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JPS6320693B2 - - Google Patents
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JPS6320693B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6320693B2
JPS6320693B2 JP9214981A JP9214981A JPS6320693B2 JP S6320693 B2 JPS6320693 B2 JP S6320693B2 JP 9214981 A JP9214981 A JP 9214981A JP 9214981 A JP9214981 A JP 9214981A JP S6320693 B2 JPS6320693 B2 JP S6320693B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
embossing
temperature
embossing roll
roll
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP9214981A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS57207016A (en
Inventor
Hisashi Hamano
Toshiro Ono
Itsuo Ogiuchi
Haruhiko Mizumori
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP9214981A priority Critical patent/JPS57207016A/en
Publication of JPS57207016A publication Critical patent/JPS57207016A/en
Publication of JPS6320693B2 publication Critical patent/JPS6320693B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/04Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29KINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2067/00Use of polyesters or derivatives thereof, as moulding material

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリエチレンテレフタレートのエン
ボス加工フイルムの製造方法に関するものであつ
て、更に詳しくは、厚物の二軸延伸熱固定された
ポリエチレンテレフタレートフイルムの一表面に
微細な凹凸をもつエンボスを施し、フイルム表面
の光線反射が少くかつ汚れ防止機能を備えた表面
被覆材の製造方法に関するものである。 ポリエチレンテレフタレートのエンボス加工フ
イルムは、その優れた力学的特性、熱安定性、耐
薬品性等により、一般工業用途に使用されてい
る。更に、最近ではマイコンに代表されるエレク
トロニクス機器の急激な発達に伴い、キーボード
等の用途ではその表面の光反射が少くかつ表面汚
れ防止効果を備えた被覆材料としてのエンボス加
工フイルムが注目されつつある。 従来の表面被覆材はポリ塩化ビニルが多く、エ
ンボス加工に際し加工性が容易であることから量
的に需要を満していた。またポリエチレンテレフ
タレートフイルムでは未延伸のものや一軸延伸さ
れたものが、加工性が容易であることを理由に、
使用される場合があつた。 しかしながら、これら従来の表面被覆材では、
種々の用途分野における品質設計や要求特性に対
応しきれない状況にある。例えばポリ塩化ビニル
ではその重合体の性質から硬化に伴う劣化が起る
欠点があり、殊に外装用のキーボード盤などには
不適当である。また例えばポリカーボネートのフ
イルムではストレスクラツキングを起し易いなど
耐薬品性に問題がある。また、サンドブラスト加
工によつてフイルム表面に微細な凹凸を形成する
技術が知られているが、この加工フイルムはサン
ドブラスト処理に伴う微細なフイブリルや破砕細
片がフイルム表面に発生しているので、塵埃・油
などの吸着が起こりやすく表面が汚れ易い欠点を
有している。 本発明者は、上述の従来技術の問題点を解決す
べく、ポリエステルフイルムにおいて機械的強
度、耐熱寸法安定性、形体安定性及び汚れ防止機
能を備えた片面エンボスフイルムの加工条件を鋭
意検討した結果、本発明の製造方法を見い出した
ものである。 即ち、本発明は、二軸配向されたポリエステル
フイルムをガラス転移点乃至融点の範囲の温度に
予備加熱しエンボスロールによりエンボス加工を
施す表面被覆材の製造方法において、エンボス加
工の前にあらかじめ該エンボスロールを150℃乃
至230℃の範囲の温度に加熱すること、該エンボ
スロールはその表面に単位面積(cm2)当り450乃
至10000の刻印を有すること、該印凹凸の高さは
5乃至50ミクロンでありかつフイルム厚さの半分
以下であること、及び凹部と凸部の形状における
凸部の直径又は対角線の長さ(D)と凹部の長さ
(W)との間に0.1≦D/W≦1.5の関係があるこ
とを特徴とする表面被覆材の製造方法である。 本発明を説明する。 本発明に供するポリエステルは、エチレンテレ
フタレート単位を少くとも85モル%含むホモポリ
マー又は共重合体である。他にポリプロピレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポ
リブチレンナフタレンジカルボキシレート等を例
示することができる。実用性、結晶性及び融点か
らポリエチレンテレフタレートとポリエチレンナ
