JPS6325932B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6325932B2 JPS6325932B2 JP10348882A JP10348882A JPS6325932B2 JP S6325932 B2 JPS6325932 B2 JP S6325932B2 JP 10348882 A JP10348882 A JP 10348882A JP 10348882 A JP10348882 A JP 10348882A JP S6325932 B2 JPS6325932 B2 JP S6325932B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- glass plate
- thickness
- support frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D7/00—Producing flat articles, e.g. films or sheets
- B29D7/01—Films or sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
- B29C41/02—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of definite length, i.e. discrete articles
- B29C41/12—Spreading-out the material on a substrate, e.g. on the surface of a liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/755—Membranes, diaphragms
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はリソグラフイにおけるフオトマスクの
保護用樹脂薄膜の製造方法に関するものである。
保護用樹脂薄膜の製造方法に関するものである。
集積回路の製造のためのリソグラフイにおいて
光源に紫外線を用いたフオトレジストは、高い解
像力と高い生産性が特徴であり、特に集積度の高
いウエハ乃至チツプの製造に極めて有用である。
この場合、光源の波長が短いほど解像力が高くな
るので、デイーブUV光が一般に用いられる。
光源に紫外線を用いたフオトレジストは、高い解
像力と高い生産性が特徴であり、特に集積度の高
いウエハ乃至チツプの製造に極めて有用である。
この場合、光源の波長が短いほど解像力が高くな
るので、デイーブUV光が一般に用いられる。
この方式は、解像力が高いだけにフオトマスク
の画像面上への小さなゴミの付着はエツチング画
像の精度を低下させ、不良品発生の原因になるほ
か、ゴミ除去の作業により、フオトマスク自体を
傷めやすく、その寿命を低下させる。
の画像面上への小さなゴミの付着はエツチング画
像の精度を低下させ、不良品発生の原因になるほ
か、ゴミ除去の作業により、フオトマスク自体を
傷めやすく、その寿命を低下させる。
上記の対策として、フオトマスクの画像面側の
光路中に樹脂薄膜を挿入して、空気中のゴミの付
着からフオトマスク画像を保護する方法が用いら
れている。この場合、ゴミはフオトマスクの画像
面上に付着するかわりに、樹脂薄膜の表面に付着
することになる。この際、薄膜自身の厚み及びフ
オトマスク画像と薄膜との距離が全面にわたつて
一定であれば、薄膜上の異物、即ちゴミの存在の
影響をレジスト面においてアウトフオーカシング
させることが可能であり、フオトマスク画像に忠
実なパターンを露光により得ることができる。
光路中に樹脂薄膜を挿入して、空気中のゴミの付
着からフオトマスク画像を保護する方法が用いら
れている。この場合、ゴミはフオトマスクの画像
面上に付着するかわりに、樹脂薄膜の表面に付着
することになる。この際、薄膜自身の厚み及びフ
オトマスク画像と薄膜との距離が全面にわたつて
一定であれば、薄膜上の異物、即ちゴミの存在の
影響をレジスト面においてアウトフオーカシング
させることが可能であり、フオトマスク画像に忠
実なパターンを露光により得ることができる。
このようなフオトマスク保護用の薄膜は半導体
産業において極めて有用なものであるが、その製
造方法が未だに確立されていない。
産業において極めて有用なものであるが、その製
造方法が未だに確立されていない。
発明者等は、鋭意研究の結果、薄膜材料として
セルロースエステルを使用し、これを流延して得
られた薄膜を水中で回収し、生乾きの状態で支持
枠に均一に固着したのち乾燥することにより、フ
オトマスク保護用に適した樹脂薄膜が得られるこ
とを認め、本発明に到達した。
セルロースエステルを使用し、これを流延して得
られた薄膜を水中で回収し、生乾きの状態で支持
枠に均一に固着したのち乾燥することにより、フ
オトマスク保護用に適した樹脂薄膜が得られるこ
とを認め、本発明に到達した。
本発明に使用する薄膜の材料に要求される物性
は以下の通りである。
は以下の通りである。
