JPS6335065B2 - - Google Patents
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- JPS6335065B2 JPS6335065B2 JP57065403A JP6540382A JPS6335065B2 JP S6335065 B2 JPS6335065 B2 JP S6335065B2 JP 57065403 A JP57065403 A JP 57065403A JP 6540382 A JP6540382 A JP 6540382A JP S6335065 B2 JPS6335065 B2 JP S6335065B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子線装置、特に対物レンズの磁極片
にトンネルを形成し、当該トンネルを通して対物
絞りの挿入が出来るようにした電子線装置に関す
るものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electron beam device, and particularly to an electron beam device in which a tunnel is formed in the magnetic pole piece of an objective lens, and an objective aperture can be inserted through the tunnel.
電子線装置の一例として、特に透過型電子顕微
鏡を挙げると、その構造例としては例えば第1図
に示すようなものがある。これは、電子銃3と、
集束レンズ5とを内蔵し、集束レンズ5の下方に
励磁コイル8,10を備えた対物レンズ9を配置
し、さらにその下方に中間レンズ11と投影レン
ズ12とを備えた顕微鏡本体1、及び顕微鏡本体
1の下方に配置され且つ当該顕微鏡本体1に固定
されると共に内部に投影スクリーン14を配置し
た中空の室13を形成する観察室2から成つてい
る。顕微鏡本体1の中央部分には電子銃3から発
射された電子線の軸(以下、光軸という)6に沿
つて長手方向に延びる中空孔7が形成されてい
る。対物レンズ9は、励磁コイル8によつて励磁
される上側磁極片16と、この上側磁極片16か
ら下方へ所定の間隔をあけて配置され、励磁コイ
ル10によつて励磁される下側磁極片17とを有
し、上側磁極片16と下側磁極片17との間には
試料保持装置18及び対物絞り19が挿入、引出
し可能に配置されている。 An example of an electron beam device is a transmission electron microscope, and an example of its structure is shown in FIG. 1, for example. This is electron gun 3 and
A microscope main body 1 has a built-in focusing lens 5, an objective lens 9 having excitation coils 8 and 10 is disposed below the focusing lens 5, and an intermediate lens 11 and a projection lens 12 below the objective lens 9; It consists of an observation chamber 2 which is disposed below the microscope body 1 and is fixed to the microscope body 1, forming a hollow chamber 13 in which a projection screen 14 is arranged. A hollow hole 7 is formed in the center of the microscope body 1 and extends in the longitudinal direction along an axis 6 of an electron beam emitted from an electron gun 3 (hereinafter referred to as an optical axis). The objective lens 9 includes an upper magnetic pole piece 16 that is excited by the excitation coil 8 and a lower magnetic pole piece that is arranged downwardly from the upper magnetic pole piece 16 at a predetermined interval and that is excited by the excitation coil 10. 17, and a sample holding device 18 and an objective aperture 19 are arranged between the upper magnetic pole piece 16 and the lower magnetic pole piece 17 so that they can be inserted and pulled out.
このように構成を有する透過型電子顕微鏡は、
その性能が年々向上し、分解能は固体試料の原子
的構造を結像するレベルまでになつて来ており、
一般には高性能電子顕微鏡といわれている。かか
る高性能電子顕微鏡の性能、例えば分解能をさら
に向上させるには対物レンズ9の磁極片間隙を小
さくすればよいが、反面、種々の技術上の問題が
生じて来る。即ち、第1図に示してあるように、
磁極片間隙内には試料保持装置18と対物絞り1
9とが装脱可能に配置してあり、対物絞り19に
関していえば、下側磁極片17の頂部に近接して
設けられているから、磁極片間隙を小さくする
と、試料保持装置18と対物絞り19との間隔が
著しく縮まり、試料保持部のX、Y方向への移動
又は傾斜運動が妨げられる恐れが生じる。 A transmission electron microscope configured in this way is
Its performance has improved year by year, and its resolution has reached the level where it can image the atomic structure of solid samples.
