JPS6330294B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6330294B2 JPS6330294B2 JP19420182A JP19420182A JPS6330294B2 JP S6330294 B2 JPS6330294 B2 JP S6330294B2 JP 19420182 A JP19420182 A JP 19420182A JP 19420182 A JP19420182 A JP 19420182A JP S6330294 B2 JPS6330294 B2 JP S6330294B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- formula
- hydroxy
- yield
- dialkoxyphenol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 8
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims description 5
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 5
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 claims description 4
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 claims description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- -1 etc.) Substances 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003232 pyrogallols Chemical class 0.000 description 3
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- NZWIYPLSXWYKLH-UHFFFAOYSA-N 3-(bromomethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)CBr NZWIYPLSXWYKLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRPNQSVBEWWHIJ-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C(O)=C1O CRPNQSVBEWWHIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007013 Reimer-Tiemann formylation reaction Methods 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005874 Vilsmeier-Haack formylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 1
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000022244 formylation Effects 0.000 description 1
- 238000006170 formylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000010446 mirabilite Substances 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- ORIHZIZPTZTNCU-YVMONPNESA-N salicylaldoxime Chemical compound O\N=C/C1=CC=CC=C1O ORIHZIZPTZTNCU-YVMONPNESA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfate decahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は２―ヒドロキシ―３，４―ジアルコキ
シベンズアルデヒド類の製造方法に関するもので
あり、詳しくは、ピロガロール類を直接アルキル
化し位置選択的に２，３―ジアルコキシフエノー
ル類を得、次いで水酸基に隣接する位置にホルミ
ル基を導入して、２―ヒドロキシ―３，４―ジア
ルコキシベンズアルデヒド類を製造する製造方法
に関するものである。 前記一般式（）で表わされる２―ヒドロキシ
―３，４―ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体
は広く化学反応の原料として用いられる。特に医
薬品の中間原料として、また染料、ポリマー類の
光劣化防止剤としてのサリチルアルドキシム金属
