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JPS6329358B2 - - Google Patents
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JPS6329358B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6329358B2
JPS6329358B2 JP57154497A JP15449782A JPS6329358B2 JP S6329358 B2 JPS6329358 B2 JP S6329358B2 JP 57154497 A JP57154497 A JP 57154497A JP 15449782 A JP15449782 A JP 15449782A JP S6329358 B2 JPS6329358 B2 JP S6329358B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic field
bubble
stop
hold
ion implantation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57154497A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5945679A (en
Inventor
Makoto Oohashi
Yoshio Sato
Tsutomu Myashita
Keiichi Betsui
Kazuo Matsuda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS6329358B2 publication Critical patent/JPS6329358B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (1) 発明の技術分野 本発明はイオン注入バブルデバイスに関し、特
にそのスタートストツプ方向及びホールド磁界に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Technical Field of the Invention The present invention relates to an ion implantation bubble device, and particularly to its start/stop direction and hold magnetic field.

(2) 技術の背景 磁気バブルを利用して情報の蓄積、論理演算等
を行なう磁気バブル利用装置は、不揮発性、高記
憶密度、低消費電力、小型軽量、機械的要素を全
く含まない固体素子である等種々の特徴をもつて
いる。
(2) Background of the technology Magnetic bubble utilization devices that use magnetic bubbles to store information, perform logical operations, etc. are nonvolatile, high storage density, low power consumption, small and lightweight, and are solid-state devices that do not contain any mechanical elements. It has various characteristics such as.

この磁気バブルメモリデバイスは、第1図に示
す如く、基板の上に形成した1軸異方性を有する
磁性薄膜の上に磁気バブル発生器、バブル転送
路、バブル検出器等を形成した磁気バブルメモリ
素子1と、該素子に発生せしめたバブルを安定に
保つためのバイアス磁界発生用磁石2,3と、バ
ブルを転送路に沿つて移動せしめる回転磁界発生
用のコイル4,5等を具備して構成されている。
そして磁気バブルの転送時のストツプ動作及びそ
の後のスタート動作を保証するため素子に対して
面内方向の磁界(これをホールド磁界という。)
を印加している。
As shown in Fig. 1, this magnetic bubble memory device is a magnetic bubble memory device in which a magnetic bubble generator, a bubble transfer path, a bubble detector, etc. are formed on a magnetic thin film having uniaxial anisotropy formed on a substrate. It includes a memory element 1, magnets 2 and 3 for generating a bias magnetic field to keep the bubbles generated in the element stable, and coils 4 and 5 for generating a rotating magnetic field to move the bubbles along a transfer path. It is composed of
A magnetic field is applied in the plane of the element (this is called a hold magnetic field) to ensure stop operation and subsequent start operation during magnetic bubble transfer.
is being applied.

(3) 従来技術と問題点 上記の如き磁気バブルメモリデバイスにおい
て、従来はそのバブル転送路をパーマロイ薄膜よ
りホトリソグラフイの手法によつて形成してい
た。ところが最近、記憶密度の高度化要求により
パーマロイパターンの形成がホトリソグラフイの
精度を越えるようになつたため、イオン注入法に
よるバブル転送路の形成方法が開発されている。
このイオン注入バブルデバイスは前記のスタート
ストツプ方向及びホールド磁界についての技術が
未だ確立していない。
(3) Prior Art and Problems In the magnetic bubble memory device as described above, the bubble transfer path has conventionally been formed using a permalloy thin film using a photolithography method. However, recently, due to the demand for higher storage density, the accuracy of permalloy pattern formation has exceeded that of photolithography, and a method of forming bubble transfer paths using ion implantation has been developed.
In this ion implantation bubble device, the technology regarding the start/stop direction and hold magnetic field has not yet been established.

(4) 発明の目的 本発明は上記従来の問題点に鑑み、スタートス
トツプ方向及びホールド磁界を最適に決定したイ
オン注入バブルデバイスを提供することを目的と
するものである。
(4) Object of the Invention In view of the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to provide an ion implantation bubble device in which the start-stop direction and the hold magnetic field are optimally determined.