フタレンジカルボキシレートが好ましい重合体フ
イルムである。 ポリエステルフイルムにエンボス加工を施すに
は、フイルム厚さとして50μ(ミクロン)乃至
250μ程度のものが好ましい。薄過ぎるフイルム
は形体の安定したエンボス加工を得難く、また厚
過ぎるフイルムはエンボス加工自体が困難となる
傾向がある。 二軸配向したポリエステルフイルムは公知の製
造法で得ることができる。例えばポリエチレンテ
レフタレートの固有粘度0.5〜0.8程度のチツプや
ペレツトを170℃程度の温度で数時間乾燥し、次
いで熔融押出機により溶融し、Tダイ(Iダイ)
を介して薄いシート状に押出し、冷却ドラム表面
で急激に冷却固化して未延伸キヤストフイルムを
得る。次いでこの未延伸フイルムを機械方向(長
手方向)に80℃〜100℃程度の温度で2〜5倍延
伸し、更に90℃〜110℃程度の温度差で幅方向に
2〜4.5倍延伸する。要すれば、熱的寸法安定性
を高めるため、200℃〜230℃の範囲の温度で3秒
〜5秒程度熱固定を施す。このようにして得た密
度1.385〜1.40g/cm3程度のポリエチレンテレフタ
レートフイルムは本発明に適用できる好ましい二
軸配向ポリエステルフイルムである。上述のフイ
ルムの製造法において、二軸延伸を長手方向と副
方向とに同時に施すことができ、また幅方向を先
に延伸し逐いで長手方向の延伸を施すこともでき
る。勿論3段階乃至数段階の長手方向と幅方向と
の延伸を加えることも可能であり、本発明に適用
できる二軸配向されたフイルムに該当する。 フイルムに対するエンボス加工は、(a)フイルム
を予備加熱し、積極的に加熱していないエンボス
ロールにより賦形処理する方法;(b)フイルムは積
極的に加熱せずにエンボスロールのみをフイルム
の熱可塑化温度に加熱し、フイルムに加熱押圧を
施しながら賦形する方法;(c)フイルムもエンボス
ロールも共に加熱する方法とが想定される。本発
明では、上記の(c)の条件を選択するものであり、
形態安定性の堅牢なエンボス賦形が得られる利点
がある。なお、本発明では、フイルムの予備加熱
温度はガラス転移点(Tg)+30℃乃至融点
(Tm)−10℃の範囲、好ましくはTg+80℃〜Tm
−20℃の範囲、更に好ましくはTg+110℃〜Tm
−30℃の範囲が選択できる。また、エンボスロー
ルの温度は150℃乃至230℃の範囲、好ましくは
180℃乃至220℃の範囲に保持しておく。 実際のエンボス加工においては、二軸配向フイ
ルムをTg+30℃〜Tm−30℃(ポリエチレンテ
レフタレートの場合は100℃〜230℃)の範囲の温
度に予備加熱する。この予熱状態でポリエチレン
テレフタレート二軸配向フイルムは可塑化され賦
形され易い性質を帯び、エンボスロール表面のエ
ンボス凹凸模様に応じて刻印される。 本発明に使用されるエンボスロールは、特定の
凹凸模様をロール表面に備えているものである。
このエンボスロールはフイルムの厚さ方向に微細
な凹凸変化を与えるものであるから、凹凸の深さ
と凹凸の分布密度(頻度)が重要である。フイル
ム表面の凹凸による深さ(高さ)が過ぎると光線
の乱反射が著しく表面被覆材として不適当なもの
となる。もつとも表面の凹凸の深さが殆どない浅
いものでは表面の光線反射防止効果が現われない
から被覆材として満足できない。 ここに用いる厚物フイルム用片面エンボス処理
金属ロールの凹凸の深さは5μ〜50μ程度の深さで
あり、好ましくは10〜30μ程度のエンボスの深さ
がより効果的である。一般にフイルムが薄い場合
には、エンボス深さもフイルムの厚さに応じて薄
くする必要がある。100μ未満のフイルムでは、
エンボス深さはフイルムの厚さの1/2以下である
ことが必要となる。薄いフイルムに極度の深いエ
ンボスを加えると、フイルムが局部的に過度の変
形を受けて機械的強度を損うことや、部分的な損
傷、穴を生ずる惧れもある。従つて、エンボス深
さはフイルム厚さの1/2以内において、5〜50μ
のものを選択するとよい。 次にエンボスロール表面の凹凸の分布密度が適
当でないと光の反射又は不透明となりキーボード
の表面被覆材等には不適当である。これらの欠点
を取り除くために種々検討の結果、凹凸の密度範
囲として450ケ/cm2〜10000ケ/cm2が適当であるこ
とを見出したものである。好ましくは2000個/cm2
〜6000個/cm2程度である。 エンボスの模様は氷塊を粉砕したような形状で
も、規則的な絹目模様でもよい。微細な多数の模
様をエンボスロールに刻印することから、規則性
のある場合の方がロール加工がし易い。規則的な
模様としては円(点)、六角形、四角形などが例
示できる。エンボス部分の対角線(最長辺・直
径)の長さをD、境界部の間隔をWとするとき、 0.1≦D/W≦1.5 程度の範囲の条件を満足するように刻印すると、
エンボス加工されたフイルムはキーボードとして
光線反射性が良好となる。 エンボスロールとしては、150℃〜230℃に加熱
できる機能を有し、かつ表面の刻印においてエン
ボス深さ(h)、凹凸頻度(N)、エンボス部の直
径又は対角線の長さ(D)、エンボスと隣接する
エンボスとの境界の間隔(W)、及びフイルムの
厚さtとの間に 450個/cm2≦N≦10000個/cm2 2h≦t (単位:μ) 5≦h≦50 0.1≦D/W≦1.5 なる関係を満足するものが本発明に使用できるも
のと云える。 以上の説明の通り本発明における著しい改良点
は、二軸延伸熱固定フイルムを使用することによ
つて熱安定性と力学特性とが共に充分に保有され
るという点にある。また表面被覆材のために重要
な他の改良点は平面性である。本発明の如く二軸
延伸熱固定フイルムを使用することはエンボス加
工時に発生する平面性の悪化を最少限にとどめる
ことが可能である。 なお、キーボード等の表面被覆材は汚れが問題
であるので二軸延伸フイルムの表面に帯電防止剤
等を塗布し、その後に、エンボス加工を施すこと
によつて表面材に帯電防止効果と防汚性にも効果
を賦与できる。 本発明によれば、キーボードの如き微妙な光線