錯体（特開昭55−12129、特開昭56−168652）の
中間原料として重要な化合物である。 従来、これらの２―ヒドロキシ―３，４―ジア
ルコキシベンズアルデヒド類は、２，３，４―ト
リヒドロキシベンズアルデヒド類をホルミル基と
それに隣接する水酸基との間の水素結合力による
水酸基の反応性低下を利用した直接アルキル化法
によつて合成されていた。しかし、反応の選択性
が著しく低く、目的とする化合物を収率良く合成
することがしばしば困難であつた。 本発明者は、より選択性を上げて、上記の欠点
を排除すべく鋭意検討を重ねた結果、ピロガロー
ル類を特定の条件で直接アルキル化することによ
つて２，３―ジアルコキシフエノール類が70％以
上の収率で生成することを見出し、本発明に到達
した。 すなわち、本発明の要旨は、一般式（）で示
されるピロガロール類を直接アルキル化し、一般
式（）の２，３―ジアルコキシフエノールを
得、塩化第２スズ及び３級アミンの存在下、パラ
ホルムアルデヒドを作用させることにより、水酸
基に隣接する位置にホルミル基を導入して、一般
式（）で示される２―ヒドロキシ―３，４―ジ
アルコキシベンズアルデヒド誘導体を製造するこ
とである。 一般式（） 一般式（） 一般式（） 式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基を表わし、R2は直鎖また
は側鎖のアルキル基を表わし、ｎは１から２の
整数を表わす。 ｎが２のとき、２つのR1は同じでも異なつ
ていてもよい。 R2は炭素数１〜20のアルキルが好ましい。 一般式（）であらわされる化合物の具体例は
以下の通りである。
シベンズアルデヒド類の製造方法に関するもので
あり、詳しくは、ピロガロール類を直接アルキル
化し位置選択的に２，３―ジアルコキシフエノー
ル類を得、次いで水酸基に隣接する位置にホルミ
ル基を導入して、２―ヒドロキシ―３，４―ジア
ルコキシベンズアルデヒド類を製造する製造方法
に関するものである。 前記一般式（）で表わされる２―ヒドロキシ
―３，４―ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体
は広く化学反応の原料として用いられる。特に医
薬品の中間原料として、また染料、ポリマー類の
光劣化防止剤としてのサリチルアルドキシム金属
錯体（特開昭55−12129、特開昭56−168652）の
中間原料として重要な化合物である。 従来、これらの２―ヒドロキシ―３，４―ジア
ルコキシベンズアルデヒド類は、２，３，４―ト
リヒドロキシベンズアルデヒド類をホルミル基と
それに隣接する水酸基との間の水素結合力による
水酸基の反応性低下を利用した直接アルキル化法
によつて合成されていた。しかし、反応の選択性
が著しく低く、目的とする化合物を収率良く合成
することがしばしば困難であつた。 本発明者は、より選択性を上げて、上記の欠点
を排除すべく鋭意検討を重ねた結果、ピロガロー
ル類を特定の条件で直接アルキル化することによ
つて２，３―ジアルコキシフエノール類が70％以
上の収率で生成することを見出し、本発明に到達
した。 すなわち、本発明の要旨は、一般式（）で示
されるピロガロール類を直接アルキル化し、一般
式（）の２，３―ジアルコキシフエノールを
得、塩化第２スズ及び３級アミンの存在下、パラ
ホルムアルデヒドを作用させることにより、水酸
基に隣接する位置にホルミル基を導入して、一般
式（）で示される２―ヒドロキシ―３，４―ジ
アルコキシベンズアルデヒド誘導体を製造するこ
とである。 一般式（） 一般式（） 一般式（） 式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基を表わし、R2は直鎖また
は側鎖のアルキル基を表わし、ｎは１から２の
整数を表わす。 ｎが２のとき、２つのR1は同じでも異なつ
ていてもよい。 R2は炭素数１〜20のアルキルが好ましい。 一般式（）であらわされる化合物の具体例は
以下の通りである。
【式】
【式】
【式】
本発明によつて合成される一般式（）であら
わされる化合物は例えば以下のものがある。
わされる化合物は例えば以下のものがある。
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
以下に本発明を詳細に説明する。
１，２，３―トリヒドロキシベンゼン誘導体を
３倍から４倍モルのアルキルハライドでアルキル
化した時に、１，２，３―トリアルコキシベンゼ
ン誘導体や１，３―ジアルコキシベンゼン誘導体
が極めて少量しか生成せずに２，３―ジアルコキ
シフエノールが70％以上の収率で生成することを
見出した事が本発明の最大のポイントである。 １，２，３―トリヒドロキシベンゼン誘導体を
アルコール系溶媒（好ましくはプロパノール、イ
ソプロパノール、またはｎ―ブタノール、メチル
セルソルブ等の80℃以上の沸点を有するアルコー
ル類）、または非プロトン性極性溶媒（好ましく
はアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド等）に溶解し、塩基触媒（好ま
しくは無水炭酸カリウム）を１，２，３―トリヒ
