deformed or a pulse wave is superimposed every half wave of the alternating deformation. We are trying to process and dress the grindstone every half wave.
() 第3の接続
また第1の接続において、電源回路7の端子A
を端子Mに、端子Bに端子V1に、端子Lを端子
V2に、端子Nを端子Yに、端子Pを端子Zに接
続することにより、第8図イ,ロ,ハ,ニ,ホ,
ヘの波形を得ることができる。() Third connection Also, in the first connection, terminal A of the power supply circuit 7
to terminal M, terminal B to terminal V 1 , terminal L to terminal
By connecting the terminal N to the terminal Y and the terminal P to the terminal Z, the terminals A, B, C, D, Ho,
It is possible to obtain the following waveform.
() 第4の接続
第3の接続において、端子E1とE2を接続せず、
端子E2と端子E3をオープンにし、端子E1を端子
Tに接続すると、第9図イ,ロに示した波形を得
ることができる。() Fourth connection In the third connection, terminals E 1 and E 2 are not connected,
If terminal E 2 and terminal E 3 are opened and terminal E 1 is connected to terminal T, the waveforms shown in FIG. 9 A and B can be obtained.
() 第5の接続
第3の接続において端子Bを端子Lに、端子S
を端子V1に、端子Nを端子Qに、端子Rを端子
Yに接続すると、第10図イ,ロに示した波形の
電圧を導電性砥石14と被加工物13の間に印加
することができる。() Fifth connection In the third connection, terminal B is connected to terminal L, and terminal S
When connected to terminal V 1 , terminal N to terminal Q, and terminal R to terminal Y, a voltage with the waveform shown in FIG. Can be done.
以上、第3乃至第5の接続により得られる出力
波形は全波整流の例であり、被加工物の種類、砥
石の種類等により半波毎に波形を制御し、その加
工作用、即ち放電と電解の両作用が半波毎に独立
して最適な状態で働くようにする。 As described above, the output waveforms obtained by the third to fifth connections are examples of full-wave rectification, and the waveforms are controlled every half wave depending on the type of workpiece, the type of grinding wheel, etc., and the machining action, that is, the discharge Both effects of electrolysis are made to work independently and optimally for each half wave.
これを更に具体的な例を挙げて説明する。 This will be explained by giving a more specific example.
いま、直径100mm、厚さ5mmのメタルボンドダ
イヤモンド砥石(粒度170メツシユ、集中度100)
を使用して、モータの負荷電流を同一(3.1A)
とし、電圧波形を変えてダイヤモンド焼結体の研
削を行なつた。 Currently, I have a metal bond diamond grindstone with a diameter of 100 mm and a thickness of 5 mm (grain size 170 mesh, concentration level 100).
Using the same motor load current (3.1A)
The diamond sintered body was ground by changing the voltage waveform.
電圧波形:(a)パルス波を重畳しない全整流波形
(b)同じパルス波を重畳した全整流波形
(c)半波に対しパルス波を重畳させ、次
の半波をそのままにした全整流波形
加工条件:砥石回転数5000(r.p.m)砥石相対移動
速度10(mm/min)
その結果をみると、切込深さは波形(a)で15μm、
波形(b)で25μmであるのに対し、波形(c)では切込
深さが60μmにも達し、研削能率が格段に向上し
ていることが分つた。Voltage waveform: (a) Fully rectified waveform without superimposing a pulse wave (b) Fully rectified waveform with the same pulse wave superimposed (c) Fully rectified waveform with a pulse wave superimposed on a half wave and the next half wave left as is Machining conditions: Grinding wheel rotation speed 5000 (rpm) Grinding wheel relative movement speed 10 (mm/min) Looking at the results, the cutting depth is 15 μm in waveform (a),
It was found that the cutting depth in waveform (c) reached 60 μm, whereas it was 25 μm in waveform (b), and the grinding efficiency was significantly improved.
なお、スイツチング回路11は上記の端子の接
続をそれぞれ機械的に行なつてもよいが、マイク
ロコンピユータを使用して、各波形の出力をプグ
ラムすることができる。また第6図〜第10図に
示した波形は導電性砥石14の種類及び被加工物
の種類によつて任意に選択することができる。 Note that the switching circuit 11 may connect the above-mentioned terminals mechanically, but the output of each waveform can be programmed using a microcomputer. Further, the waveforms shown in FIGS. 6 to 10 can be arbitrarily selected depending on the type of conductive grindstone 14 and the type of workpiece.