イ 露光に使用する光の特定領域（特にこの場合
UV領域）で、できるだけ吸収が少いこと。
UV領域）で、できるだけ吸収が少いこと。
ロ 薄い膜厚でも充分強度があり、支持枠で支持
した後、クリーブや収縮のないこと。
した後、クリーブや収縮のないこと。
ハ 結晶や配向により透過光に方向性を生じせし
めないこと。
めないこと。
また、薄膜の製造には次の条件を満足させるこ
とが必要である。
とが必要である。
ニ 薄くて厚みの均一な膜とすること。
ホ 所定の厚みの膜とすること。
ヘ フレームに支持した状態が均一な緊張を保つ
ていること。
ていること。
ト 製膜及び支持の過程で膜を配向させないこ
と。
と。
本発明の方法によつて製造した樹脂薄膜は、こ
れらの条件を満足させるものである。
れらの条件を満足させるものである。
本発明に使用する膜材料はセルロースエステル
であり、セルロースエステルとは、硝酸セルロー
ス、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酪酸酢酸セルロースなどを指す。就中、硝酸セル
ロースは本発明の目的に特に適当である。
であり、セルロースエステルとは、硝酸セルロー
ス、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酪酸酢酸セルロースなどを指す。就中、硝酸セル
ロースは本発明の目的に特に適当である。
樹脂薄膜の製造には、所謂流延方式を用いるこ
とによつて、配向性のない膜を得る。セルロース
エステルはケトン、低級脂肪酸エステルなどの比
較的低沸点溶剤に容易に溶解し、溶液濃度及び流
延厚みを規定することにより所定の出来上り厚み
の薄膜を製造することができる。フオトマスク保
護用薄膜には、例えば2.8±0.3μｍや4.5±0.3μｍ
などの一定の厚みのものが使用される。
とによつて、配向性のない膜を得る。セルロース
エステルはケトン、低級脂肪酸エステルなどの比
較的低沸点溶剤に容易に溶解し、溶液濃度及び流
延厚みを規定することにより所定の出来上り厚み
の薄膜を製造することができる。フオトマスク保
護用薄膜には、例えば2.8±0.3μｍや4.5±0.3μｍ
などの一定の厚みのものが使用される。
流延時の流延基板を平滑なガラス板とし、溶媒
除去後水中に浸漬すると、薄膜はガラス板から自
然に剥がれるので、容易に回収することができ
る。この薄膜を支持枠に直接マウントし、生乾き
の状態のとき、支持枠と膜の接触部分にそつて、
揮発性の溶剤を少量塗布し乾燥させると、膜が支
持枠に接着するとともに、ごく僅かに膜が収縮し
ようとして、均一な緊張状態での支持が得られ
る。
除去後水中に浸漬すると、薄膜はガラス板から自
然に剥がれるので、容易に回収することができ
る。この薄膜を支持枠に直接マウントし、生乾き
の状態のとき、支持枠と膜の接触部分にそつて、
揮発性の溶剤を少量塗布し乾燥させると、膜が支
持枠に接着するとともに、ごく僅かに膜が収縮し
ようとして、均一な緊張状態での支持が得られ
る。
硝酸セルロースをはじめとするセルロースエス
テルは透明度が高く、UV領域にも吸収が少く、
光学的にすぐれた材料である。また、結晶性が小
さいのに分子構造が剛直であるため、成形後のデ
イメンシヨナルスタビリテイがある。適当な流延
溶剤が利用でき、ガラス板への密着性に乏しいた
め、力を加えずに薄膜だけを回収することができ
薄膜は水により、ごく僅か膨潤するなど種々の利
点があるが、本発明はこれらの利点をたくみに利
用したものである。
テルは透明度が高く、UV領域にも吸収が少く、
光学的にすぐれた材料である。また、結晶性が小
さいのに分子構造が剛直であるため、成形後のデ
イメンシヨナルスタビリテイがある。適当な流延
溶剤が利用でき、ガラス板への密着性に乏しいた
め、力を加えずに薄膜だけを回収することができ
薄膜は水により、ごく僅か膨潤するなど種々の利
点があるが、本発明はこれらの利点をたくみに利
用したものである。
一般にセルロースエステルの加工性は、可塑剤
を使用することにより向上するが、可塑剤の使用
はUV領域の吸収、ガラス面への接着性、クリー
プ性など、本発明の目的には好ましくない効果が
出るので、本発明においては可塑剤は使用しない
方が望ましい。
を使用することにより向上するが、可塑剤の使用
はUV領域の吸収、ガラス面への接着性、クリー
プ性など、本発明の目的には好ましくない効果が
出るので、本発明においては可塑剤は使用しない
方が望ましい。
即ち、本発明はセルロースエステルを有機溶剤
に溶解し、平滑なガラス板上に流延し、溶剤を除
去してガラス板上に均一な厚みの薄膜を形成する
工程と、薄膜を形成したガラス板を水中に浸漬し
て薄膜をガラス板から分離する工程と、水中から
薄膜を回収し、湿潤状態で支持枠に支持させた後
乾燥させる工程とを含むことを特徴とする樹脂薄
膜の製造方法である。
に溶解し、平滑なガラス板上に流延し、溶剤を除
去してガラス板上に均一な厚みの薄膜を形成する
工程と、薄膜を形成したガラス板を水中に浸漬し
て薄膜をガラス板から分離する工程と、水中から
薄膜を回収し、湿潤状態で支持枠に支持させた後
乾燥させる工程とを含むことを特徴とする樹脂薄