ドロキシベンゼン誘導体に対し1.5〜10倍モル
（好ましくは３〜５倍モル）添加し、反応温度25゜
〜200℃（好ましくは50〜100℃）で加熱撹拌する
事によつて目的とする２，３―ジアルコキシフエ
ノールが高収率に得られる。反応時間を短縮する
ために、さらに反応加速触媒（例えば、ポリエチ
レングリコール（平均分子量400）、フツ化カリウ
ム、テトラアルキルアンモニウム塩等）を１，
２，３―トリヒドロキシベンゼンに対し0.1〜10
倍モル（好ましくは0.1〜１倍モル）添加するこ
とは極めて有効である。２，３―ジアルコキシフ
エノールの生成率は、用いる出発原料、アルキル
化剤によつて若干異なるがほぼ70〜80％に達す
る。これらの生成物を精製する方法として減圧蒸
留が有利である。減圧蒸留操作によつて、目的物
を98％以上の純度で得ることができる。これらの
詳細は実施例で明らかになるであろう。 次に２，３―ジアルコキシフエノール類から一
般式（）で示される２―ヒドロキシ―３，４―
ジアルコキシベンズアルデヒドの製造条件につい
て述べる。フエノールのホルミル化として良く知
られているVilsmeier反応、Reimer―Tiemann
反応、またはHC（OC2H5）3／AlCl3／エーテル系
（Berichte、96 308（1963））を用いる反応条件を
試みたが、原料回収か、多量の副生成物の生成に
より目的を達することが出来なかつた。最近にな
つて報告されたパラホルムアルデヒド／SnCl4／
Bu3N系（J.Chem.Soc.、Perkin 1862
（1980））の反応条件を使用することによつて、２
―ヒドロキシ―３，４―ジアルコキシベンズアル
デヒドを50％以上の収率で得ることができた。 一般式（）で示される２，３―ジアルコキシ
フエノール類を芳香族炭化水素系溶媒（例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレン等）に溶解し、塩化
第２スズ0.1〜1.0（好ましくは0.2〜0.5）倍モル、
パラホルムアルデヒド、２〜５（好ましくは２〜
３）倍モル、３級アミン（好ましくはトリ―ｎ―
ブチルアミン）を0.1〜10（好ましくは0.3〜2.0）
倍モル添加し、反応温度50゜〜150゜の範囲で加熱
撹拌することによつて50％以上の収率で２―ヒド
ロキシ―３，４―ジアルコキシベンズアルデヒド
類が生成する。精製はカラムクロマトによること
も出来るが製造的に可能な減圧蒸留が好ましい。
減圧蒸留によつて98％以上で目的物が単離され
る。これらの詳細は実施例で明らかになるであろ
う。 以下の実施例にこれまでの公知の合成法との比
較および本発明で到達した製造方法の具体例を示
すが、本発明はその要旨を超えない限り、下記実
施例により何等の限定を受けるものではない。 実施例 １ サリチルアルデヒドの水酸基に隣接する水酸基
のみを選択的にアルキル化するために、ホルミル
基とそれに隣接する水酸基との間の水素結合力に
よる反応性の低下を予想し、以下の方法で２―ヒ
ドロキシ―３，４―ジ―４（２―エチルヘキシル
オキシ）ベンズアルデヒドの合成を試みた。 ２，３，４―トリヒドロキシベンズアルデヒド
30.8ｇ（0.2モル）、無水炭酸カリウム55.2ｇ（0.4
モル）に、窒素気流下で、ジメチルホルムアミド
300mlを加えた。これを内温85℃〜90℃で撹拌し
ながら２―エチルヘキシルブロミド77.2ｇ（0.4
モル）を徐徐に加えた。そのままさらに４時間、
撹拌を続けた後、冷却し、窒素気流を止め、酢酸
エチル500ml、飽和食塩水500mlを加えて、セライ
トで過をした。分液後、酢酸エチル層を飽和食
塩水500mlで２回洗浄した後、無水芒硝にて乾燥
した。芒硝を別後酢酸エチルを減圧留去し、得
られた油状物をカラムクロマトグラフで精製し、
２―ヒドロキシ―３，４―ジ―（２―エチルヘキ
シルオキシ）ベンズアルデヒド４ｇを得た。収率
５％ また上記反応条件で反応溶媒をアセトニトリ
ル、イソプロピルアルコール、メチルイソブチル
ケトン、テトラヒドロフラン等に変え、また反応
湿度も変え、ホウ素化合物等の添加物を加えてみ
たが、２―ヒドロキシ―３，４―ジ―（２―エチ
ルヘキシルオキシ）ベンズアルデヒドの収率は５
％以上とはならなかつた。 実施例 ２ ２―ヒドロキシ―３，４―ジ―（２―エチルヘ
キシルオキシ）ベンズアルデヒドの製造法 中間体 ２，３―ジ―（２―エチルヘキシル
オキシ）フエノールの製造法 ピロガロール類50ｇ（0.4モル）、無水炭酸カ
リウム164ｇ（1.20モル）に窒素気流下でイソ
プロピルアルコール350ml：ポリエチレングリ
コール（PEG400）25mlを加えた。これをスチ
ーム浴上で加熱撹拌しながら、２―エチルヘキ
シルブロミド252ｇ（1.30モル）を４時間かけ
て滴下し、さらに10時間加熱撹拌を続けた。反
応液を冷却し、窒素気流を止めた後、ｎ―ヘキ
サン1500ml、飽和食塩水1000mlを加えて分液
し、さらにｎ―ヘキサン層を飽和食塩水1000ml
で１回、希塩酸水1000mlで１回、飽和食塩水
1000mlで２回洗浄した。ｎ―ヘキサンを減圧留
去し、得られた油状物を減圧蒸留し、沸点170
℃／0.15―0.20mmHg（油浴温度230℃）の留分を