(5) 発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、磁気バブル
用結晶基板に対して複数のデイスクパターン領域
を除く該結晶基板の全面にイオン注入層を形成し
て該連接デイスクパターン領域をバブル転送路と
し、該転送路により構成されるメジヤーループを
結晶基板の<101>方向に、マイナーループを<
112>方向にそれぞれ形成したイオン注入バブ
ルデバイスにおいて、バブルのスタートストツプ
方向を結晶の<112>方向に対して0゜とし、ホ
ールド磁界を150e以下とすることを特徴とするイ
オン注入バブルデバイスを提供することによつて
達成される。
(5) Structure of the Invention According to the present invention, this object is to form an ion implantation layer on the entire surface of a crystal substrate for magnetic bubbles except for a plurality of disk pattern areas, and to form the connected disk pattern areas. As a bubble transfer path, the major loop formed by the transfer path is in the <101> direction of the crystal substrate, and the minor loop is in the <101> direction of the crystal substrate.
In the ion implantation bubble device formed in each of the <112> directions, the start and stop direction of the bubble is set at 0 degrees with respect to the <112> direction of the crystal, and the hold magnetic field is set to 150e or less. This is achieved by providing

(6) 発明の実施例 以下本発明実施例を図面によつて詳述する。(6) Examples of the invention Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第2図は本発明によるイオン注入バブルデバイ
スのメモリ素子を説明するための図であり、(a)図
は結晶軸方向、(b)図はパターン構成をそれぞれ示
す。同図において6はバブル記憶用のマイナール
ープ、7は図示せぬバブル発生器より発生したバ
ブル11をマイナーループ6の対応位置に転送す
るための書込用メジヤーループ、8はメジヤール
ープ7からマイナーループ6へバブルを転送する
ためのトランスフアインゲート用コンダクタパタ
ーン、9は図示せぬバブル検出器へバブル12を
転送するための読出し用メジヤーループ、10は
そのマイナーループ6からメジヤーループ9へバ
ブルを転送するためのトランスフアアウトゲート
用コンダクタパターン、HDは回転駆動磁界をそ
れぞれ示す。
FIG. 2 is a diagram for explaining the memory element of the ion-implanted bubble device according to the present invention, in which (a) shows the crystal axis direction, and (b) shows the pattern configuration. In the figure, 6 is a minor loop for storing bubbles, 7 is a major loop for writing to transfer bubbles 11 generated from a bubble generator (not shown) to the corresponding position of the minor loop 6, and 8 is a major loop from the major loop 7 to the minor loop 6. 9 is a reading major loop for transmitting the bubble 12 to a bubble detector (not shown); 10 is a conductor pattern for transmitting the bubble from the minor loop 6 to the major loop 9; Conductor pattern for transfer outgate, H D indicates rotational drive magnetic field, respectively.

書き込み及び読出し用のメジヤーループ7及び
9は基板結晶の<101>方向に、マイナーループ
6は<112>方向に構成されている。このよう
にメジヤループ及びマイナーループが形成された
場合、本発明においてはスタート、ストツプ方向
を0゜とし、ホールド磁界を150e以下とした。
The major loops 7 and 9 for writing and reading are arranged in the <101> direction of the substrate crystal, and the minor loop 6 is arranged in the <112> direction. When a major loop and a minor loop are formed in this way, in the present invention, the start and stop directions are set to 0°, and the hold magnetic field is set to 150e or less.

上記の条件にすることによりバブルがマイナー
ループのカスプにストツプするため、マイナール
ープでのスタートストツプ動作において良好な動
作マージンが得られる。
By setting the above conditions, the bubble stops at the cusp of the minor loop, so a good operating margin can be obtained in the start-stop operation in the minor loop.