It is generally referred to as a high-performance electron microscope. In order to further improve the performance of such a high-performance electron microscope, such as the resolution, it is possible to reduce the gap between the magnetic pole pieces of the objective lens 9, but on the other hand, various technical problems arise. That is, as shown in Figure 1,
A sample holding device 18 and an objective aperture 1 are located within the magnetic pole piece gap.
As for the objective aperture 19, it is provided close to the top of the lower pole piece 17, so if the gap between the pole pieces is made small, the sample holding device 18 and the objective aperture can be removed. 19, and the movement or tilting movement of the sample holder in the X and Y directions may be hindered.
これを解決するため、下部磁極片17の中間部
分において、光軸6に対して直角方向(即ち、第
1図中水平方向)に、中空孔7に連通するトンネ
ルを形成し、これに沿つて対物絞り19を挿入す
るという手段が考えられている。ところで、本来
対物絞り19は、対物レンズ9の後焦面位置に設
定すべきものであり、この位置からずれると、観
察視野に対する制限が増大し、低倍率での観察に
おいては投影スクリーン14の上で極めて部分的
な像しか得られなくなつてしまう。よつて、上記
トンネルは下側磁極片17の中でも出来るだけ頂
部に近い位置に設ける必要がある。しかし、高性
能電子顕微鏡においては、対物レンズ9は球面収
差を極限まで小さくするように設計されているた
め、その磁極片16,17中の磁束密度は、当該
磁極片16,17を構成している磁気材料の磁気
飽和領域に達している。このような状況下で下側
磁極片17にトンネルを形成すると、その磁気材
料の体積欠損により磁束密度が増加し、磁気飽和
領域を超えてしまうから、上記トンネルを設ける
という手法に対しては大きな抵抗があつた。 In order to solve this problem, a tunnel communicating with the hollow hole 7 is formed in the middle part of the lower magnetic pole piece 17 in a direction perpendicular to the optical axis 6 (that is, horizontally in FIG. 1), and a tunnel is formed along this tunnel. A method of inserting an objective aperture 19 has been considered. By the way, the objective diaphragm 19 should originally be set at the back focal plane position of the objective lens 9, and if it deviates from this position, the restriction on the observation field increases, and when observing at low magnification, the objective diaphragm 19 should be set at the back focal plane position of the objective lens 9. This results in only a very partial image being obtained. Therefore, the tunnel needs to be provided as close to the top of the lower pole piece 17 as possible. However, in a high-performance electron microscope, the objective lens 9 is designed to minimize spherical aberration, so the magnetic flux density in the magnetic pole pieces 16, 17 is different from that of the magnetic pole pieces 16, 17. The magnetic saturation region of the magnetic material has been reached. If a tunnel is formed in the lower magnetic pole piece 17 under such circumstances, the magnetic flux density will increase due to the volume defect in the magnetic material and exceed the magnetic saturation region. There was resistance.
そして、このような問題に対しては、例えば特
公昭47−28539号に見られるような解決策もあつ
たが、そこでは、下側磁極片17を二分割構造と
し、一方の面に薄いU字形の溝を設けているた
め、磁気材料の体積欠損は低く抑えることが出来
る反面、磁極片の構造が複雑になり、実用に適さ
ないという問題があつた。 There was a solution to this problem, as seen in Japanese Patent Publication No. 47-28539, for example, but in that case, the lower magnetic pole piece 17 was made into a two-part structure, with a thin U on one side. Although the volume loss of the magnetic material can be kept low by providing the letter-shaped grooves, the structure of the magnetic pole piece becomes complicated, which poses a problem that it is not suitable for practical use.
