JPS6335364B2 - - Google Patents
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- JPS6335364B2 JPS6335364B2 JP54169884A JP16988479A JPS6335364B2 JP S6335364 B2 JPS6335364 B2 JP S6335364B2 JP 54169884 A JP54169884 A JP 54169884A JP 16988479 A JP16988479 A JP 16988479A JP S6335364 B2 JPS6335364 B2 JP S6335364B2
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- Japan
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- machining
- electrode
- pulse
- workpiece
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/14—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply
- B23H7/20—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply for program control, e.g. adaptive
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パルス信号により電極と被加工物の
相対位置を各パルス毎に所定量移動させる駆動装
置により、所望するパタンに沿つて、上記相対位
置の移動制御を行ないながら上記被加工物を加工
する通電加工装置の改良に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention controls movement of the relative positions of an electrode and a workpiece along a desired pattern using a drive device that moves the relative positions of an electrode and a workpiece by a predetermined amount for each pulse using a pulse signal. The present invention also relates to an improvement of an electrical processing device for processing the above-mentioned workpiece.
通電加工たとえば放電加工においては、通常、
総形の電極をある一方向だけに送りを与え、その
方向にアナログ的に極間電圧が一定になるように
サーボを取りながら加工を行なつている。しかし
最近、放電加工においても、加工の送り方向を単
に一方向だけでなく、X、Y、Z軸共同時に制御
し、電極に三次元的な動きを与え、いわゆるフラ
イス加工のような加工を行なうものがあらわれて
きている。このような放電加工によるフライス加
工は、電極を自転させる必要がないため、鋭い角
を出す必要がある形状を加工するには極めて便利
であり、また電極と被加工物の三次元的な動きは
NC装置により制御する方法が便利である。 In electrical discharge machining, for example, electrical discharge machining,
The entire electrode is fed in only one direction, and the servo is controlled to keep the voltage between the electrodes constant in that direction in an analog manner. However, recently, even in electric discharge machining, the feed direction of machining is controlled not only in one direction but also in the X, Y, and Z axes, giving three-dimensional movement to the electrode, and performing machining similar to so-called milling. Things are emerging. Milling using electrical discharge machining does not require rotation of the electrode, so it is extremely convenient for machining shapes that require sharp corners, and the three-dimensional movement of the electrode and workpiece is
Control using an NC device is convenient.
ここで、NC装置により放電加工装置を制御す
る場合、通常の工作機械のように電極あるいは被
加工物の送り速度を一定にして送ることは極めて
困難である。それは、通常放電加工の加工進行速
度(一定時間当たりの加工体積/加工面積)は極
めて小さく、また加工する面積が大きく変化する
ため、加工面積が大きい場合の送り速度に合わせ
ると、加工面積が小さい場合に加工に余裕があり
すぎるため加工効率が悪い。また加工面積が小さ
い場合の送り速度に合わせると、加工面積が大き
くなつた場合、加工間隙で短絡を起こしてしまい
加工を続行することができない。 Here, when controlling an electrical discharge machining device using an NC device, it is extremely difficult to feed the electrode or the workpiece at a constant feed rate as in a normal machine tool. This is because the machining progress speed (machined volume/machined area per fixed time) in normal electric discharge machining is extremely small, and the area to be machined changes greatly, so if you match the feed rate when the machining area is large, the machining area will be small. In some cases, there is too much margin for machining, resulting in poor machining efficiency. Furthermore, if the feed rate is adjusted to the same feed rate when the machining area is small, if the machining area becomes large, a short circuit will occur in the machining gap, making it impossible to continue machining.
