JPS6326102B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6326102B2 JPS6326102B2 JP54058123A JP5812379A JPS6326102B2 JP S6326102 B2 JPS6326102 B2 JP S6326102B2 JP 54058123 A JP54058123 A JP 54058123A JP 5812379 A JP5812379 A JP 5812379A JP S6326102 B2 JPS6326102 B2 JP S6326102B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- carboxylic acid
- aminomethyl
- hydroxycyclohexane
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式（）
で示される新規物質４−アミノメチル−３−ヒド
ロオキシシクロヘキサン−１−カルボン酸および
その製造法に関するものである。
ロオキシシクロヘキサン−１−カルボン酸および
その製造法に関するものである。
本発明化合物（）は医薬品の原料、例えば抗
プラスミン作用を有する薬剤４−アミノメチルシ
ロクヘキサンカルボン酸（以下AMCHAと称
す。）の製造中間体として有用な化合物である。
プラスミン作用を有する薬剤４−アミノメチルシ
ロクヘキサンカルボン酸（以下AMCHAと称
す。）の製造中間体として有用な化合物である。
本発明化合物（）は、シクロヘキセンカルボ
ン酸等の二重結合を有する化合物に緩和な条件で
直接アミノメチル基を導入するという新規な付加
反応により製造することが出来る。
ン酸等の二重結合を有する化合物に緩和な条件で
直接アミノメチル基を導入するという新規な付加
反応により製造することが出来る。
即ち、一般式（）
（式中Ｘは、シアノ基、カルボキシル基、低級ア
ルコキシカルボニル基又はカルバモイル基を示
す。）で示されるシクロヘキセン誘導体を酸性触
媒の存在下、一般式（） Ｒ−CONHCH2OH （） （式中Ｒは、フエニル基、ベンジル基又は低級ア
ルキル基を示す。）で示されるＮ−メチロール体
（）と反応させた後、加水分解することにより
本発明化合物（）は製される。
ルコキシカルボニル基又はカルバモイル基を示
す。）で示されるシクロヘキセン誘導体を酸性触
媒の存在下、一般式（） Ｒ−CONHCH2OH （） （式中Ｒは、フエニル基、ベンジル基又は低級ア
ルキル基を示す。）で示されるＮ−メチロール体
（）と反応させた後、加水分解することにより
本発明化合物（）は製される。
更に詳細に述べると、原料化合物のシクロヘキ
セン誘導体（）は、例えばブタジエンとアクリ
ル酸誘導体の環化付加反応により容易に収率良く
得ることが出来る、またＮ−メチロール体（）
は酸アミドとホルマリンまたはシアノ化合物（Ｒ
−CN）とホルマリンから容易に安価に製造され
る。
セン誘導体（）は、例えばブタジエンとアクリ
ル酸誘導体の環化付加反応により容易に収率良く
得ることが出来る、またＮ−メチロール体（）
は酸アミドとホルマリンまたはシアノ化合物（Ｒ
−CN）とホルマリンから容易に安価に製造され
る。
Ｎ−メチロール体（）の使用量は、シクロヘ
キセン誘導体（）に対して当モル以上使用すれ
ば良いが、１〜２倍モルを使用するが望ましい。
キセン誘導体（）に対して当モル以上使用すれ
ば良いが、１〜２倍モルを使用するが望ましい。
触媒としては有機、無機酸、例えばギ酸、パラ
トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸およびリン酸等
が使用出来、更にはルイス酸、例えば塩化アルミ
ニウム、塩化第二鉄、弗化ホウ素、二塩化テル
ル、四塩化チタン等も使用出来る。又、反応温度
は通常０〜150℃、特に０〜50℃が適用される。
反応後、酸またはアルカリ水溶液で加水分解し、
強酸性陽イオン交換樹脂で処理し、アンモニア溶
離液を濃縮乾固し、残留物にメタノールを加え濾
取すると４−アミノメチル−３−ヒドロキシシク
ロヘキサン−１−カルボン酸の白色晶が得られ
る。
トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸およびリン酸等
が使用出来、更にはルイス酸、例えば塩化アルミ
ニウム、塩化第二鉄、弗化ホウ素、二塩化テル
ル、四塩化チタン等も使用出来る。又、反応温度
は通常０〜150℃、特に０〜50℃が適用される。