本発明は、このような従来の問題点に着目して
行つたものでその目的は、構造が比較的簡単で、
しかも体積欠損を最小に抑えながらトンネルを形
成し、このトンネルを通して対物絞りの出し入れ
が行える電子線装置の対物レンズを提供すること
により、上記従来の問題点を解決することであ
る。 The present invention was developed by focusing on these conventional problems, and its purpose is to have a relatively simple structure,
Moreover, the above-mentioned conventional problems are solved by providing an objective lens for an electron beam device in which a tunnel is formed while minimizing volume defects, and the objective aperture can be inserted and removed through the tunnel.
本発明は、対物レンズの下側磁極片の頂部付近
において、円周方向に所定の等角度間隔をおき、
中心軸に向けて延び且つこの軸に対して軸対称に
なる様に通路を開設し、この通路を通して電子線
装置の中空孔内に対物絞りを挿入するようにした
点に第1の特徴を有する。対物絞り挿入用の通路
は、幅径及び高さ径が、対物絞りをわずかな隙間
を残して挿入することのできる寸法に設定されて
おり、上記通路を設けたことによる下側磁極片の
体積欠損を最小限に抑えている。このため、本発
明における対物レンズでは、対物絞りを磁極片間
隙から離れた位置に設置することが出来、当該磁
極片間隙内には試料のみを設置すればよい。した
がつて、対物レンズの磁極片間隙は、より一層小
さな寸法に設定することが可能になり電子線装置
の性能向上に役立つ。他方、下側磁極片の体積欠
損が最小限に抑えられるから、対物レンズ磁極片
の磁気飽和に関しては、通路が設けてない通常の
対物レンズ磁極片と同様な特性を示す。 In the present invention, near the top of the lower magnetic pole piece of the objective lens, a predetermined equal angular interval is placed in the circumferential direction,
The first feature is that a passage is provided so as to extend toward the central axis and be axially symmetrical with respect to this axis, and the objective aperture is inserted into the hollow hole of the electron beam device through this passage. . The width and height of the passage for inserting the objective diaphragm are set to dimensions that allow the objective diaphragm to be inserted leaving a slight gap, and the volume of the lower magnetic pole piece due to the provision of the passage is Deficiencies are kept to a minimum. Therefore, in the objective lens according to the present invention, the objective aperture can be placed at a position away from the magnetic pole piece gap, and only the sample needs to be placed within the magnetic pole piece gap. Therefore, the gap between the magnetic pole pieces of the objective lens can be set to an even smaller dimension, which is useful for improving the performance of the electron beam device. On the other hand, since the volume loss of the lower pole piece is minimized, the magnetic saturation of the objective lens pole piece exhibits similar characteristics to a normal objective lens pole piece without a passage.
以下、各発明の実施例を添付の図面を参照して
詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of each invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
第2図乃至第5図は、第一の発明の一実施例を
示す図である。この実施例に係る電子線装置の対
物レンズ29は、截頭円錐形構造を有し、光軸6
方向に所定の間隙おき且つ頭部を対向させて配置
した上側磁極片16と下側磁極片17とから成
る。下側磁極片17には、その頭部付近におい
て、磁極片外周面から中心軸即ち光軸6に対して
直角の方向へ延び且つ中空孔7に達するトンネル
20が開設されている。このトンネル20は、第
4図にて明らかにされている様に、下側磁極片1
7の円周方向に90度の等角度間隔において4本設
けられ、その断面は略円形状に形成されている。 FIG. 2 to FIG. 5 are diagrams showing an embodiment of the first invention. The objective lens 29 of the electron beam device according to this embodiment has a truncated conical structure, and the optical axis 6
It consists of an upper magnetic pole piece 16 and a lower magnetic pole piece 17, which are arranged with a predetermined gap in the direction and with their heads facing each other. A tunnel 20 is provided near the head of the lower pole piece 17, extending from the outer peripheral surface of the pole piece in a direction perpendicular to the central axis, that is, the optical axis 6, and reaching the hollow hole 7. This tunnel 20 is connected to the lower pole piece 1 as shown in FIG.
Four pieces are provided at equal angular intervals of 90 degrees in the circumferential direction of 7, and the cross section thereof is formed into a substantially circular shape.