集めると２，３―ジ―（２―エチルヘキシルオ
キシ）フエノール98.5ｇが得られた。収率70％ 元素分析 理論値 Ｃ：75.38％、Ｈ：10.93％ 測定値 Ｃ：75.47 、Ｈ：11.07 ２―ヒドロキシ―３，４―ジ―（２エチルヘ
キシルオキシ）ベンズアルデヒドの製造法 ２，３―ジ―（２―エチルヘキシルオキシ）
フエノール100ｇ（0.29モル）にトルエン570mg
を加え、内温15℃以下で撹拌し、この溶液に塩
化第２スズ10.5ml（0.087モル）を加え、さら
にトリブチルアミン80ml（0.35モル）、パラホ
ルムアルデヒド23.5ｇ（0.78モル）を加え、内
温70℃〜75℃で６時間加熱撹拌を続けた。次に
濃塩酸30mlを氷水1000mlに溶かした水溶液に上
記反応液を撹拌しながら注いだ。２―ヘキサン
500mlを加え、セライト過をし、ｎ―ヘキサ
ン層を飽和食塩水1000mlで２回洗浄した後、溶
媒を減圧留去した。得られた油状物を減圧蒸留
し、沸点180℃〜190℃10.3mmHg（油浴温度235
℃）の留分を集めると２―ヒドロキシ―３，４
―ジ―（２―エチルヘキシルオキシ）ベンズア
ルデヒド62ｇが得られた。収率57％ 元素分析 理論値 Ｃ：72.98 Ｈ：10.12 測定値 Ｃ：73.05 Ｈ：10.20 実施例 ３ 実施例２―と同様な方法で、一般式（）の
R2を変更した化合物を合成した。表１に示すよ
うに、この２，３―ジアルコキシフエノールの製
造法は、種々の化合物にも適用でき良い収率を与
えた。またこれらの２，３―ジアルコキシフエノ
ール類を実施例２―と同様な方法で反応させる
ことによつて２―ヒドロキシ―３，４―ジアルコ
キシベンズアルデヒドを良い収率で得ることがで
きた。
３倍から４倍モルのアルキルハライドでアルキル
化した時に、１，２，３―トリアルコキシベンゼ
ン誘導体や１，３―ジアルコキシベンゼン誘導体
が極めて少量しか生成せずに２，３―ジアルコキ
シフエノールが70％以上の収率で生成することを
見出した事が本発明の最大のポイントである。 １，２，３―トリヒドロキシベンゼン誘導体を
アルコール系溶媒（好ましくはプロパノール、イ
ソプロパノール、またはｎ―ブタノール、メチル
セルソルブ等の80℃以上の沸点を有するアルコー
ル類）、または非プロトン性極性溶媒（好ましく
はアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド等）に溶解し、塩基触媒（好ま
しくは無水炭酸カリウム）を１，２，３―トリヒ
ドロキシベンゼン誘導体に対し1.5〜10倍モル
（好ましくは３〜５倍モル）添加し、反応温度25゜
〜200℃（好ましくは50〜100℃）で加熱撹拌する
事によつて目的とする２，３―ジアルコキシフエ
ノールが高収率に得られる。反応時間を短縮する
ために、さらに反応加速触媒（例えば、ポリエチ
レングリコール（平均分子量400）、フツ化カリウ
ム、テトラアルキルアンモニウム塩等）を１，
２，３―トリヒドロキシベンゼンに対し0.1〜10
倍モル（好ましくは0.1〜１倍モル）添加するこ
とは極めて有効である。２，３―ジアルコキシフ
エノールの生成率は、用いる出発原料、アルキル
化剤によつて若干異なるがほぼ70〜80％に達す
る。これらの生成物を精製する方法として減圧蒸
留が有利である。減圧蒸留操作によつて、目的物
を98％以上の純度で得ることができる。これらの
詳細は実施例で明らかになるであろう。 次に２，３―ジアルコキシフエノール類から一
般式（）で示される２―ヒドロキシ―３，４―
ジアルコキシベンズアルデヒドの製造条件につい
て述べる。フエノールのホルミル化として良く知
られているVilsmeier反応、Reimer―Tiemann
反応、またはHC（OC2H5）3／AlCl3／エーテル系
（Berichte、96 308（1963））を用いる反応条件を
試みたが、原料回収か、多量の副生成物の生成に
より目的を達することが出来なかつた。最近にな
つて報告されたパラホルムアルデヒド／SnCl4／
Bu3N系（J.Chem.Soc.、Perkin 1862
（1980））の反応条件を使用することによつて、２
―ヒドロキシ―３，４―ジアルコキシベンズアル
デヒドを50％以上の収率で得ることができた。 一般式（）で示される２，３―ジアルコキシ
フエノール類を芳香族炭化水素系溶媒（例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレン等）に溶解し、塩化
第２スズ0.1〜1.0（好ましくは0.2〜0.5）倍モル、
パラホルムアルデヒド、２〜５（好ましくは２〜
３）倍モル、３級アミン（好ましくはトリ―ｎ―
ブチルアミン）を0.1〜10（好ましくは0.3〜2.0）
倍モル添加し、反応温度50゜〜150゜の範囲で加熱
撹拌することによつて50％以上の収率で２―ヒド
ロキシ―３，４―ジアルコキシベンズアルデヒド
類が生成する。精製はカラムクロマトによること
も出来るが製造的に可能な減圧蒸留が好ましい。
減圧蒸留によつて98％以上で目的物が単離され
る。これらの詳細は実施例で明らかになるであろ
う。 以下の実施例にこれまでの公知の合成法との比