そのために加工間隙の電圧を検出し、その電圧
がある基準電圧以上の時だけ電極と被加工物とに
相対的な送りを与えるようにすることが考えられ
る。第1図と第2図はその考えに沿つたNC装置
により制御された放電加工装置の例である。この
第1図について説明すると、電極1と被加工物2
との間には電流パルス供給装置3から供給される
電流パルスを流し、上記被加工物2を加工する。
電極1と被加工物2との間の相対的なX、Y、Z
軸方向の動きは、NC装置4からの出力により、
それぞれX軸についてはX軸パルスモータ制御回
路5Xを通して送り量に対応する数のパルス列が
X軸用パルスモータ6Xに出力され、該パルスモ
ータ6Xの回転をテーブル送りネジ7Xに伝える
ことにより、テーブル8をX軸方向に移動させ
る。この時Y軸についてもX軸と全く同様であ
り、テーブル8上の被加工物2を移動させる。ま
たZ軸については、Z軸パルスモータ制御回路5
Zの出力パルスがZ軸パルスモータ6Zを駆動
し、電極送りネジ7Zを介して電極1を送る。加
工間隙の平均電圧は、比較器9により基準電圧
VRと比較され、加工間隙の平均電圧が基準電圧
VR以上の時、比較器9の出力Scに論理レベルの
「1」を出力するように構成され、NC装置4に
入力される。 To this end, it is conceivable to detect the voltage in the machining gap and apply a relative feed between the electrode and the workpiece only when the voltage exceeds a certain reference voltage. Figures 1 and 2 are examples of electric discharge machining equipment controlled by an NC device based on this idea. To explain this FIG. 1, the electrode 1 and the workpiece 2
A current pulse supplied from a current pulse supply device 3 is passed between the two and the workpiece 2 is machined.
Relative X, Y, Z between electrode 1 and workpiece 2
The movement in the axial direction is controlled by the output from the NC device 4.
For each X-axis, a number of pulse trains corresponding to the feed amount are output to the X-axis pulse motor 6X through the X-axis pulse motor control circuit 5X, and by transmitting the rotation of the pulse motor 6X to the table feed screw 7X, the table 8 move in the X-axis direction. At this time, the Y-axis is also exactly the same as the X-axis, and the workpiece 2 on the table 8 is moved. Regarding the Z-axis, the Z-axis pulse motor control circuit 5
The Z output pulse drives the Z-axis pulse motor 6Z and sends the electrode 1 through the electrode feed screw 7Z. The average voltage of the machining gap is determined by the comparator 9 as the reference voltage.
V R is compared and the average voltage of the machining gap is the reference voltage.
When the voltage is equal to or higher than VR , the comparator 9 outputs a logic level "1" to the output Sc, which is input to the NC device 4.
NC装置4は計算機により制御されており、第
2図にその概略のフローチヤートを示す。NC装
置4はたとえば50msec毎に、その50msec間に出
力するX、Y、Z方向のパルス数△X、△Y、△
Z(√△2+△2+△2=△L)になるように計
算して求め出力するものである。このフローチヤ
ートはSTARTよりスタートし、以後50msec毎
にライン10を通り、上記比較器9の出力Scが
「1」の時だけ処理11を実行する。処理11は
順次50msec中の移動距離△L(通常△Lは一定)
を決定し、NC装置4の入力情報から電極1の相
対的移動方向を決定し、該電極移動方向と△Lよ
りその50msec中の出力△X1、△Y1、△Z1を計算
して求め、出力してライン12に戻る。Sc=
1?の判断のところで、Sc=0の場合は、処理
11は実行せず、そのままライン12に戻り、次
の50msec信号を待つ。このように加工間隙の状
態によりNC装置4から電極移動指令パルスを出
力するか、しないかを切換えている。 The NC device 4 is controlled by a computer, and a schematic flow chart thereof is shown in FIG. For example, the NC device 4 outputs the number of pulses △X, △Y, △ in the X, Y, and Z directions every 50 msec during that 50 msec.