そしてまた、トンネル10内には、当該トンネ
ル20の長さとほぼ同じ長さ寸法を有するスリー
ブ21が挿入固定されている。このスリーブ21
は、磁性材料からなる丸棒を長手方向に延びる軸
に沿つて半々に分割して構成されたカマボコ形の
断面形状を有する割棒22,27を、切断面が対
向するように所定の間隔をおいて設置し、これら
の割棒22,27間に出来た隙間の両側に小さな
厚味寸法を有し、且つ割棒22,27とほぼ同じ
長さ寸法を有するスペーサ部材23を介装すると
共に、割棒22,27とスペーサ部材23とを接
着その他の手段により一体化し、中心部分に幅4
〜6mm(ミリメートル)、高さ0.2〜0.5mmの略矩
形状の断面構造を有するスリツト状の通路24を
形成して成る。したがつて、下側磁極片17は、
第2図に示すように、外周部分から中心軸に向か
つて延びるスリツト状の通路24が略十文字形状
に形成され、その他の部分は磁性材料で実の構造
に形成された截頭円錐体となる。 Furthermore, a sleeve 21 having substantially the same length as the tunnel 20 is inserted and fixed into the tunnel 10 . This sleeve 21
In this method, split rods 22 and 27 each having a semicylindrical cross-sectional shape, which are formed by dividing a round bar made of a magnetic material into halves along an axis extending in the longitudinal direction, are separated at a predetermined interval so that the cut surfaces face each other. A spacer member 23 having a small thickness and approximately the same length as the split rods 22, 27 is interposed on both sides of the gap formed between the split rods 22, 27. , the split rods 22, 27 and the spacer member 23 are integrated by adhesion or other means, and a width of 4 mm is formed in the center part.
A slit-like passage 24 is formed having a substantially rectangular cross-sectional structure of ~6 mm (millimeters) and a height of 0.2~0.5 mm. Therefore, the lower magnetic pole piece 17 is
As shown in FIG. 2, a slit-like passage 24 extending from the outer circumferential portion toward the central axis is formed in a substantially cross shape, and the other portion is a truncated cone formed of magnetic material into a real structure. .
なお、下側磁極片17には、上記スリツト状の
通路24を直接掘設してもよいし、或はトンネル
20内に挿入するスリーブ21についても、円形
断面を有する棒体に直接通路24を掘設してもよ
い。しかし、下側磁極片17のようなブロツク構
造物や、棒体の長手方向に、上記の如きスリツト
状の通路24を貫通して形成することは、作業上
極めて困難性を伴うから、上に述べたような構造
にすることが好ましい。 Note that the slit-shaped passage 24 may be directly dug in the lower magnetic pole piece 17, or the passage 24 may be directly formed in a rod having a circular cross section for the sleeve 21 to be inserted into the tunnel 20. It may be dug. However, it is extremely difficult to form the above-mentioned slit-shaped passage 24 through a block structure such as the lower magnetic pole piece 17 or the rod in the longitudinal direction. It is preferable to use the structure as described above.
かかる構造を有する対物レンズ29において、
下側磁極片17の一つの通路24からは、対物絞
り19が挿入される。この対物絞り19は、支持
杆26と、支持杆26の先端部にビス28によつ
て取付固定された絞り板25とから成り、絞り板
25の先端部分には絞り孔30が開設されてい
る。絞り板25は通路24にかろうじて挿入し得
る程度の厚さ寸法を有し、絞り孔30を光軸6に
合致させた状態で水平面(即ちX―Y平面)内に
おいてわずかに動作可能である。 In the objective lens 29 having such a structure,
An objective diaphragm 19 is inserted through one passage 24 of the lower pole piece 17 . The objective diaphragm 19 consists of a support rod 26 and an aperture plate 25 attached and fixed to the tip of the support rod 26 with screws 28, and an aperture hole 30 is provided at the tip of the aperture plate 25. . The aperture plate 25 has a thickness that allows it to be inserted into the passage 24, and is slightly movable in the horizontal plane (ie, the XY plane) with the aperture hole 30 aligned with the optical axis 6.