膜の製造方法である。
以下の実施例によりさらに本発明を説明する。
実施例 １
硝化綿RS−５（ダイセル化学工業製、イソプロ
パノール湿綿、固型分70％）64ｇ、メチルエチル
ケトン146ｇ、酢酸ブチル120ｇ及びトルエン120
ｇからなる硝化綿ドープを、クリアランス50μｍ
のパーコーターを用いて、平滑なガラス板上に塗
布し、24時間室温（20℃）に放置乾燥し、さらに
60℃で１時間乾燥した。乾燥フイルム化した硝化
綿をガラス板ごと静かに清浄な水中に浸漬した。
暫時放置すると、硝化綿フイルムはガラス板から
自然に剥離したので、一旦直径約150mmの円形ア
ルミフレームを用いて形を崩さないようすくい上
げ、該フレーム内の部分を内径100mm、外径110
mm、厚み10mmのアルミニウム支持枠の上面にマウ
ントした。次いで、フイルムの支持枠との接触界
面に沿つて、少量のメチルエチルケトンを塗布
し、風乾することによつて、フイルムを支持枠に
接着させた。支持枠の外側にはみ出している部分
のフイルムを切り除き、60℃で３時間乾燥させる
と、均一な緊張度で支持された厚さ3μｍ（比重
1.6）の硝酸セルロースフイルムが得られた。
パノール湿綿、固型分70％）64ｇ、メチルエチル
ケトン146ｇ、酢酸ブチル120ｇ及びトルエン120
ｇからなる硝化綿ドープを、クリアランス50μｍ
のパーコーターを用いて、平滑なガラス板上に塗
布し、24時間室温（20℃）に放置乾燥し、さらに
60℃で１時間乾燥した。乾燥フイルム化した硝化
綿をガラス板ごと静かに清浄な水中に浸漬した。
暫時放置すると、硝化綿フイルムはガラス板から
自然に剥離したので、一旦直径約150mmの円形ア
ルミフレームを用いて形を崩さないようすくい上
げ、該フレーム内の部分を内径100mm、外径110
mm、厚み10mmのアルミニウム支持枠の上面にマウ
ントした。次いで、フイルムの支持枠との接触界
面に沿つて、少量のメチルエチルケトンを塗布
し、風乾することによつて、フイルムを支持枠に
接着させた。支持枠の外側にはみ出している部分
のフイルムを切り除き、60℃で３時間乾燥させる
と、均一な緊張度で支持された厚さ3μｍ（比重
1.6）の硝酸セルロースフイルムが得られた。
尚、支持枠の厚みは、フオトマスク画像面と樹
脂薄膜との間の光路中における一定の間隔を形成
するスペーサーとして働らくことになる。
脂薄膜との間の光路中における一定の間隔を形成
するスペーサーとして働らくことになる。
実施例 ２
実施例１の硝化綿ドープに代えて、酢酸綿LT
−105（ダイセル化学工業製）60ｇ、塩化メチレン
846ｇ及びメタノール94ｇからなる酢酸綿を用い
て、実施例１に準じて酢酸セルロースフイルムを
作製した。但し流延厚みは50μｍ、支持枠とフイ
ルムとの接着に用いた溶剤は塩化メチレン／メタ
ノール＝９／１の混合溶剤であつた。同様にして
均一な緊張度で支持された厚さ3μｍ（比重1.3）
のフイルムを得た。
−105（ダイセル化学工業製）60ｇ、塩化メチレン
846ｇ及びメタノール94ｇからなる酢酸綿を用い
て、実施例１に準じて酢酸セルロースフイルムを
作製した。但し流延厚みは50μｍ、支持枠とフイ
ルムとの接着に用いた溶剤は塩化メチレン／メタ
ノール＝９／１の混合溶剤であつた。同様にして
均一な緊張度で支持された厚さ3μｍ（比重1.3）
のフイルムを得た。
実施例 ３
硝化綿RS−７（ダイセル化学工業製、イソプロ
パノール湿綿、固型分70％）20ｇ、酢酸ブチル50
ｇ、酢酸イソブチル50ｇ及びシクロヘキサノン90
ｇからなる硝化綿ドープを作製した。
パノール湿綿、固型分70％）20ｇ、酢酸ブチル50
ｇ、酢酸イソブチル50ｇ及びシクロヘキサノン90
ｇからなる硝化綿ドープを作製した。
このドープの23℃における粘度は480cpであつ
た。このドープを用いてスピンコーテイング法に
よりフイルムを作成した。即ち、スピンナーにガ
ラス板をセツトし、70rpmで回転させつゝ、その
回転中心に上記ドープを５秒間を要して滴下し
た。滴下終了後直ちに回転速度を1050rpmに上昇
（立ち上り所要時間0.2秒）させ、この速度で15秒
間維持する間に遠心流延させた後、回転を停止さ
せた。
た。このドープを用いてスピンコーテイング法に
よりフイルムを作成した。即ち、スピンナーにガ
ラス板をセツトし、70rpmで回転させつゝ、その
回転中心に上記ドープを５秒間を要して滴下し
た。滴下終了後直ちに回転速度を1050rpmに上昇
（立ち上り所要時間0.2秒）させ、この速度で15秒
間維持する間に遠心流延させた後、回転を停止さ
せた。
次にガラス板をスピンナーから取り外し、24時
間室内（23℃、60％RH）に放置乾燥し、さらに
60℃で１時間乾燥した。以下実施例１と同様にし
て水中浸漬し、ガラス板から生成フイルムを剥離
し、アルミニウム支持枠にマウントし、接着支持
させた。支持枠ごと60℃、３時間乾燥し、平均厚
み0.29μｍ、厚みむら0.03μｍ以下の均一な緊張度
で支持された硝酸セルロースフイルムを得た。
間室内（23℃、60％RH）に放置乾燥し、さらに
60℃で１時間乾燥した。以下実施例１と同様にし
て水中浸漬し、ガラス板から生成フイルムを剥離