反射防止能を備えた表面被覆材が得られる。本発
明は二軸配向されかつ熱固定されたポリエステル
フイルムにも容易にエンボス加工を施すことがで
きる。また、フイルムの製膜、延伸工程とエンボ
ス加工工程とを一貫して実施する場合にも本発明
は適用できるものである。 以下実施例により更に説明する。 実施例 1 エンボス加工は、高温で実施することがより効
果的であるが、一方では高温加工によるほど平面
性を悪化させる危険性が大きい。又凹凸の深さ、
分布密度等によつても平面性が左右され、相互の
最適な領域がそれぞれ決められる。 使用したエンボス加工機は、エンボス加工部の
ロールは直径100mmで幅300mmであり、これとバツ
クアツプロール(ペーパーロール)直径200mm、
幅300mmからなり、フイルム走行速度5m/分で処
理を実施した。ロール押圧は70Kg/cm2G〜90Kg/
cm2Gで処理した。エンボス処理用のフイルムは
194μの二軸延伸熱固定ポリエチレンテレフタレ
ートフイルムであり、エンボス処理直前のフイル
ム温度は常温から220℃迄を検討したが、好まし
くは150℃乃至200℃程度であつた。エンボスロー
ルの温度も10℃から210℃迄を検討したが、エン
ボスロールの最適な温度の範囲は150℃〜200℃の
範囲であつた。 これ等の諸条件でテストの結果、フイルムの温
度、エンボスロールの温度ともに高い方がより深
いエンボス加工が可能であつたが、両者の温度が
200℃をこえると平面性が悪化することが判明し
た。又処理温度が高くなるほど処理時の張力も問
題であり、張力はあまり低く過ぎては「しわ」が
入り易く、平面性を損うが、フイルムの温度が高
い場合にもフイルムの張力は比較的高い方が平面
性も良好であつた。 実施例 2 通常の逐次二軸延伸法によりポリエチレンテレ
フタレート194μの延伸フイルムを作成し、続い
て220℃にて5秒間熱固定を実施した。 上記逐次二軸延伸熱固定フイルムを使用し、更
に赤外線ヒーターにて加熱してフイルム表面温度
を200℃とした。エンボスロールも表面を接触式
の表面温度計にて計測の結果200℃であつた。 前記フイルムをエンボスロールとバツクアツプ
ロール間に5m/分の速度で供給しエンボス加熱
処理した。この際のロール間の押圧は80Kg/cm2
であつた。この試験成績を第1表に示す。 比較例 1 二軸延伸熱固定フイルムへのエンボス加工をエ
ンボスロール温度を60℃にて実施した。この際の
ロール間の押圧は最高で90Kg/cm2Gまで検討した。
処理フイルムのエンボス処理直前のフイルム温度
は200℃であつた。結果を第1表に示す。 比較例 2 二軸延伸熱固定フイルムへの赤外線ヒーターに
よる加熱は実施せず、エンボスロールの温度を
200℃に上げた。エンボス処理時のロール押圧を
90Kg/cm2Gとした。結果を第1表に示す。 比較例 3 二軸延伸熱固定フイルムを赤外線ヒーターにて
熱し、エンボス用のロールは冷却を実施し、ロー
ルの表面温度は10℃であつた。この際もロール間
押圧は最高の90Kg/cm2Gで実施した。結果を第1
表に示す。 【表】
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing an embossed film of polyethylene terephthalate, and more specifically, the present invention relates to a method for producing an embossed film of polyethylene terephthalate, and more specifically, the present invention relates to a method for producing an embossed film of polyethylene terephthalate. The present invention relates to a method for producing a surface covering material which is embossed with a film surface, has a low reflection of light rays on the film surface, and has a stain prevention function. Embossed polyethylene terephthalate films are used in general industrial applications due to their excellent mechanical properties, thermal stability, and chemical resistance. Furthermore, in recent years, with the rapid development of electronic devices such as microcomputers, embossed films are attracting attention as coating materials for keyboards and other applications, as they have low light reflection on the surface and have the effect of preventing surface stains. . Conventional surface covering materials are mostly made of polyvinyl chloride, which satisfies the demand in terms of quantity because it is easy to process during embossing. In addition, unstretched and uniaxially stretched polyethylene terephthalate films are easier to process, so