この様な構成を有するから、本実施例に係る電
子線装置の対物レンズは、電子銃3から照射され
た電子線ビームは集束レンズ5によつて集束さ
れ、対物レンズ29の磁極片16,17間隙内に
配置された試料を透過した後、対物絞り19によ
つて散乱電子線がカツトされ、中間レンズ11及
び投影レンズ12によつて屈折される。この場合
において、対物レンズ29における励磁は、下側
磁極片17の体積欠損が極めて小さいから、その
磁束密度が当該下側磁極片17を構成する磁気材
料の磁気飽和領域を大きく超えることなく行われ
る。また、トンネル20及び通路24が光軸6に
対して対称の関係に設けてあるから、下側磁極片
17では、その横断面全体にわたりほぼ均一な磁
束密度が得られ、対物レンズ29の部分において
光軸6の曲りや対物レンズの非点収差の発生を防
止することができる。 With such a configuration, the objective lens of the electron beam apparatus according to this embodiment is such that the electron beam irradiated from the electron gun 3 is focused by the focusing lens 5, and the magnetic pole pieces 16, 17 of the objective lens 29 are focused. After passing through the sample placed in the gap, the scattered electron beam is cut by the objective diaphragm 19 and refracted by the intermediate lens 11 and the projection lens 12. In this case, the excitation in the objective lens 29 is performed without the magnetic flux density greatly exceeding the magnetic saturation region of the magnetic material constituting the lower magnetic pole piece 17 because the volume defect in the lower magnetic pole piece 17 is extremely small. . Further, since the tunnel 20 and the passage 24 are provided in a symmetrical relationship with respect to the optical axis 6, the lower magnetic pole piece 17 has a substantially uniform magnetic flux density over its entire cross section, and the lower magnetic pole piece 17 has a substantially uniform magnetic flux density over its entire cross section. It is possible to prevent the bending of the optical axis 6 and the occurrence of astigmatism of the objective lens.
なお、本実施例では、スリーブ21は、第2図
及び第3図に示すように、その基端が下側磁極片
17の外周面より外へ突出しているが、この基端
部分は、下側磁極片17の斜面に沿つて斜めに切
除されていてもよく、また、トンネル20を掘設
するため下側磁極片17の傾斜面に切込みを入れ
て垂直面を形成し、この垂直面から光軸6方向へ
トンネル20を形成しておき、該トンネル20内
に挿入したスリーブ21の基端が上記垂直面に一
致する様にしてもよい。 In this embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, the base end of the sleeve 21 protrudes outside the outer peripheral surface of the lower magnetic pole piece 17; The side magnetic pole piece 17 may be cut obliquely along the slope. Alternatively, in order to excavate the tunnel 20, a cut is made in the slope of the lower magnetic pole piece 17 to form a vertical surface, and a cut is made from the vertical surface. A tunnel 20 may be formed in the direction of the optical axis 6 so that the base end of the sleeve 21 inserted into the tunnel 20 coincides with the vertical plane.
第6図及び第7図は第1の発明の一実施例を示
す図である。この実施例において、対物レンズ2
9の下側磁極片37には、上記第1の実施例にお
けると同様、90度の等角度間隔でトンネル20が
形成されている。そしてこのトンネル20の開口
部20a又はその近辺において、下側磁極片37
の外側傾斜面は外側へ拡大して成形されており、
この拡大部分において肩部37aが形成されてい
る。そしてトンネル20の一つには、上記第1の
実施例におけると同様、対物絞り19が挿脱可能
に配置されている。なお、トンネル20内には、
上記実施例における如くスリーブ21が配置され
ておらず、トンネル20が直接対物絞り19挿入
用の通路となる。 FIG. 6 and FIG. 7 are diagrams showing an embodiment of the first invention. In this example, objective lens 2
Tunnels 20 are formed in the lower magnetic pole piece 37 of 9 at equal angular intervals of 90 degrees, as in the first embodiment. At or near the opening 20a of this tunnel 20, the lower magnetic pole piece 37
The outer inclined surface of the is shaped to expand outward,
A shoulder portion 37a is formed in this enlarged portion. In one of the tunnels 20, an objective diaphragm 19 is removably arranged, as in the first embodiment. In addition, inside the tunnel 20,
The sleeve 21 is not disposed as in the above embodiment, and the tunnel 20 directly serves as a passage for inserting the objective aperture 19.