反応後、酸またはアルカリ水溶液で加水分解し、
強酸性陽イオン交換樹脂で処理し、アンモニア溶
離液を濃縮乾固し、残留物にメタノールを加え濾
取すると４−アミノメチル−３−ヒドロキシシク
ロヘキサン−１−カルボン酸の白色晶が得られ
る。
本発明による付加反応では、３−アミノメチル
−４−ヒドロオキシシクロヘキサン−１−カルボ
ン酸も多少副生するが、メタノール等の溶媒によ
る溶解度差またはパラトルエンスルホン酸等の塩
にすることによつて容易に除くことが出来る。
−４−ヒドロオキシシクロヘキサン−１−カルボ
ン酸も多少副生するが、メタノール等の溶媒によ
る溶解度差またはパラトルエンスルホン酸等の塩
にすることによつて容易に除くことが出来る。
この様にして製される本発明化合物（）を、
例えばハロゲン化剤にて処理し、次いで還元すれ
ば容易に好収率でAMCHAが製される。
例えばハロゲン化剤にて処理し、次いで還元すれ
ば容易に好収率でAMCHAが製される。
従つて、本発明は医薬品として有用な
AMCHAの製造中間体として有用な新規化合物
４−アミノメチル−３−ヒドロオキシシクロヘキ
サン−１−カルボン酸およびその製造方法を、ひ
いてはかかる製造中間体を用いることにより、従
来とは方法を全く異にするAMCHAの新規かつ
工業的に有利な製造方法を提供するものである。
AMCHAの製造中間体として有用な新規化合物
４−アミノメチル−３−ヒドロオキシシクロヘキ
サン−１−カルボン酸およびその製造方法を、ひ
いてはかかる製造中間体を用いることにより、従
来とは方法を全く異にするAMCHAの新規かつ
工業的に有利な製造方法を提供するものである。
以下、本発明を実施例および参考例によつて詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例 １
３−シクロヘキセン−１−カルボン酸12.6ｇ
（0.1モル）を100mlのギ酸に溶解し、温度25℃で
１時間かけてＮ−メチロ−ルベンズアミド22.6ｇ
（0.15モル）を加え、その後同温で３時間撹拌す
る。反応後ギ酸を回収し、残留物に10％塩酸水
100mlを加え、３時間加熱還流して加水分解を行
なう。冷後不溶物を濾別し、濾液を強酸性陽イオ
ン交換樹脂ダイヤイオンSK−IBで処理し、流出
液の酸性がなくなつた後、５％アンモニア水を流
し、流出液を濃縮する。残留物にメタノールを加
え、析出する結晶を濾取し、この結晶を水−アセ
トンから再結晶すると、融点300℃（分解）の４
−アミノメチル−３−ヒドロオキシシクロヘキサ
ン−１−カルボン酸が得られる。
（0.1モル）を100mlのギ酸に溶解し、温度25℃で
１時間かけてＮ−メチロ−ルベンズアミド22.6ｇ
（0.15モル）を加え、その後同温で３時間撹拌す
る。反応後ギ酸を回収し、残留物に10％塩酸水
100mlを加え、３時間加熱還流して加水分解を行
なう。冷後不溶物を濾別し、濾液を強酸性陽イオ
ン交換樹脂ダイヤイオンSK−IBで処理し、流出
液の酸性がなくなつた後、５％アンモニア水を流
し、流出液を濃縮する。残留物にメタノールを加
え、析出する結晶を濾取し、この結晶を水−アセ
トンから再結晶すると、融点300℃（分解）の４
−アミノメチル−３−ヒドロオキシシクロヘキサ
ン−１−カルボン酸が得られる。
元素分析値（％） C8H15NO3に対して
計算値 Ｃ 55.64、Ｈ 8.73、Ｎ 8.12
実測値 Ｃ 55.47、Ｈ 8.73、Ｎ 8.09
実施例 ２
３−シクロヘキセン−１−カルボン酸メチルエ
ステル14ｇ（0.1モル）をリン酸100mlに溶解し、
温度15℃で１時間かけてＮ−メチロールアセトア
ミド9.3ｇ（0.15モル）を加え、その後同温で３
時間撹拌する。反応後、反応液に10％塩酸水150
mlを加え、３時間加熱還流して加水分解を行な
う。この加水分解液をそのまま実施例１と同様の
方法で処理すると４−アミノメチル−３−ヒドロ
オキシシクロヘキサン−１−カルボン酸が得られ
る。
ステル14ｇ（0.1モル）をリン酸100mlに溶解し、
温度15℃で１時間かけてＮ−メチロールアセトア
ミド9.3ｇ（0.15モル）を加え、その後同温で３
時間撹拌する。反応後、反応液に10％塩酸水150
mlを加え、３時間加熱還流して加水分解を行な
う。この加水分解液をそのまま実施例１と同様の
方法で処理すると４−アミノメチル−３−ヒドロ
オキシシクロヘキサン−１−カルボン酸が得られ
る。
実施例 ３
３−シクロヘキセン−１−カルボン酸ニトリル
10.7ｇ（0.1モル）を100mlの酢酸と9.8ｇの硫酸の
混合液に溶解し、温度30℃で１時間かけてＮ−メ
