JPS6333094B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6333094B2 JPS6333094B2 JP53104604A JP10460478A JPS6333094B2 JP S6333094 B2 JPS6333094 B2 JP S6333094B2 JP 53104604 A JP53104604 A JP 53104604A JP 10460478 A JP10460478 A JP 10460478A JP S6333094 B2 JPS6333094 B2 JP S6333094B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- printed board
- mask
- width
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はパターンの高さ、幅などを正確に検査
できるプリント板パターンの検査方法に関する。
できるプリント板パターンの検査方法に関する。
従来電子計算機用等のプリント板についてその
パターンを検査するとき第１図に示す方法が知ら
れている。即ちプラスチツク板１の上に幅数百ミ
クロン厚さ数十ミクロン程度の銅リード線２−
１，２−２……をプリント配線技術により互いに
平行に設けたプリント板に対し、扁平状の光束３
を略垂直に照射し、反射光を略45度の方向｛矢印
４｝において目視又はTVカメラによる観測をす
ることにより銅リードのパターン幅を測定しパタ
ーンについて欠陥を発見していた。このやり方で
はパターンからの反射強度のみを検出しているか
らパターン表面上の状態により反射光出力強度が
変動し、パターンのエツジ状況即ち銅リードの高
さ、幅に欠陥があつても、明確に検出することが
できなかつた。また銅リードの高さを顕微鏡で検
出することも行なわれているが操作が複雑であつ
て検査に長時間を必要としていた。
パターンを検査するとき第１図に示す方法が知ら
れている。即ちプラスチツク板１の上に幅数百ミ
クロン厚さ数十ミクロン程度の銅リード線２−
１，２−２……をプリント配線技術により互いに
平行に設けたプリント板に対し、扁平状の光束３
を略垂直に照射し、反射光を略45度の方向｛矢印
４｝において目視又はTVカメラによる観測をす
ることにより銅リードのパターン幅を測定しパタ
ーンについて欠陥を発見していた。このやり方で
はパターンからの反射強度のみを検出しているか
らパターン表面上の状態により反射光出力強度が
変動し、パターンのエツジ状況即ち銅リードの高
さ、幅に欠陥があつても、明確に検出することが
できなかつた。また銅リードの高さを顕微鏡で検
出することも行なわれているが操作が複雑であつ
て検査に長時間を必要としていた。
本発明の目的はレーザ光線を利用し比較的簡易
にパターンの高さ、幅などを検査する方法を提供
することにある。
にパターンの高さ、幅などを検査する方法を提供
することにある。
第２図は本発明を原理的に説明するための図で
あつて、５はレーザ光線、６はレーザ光線反射光
の集光レンズでその焦点距離をＦとすると検出す
べきパターンから2F離れた所に在る。７−１，
７−２はそれぞれ光検出器であつて、上下に接し
て置かれ且つレンス６より2F離れた所に在る。
レーザ光線５をプリント板パターンの長手方向に
直交して走査して行くとパターンのない所とパタ
ーンの在る所とは異なる光検出器からレーザ反射
光を検出することができる。即ち銅リードのパタ
ーンのない所では光検出器７−２より光検出器の
出力があり、パターンの在る所では光検出器７−
１より出力があるので各検出器出力を１個の演算
増幅器の正・負各端子に各別に印加するとその出
力からは零線の上下にパルス出力が得られる。そ
のため光線走査の速さが知られているとき零線を
クロスする時刻の差からパターンの幅を求めるこ
とができる。即ちパターンの幅を出力変化の時間
に換算していることになる。この方法によると正
出力の時間を調べてパターンの幅を正確に知るこ
とができる。そこでパターン長手方向に直交して
走査した或位置について検査ができたので、次に
長手方向に或距離動かして再び走査すれば所謂二
次元走査によりプリント板パターンを全部検査す
ることができる。
あつて、５はレーザ光線、６はレーザ光線反射光
の集光レンズでその焦点距離をＦとすると検出す
べきパターンから2F離れた所に在る。７−１，
７−２はそれぞれ光検出器であつて、上下に接し
て置かれ且つレンス６より2F離れた所に在る。
レーザ光線５をプリント板パターンの長手方向に
直交して走査して行くとパターンのない所とパタ
ーンの在る所とは異なる光検出器からレーザ反射
光を検出することができる。即ち銅リードのパタ
ーンのない所では光検出器７−２より光検出器の
出力があり、パターンの在る所では光検出器７−
１より出力があるので各検出器出力を１個の演算
増幅器の正・負各端子に各別に印加するとその出