し、アルミニウム支持枠にマウントし、接着支持
させた。支持枠ごと60℃、３時間乾燥し、平均厚
み0.29μｍ、厚みむら0.03μｍ以下の均一な緊張度
で支持された硝酸セルロースフイルムを得た。
実施例 ４
硝化綿RS−120（ダイセル化学工業製、イソプ
ロパノール湿綿、固型分70％）10ｇ、酢酸ブチル
47.6ｇ、酢酸イソブチル47.6ｇ及びシクロヘキサ
ノン94.8ｇからなる硝化綿ドープを作成した。こ
のドープの23℃における粘度は300cpであつた。
ロパノール湿綿、固型分70％）10ｇ、酢酸ブチル
47.6ｇ、酢酸イソブチル47.6ｇ及びシクロヘキサ
ノン94.8ｇからなる硝化綿ドープを作成した。こ
のドープの23℃における粘度は300cpであつた。
上記のドープを用い、且つ遠心流延の回転速度
を780rmとしたほかは、実施例３と同様に操作
し、平均厚さ0.90μｍ、厚みむら0.005μｍ以下の
均一な緊張度で支持された硝酸セルロースフイル
ムを得た。
を780rmとしたほかは、実施例３と同様に操作
し、平均厚さ0.90μｍ、厚みむら0.005μｍ以下の
均一な緊張度で支持された硝酸セルロースフイル
ムを得た。
実施例 ５
酢酸綿Ｌ−20（ダイセル化学工業製、乾燥減率
５％）18.5ｇ、エチレングリコールアセテートモ
ノメチルエーテル91.2ｇ、シクロヘキサノン45.6
ｇ、酢酸ブチル22.8ｇ及び酢酸イソブチル22.8ｇ
からなる酢酸綿ドープを作成した。
５％）18.5ｇ、エチレングリコールアセテートモ
ノメチルエーテル91.2ｇ、シクロヘキサノン45.6
ｇ、酢酸ブチル22.8ｇ及び酢酸イソブチル22.8ｇ
からなる酢酸綿ドープを作成した。
このドープの23℃における粘度は550cpであつ
た。
た。
上記のドープを用い、ガラス板上に滴下すると
きの回転速度が200rpm、滴下所要時間７秒間、
遠心流延の回転速度850rpmとしたほかは、実施
例３と同様に操作し、平均厚さ2.90μｍ、厚みむ
ら0.03μｍ以下の均一な緊張度で支持された酢酸
セルロースフイルムを得た。
きの回転速度が200rpm、滴下所要時間７秒間、
遠心流延の回転速度850rpmとしたほかは、実施
例３と同様に操作し、平均厚さ2.90μｍ、厚みむ
ら0.03μｍ以下の均一な緊張度で支持された酢酸
セルロースフイルムを得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 均一な緊張状態で保持された無配向のセルロ
ースエステル薄膜の製造方法であつて、セルロー
スエステルを有機溶剤に溶解し、平滑なガラス板
上に流延し、溶剤を除去してガラス板上に均一な
厚みの薄膜を形成する工程と、水中で薄膜をガラ
ス板から分離する工程と、水中から薄膜を回収
し、湿潤状態で支持枠に支持させた後乾燥させる
工程とを含むことを特徴とする樹脂薄膜の製造方
法。 ２ セルロースエステルが硝酸セルロースである
ことを特徴とする特許請求範囲第１項記載の樹脂
薄膜の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57103488A JPS58219023A (ja) | 1982-06-15 | 1982-06-15 | 樹脂薄膜の製造方法 |
| US06/767,239 US4878973A (en) | 1982-06-15 | 1985-08-19 | Process for producing a thin resin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57103488A JPS58219023A (ja) | 1982-06-15 | 1982-06-15 | 樹脂薄膜の製造方法 |
Related Child Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1089137A Division JPH0264A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | フォトマスクカバーの製造方法 |
| JP1089135A Division JPH0262A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | フォトマスクカバー |
| JP1089136A Division JPH0263A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | フォトマスクカバー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58219023A JPS58219023A (ja) | 1983-12-20 |
| JPS6325932B2 true JPS6325932B2 (ja) | 1988-05-27 |
Family
ID=14355385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57103488A Granted JPS58219023A (ja) | 1982-06-15 | 1982-06-15 | 樹脂薄膜の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4878973A (ja) |