It calculates and outputs the result so that Z(√△ 2 +△ 2 +△ 2 =△L). This flowchart starts from START, passes through line 10 every 50 msec, and executes process 11 only when the output Sc of the comparator 9 is "1". Process 11 is sequentially moving distance △L in 50 msec (normally △L is constant)
, determine the relative movement direction of the electrode 1 from the input information of the NC device 4, and calculate the outputs △X 1 , △Y 1 , △Z 1 during that 50 msec from the electrode movement direction and △L. Determine, output, and return to line 12. Sc=
1? In the case of Sc=0, processing 11 is not executed, the process returns to line 12, and the process waits for the next 50 msec signal. In this way, depending on the state of the machining gap, whether or not to output the electrode movement command pulse from the NC device 4 is switched.
従つて例えば加工面積が小さい時は加工進行速
度より実際の電極送り速度(△L/50msec)が
相対的に遅いため、加工間隙は開放気味になり、
比較器9の出力Scは「1」が長く続き、毎50m
secに電極移動指令パルスの出力がなされ、結果
として電極1の平均送り速度は速くなる。また加
工面積が大きくなると、加工進行速度より、電極
の送り速度は相対的に速いため、加工間隙は短絡
気味になり、比較器9の出力Scは「0」の状態
が多くなり、その結果電極移動指令パルスの出力
があまりなされず、電極の平均送り速度は遅くな
る。このように、この方法によれば、加工面積の
変化などによる加工間隙の状態に応動して電極の
平均送り速度が制御されるため、効率の良い加工
ができるというものである。 Therefore, for example, when the machining area is small, the actual electrode feed rate (ΔL/50 msec) is relatively slower than the machining progress speed, so the machining gap becomes slightly open.
The output Sc of comparator 9 remains "1" for a long time, and every 50 m
sec, an electrode movement command pulse is output, and as a result, the average feeding speed of the electrode 1 becomes faster. In addition, when the machining area becomes large, the electrode feed speed is relatively faster than the machining progress speed, so the machining gap tends to be short-circuited, and the output Sc of the comparator 9 often becomes "0", resulting in the electrode The movement command pulse is not output much, and the average electrode feeding speed becomes slow. In this way, according to this method, the average feed rate of the electrode is controlled in response to the state of the machining gap due to changes in the machining area, etc., so that efficient machining can be performed.
しかしこの方法では、加工面積が比較的小さい
場合、あるいは荒加工のように加工間隙が広い場
合などでは加工可能であるが、加工面積が大きい
場合や、加工深さが深い場合、あるいは仕上加工
のように加工間隙が狭い場合などにおいては、加
工間隙からの加工屑の排出が困難であり、加工中
に加工屑が加工間隙につまつたりして、加工の続
行が不可能になる場合がある。そのため、実用上
大きな欠点を有していたと言える。 However, with this method, it is possible to process when the machining area is relatively small or when the machining gap is wide as in rough machining, but it is not possible when the machining area is large, the machining depth is deep, or when finishing machining is required. In cases where the machining gap is narrow, such as this, it is difficult to discharge machining debris from the machining gap, and machining debris may get stuck in the machining gap during machining, making it impossible to continue machining. . Therefore, it can be said that it had a major practical drawback.
本発明は、上記方法を更に一歩押し進め、電極
の平均送り速度が加工間隙の状態に応動して制御
されるだけでなく、電極送り速度(△L/50m
sec)を加工進行速度より大きくすることにより、
積極的に比較器の出力を「0」の状態にするよう
にし、また比較器の出力が「0」の時は単に電極
移動指令パルスを出力しないだけでなく、電極が
既に移動してきた所望パタン上の軌跡を逆行させ
ることにより、電極と被加工物間の相対的な動が
進行、逆行の繰り返しとなるように構成すること
により、加工屑の排除を促進し、加工時間の短縮
を計るとともに、加工屑の排除の困難な加工にお
いても、加工の続行を可能とするようにしたもの
である。 The present invention takes the above method one step further, and not only controls the average feed rate of the electrode in response to the state of the machining gap, but also controls the electrode feed rate (△L/50m).
sec) is larger than the machining progress speed,
The output of the comparator is actively set to "0", and when the output of the comparator is "0", it not only does not output the electrode movement command pulse, but also outputs the desired pattern in which the electrode has already moved. By reversing the above trajectory, the relative motion between the electrode and the workpiece is configured to advance and reverse repeatedly, thereby promoting the removal of machining debris and shortening machining time. , it is possible to continue machining even in machining where it is difficult to remove machining waste.