このような構成において、対物レンズ29を励
磁した場合、下側磁極片37にはトンネル20が
形成され、且つこのトンネル20内にはスリーブ
21の如き挿入棒が装填されていないため、当該
下側磁極片37はかなりの体積欠損を受ける。と
ころが、上述したように、下側磁極片37は、頂
部から基部に至る中途のトンネル20位置付近に
て径を段状に拡大して成るから、本来の磁極片断
面(即ち、トンネル20を設けないと仮定した時
の磁極片断面)は第7図中実線Aで示される。か
かる下側磁極片37において、トンネル20によ
る体積欠損が生じても、その体積欠損が生じた時
の磁極片断面は、同図中二点鎖線Bで示す範囲に
なる。この範囲は、第4図と比較しても明らかな
ように、上記第1の実施例における下側磁極片1
7(トンネル20内にはスリーブ21が挿入さ
れ、体積欠損が最小になる様抑えられている)の
磁極片断面とほぼ同じである。したがつて、この
第2の実施例においても、対物レンズ29におけ
る励磁は、その磁束密度が下側磁極片27を構成
する磁気材料の磁気飽和領域を大きく超えること
なく行われる。即ち、本実施例においては、下側
磁極片27の傾斜面をその中間部位置において拡
径したことにより、トンネル20による体積欠損
は、第7図中実線Aと二点鎖線Bとによつて囲ま
れた部分(メツシユ状の斜線で示してある)の体
積増加で補填されていることがわかる。 In such a configuration, when the objective lens 29 is excited, a tunnel 20 is formed in the lower magnetic pole piece 37, and since no insertion rod such as the sleeve 21 is loaded in this tunnel 20, the lower magnetic pole piece 37 is energized. The pole piece 37 experiences significant volume loss. However, as described above, since the diameter of the lower pole piece 37 is expanded stepwise near the tunnel 20 position midway from the top to the base, the diameter of the lower pole piece 37 is expanded stepwise in the vicinity of the tunnel 20 position. The cross section of the magnetic pole piece (assuming that there is no magnetic pole piece) is shown by the solid line A in FIG. Even if a volume defect occurs due to the tunnel 20 in the lower magnetic pole piece 37, the cross section of the magnetic pole piece when the volume defect occurs falls within the range shown by the two-dot chain line B in the figure. As is clear from a comparison with FIG. 4, this range corresponds to the lower magnetic pole piece 1 in the first embodiment.
7 (the sleeve 21 is inserted into the tunnel 20 and the volume loss is suppressed to a minimum). Therefore, in this second embodiment as well, excitation in the objective lens 29 is performed without the magnetic flux density greatly exceeding the magnetic saturation region of the magnetic material constituting the lower magnetic pole piece 27. That is, in this embodiment, by expanding the diameter of the inclined surface of the lower magnetic pole piece 27 at its intermediate position, the volume loss due to the tunnel 20 is reduced by the solid line A and the two-dot chain line B in FIG. It can be seen that this is compensated for by an increase in volume of the enclosed area (indicated by mesh-like diagonal lines).