| JP (1) | JPS58219023A (ja) |
Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2165545B (en) * | 1984-10-16 | 1988-03-30 | Du Pont | Pellicle structure for transmission of mid ultraviolet light |
| DE3750353T2 (de) * | 1986-06-12 | 1994-12-08 | Mitsui Petrochemical Ind | Verfahren zur Herstellung von Celluloseesterfolien. |
| US5061024C1 (en) * | 1989-09-06 | 2002-02-26 | Dupont Photomasks Inc | Amorphous fluoropolymer pellicle films |
| JP3037745B2 (ja) * | 1990-11-29 | 2000-05-08 | 三井化学株式会社 | ペリクル構造体 |
| JP2790946B2 (ja) * | 1992-08-21 | 1998-08-27 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル膜の製造方法 |
| US5391329A (en) * | 1993-08-23 | 1995-02-21 | Hughes Aircraft Company | Process for making a solid optical limiter containing a graded distribution of reverse saturable material |
| JP3493090B2 (ja) * | 1995-12-15 | 2004-02-03 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
| JP2786845B2 (ja) * | 1996-10-03 | 1998-08-13 | 三井化学株式会社 | フォトマスク保護用防塵膜 |
| US6342292B1 (en) | 1997-12-16 | 2002-01-29 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Organic thin film and process for producing the same |
| US6639650B2 (en) | 1999-12-21 | 2003-10-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Light exposure method, light exposure apparatus, pellicle and method for relieving warpage of pellicle membrane |
| JP2002182373A (ja) | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル及びその製造方法及びフォトマスク |
| US6715316B2 (en) * | 2001-05-08 | 2004-04-06 | Corning Incorporated | Water-removable coatings for LCD glass |
| JP2004157229A (ja) | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法 |
| JP2005070120A (ja) | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィ用ペリクル |
| JP4388467B2 (ja) | 2004-12-28 | 2009-12-24 | 信越化学工業株式会社 | フォトリソグラフィ用ペリクル及びペリクルフレーム |
| WO2007010442A2 (en) * | 2005-07-22 | 2007-01-25 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Method and system for in vivo drug delivery |
| JP2008256925A (ja) | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
| JP2009025559A (ja) | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