第3図はホールド磁界Hhとバイアス磁界HB
の関係を示す図で、本発明者らの実験の結果得ら
れたものである。同図は横軸にホールド磁界Hh
を、縦軸にバイアス磁界HBをとり、曲線Aによ
り0゜方向、曲線BとB′により180゜方向のスタート
ストツプ特性を示した。この実験は第2図の如き
イオン注入バブルメモリ素子に対し回転駆動磁界
HDを750e印加してバブルを駆動した場合(素子
周囲温度は約35℃)のスタートストツプ特性で、
ホールド磁界Hhは180゜方向に9.50e、6.50e、
3.20e、またHh=0、および0゜方向に1.30e、
3.30e、40e、6.50eの8種類についてバイアス磁
界HBとの関係を調べた。図において180゜にスタ
ートストツプした場合はホールド磁界Hhの如何
にかかわらず動作マージン(上限値曲線Bと下限
値曲線B′間のバブルが安定にスタートストツプ
する領域)は一定である。しかしこの場合0゜方向
のホールド磁界は妨害する磁界であり好ましくな
い。これに対し0゜にスタートストツプした場合は
0゜方向へホールド磁界を印加した時動作マージン
(曲線A内のバブルが安定にスタートストツプす
る領域)が得られる。
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the hold magnetic field H h and the bias magnetic field H B , which was obtained as a result of experiments conducted by the inventors. In the same figure, the horizontal axis is the hold magnetic field H h
The bias magnetic field H B is plotted on the vertical axis, and curve A shows the start-stop characteristics in the 0° direction, and curves B and B' show the start-stop characteristics in the 180° direction. This experiment was performed using a rotational driving magnetic field for an ion-implanted bubble memory element as shown in Figure 2.
The start-stop characteristics when the bubble is driven by applying 750e of HDD (the device ambient temperature is approximately 35℃) are as follows:
Hold magnetic field H h is 9.50e, 6.50e in 180° direction,
3.20e, and H h = 0, and 1.30e in the 0° direction,
The relationship with the bias magnetic field H B was investigated for eight types: 3.30e, 40e, and 6.50e. In the case of start-stop at 180° in the figure, the operating margin (region where the bubble between the upper limit curve B and lower limit curve B' stably starts and stops) is constant regardless of the hold magnetic field H h . However, in this case, the hold magnetic field in the 0° direction is an interfering magnetic field and is not desirable. On the other hand, if you start and stop at 0°,
When a hold magnetic field is applied in the 0° direction, an operating margin (region where the bubble within curve A stably starts and stops) is obtained.

第4図はホールド磁界と最小駆動磁界の関係を
示す図で、これも本発明者らの実験の結果得られ
たものである。同図は横軸にホールド磁界Hhを、
縦軸に最小駆動磁界HDをとり、曲線Cにより0゜
方向、曲線Dにより180゜方向のスタートストツプ
の場合を示した。尚、ホールド磁界Hhは上記の
8種類の外に0゜方向へ80eと100e印加した場合の
最小駆動磁界HDの関係も調べた。この実験結果
は図の如く、ホールド磁界を0゜方向にするとスタ
ートストツプ方向が0゜、180゜共最小駆動磁界は小
さくなる。ホールド磁界が0゜方向でスタートスト
ツプ方向が180゜の場合ではホールド磁界は妨害す
るような磁界となる。従つてスタートストツプ方
向を0゜方向にし、ホールド磁界を100e以下好まし
くは2〜80eにすることによりバイアスマージン、
最小駆動磁界共に良好にすることができる。0゜方
向へのホールド磁界は実験では100eが上限であつ
たが、150e程度まではそれほど最小駆動磁界が上
昇せず十分使用可能と思われる。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the hold magnetic field and the minimum drive magnetic field, which was also obtained as a result of experiments by the inventors. In the same figure, the horizontal axis represents the hold magnetic field H h ,
The minimum driving magnetic field HD is plotted on the vertical axis, and curve C indicates a start/stop case in the 0° direction, and curve D indicates a start/stop case in the 180° direction. In addition to the above-mentioned eight types of hold magnetic field H h , the relationship between the minimum drive magnetic field HD and the case where 80e and 100e were applied in the 0° direction was also investigated. As shown in the figure, the experimental results show that when the hold magnetic field is set in the 0° direction, the minimum drive magnetic field becomes smaller in both the 0° and 180° start/stop directions. When the hold magnetic field is in the 0° direction and the start/stop direction is 180°, the hold magnetic field becomes a disturbing magnetic field. Therefore, by setting the start/stop direction to 0° and setting the hold magnetic field to 100e or less, preferably 2 to 80e, the bias margin can be increased.
Both the minimum driving magnetic field can be improved. The upper limit of the hold magnetic field in the 0° direction was 100e in experiments, but it seems that it can be used sufficiently up to about 150e without the minimum drive magnetic field increasing so much.