力からは零線の上下にパルス出力が得られる。そ
のため光線走査の速さが知られているとき零線を
クロスする時刻の差からパターンの幅を求めるこ
とができる。即ちパターンの幅を出力変化の時間
に換算していることになる。この方法によると正
出力の時間を調べてパターンの幅を正確に知るこ
とができる。そこでパターン長手方向に直交して
走査した或位置について検査ができたので、次に
長手方向に或距離動かして再び走査すれば所謂二
次元走査によりプリント板パターンを全部検査す
ることができる。
第３図は走査位置をパターン長手方向に動かし
た全走査回数とほぼ等しい数の光検知器７−３，
７−４……７−ｎを走査ピツチに対応して設けた
場合を示し、隣接する光検知器の出力を差動増幅
器の異なる極性の入力信号とすること（例えば演
算増幅器を利用すること）により走査位置が何処
になつつてもパターンの高さ・幅について明確に
検査することができる。しかしながら実際上は光
検知器として約数十ミクロンの幅のものを並べる
必要があるため、小さな窓の開いたマスクとそれ
に対する光検知器とを使用すると良い。
た全走査回数とほぼ等しい数の光検知器７−３，
７−４……７−ｎを走査ピツチに対応して設けた
場合を示し、隣接する光検知器の出力を差動増幅
器の異なる極性の入力信号とすること（例えば演
算増幅器を利用すること）により走査位置が何処
になつつてもパターンの高さ・幅について明確に
検査することができる。しかしながら実際上は光
検知器として約数十ミクロンの幅のものを並べる
必要があるため、小さな窓の開いたマスクとそれ
に対する光検知器とを使用すると良い。
第４図は例えば正端子に接続される光検知と対
応する大きさの孔を穿つたマスクを示し、幅と間
隔とが約数十ミクロンとなつている。このマスク
は機械工作的に容易に作成できる。
応する大きさの孔を穿つたマスクを示し、幅と間
隔とが約数十ミクロンとなつている。このマスク
は機械工作的に容易に作成できる。
第５図はこのマスク８を使つて得たパターンの
検査をする装置を示す。９は走査光束を得るため
の回転鏡を１０は走査光用レンズを示している。
光束走査の結果第４図の光検知器のに相当する
場所はマスク８を透過して光検知器７−１に入射
する。またに相当する場所はマスク８から反射
し光検知器７−２に入射する。両光検知器７−
１，７−２の出力を比較すれば良い。
検査をする装置を示す。９は走査光束を得るため
の回転鏡を１０は走査光用レンズを示している。
光束走査の結果第４図の光検知器のに相当する
場所はマスク８を透過して光検知器７−１に入射
する。またに相当する場所はマスク８から反射
し光検知器７−２に入射する。両光検知器７−
１，７−２の出力を比較すれば良い。
ここでマスク窓の大きさと数を計算して見る。
第６図に示すように光ビーム観測角＝45゜とし
たとき銅リードパターンの高さＨが反射光位置の
差ｈとなるからｈ＝Hsin＝Ｈ／√２である。
第６図に示すように光ビーム観測角＝45゜とし
たとき銅リードパターンの高さＨが反射光位置の
差ｈとなるからｈ＝Hsin＝Ｈ／√２である。
この差ｈだけ光ビームが移動したとき出力差が
最大となる場所が得られるのは差ｈと窓幅（ピツ
チ）ｗが等しいときである。したがつて窓幅とピ
ツチを共にｈとする。
最大となる場所が得られるのは差ｈと窓幅（ピツ
チ）ｗが等しいときである。したがつて窓幅とピ
ツチを共にｈとする。
なお前記ｈが窓幅と等しいとき光ビームが窓の
境界から次の境界まで偏移することが起り得る。
このときは検知器に出力差が生じない。この場合
は窓を1/4ピツチずらしてもう１組設け第７図の
ようにすると特性が平均化する。第８図は第７図
のマスクを使用する場合のパターン検査装置を示
す図で集光レンズを６−１，６−２の２個、検知
器を７−１１，７−１２，７−２１，７−２２の
計４個を使用し、差動増幅器以降も２系列使用す
る。１１は波形整形回路１２は二値化回路、１３
は長さ測定回路、１４は基準値信号発生回路、１
５は比較回路、１６は欠陥検知回路を示す。
境界から次の境界まで偏移することが起り得る。
このときは検知器に出力差が生じない。この場合
は窓を1/4ピツチずらしてもう１組設け第７図の
ようにすると特性が平均化する。第８図は第７図
のマスクを使用する場合のパターン検査装置を示
す図で集光レンズを６−１，６−２の２個、検知
器を７−１１，７−１２，７−２１，７−２２の
計４個を使用し、差動増幅器以降も２系列使用す
る。１１は波形整形回路１２は二値化回路、１３
は長さ測定回路、１４は基準値信号発生回路、１
５は比較回路、１６は欠陥検知回路を示す。
このようにして本発明によるとプリント板パタ
ーンの高さ・幅などの検査が明確にできる。光検
知器はマスクを使用することにより実質的に小型
アレイに相当するものが得られるので実用的な測
定器を構成することが容易である。
ーンの高さ・幅などの検査が明確にできる。光検
知器はマスクを使用することにより実質的に小型
アレイに相当するものが得られるので実用的な測