チロールアセトアミド12.4ｇ（0.2モル）を加え、
その後同温で３時間撹拌する。反応後酢酸を回収
し、10％硫酸水100mlを加え、３時間加熱還流し
て加水分解する。その後、実施例１と同様の方法
で処理すると、４−アミノメチル−３−ヒドロオ
キシシクロヘキサン−１−カルボン酸が得られ
る。
10.7ｇ（0.1モル）を100mlの酢酸と9.8ｇの硫酸の
混合液に溶解し、温度30℃で１時間かけてＮ−メ
チロールアセトアミド12.4ｇ（0.2モル）を加え、
その後同温で３時間撹拌する。反応後酢酸を回収
し、10％硫酸水100mlを加え、３時間加熱還流し
て加水分解する。その後、実施例１と同様の方法
で処理すると、４−アミノメチル−３−ヒドロオ
キシシクロヘキサン−１−カルボン酸が得られ
る。
参考例
４−アミノメチル−３−ヒドロオキシシクロヘ
キサン−１−カルボン酸17.3ｇ（0.1モル）を塩
化チオニル50mlに溶解し、温度25℃で一夜放置し
た後、過剰の塩化チオニルを回収する。次いで残
留物に水150mlを加え、濃アンモニアでアルカリ
性として、ラネーニツケル３ｇを触媒として水素
圧30Kg／cm2、温度50℃で３時間水素添加する。そ
の後、触媒を濾別して濾液を濃縮乾固し、再び水
に溶解し、強酸性陽イオン交換樹脂ダイヤイオン
SK−LBで処理し、５％アンモニア流出液を濃縮
乾固する。残留物を水−メタノールから再結晶す
ると、４−アミノメチルシクロヘキサンカルボン
酸12.6ｇが得られる。
キサン−１−カルボン酸17.3ｇ（0.1モル）を塩
化チオニル50mlに溶解し、温度25℃で一夜放置し
た後、過剰の塩化チオニルを回収する。次いで残
留物に水150mlを加え、濃アンモニアでアルカリ
性として、ラネーニツケル３ｇを触媒として水素
圧30Kg／cm2、温度50℃で３時間水素添加する。そ
の後、触媒を濾別して濾液を濃縮乾固し、再び水
に溶解し、強酸性陽イオン交換樹脂ダイヤイオン
SK−LBで処理し、５％アンモニア流出液を濃縮
乾固する。残留物を水−メタノールから再結晶す
ると、４−アミノメチルシクロヘキサンカルボン
酸12.6ｇが得られる。
実施例 ４
３−シクロヘキセン−１−カルボン酸アミド
12.5ｇ（0.1モル）を100mlの蟻酸に溶解し、温度
25℃で１時間かけてＮ−メチロールベンズアミド
22.6ｇ（0.15モル）を加え、その後同温度で３時
間撹拌する。反応後蟻酸を回収し、残留物に10％
塩酸100mlを加え、３時間加熱還流し、加水分解
を行なう。その後、実施例１と同様の方法で処理
し、４−アミノメチル−３−ヒドロオキシシクロ
ヘキサン−１−カルボン酸が得られる。
12.5ｇ（0.1モル）を100mlの蟻酸に溶解し、温度
25℃で１時間かけてＮ−メチロールベンズアミド
22.6ｇ（0.15モル）を加え、その後同温度で３時
間撹拌する。反応後蟻酸を回収し、残留物に10％
塩酸100mlを加え、３時間加熱還流し、加水分解
を行なう。その後、実施例１と同様の方法で処理
し、４−アミノメチル−３−ヒドロオキシシクロ
ヘキサン−１−カルボン酸が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 で示される４−アミノメチル−３−ヒドロオキシ
シクロヘキサン−１−カルボン酸。 ２ 一般式 （式中Ｘは、シアノ基、カルボキシル基、低級ア
ルコキシカルボニル基又はカルバモイル基を示
す。）で示されるシクロヘキセン誘導体を酸性触
媒の存在下、一般式 Ｒ−CONHCH2OH （式中Ｒは、フエニル基、ベンジル基又は低級ア
ルキル基を示す。）で示されるＮ−メチロール体
と反応せしめ、次いで加水分解することを特徴と
する一般式 で示される４−アミノメチル−３−ヒドロオキシ
シクロヘキサン−１−カルボン酸の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5812379A JPS55151539A (en) | 1979-05-14 | 1979-05-14 | Novel cyclohexane derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5812379A JPS55151539A (en) | 1979-05-14 | 1979-05-14 | Novel cyclohexane derivative |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55151539A JPS55151539A (en) | 1980-11-26 |