較および本発明で到達した製造方法の具体例を示
すが、本発明はその要旨を超えない限り、下記実
施例により何等の限定を受けるものではない。 実施例 １ サリチルアルデヒドの水酸基に隣接する水酸基
のみを選択的にアルキル化するために、ホルミル
基とそれに隣接する水酸基との間の水素結合力に
よる反応性の低下を予想し、以下の方法で２―ヒ
ドロキシ―３，４―ジ―４（２―エチルヘキシル
オキシ）ベンズアルデヒドの合成を試みた。 ２，３，４―トリヒドロキシベンズアルデヒド
30.8ｇ（0.2モル）、無水炭酸カリウム55.2ｇ（0.4
モル）に、窒素気流下で、ジメチルホルムアミド
300mlを加えた。これを内温85℃〜90℃で撹拌し
ながら２―エチルヘキシルブロミド77.2ｇ（0.4
モル）を徐徐に加えた。そのままさらに４時間、
撹拌を続けた後、冷却し、窒素気流を止め、酢酸
エチル500ml、飽和食塩水500mlを加えて、セライ
トで過をした。分液後、酢酸エチル層を飽和食
塩水500mlで２回洗浄した後、無水芒硝にて乾燥
した。芒硝を別後酢酸エチルを減圧留去し、得
られた油状物をカラムクロマトグラフで精製し、
２―ヒドロキシ―３，４―ジ―（２―エチルヘキ
シルオキシ）ベンズアルデヒド４ｇを得た。収率
５％ また上記反応条件で反応溶媒をアセトニトリ
ル、イソプロピルアルコール、メチルイソブチル
ケトン、テトラヒドロフラン等に変え、また反応
湿度も変え、ホウ素化合物等の添加物を加えてみ
たが、２―ヒドロキシ―３，４―ジ―（２―エチ
ルヘキシルオキシ）ベンズアルデヒドの収率は５
％以上とはならなかつた。 実施例 ２ ２―ヒドロキシ―３，４―ジ―（２―エチルヘ
キシルオキシ）ベンズアルデヒドの製造法 中間体 ２，３―ジ―（２―エチルヘキシル
オキシ）フエノールの製造法 ピロガロール類50ｇ（0.4モル）、無水炭酸カ
リウム164ｇ（1.20モル）に窒素気流下でイソ
プロピルアルコール350ml：ポリエチレングリ
コール（PEG400）25mlを加えた。これをスチ
ーム浴上で加熱撹拌しながら、２―エチルヘキ
シルブロミド252ｇ（1.30モル）を４時間かけ
て滴下し、さらに10時間加熱撹拌を続けた。反
応液を冷却し、窒素気流を止めた後、ｎ―ヘキ
サン1500ml、飽和食塩水1000mlを加えて分液
し、さらにｎ―ヘキサン層を飽和食塩水1000ml
で１回、希塩酸水1000mlで１回、飽和食塩水
1000mlで２回洗浄した。ｎ―ヘキサンを減圧留
去し、得られた油状物を減圧蒸留し、沸点170
℃／0.15―0.20mmHg（油浴温度230℃）の留分を
集めると２，３―ジ―（２―エチルヘキシルオ
キシ）フエノール98.5ｇが得られた。収率70％ 元素分析 理論値 Ｃ：75.38％、Ｈ：10.93％ 測定値 Ｃ：75.47 、Ｈ：11.07 ２―ヒドロキシ―３，４―ジ―（２エチルヘ
キシルオキシ）ベンズアルデヒドの製造法 ２，３―ジ―（２―エチルヘキシルオキシ）
フエノール100ｇ（0.29モル）にトルエン570mg
を加え、内温15℃以下で撹拌し、この溶液に塩
化第２スズ10.5ml（0.087モル）を加え、さら
にトリブチルアミン80ml（0.35モル）、パラホ
ルムアルデヒド23.5ｇ（0.78モル）を加え、内
温70℃〜75℃で６時間加熱撹拌を続けた。次に
濃塩酸30mlを氷水1000mlに溶かした水溶液に上
記反応液を撹拌しながら注いだ。２―ヘキサン
500mlを加え、セライト過をし、ｎ―ヘキサ
ン層を飽和食塩水1000mlで２回洗浄した後、溶
媒を減圧留去した。得られた油状物を減圧蒸留
し、沸点180℃〜190℃10.3mmHg（油浴温度235
℃）の留分を集めると２―ヒドロキシ―３，４
―ジ―（２―エチルヘキシルオキシ）ベンズア
ルデヒド62ｇが得られた。収率57％ 元素分析 理論値 Ｃ：72.98 Ｈ：10.12 測定値 Ｃ：73.05 Ｈ：10.20 実施例 ３ 実施例２―と同様な方法で、一般式（）の
R2を変更した化合物を合成した。表１に示すよ
うに、この２，３―ジアルコキシフエノールの製
造法は、種々の化合物にも適用でき良い収率を与
えた。またこれらの２，３―ジアルコキシフエノ
ール類を実施例２―と同様な方法で反応させる
ことによつて２―ヒドロキシ―３，４―ジアルコ
キシベンズアルデヒドを良い収率で得ることがで
きた。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（）で示されるピロガロール類を直
接アルキル化し、一般式（）の２，３―ジアル
コキシフエノールを得、次いで、塩化第２スズ及
び３級アミンの存在下、パラホルムアルデヒドを
作用させることにより、水酸基に隣接する位置に
ホルミル基を導入して一般式（）で示される２
―ヒドロキシ―３，４―ジアルコキシベンズアル
デヒド誘導体を得る製造方法。 一般式（） 一般式（） 一般式（） 〔式中R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基またはアルコキシ基を表わし、R2はアル
キル基を表わし、ｎは１から２の整数を表わ
す。ｎが２のとき２つのR1は同じでも異なつ