定器を構成することが容易である。
第１図は従来のプリント板パターンの検査方法
を示す図、第２図は本発明を原理的に説明する
図、第３図は全体走査のとき使用する光検知器の
構成を示す原理図、第４図は本発明を実施すると
き使用するマスクの斜視図、第５図はパターン検
査装置を示す図、第６図は第５図動作の説明図、
第７図はマスクの他の例を示す図、第８図は第５
図の他の例を示す図である。 １……プラスチツク板、２−１，２−２……銅
リード線、３……光束、５……レーザ光線、６，
６−１，６−２……集光レンズ、７−１，７−
２，７−１１，７−１２，７−２１，７−２２…
…光検知器、８……マスク、９……回転鏡、１０
……レンズ。
を示す図、第２図は本発明を原理的に説明する
図、第３図は全体走査のとき使用する光検知器の
構成を示す原理図、第４図は本発明を実施すると
き使用するマスクの斜視図、第５図はパターン検
査装置を示す図、第６図は第５図動作の説明図、
第７図はマスクの他の例を示す図、第８図は第５
図の他の例を示す図である。 １……プラスチツク板、２−１，２−２……銅
リード線、３……光束、５……レーザ光線、６，
６−１，６−２……集光レンズ、７−１，７−
２，７−１１，７−１２，７−２１，７−２２…
…光検知器、８……マスク、９……回転鏡、１０
……レンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ プリント板パターンの長手方向に直交して光
束を照射し、且つ該光束を長手方向に走査してパ
ターン状況を検査するプリント板パターンの検査
方法において、 検査光としてレーザ光線を使用し、 プリント板パターンから反射した反射光を受光
する検知器と、 パターンのないプリント板から反射した反射光
を受光する検知器とを、 互いに接して一対の検知器対として設け、 前記検知器対の出力変動によりパターン状況を
検知すること を特徴とするプリント板パターンの検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10460478A JPS5530872A (en) | 1978-08-28 | 1978-08-28 | Method of inspecting printed board pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10460478A JPS5530872A (en) | 1978-08-28 | 1978-08-28 | Method of inspecting printed board pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5530872A JPS5530872A (en) | 1980-03-04 |
| JPS6333094B2 true JPS6333094B2 (ja) | 1988-07-04 |
Family
ID=14385015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10460478A Granted JPS5530872A (en) | 1978-08-28 | 1978-08-28 | Method of inspecting printed board pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5530872A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3204086A1 (de) * | 1982-02-06 | 1983-08-11 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Vorrichtung zur automatischen optischen beschaffenheitspruefung |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5154683U (ja) * | 1974-10-24 | 1976-04-26 | ||
| JPS5854364B2 (ja) * | 1975-07-10 | 1983-12-05 | トウキヨウコウガクキカイ カブシキガイシヤ | イソウコウゾウブツタイノカンサツホウホウ |
| JPS5282859U (ja) * | 1975-12-18 | 1977-06-21 |
-
1978
- 1978-08-28 JP JP10460478A patent/JPS5530872A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5530872A (en) | 1980-03-04 |
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