(発明の効果)
以上、詳細に説明した如く本発明によれば、導
電性砥石と被加工物に交番波形を基本として、そ
の半波毎にパルスを重畳し、或は波形を変更して
電圧又は電流を印加するようにしたため、従来の
特定の構造をもつ導電性砥石に限らず全ゆる種類
の導電性砥石をもつて、全ゆる種類の被加工物に
対する加工が可能になるもので、特に電圧の平滑
出力、重畳するパルスの高さ、パルス間隔、パル
ス本数等を夫々半波毎に自由に設定できるため、
全ての被加工物に対する最適な加工条件を設定し
得て、効率的で且つ精密な加工が可能になる。(Effects of the Invention) As described above in detail, according to the present invention, a pulse is superimposed on the conductive grindstone and the workpiece based on an alternating waveform every half wave, or the waveform is changed to generate a voltage. Or, since a current is applied, it is possible to process all types of workpieces using not only conventional conductive grindstones with a specific structure but also all types of conductive grindstones. The smoothed voltage output, the height of the superimposed pulses, the pulse interval, the number of pulses, etc. can be freely set for each half wave.
Optimal processing conditions can be set for all workpieces, allowing efficient and precise processing.
ここで、パルス波は主に放電作用に寄与し、平
滑波は電解作用に寄与するものであるが、本発明
にあつては被加工物に対する作用に限るものでは
なく、例えば交番電圧又は電流を反転させること
なく半波毎に適正な波形に制御することにより、
被加工物に対する電解・放電・研削の三作用がな
されることは勿論のこととして、同時に砥石に対
するドレス作用もなされるもので、砥石の目詰ま
りが長期に亙つて回避でき、その切味を長く持続
させ得る。 Here, the pulse wave mainly contributes to the discharge action, and the smooth wave contributes to the electrolysis action, but in the present invention, the action is not limited to the workpiece, and for example, alternating voltage or current may be used. By controlling each half wave to the appropriate waveform without inversion,
Of course, it not only performs the three actions of electrolysis, electrical discharge, and grinding on the workpiece, but also performs a dressing action on the grindstone at the same time, which prevents clogging of the grindstone over a long period of time and maintains its sharpness for a long time. It can be sustained.
更に本発明にあつて、例えば交番波形の一部を
反転させ全波整流とし、半波毎に独立して放電と
電解に夫々適した波形を形成する場合には、被加
工物に対して放電作用と電解作用が夫々独立して
順次働くことになり、従来の如く波形制御のでき
ない場合の中途半端な作用を較べて、一段と加工
能率が高まるものである。 Furthermore, in the present invention, for example, when a part of the alternating waveform is inverted and full-wave rectification is performed, and waveforms suitable for electric discharge and electrolysis are formed independently for each half wave, electric discharge is applied to the workpiece. The action and the electrolytic action work independently and sequentially, and the machining efficiency is further improved compared to the half-finished action that occurs when waveform control is not possible as in the past.
また、本発明にあつては、上記の如く半波毎に
電圧と電流とを最適な値に選択できるので、平均
電流が少なくなり、消費電力も低減できる。 Further, in the present invention, since the voltage and current can be selected to the optimum values for each half wave as described above, the average current can be reduced and power consumption can also be reduced.