There were cases where it was used. However, with these conventional surface coating materials,
It is currently not possible to meet the quality design and required characteristics in various application fields. For example, polyvinyl chloride has the disadvantage that it deteriorates upon curing due to its polymer properties, making it particularly unsuitable for external keyboards. Furthermore, polycarbonate films, for example, have problems in chemical resistance, such as being susceptible to stress cracking. In addition, a technique is known in which fine irregularities are formed on the film surface by sandblasting, but this processed film has fine fibrils and crushed pieces generated on the film surface due to the sandblasting process, so it is dust-free.・It has the disadvantage that oil and other substances are easily adsorbed and the surface is easily soiled. In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present inventor has made a thorough study of the processing conditions for a single-sided embossed polyester film that has mechanical strength, heat-resistant dimensional stability, shape stability, and stain prevention function. , have discovered the manufacturing method of the present invention. That is, the present invention provides a method for producing a surface covering material in which a biaxially oriented polyester film is preheated to a temperature in the range of glass transition point to melting point and then embossed with an embossing roll. heating the roll to a temperature in the range of 150°C to 230°C; the embossing roll has 450 to 10,000 markings per unit area (cm 2 ) on its surface; the height of the markings is 5 to 50 microns; and less than half of the film thickness, and 0.1≦D/W between the diameter or diagonal length (D) of the convex part and the length (W) of the concave part in the shape of the concave part and the convex part. This is a method for producing a surface covering material characterized by a relationship of ≦1.5. The present invention will be explained. The polyester used in the present invention is a homopolymer or copolymer containing at least 85 mole % of ethylene terephthalate units. Other examples include polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polybutylene naphthalene dicarboxylate. Polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalene dicarboxylate are preferred polymer films from the viewpoint of practicality, crystallinity, and melting point. To emboss polyester film, the film thickness must be 50μ (microns) or more.