ていてもよい。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19420182A JPS5984836A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | ２−ヒドロキシ−３，４−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19420182A JPS5984836A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | ２−ヒドロキシ−３，４−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5984836A JPS5984836A (ja) | 1984-05-16 |
| JPS6330294B2 true JPS6330294B2 (ja) | 1988-06-17 |
Family
ID=16320629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19420182A Granted JPS5984836A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | ２−ヒドロキシ−３，４−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5984836A (ja) |
-
1982
- 1982-11-05 JP JP19420182A patent/JPS5984836A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5984836A (ja) | 1984-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2417099B1 (en) | New process for preparing hydroxylamines and medicaments | |
| EP2526080B1 (en) | New processes for producing benzophenone derivatives | |
| HU185896B (en) | New process for producing 7-hydroxy-2,2-dimethyl-2,3-dihydro-bracket-benzo-furane-bracket closed | |
| US4568763A (en) | Process for producing N-acyl-acyloxy aromatic amines | |
| KR20170108080A (ko) | 메데토미딘의 합성에서 유용한 3-아릴부탄알과 같은 화합물의 제조 방법 | |
| EP0168908B1 (en) | Process for producing n-acyl-acyloxy aromatic amines | |
| JPS6330294B2 (ja) | ||
| JPH06145087A (ja) | ９，９−ビス−（４−ヒドロキシフエニル−）フルオレンの製造方法 | |
| JP4176201B2 (ja) | ５−ハロゲノ−２−置換ピリジンの製造方法 | |
| US4231962A (en) | 3-Phenoxybenzylideneamines and 3-benzylbenzylideneamines | |
| US4691062A (en) | Process for the production of 4-chloro-butanals | |
| JP2943318B2 (ja) | 脂肪族ジカルボン酸モノエステルの製造方法 | |
| US4849546A (en) | Process for the preparation of ethynylbenzaldehydes | |
| CA1041554A (en) | Process for preparing a s-trialkoxy benzene | |
| JPS6261578B2 (ja) | ||
| JPH0439449B2 (ja) | ||
| EP0257309B1 (en) | Process for the preparation of ethynylbenzaldehydes | |
| US4766251A (en) | Process for the preparation of ethynylbenzaldehydes | |
| JPH0469135B2 (ja) | ||
| JP4032593B2 (ja) | ４−アミノテトラヒドロピラン誘導体の製法 | |
| JPH0332535B2 (ja) | ||
| JPH10182544A (ja) | ｐ−アシルアルキルベンゼン誘導体の製造法 | |
| JPS6121622B2 (ja) | ||
| JPS6317853A (ja) | ２−メトキシメチレン−３，３−ジメトキシプロパンニトリルの製造法 | |
| JPH0332536B2 (ja) |