第1図は本発明の実施例のブロツク図、第2図
は導電性砥石例の一部立体図、第3図は第1図の
ブロツク図の具体的実施例を示す回路図、第4図
は第3図の回路によつて得られる波形図、第5図
は第1図のブロツク図の他の具体的実施例を示す
回路図、第6図乃至第10図は第5図の回路の各
端子の種々の接続状態における出力波形図、第1
1図は従来の電解放電研削加工法を説明するため
の概略立体図である。
図の主要部分の説明、6…電源、7…電源回
路、8…信号発生回路、9…波形成形回路、10
…出力回路、11…スイツチング回路、12…支
持機構、13…被加工物、14…導電性砥石、1
5…支持機構、16…駆動機構。
Figure 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention, Figure 2 is a partial three-dimensional diagram of an example of a conductive grindstone, Figure 3 is a circuit diagram showing a specific embodiment of the block diagram of Figure 1, and Figure 4. is a waveform diagram obtained by the circuit of FIG. 3, FIG. 5 is a circuit diagram showing another specific example of the block diagram of FIG. 1, and FIGS. 6 to 10 are diagrams of the circuit of FIG. 5. Output waveform diagrams in various connection states of each terminal, 1st
FIG. 1 is a schematic three-dimensional diagram for explaining a conventional electrolytic discharge grinding method. Explanation of main parts of the diagram, 6...Power supply, 7...Power supply circuit, 8...Signal generation circuit, 9...Waveform shaping circuit, 10
...output circuit, 11...switching circuit, 12...support mechanism, 13...workpiece, 14...conductive grindstone, 1
5... Support mechanism, 16... Drive mechanism.
Claims (1)
触する被加工物との間に、交番波形を基本波形と
し、これにパルス波を重畳等して半波毎に加工に
適する波形に制御した出力電圧又は電流を印加す
ることを特徴とする電解放電研削加工法。 2 前記出力電圧又は電流の平均値が被加工物側
でプラスであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の電解放電研削加工法。 3 第1の支持機構に支持された被加工物と、前
記第1の支持機構に対して相対的に移動できる第
2の支持機構に支持された円盤状の導電性砥石
と、前記第1又は第2の支持機構に接続され、前
記第1又は第2の支持機構を他方に対して相対的
に駆動する駆動機構と、前記導電性砥石と前記導
電性砥石に接触する被加工物との間に、交番波形
を基本波形とし、これにパルス波を重畳等して半
波毎に加工に適する波形に制御した出力電圧又は
電流を印加する電源を設けることを特徴とする電
解放電研削加工装置。 4 前記出力電圧又は電流の平均値が被加工物側
でプラスであることを特徴とする特許請求の範囲
第3項記載の電解放電研削加工装置。 5 前記電源は前記波形を連続的に無段階で変更
することができる波形変更手段をもつことを特徴
とする特許請求の範囲第3項記載の電解放電研削
加工装置。[Scope of Claims] 1. An alternating waveform is used as a basic waveform between a rotating disc-shaped conductive grindstone and a workpiece in contact with the grindstone, and a pulse wave is superimposed on this waveform for processing every half wave. An electrolytic discharge grinding method characterized by applying an output voltage or current controlled to a waveform suitable for. 2. The electrolytic discharge grinding method according to claim 1, wherein the average value of the output voltage or current is positive on the workpiece side. 3. A workpiece supported by a first support mechanism, a disc-shaped conductive grindstone supported by a second support mechanism movable relative to the first support mechanism, and the first or a drive mechanism that is connected to a second support mechanism and drives the first or second support mechanism relative to the other; and the conductive grindstone and the workpiece that contacts the conductive grindstone. An electrolytic discharge grinding machine characterized in that it is provided with a power source that applies an output voltage or current controlled to a waveform suitable for machining every half wave by superimposing a pulse wave on the basic waveform of an alternating waveform. 4. The electrolytic discharge grinding apparatus according to claim 3, wherein the average value of the output voltage or current is positive on the workpiece side. 5. The electrolytic discharge grinding apparatus according to claim 3, wherein the power source has a waveform changing means that can change the waveform continuously and steplessly.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15248884A JPS6130327A (en) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | Method and device for grinding with electrolysis and electric discharge |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15248884A JPS6130327A (en) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | Method and device for grinding with electrolysis and electric discharge |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6130327A JPS6130327A (en) | 1986-02-12 |
| JPS6320659B2 true JPS6320659B2 (en) | 1988-04-28 |
Family
ID=15541572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15248884A Granted JPS6130327A (en) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | Method and device for grinding with electrolysis and electric discharge |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6130327A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0425620A (en) * | 1990-05-17 | 1992-01-29 | T H K Kk | Working method for rolling member rolling face in bearing and the bearing |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5926425A (en) * | 1982-07-21 | 1984-02-10 | 三共株式会社 | Method of detecting omission of insertion of appended document |
-
1984
- 1984-07-23 JP JP15248884A patent/JPS6130327A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6130327A (en) | 1986-02-12 |
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