A thickness of about 250μ is preferable. Films that are too thin tend to be difficult to emboss with a stable shape, and films that are too thick tend to be difficult to emboss. A biaxially oriented polyester film can be obtained by a known manufacturing method. For example, chips or pellets of polyethylene terephthalate with an intrinsic viscosity of about 0.5 to 0.8 are dried at a temperature of about 170°C for several hours, then melted in a melt extruder and made into a T-die (I-die).
The film is extruded into a thin sheet through a cooling drum, and rapidly cooled and solidified on the surface of a cooling drum to obtain an unstretched cast film. Next, this unstretched film is stretched 2 to 5 times in the machine direction (longitudinal direction) at a temperature of about 80°C to 100°C, and further stretched 2 to 4.5 times in the width direction at a temperature difference of about 90°C to 110°C. If necessary, heat setting is performed at a temperature in the range of 200° C. to 230° C. for about 3 seconds to 5 seconds in order to improve thermal dimensional stability. The polyethylene terephthalate film thus obtained having a density of about 1.385 to 1.40 g/cm 3 is a preferred biaxially oriented polyester film applicable to the present invention. In the above film manufacturing method, biaxial stretching can be carried out simultaneously in the longitudinal direction and the sub-direction, or it is also possible to stretch the film in the width direction first and then stretch it in the longitudinal direction. Of course, it is also possible to apply three or several steps of stretching in the longitudinal direction and the width direction, and this corresponds to a biaxially oriented film that can be applied to the present invention. The embossing process for film is as follows: (a) The film is preheated and shaped using an embossing roll that is not actively heated; (b) The film is not actively heated and only the embossing roll is used to heat the film. A method in which the film is heated to a plasticizing temperature and shaped while being heated and pressed; (c) a method in which both the film and the embossing roll are heated is assumed. In the present invention, the above condition (c) is selected,
There is an advantage that embossed shapes with stable shape can be obtained. In the present invention, the preheating temperature of the film is in the range of glass transition point (Tg) + 30°C to melting point (Tm) -10°C, preferably Tg + 80°C to Tm.
-20℃ range, more preferably Tg+110℃~Tm
-30℃ range can be selected. Also, the temperature of the embossing roll is in the range of 150℃ to 230℃, preferably
Keep the temperature between 180℃ and 220℃. In actual embossing, the biaxially oriented film is preheated to a temperature in the range of Tg+30°C to Tm-30°C (100°C to 230°C in the case of polyethylene terephthalate). In this preheated state, the biaxially oriented polyethylene terephthalate film is plasticized and has the property of being easily shaped, and is engraved according to the embossed uneven pattern on the surface of the embossing roll. The embossing roll used in the present invention has a specific uneven pattern on the roll surface.