なお、ここで、上記第1の発明の実施例及び第
2の発明の実施例を総合的に勘案すると、上記第
2の実施例における下側磁極片37のトンネル2
0内に、第5図に示すような構造を有するスリー
ブ21又はこれを変形したスリーブを挿入するこ
とにより、当該下側磁極片37の磁極断面を拡大
せしめ且つトンネル20による体積欠損を最小に
抑えた対物レンズ37とすることができる。した
がつて、かかる手段により下側磁極片37に開設
するトンネル20の径をより一層大きくし、又対
物絞り19挿入用の通路24の径寸法をより大き
くして、当該対物絞り19の出入操作を容易に行
うようにすることができる。また、トンネル20
は、180度の間隔をおいて軸対称に設けてもよい。 Here, when considering the embodiment of the first invention and the embodiment of the second invention, the tunnel 2 of the lower magnetic pole piece 37 in the second embodiment
By inserting the sleeve 21 having the structure as shown in FIG. The objective lens 37 can be Therefore, by such means, the diameter of the tunnel 20 opened in the lower magnetic pole piece 37 is made even larger, and the diameter of the passage 24 for inserting the objective aperture 19 is made larger, so that the objective aperture 19 can be moved in and out. can be done easily. Also, tunnel 20
may be provided axially symmetrically with an interval of 180 degrees.
以上説明したように、本発明によれば、対物レ
ンズの下側磁極片に光軸に対して直角方向に延
び、且つ下側磁極片の外側傾斜面から中空孔に達
するトンネル円周方向に所定の等角度間隔を置い
て軸対称に形成し、このトンネルをして対物絞り
を光軸位置まで出し入れ出来るようにしたため、
上記対物レンズの磁極片間隔においてスペースに
余裕が出来、試料の挿脱或は傾斜操作を楽に行う
ことが出来るようになる。 As explained above, according to the present invention, a tunnel is provided in the lower magnetic pole piece of the objective lens, extending in a direction perpendicular to the optical axis, and extending in a predetermined circumferential direction from the outer inclined surface of the lower magnetic pole piece to the hollow hole. are formed axially symmetrically at equal angular intervals, and this tunnel allows the objective diaphragm to be moved in and out to the optical axis position.
There is ample space between the magnetic pole pieces of the objective lens, and it becomes possible to easily insert and remove the sample or tilt the sample.
第1図は、従来からの電子顕微鏡の一般的な構
造例を示す断面図である。第2図は、第1の発明
の一実施例に係る電子線装置の対物レンズに採用
される下側磁極片の斜視図である。第3図は、上
記実施例の構造を示す断面図である。第4図は、
上記実施例に係る対物レンズの下側磁極片の磁極
片断面を示す第3図中―線における断面図で
ある。第5図は、上記実施例においてトンネル内
に挿入されるスリーブの断面構造を示す図であ
る。第6図は、第2の発明の一実施例に係る電子
線装置の対物レンズの構造を示す断面図である。
第7図は、第2の発明の実施例に係る対物レンズ
の下側磁極片の磁極片断面を示す第6図中―
線における断面図である。
1…顕微鏡本体、9,29…対物レンズ、16
…上側磁極片、17…下側磁極片、18…試料保
持装置、19…対物絞り、20…トンネル、21
…スリーブ、23…スペーサ部材、24…通路。
FIG. 1 is a sectional view showing a typical structural example of a conventional electron microscope. FIG. 2 is a perspective view of a lower magnetic pole piece employed in an objective lens of an electron beam apparatus according to an embodiment of the first invention. FIG. 3 is a sectional view showing the structure of the above embodiment. Figure 4 shows
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line ``--'' in FIG. 3, showing a cross section of the lower magnetic pole piece of the objective lens according to the above embodiment. FIG. 5 is a diagram showing the cross-sectional structure of the sleeve inserted into the tunnel in the above embodiment. FIG. 6 is a sectional view showing the structure of an objective lens of an electron beam apparatus according to an embodiment of the second invention.
FIG. 7 is a cross-section of the lower magnetic pole piece of the objective lens according to the second embodiment of the invention in FIG. 6.