第5図は第4図のa点及びb点における動作マ
ージンを示した図であり、横軸には駆動磁界HD
を、縦軸にはバイアス磁界HBをとり、曲線Eに
よりスタートストツプ方向0゜、ホールド磁界
6.50eの場合(第4図のa点)を示し、曲線Fに
よりスタートストツプ方向180゜、ホールド磁界
9.50eの場合(第4図のb点)の動作マージンを
示した。図よりスタートストツプ方向は0゜の場合
の方が良好であることがわかる。
Fig. 5 is a diagram showing the operating margin at points a and b in Fig. 4, and the horizontal axis shows the driving magnetic field H D
The vertical axis shows the bias magnetic field H B , and the start/stop direction is 0° and the hold magnetic field is expressed by the curve E.
The case of 6.50e (point a in Figure 4) is shown, and the start/stop direction is 180° according to curve F, and the hold magnetic field is
The operating margin for 9.50e (point b in Figure 4) is shown. From the figure, it can be seen that the start-stop direction is better when it is 0°.

(7) 発明の効果 以上、詳細に説明したように本発明のイオン注
入バブルデバイスはそのスタートストツプ方向及
びホールド磁界の条件を規定することによりスタ
ートストツプ動作における良好な動作マージンを
得ることを可能としたものであり、その信頼性向
上に寄与するといつた効果大なるものである。
(7) Effects of the Invention As explained above in detail, the ion implantation bubble device of the present invention can obtain a good operating margin in start-stop operation by defining the start-stop direction and the hold magnetic field conditions. This has been made possible and has a great effect in contributing to improved reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の磁気バブルメモリデバイスの構
造を説明するための図、第2図a,bは本発明に
よるイオン注入バブルデバイスを説明するための
図、第3図はホールド磁界とバイアス磁界の関係
を示す図、第4図はホールド磁界と最小駆動磁界
の関係を示す図、第5図は動作マージンを示す図
である。 図面において、6はマイナーループ、7は書き
込み用メジヤーループ、8はトランスフアインゲ
ート用コンダクタパターン、9は読出し用メジヤ
ーループ、10はトランスフアアウトゲート用コ
ンダクタパターンをそれぞれ示す。
Figure 1 is a diagram for explaining the structure of a conventional magnetic bubble memory device, Figures 2a and b are diagrams for explaining an ion implantation bubble device according to the present invention, and Figure 3 is a diagram for explaining the structure of a conventional magnetic bubble memory device. FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the hold magnetic field and the minimum drive magnetic field, and FIG. 5 is a diagram showing the operating margin. In the drawing, 6 indicates a minor loop, 7 indicates a write major loop, 8 indicates a transfer in gate conductor pattern, 9 indicates a read major loop, and 10 indicates a transfer out gate conductor pattern.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 磁気バブル用結晶基板に対して複数のデイス
クパターン領域を除く該結晶基板の全面にイオン
注入層を形成して該連接デイスクパターン領域を
バブル転送路とし、該転送路により構成されるメ
ジヤーループを結晶基板の<101>方向に、マイ
ナーループを<112>方向にそれぞれ形成した
イオン注入バブルデバイスにおいて、バブルのス
タートストツプ方向を結晶の<112>方向に対
して0゜とし、ホールド磁界を15Oe以下とするこ
とを特徴とするイオン注入バブルデバイス。
1. An ion implantation layer is formed on the entire surface of the crystal substrate for magnetic bubbles except for a plurality of disk pattern areas, the connected disk pattern area is used as a bubble transfer path, and a major loop constituted by the transfer path is formed as a crystal substrate. In an ion implantation bubble device in which a minor loop is formed in the <101> direction of the substrate and a minor loop is formed in the <112> direction, the bubble start/stop direction is set at 0° with respect to the <112> direction of the crystal, and the hold magnetic field is set to 15 Oe or less. An ion implantation bubble device characterized by:
JP57154497A 1982-09-07 1982-09-07 Ion implanted bubble device Granted JPS5945679A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57154497A JPS5945679A (en) 1982-09-07 1982-09-07 Ion implanted bubble device

Applications Claiming Priority (1)

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JP57154497A JPS5945679A (en) 1982-09-07 1982-09-07 Ion implanted bubble device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5945679A JPS5945679A (en) 1984-03-14
JPS6329358B2 true JPS6329358B2 (en) 1988-06-13

Family

ID=15585533

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57154497A Granted JPS5945679A (en) 1982-09-07 1982-09-07 Ion implanted bubble device

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Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4164026A (en) * 1977-12-30 1979-08-07 International Business Machines Corporation Contiguous element field access bubble lattice file
US4247912A (en) * 1978-11-13 1981-01-27 International Business Machines Corporation Magnetic bubble domain chip with enhanced propagation margins

Also Published As

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JPS5945679A (en) 1984-03-14

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