Since this embossing roll imparts minute unevenness changes in the thickness direction of the film, the depth of the unevenness and the distribution density (frequency) of the unevenness are important. If the depth (height) due to the unevenness of the film surface is too large, the diffused reflection of light rays will be significant and the film will become unsuitable as a surface coating material. Of course, if the surface unevenness is shallow and has almost no depth, it will not be satisfactory as a coating material because the surface will not have the effect of preventing light reflection. The depth of the unevenness of the single-sided embossed metal roll for thick film used here is about 5 to 50 microns, and preferably the embossing depth is about 10 to 30 microns is more effective. Generally, when the film is thin, the embossing depth needs to be reduced in accordance with the thickness of the film. For films less than 100μ,
The embossing depth needs to be 1/2 or less of the film thickness. When extremely deep embossing is applied to a thin film, there is a risk that the film will be locally excessively deformed, resulting in a loss of mechanical strength and the formation of local damage or holes. Therefore, the embossing depth is 5 to 50μ within 1/2 of the film thickness.
It is best to choose one. Next, if the distribution density of the unevenness on the surface of the embossing roll is not appropriate, it will reflect light or become opaque, making it unsuitable for use as a surface covering material for keyboards, etc. As a result of various studies to eliminate these drawbacks, it has been found that the appropriate density range for the unevenness is 450 pieces/cm 2 to 10,000 pieces/cm 2 . Preferably 2000 pieces/ cm2
~6000 pieces/ cm2 . The embossed pattern may be shaped like crushed ice cubes or may be a regular grain pattern. Since a large number of fine patterns are engraved on the embossing roll, it is easier to roll the roll if it is regular. Examples of regular patterns include circles (dots), hexagons, and squares. If the length of the diagonal line (longest side/diameter) of the embossed part is D, and the interval between the boundaries is W, then if the stamp is engraved to satisfy the condition of 0.1≦D/W≦1.5,
The embossed film has good light reflectivity when used as a keyboard. As an embossing roll, it has the ability to heat up to 150°C to 230°C, and when marking the surface, it has the following characteristics: emboss depth (h), unevenness frequency (N), diameter of embossed part or diagonal length (D), emboss The distance between the boundary (W) and the adjacent embossing and the film thickness t is 450 pieces/cm 2 ≦N≦10,000 pieces/cm 2 2h≦t (unit: μ) 5≦h≦50 0.1 It can be said that those satisfying the relationship ≦D/W≦1.5 can be used in the present invention. As explained above, a significant improvement in the present invention is that by using a biaxially stretched heat-set film, both thermal stability and mechanical properties are sufficiently maintained. Another important improvement for surface coatings is planarity. By using a biaxially stretched heat-setting film as in the present invention, it is possible to minimize the deterioration in flatness that occurs during embossing. Note that dirt is a problem with surface covering materials such as keyboards, so an antistatic agent is applied to the surface of the biaxially stretched film, and then embossed to give the surface material an antistatic effect and stain resistance. It can also have an effect on sex. According to the present invention, a surface covering material having a delicate ability to prevent reflection of light rays such as a keyboard can be obtained. According to the present invention, even biaxially oriented and heat-set polyester films can be easily embossed. Further, the present invention is also applicable to cases where the film forming, stretching and embossing steps are carried out in an integrated manner. This will be further explained below with reference to Examples. Example 1 It is more effective to perform embossing at a high temperature, but on the other hand, the higher the temperature, the greater the risk of deteriorating the flatness. Also, the depth of the unevenness,
The flatness is also affected by the distribution density, etc., and mutually optimal regions are determined. The embossing machine used had a roll for the embossing section with a diameter of 100 mm and a width of 300 mm, and a back-up roll (paper roll) with a diameter of 200 mm.