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| JP2013057861A (ja) | 2011-09-09 | 2013-03-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィ用ペリクルおよびその製造方法 |
| JP5749680B2 (ja) | 2012-04-26 | 2015-07-15 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
| JP6004582B2 (ja) | 2013-04-30 | 2016-10-12 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
| JP5950467B2 (ja) | 2013-09-24 | 2016-07-13 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
| JP6308592B2 (ja) | 2014-04-02 | 2018-04-11 | 信越化学工業株式会社 | Ｅｕｖ用ペリクル |
| JP6150300B2 (ja) | 2014-04-04 | 2017-06-21 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの貼り付け部確認方法 |
| JP6313161B2 (ja) | 2014-08-27 | 2018-04-18 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
| JP6308623B2 (ja) | 2014-12-25 | 2018-04-11 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル用粘着剤、それを用いたペリクル、及びペリクルの評価方法 |
| JP6275064B2 (ja) | 2015-02-10 | 2018-02-07 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル用粘着剤 |
| JP6370255B2 (ja) | 2015-04-07 | 2018-08-08 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル用フレーム及びそれを用いたペリクル |
| JP6669464B2 (ja) | 2015-10-19 | 2020-03-18 | 信越化学工業株式会社 | Ｅｕｖ用ペリクル |
| JP6516665B2 (ja) | 2015-10-29 | 2019-05-22 | 信越化学工業株式会社 | Ｅｕｖリソグラフィー用ペリクルに適した接着剤とこれを用いたペリクル |
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| JP6632057B2 (ja) | 2016-01-07 | 2020-01-15 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
| JP6532428B2 (ja) | 2016-05-26 | 2019-06-19 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
| US10353283B2 (en) | 2016-07-11 | 2019-07-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Adhesive for pellicle, pellicle, and method of selecting adhesive for pellicle |
| JP2019070745A (ja) | 2017-10-10 | 2019-05-09 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4536240A (en) * | 1981-12-02 | 1985-08-20 | Advanced Semiconductor Products, Inc. | Method of forming thin optical membranes |
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1982
- 1982-06-15 JP JP57103488A patent/JPS58219023A/ja active Granted
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1985
- 1985-08-19 US US06/767,239 patent/US4878973A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58219023A (ja) | 1983-12-20 |
| US4878973A (en) | 1989-11-07 |
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