| JPS6326102B2 true JPS6326102B2 (ja) | 1988-05-27 |
Family
ID=13075194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5812379A Granted JPS55151539A (en) | 1979-05-14 | 1979-05-14 | Novel cyclohexane derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55151539A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104640843A (zh) | 2012-07-19 | 2015-05-20 | 大日本住友制药株式会社 | 1-(环烷基羰基)脯氨酸衍生物 |
-
1979
- 1979-05-14 JP JP5812379A patent/JPS55151539A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55151539A (en) | 1980-11-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2930827B2 (ja) | ビフェニル誘導体の製造方法 | |
| JP4048119B2 (ja) | ２−（４−クロロベンゾイルアミノ）−３−［２（１ｈ）−キノールリノン−４−イル］プロピオン酸の製造方法 | |
| JPWO2011001976A1 (ja) | スレオ−３−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−ｌ−セリンの製造法 | |
| JPS6326102B2 (ja) | ||
| CN103086948A (zh) | (s,s,s)-2-氮杂双环[3,3,0]辛烷-3-羧酸的制备方法 | |
| JPH09309873A (ja) | メシル酸カモスタットの新規な製造法 | |
| JP3217425B2 (ja) | ２，４−ジクロロ−５−フルオロベンゾニトリルの製造方法 | |
| JP3677786B2 (ja) | アリールオキシプロピオン酸の製造法 | |
| CN114085161B (zh) | 一种制备5-ALA·HCl的中间体及5-ALA·HCl制备方法 | |
| JP3899626B2 (ja) | ２−メルカプトチアゾ−ルの製法 | |
| US4334087A (en) | Process for preparing α-ketocarboxylic acids | |
| JP3257779B2 (ja) | タートラニル酸類の製造法 | |
| JP3258850B2 (ja) | ５−置換ジヒドロウラシル類の製造法 | |
| JP2691363B2 (ja) | 光学活性３，４―ジヒドロキシ酪酸誘導体の製造法 | |
| JP2893474B2 (ja) | ５―アミノ―２―クロロ―４―フルオロチオフェノールの製造法およびその中間化合物 | |
| JP2821700B2 (ja) | ４―アミノ―ｃｉｓ―２―ブテン―１―オールの製造方法 | |
| JP2001508455A (ja) | アシル化α−アミノカルボン酸アミドの製法 | |
| JPH06192170A (ja) | ４−ブロモメチルビフェニル化合物の製造法 | |
| JP2716243B2 (ja) | Ｎ―ベンジル―３―ヒドロキシスクシンアミド酸およびその製造法 | |
| JP2920557B2 (ja) | ２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフエニルチオ）酢酸メチルエステルの製造法およびその中間体 | |
| JP3596262B2 (ja) | ２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸、そのエステル類及びその製造法 | |
| JPS6121939B2 (ja) | ||
| JPS6317869A (ja) | ２−低級アルキル−４−アミノ−５−ホルミルピリミジンの製造法 | |
| JP2000128840A (ja) | シス−２−アミノシクロヘキサンカルボン酸およびシス−２−ベンズアミドシクロヘキサンカルボン酸の製造方法 | |
| JPS5849547B2 (ja) | ピラゾリンユウドウタイノ セイゾウホウ |