以下本発明の詳細について説明すると、本発明
になる通電加工装置の構成は第1図のようになつ
ており、第3図は第1図中のNC装置4の本発明
によるフローチヤートの一例を示し、また第4図
は電極1を逆行させるための本発明によるメモリ
テーブルの一例を示すものである。このメモリテ
ーブルはNC装置4が電極を進行させるための移
動指令パルス数△X、△Y、△Zを出力すると、
常に逆行メモリアドレスN=1の領域に順次上記
電極進行指令パルス数を格納して行き、その時N
=1の領域に既に格納されているパルス数をN=
2の領域、N=2の領域のものはN=3の領域へ
と転送するような操作が行なわれることにより、
逆行メモリは形成される。また電極1を逆行させ
るための移動指令パルス数は、上記逆行メモリ中
に格納されているパルス数を順次読み出して電極
を逆行させる。 The details of the present invention will be explained below. The configuration of the electrical processing device according to the present invention is as shown in FIG. 1, and FIG. 3 shows an example of a flowchart of the NC device 4 in FIG. and FIG. 4 shows an example of a memory table according to the invention for reversing the electrode 1. When the NC device 4 outputs the number of movement command pulses △X, △Y, △Z for moving the electrode, this memory table is written as follows:
The number of electrode advance command pulses is always stored sequentially in the area of backward memory address N=1, and at that time N
The number of pulses already stored in the area of =1 is N =
2 area, N=2 area is transferred to N=3 area,
A retrograde memory is formed. Further, as for the number of movement command pulses for moving the electrode 1 backward, the number of pulses stored in the above-mentioned backward movement memory is sequentially read out and the electrode is moved backward.
第3図のフローチヤートはSTARTからスター
トすると、50msec毎にライン10を通り、比較
器9の出力Scを判断する。該出力が「1」のと
きは、逆行メモリアドレスNが「0」かどうかの
判断を行ないN=0ならば、電極1が進行するた
めの処理13を実行する。処理13においては、
50msec間に電極1が移動すべき距離△L(△L=
√△2+△2+△2)を決定し、また電極移動
方向を決め、△Lと電極移動方向とにより、その
50msec間に出力する電極進行移動指令パルス数
△X1、△Y1、△Z1を計算して求める。次に既に
第4図に示すように構成された逆行メモリテーブ
ル内に格納されている内容を順次、次の逆行メモ
リアドレスの領域にシフトする。次に新しい電極
移動指令パルス数△X1、△Y1、△Z1を逆行メモ
リテーブルのアドレスN=1の領域に格納する。
即ち、逆行メモリテーブルのアドレスN=1の側
から新しい電極移動指令パルス数を押し込んだよ
うな形になる。その後上記△X1、△Y1、△Z1を
電極移動指令パルス数△X、△Y、△Zとして出
力し、ライン12に戻り、次の50msec信号を待
つ。ここで次の50msec信号が入ると上記したよ
うに、比較器9の出力Scの判断を行ない、例え
ば比較器9の出力Scが「0」になつていると、
処理14を行なう。処理14は逆行メモリアドレ
スNに「1」加算し、そのNで示されるアドレス
の内容を読み出す。即ち今逆行メモリアドレスは
N=0となつているからN=1にして、N=1の
領域に格納されている電極移動指令パルス数を読
み出す。次にその読み出した電極移動指令パルス
数の符号を反転させ(電極移動方向を逆転させ)、
即ち△X1=+5μm、△Y1=+3μm、△Z1=−2μ
mの時には、△X=−5μm、△Y=−3μm、△
Z=+2μmとし、電極逆行移動指令パルス数と
して出力し、ライン12に戻る。その後50msec
毎にSc=0の状態が例えば3回続くと、逆行メ
モリテーブルから順次電極移動指令パルス数が読
み出されるため、電極は所望パタンに沿う軌跡上
を150msec間逆行し続ける。 The flowchart in FIG. 3 starts from START, passes through line 10 every 50 msec, and judges the output Sc of comparator 9. When the output is "1", it is determined whether the backward memory address N is "0" or not, and if N=0, processing 13 for moving the electrode 1 is executed. In process 13,
Distance △L that electrode 1 should move in 50 msec (△L=
√△ 2 +△ 2 +△ 2 ), determine the direction of electrode movement, and use △L and the direction of electrode movement to
The number of electrode advance movement command pulses △X 1 , △Y 1 , △Z 1 to be output during 50 msec is calculated and determined. Next, the contents already stored in the backward memory table configured as shown in FIG. 4 are sequentially shifted to the area of the next backward memory address. Next, new numbers of electrode movement command pulses ΔX 1 , ΔY 1 , ΔZ 1 are stored in the area of address N=1 in the retrograde memory table.