FIG. 1... Microscope body, 9, 29... Objective lens, 16
...Upper magnetic pole piece, 17...Lower magnetic pole piece, 18...Sample holding device, 19...Objective aperture, 20...Tunnel, 21
... Sleeve, 23... Spacer member, 24... Passage.
Claims (1)
隙をあけ、且つ当該上側磁極片に対向して配設さ
れた下側磁極片とから成る電子線装置の対物レン
ズにおいて、下側磁極片には、光軸に対して直角
方向に延び且つ下側磁極片の外側傾斜面から中空
孔に達する複数のトンネルを光軸に対して軸対称
に形成し、これらのトンネルのそれぞれには強磁
性材料から成り又対物絞り挿入用の通路を形成し
たスリーブが嵌入してあり、これらのスリーブの
一つの通路を通して対物絞りを中空孔内に出し入
れするようにしたことを特徴とする電子線装置の
対物レンズ。 2 下側磁極片は、そのトンネル付近位置におい
て、磁極片斜面を外方へ拡径して成ることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の電子線装置の
対物レンズ。 3 上側磁極片と、この上側磁極片から所定の間
隔をあけ、且つ当該上側磁極片に対向して配設さ
れた下側磁極片とから成る電子線装置の対物レン
ズにおいて、下側磁極片には、光軸に対して直角
方向に延び且つ下側磁極片の外側傾斜面から中空
孔に達する複数のトンネルを光軸に対して軸対称
に形成し、また当該下側磁極片は、そのトンネル
付近位置において、磁極片斜面を外方へ拡径して
成り、上記トンネルの一つを通して対物絞りを中
空孔内に出し入れするようにしたことを特徴とす
る電子線装置の対物レンズ。[Claims] 1. In an objective lens for an electron beam device comprising an upper magnetic pole piece and a lower magnetic pole piece disposed at a predetermined gap from the upper magnetic pole piece and facing the upper magnetic pole piece. , a plurality of tunnels extending perpendicularly to the optical axis and reaching the hollow hole from the outer inclined surface of the lower magnetic pole piece are formed in the lower magnetic pole piece in an axially symmetrical manner with respect to the optical axis. Each sleeve is fitted with a sleeve made of a ferromagnetic material and having a passage for inserting the objective diaphragm, and the objective diaphragm can be inserted into and taken out of the hollow hole through one passage of these sleeves. Objective lens for electron beam equipment. 2. The objective lens for an electron beam apparatus according to claim 1, wherein the lower magnetic pole piece is formed by expanding the slope of the magnetic pole piece outward in diameter at a position near the tunnel. 3. In an objective lens of an electron beam device consisting of an upper magnetic pole piece and a lower magnetic pole piece disposed at a predetermined distance from the upper magnetic pole piece and facing the upper magnetic pole piece, the lower magnetic pole piece forms a plurality of tunnels extending perpendicularly to the optical axis and reaching the hollow hole from the outer inclined surface of the lower magnetic pole piece, axially symmetrical to the optical axis, and the lower magnetic pole piece 1. An objective lens for an electron beam apparatus, characterized in that the diameter of a slope of a magnetic pole piece is expanded outward at a nearby position, and an objective aperture is inserted into and taken out of a hollow hole through one of the tunnels.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57065403A JPS58184246A (en) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | Objective lens for electron beam equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57065403A JPS58184246A (en) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | Objective lens for electron beam equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58184246A JPS58184246A (en) | 1983-10-27 |
| JPS6335065B2 true JPS6335065B2 (en) | 1988-07-13 |
Family
ID=13286011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57065403A Granted JPS58184246A (en) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | Objective lens for electron beam equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58184246A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20240203685A1 (en) * | 2022-12-20 | 2024-06-20 | Fei Company | Pole piece incorporating optical cavity for improved phase-contrast in electron microscope imaging |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5540921U (en) * | 1978-09-08 | 1980-03-15 |
-
1982
- 1982-04-21 JP JP57065403A patent/JPS58184246A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58184246A (en) | 1983-10-27 |
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