The film was 300 mm wide and processed at a film running speed of 5 m/min. Roll pressure is 70Kg/cm 2 G~90Kg/
cm 2 G treatment. Film for embossing
The film is a 194μ biaxially stretched heat-set polyethylene terephthalate film, and the temperature of the film immediately before embossing treatment was examined from room temperature to 220°C, but was preferably about 150°C to 200°C. The temperature of the embossing roll was also examined from 10°C to 210°C, but the optimum temperature range for the embossing roll was 150°C to 200°C. As a result of testing under these various conditions, deeper embossing was possible when both the film temperature and the embossing roll temperature were higher;
It was found that flatness deteriorates when the temperature exceeds 200°C. In addition, as the processing temperature increases, the tension during processing also becomes a problem; if the tension is too low, wrinkles are likely to appear and the flatness is impaired, but even when the film temperature is high, the tension of the film is relatively low. The higher the thickness, the better the flatness. Example 2 A stretched film of 194 μm of polyethylene terephthalate was prepared by a conventional sequential biaxial stretching method, and then heat-set at 220° C. for 5 seconds. The above sequentially biaxially stretched heat-set film was used and further heated with an infrared heater to bring the film surface temperature to 200°C. The surface of the embossing roll was also measured at 200°C using a contact type surface thermometer. The film was fed between an embossing roll and a back-up roll at a speed of 5 m/min and subjected to embossing heat treatment. The pressure between the rolls at this time is 80Kg/cm 2 G
It was hot. The test results are shown in Table 1. Comparative Example 1 Embossing was carried out on a biaxially stretched heat-set film at an embossing roll temperature of 60°C. At this time, the pressure between the rolls was examined up to a maximum of 90 kg/cm 2 G.
The temperature of the treated film immediately before embossing was 200°C. The results are shown in Table 1. Comparative Example 2 The biaxially stretched heat-set film was not heated with an infrared heater, but the temperature of the embossing roll was
The temperature was raised to 200℃. Roll pressure during embossing process
It was set to 90Kg/cm 2 G. The results are shown in Table 1. Comparative Example 3 A biaxially stretched heat-set film was heated with an infrared heater, and the embossing roll was cooled, so that the surface temperature of the roll was 10°C. At this time as well, the pressure between the rolls was applied at the maximum of 90 kg/cm 2 G. Results first
Shown in the table. 【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 二軸配向されたポリエステルフイルムをガラ
ス転移点乃至融点の範囲の温度に予備加熱しエン
ボスロールによりエンボス加工を施す表面被覆材
の製造方法において、エンボス加工の前にあらか
じめ該エンボスロールを150℃乃至230℃の範囲の
温度に加熱すること、該エンボスロールはその表
面に単位面積(cm2)当り450乃至10000の刻印を有
すること、該印凹凸の高さは5乃至50ミクロンで
ありかつフイルム厚さの半分以下であること、及
び凹部と凸部の形状における凸部の直径又は対角
線の長さ(D)と凹部の長さ(W)との間に0.1
≦D/W≦1.5の関係があることを特徴とする表
面被覆材の製造方法。 2 ポリエステルがポリエチレンテレフタレート
である特許請求の範囲第1項記載の表面被覆材の
製造方法。 3 エンボスロール表面の凸部の数が2000乃至
6000個/cm2であるエンボスロールを使用する特許
請求の範囲第1項記載の表面被覆材の製造方法。
[Claims] 1. In a method for producing a surface covering material in which a biaxially oriented polyester film is preheated to a temperature in the range of glass transition point or melting point and embossed with an embossing roll, The embossing roll is heated to a temperature in the range of 150°C to 230°C, the embossing roll has 450 to 10,000 markings per unit area (cm 2 ) on its surface, and the height of the uneven markings is 5 to 50°. micron and less than half the film thickness, and the difference between the diameter or diagonal length (D) of the convex part and the length (W) of the concave part in the shape of the concave part and the convex part is 0.1
A method for producing a surface covering material, characterized in that there is a relationship of ≦D/W≦1.5. 2. The method for producing a surface covering material according to claim 1, wherein the polyester is polyethylene terephthalate. 3 The number of protrusions on the surface of the embossing roll is 2000 or more.
2. The method for producing a surface covering material according to claim 1, which uses an embossing roll with an embossing roll of 6000 embossing rolls/cm 2 .
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