In other words, the new number of electrode movement command pulses is pushed in from the address N=1 side of the backward memory table. Thereafter, the above △X 1 , △Y 1 and △Z 1 are outputted as the number of electrode movement command pulses △X, △Y and △Z, and the process returns to line 12 to wait for the next 50 msec signal. Here, when the next 50 msec signal is input, the output Sc of the comparator 9 is judged as described above. For example, if the output Sc of the comparator 9 is "0",
Process 14 is performed. Processing 14 adds "1" to the backward memory address N and reads out the contents of the address indicated by N. That is, since the backward memory address is now N=0, it is set to N=1 and the number of electrode movement command pulses stored in the area of N=1 is read out. Next, reverse the sign of the read electrode movement command pulse number (reverse the electrode movement direction),
That is, △X 1 = +5μm, △Y 1 = +3μm, △Z 1 = -2μ
When m, △X=-5μm, △Y=-3μm, △
Set Z=+2 μm, output as the number of electrode backward movement command pulses, and return to line 12. Then 50msec
If the state of Sc = 0 continues for example three times, the number of electrode movement command pulses is read out sequentially from the backward movement memory table, so the electrode continues to move backward for 150 msec on a trajectory along the desired pattern.
次にある50msec信号で、比較器9の出力Scが
「1」になつていると、その時逆行メモリアドレ
スNは「3」になつているため、N=0?の判断
で処理15を実行する。処理15は逆行してきた
軌跡に沿つて再度進行する必要があるため、まず
逆行メモリアドレスN=3の電極移動指令パルス
数△X3、△Y3、△Z3を読み出し、その後逆行メ
モリアドレスNを「1」減算し、N=2にする。
そして次に△X3、△Y3、△Z3を出力し、ライン
12に戻る。その後Sc=1の状態が続くと、N
=0になるまでの150msec間は処理15を実行
し、最初に逆行し始めた位置まで戻る。 When the output Sc of the comparator 9 becomes "1" in the next 50 msec signal, the backward memory address N becomes "3" at that time, so N=0? Process 15 is executed based on the judgment. Process 15 needs to proceed again along the backward trajectory, so first read the number of electrode movement command pulses △X 3 , △Y 3 , △Z 3 at the backward memory address N = 3, and then read the number of electrode movement command pulses △X 3 , △Y 3 , △Z 3 at the backward memory address N = 3. is subtracted by "1" to make N=2.
Then, △X 3 , △Y 3 , and △Z 3 are output, and the process returns to line 12. After that, if the state of Sc=1 continues, N
Processing 15 is executed for 150 msec until =0, and the movement returns to the position where it first started moving backwards.
このようにNC装置4が動作することにより、
電極1は所望パタンに沿う軌跡上を進行し、その
結果加工間隙が短かくなり、加工間隙の平均電圧
に対応する電圧が基準電圧VRより低下する。そ
のため比較器9の出力Scが「0」になり、電極
1はNC装置4の上記した動作に従つて進行して
来た軌跡上を逆行する。ここで電極の進行時の速
度(第3図における△L/50msec)は、加工の
進行する速度(単位時間当たりの加工体積/加工
面積)より大きくすることにより、電極1は所望
パタンの軌跡上を常に進行、逆行を繰り返しなが
ら徐々に加工を行なうことになる。 By operating the NC device 4 in this way,
The electrode 1 moves on a trajectory following a desired pattern, and as a result, the machining gap becomes shorter, and the voltage corresponding to the average voltage of the machining gap becomes lower than the reference voltage VR . Therefore, the output Sc of the comparator 9 becomes "0", and the electrode 1 moves backward along the trajectory that it has traveled in accordance with the above-described operation of the NC device 4. Here, by setting the speed at which the electrode advances (△L/50 msec in Figure 3) greater than the speed at which machining progresses (machining volume/machining area per unit time), the electrode 1 is placed on the trajectory of the desired pattern. Processing is carried out gradually by constantly going forward and backward.
以上のように、本発明によれば、電極1は所望
パタンの軌跡上を進行、逆行を繰り返しながら加
工を行なうため、加工面積が大きい場合、加工深
さが深い場合、加工間隙が狭い場合の加工におい
ても、加工屑がつまり加工不能となるような不都
合がなく、また、加工間隙の加工液をかくはんす
る効果があり、結果として加工間隙に流すことが
できる加工電流が増加して、加工時間を短縮する
ことも可能となるものである。 As described above, according to the present invention, the electrode 1 performs machining while repeatedly moving forward and backward along the locus of a desired pattern, so when the machining area is large, the machining depth is deep, and the machining gap is narrow. During machining, there is no inconvenience such as clogging of machining debris, which makes machining impossible, and it also has the effect of stirring the machining liquid in the machining gap, resulting in an increase in the machining current that can be passed through the machining gap, reducing machining time. It is also possible to shorten the time.
第1図は本発明を説明するためのNC装置付放
電加工機を示す説明図、第2図は加工間隙の平均
電圧に応動して電極送り速度を変更する従来の
NC装置のフローチヤート図、第3図は本発明に
よるNC装置のフローチヤート図、第4図は本発
明による逆行メモリの構成説明図である。
なお、図中1は電極、2は被加工物、4はNC
装置、9は比較器、13は電極を進行させるため
の処理、14は電極を逆行させるための処理、1
5は電極をもとの位置へ戻すための処理を示す。
Fig. 1 is an explanatory diagram showing an electric discharge machine equipped with an NC device for explaining the present invention, and Fig. 2 is an explanatory diagram showing an electric discharge machine equipped with an NC device to explain the present invention.
FIG. 3 is a flowchart of the NC device according to the present invention, and FIG. 4 is a diagram illustrating the configuration of the backward memory according to the present invention. In the figure, 1 is the electrode, 2 is the workpiece, and 4 is the NC.
1 is a device, 9 is a comparator, 13 is a process for advancing the electrode, 14 is a process for reversing the electrode, 1
5 shows a process for returning the electrode to its original position.
Claims (1)
印加し、かつパルス信号により上記電極と被加工
物の相対位置を各パルスに対してある所定量移動
させる駆動装置により、上記相対位置の移動制御
を行なう通電加工装置において、所望パタンに沿
つて上記電極と被加工物の相対位置を縮めるよう
に進行させるためのパルスを発生する手段、上記
所望パタンによる出力パルスのパタンを記憶し上
記電極と被加工物の相対位置を広げるように上記
所望パタンに沿つて逆行させるためのパルスを発
生する手段、上記加工間隙の状態に対応する電圧
を検出する手段、該検出電圧と基準電圧とを比較
判別する手段、該比較手段の出力信号により上記
進行させるためのパルス発生手段の出力と上記逆
行させるためのパルス発生手段の出力とを切換制
御する手段を備え、さらに所望パタンに沿つて電
極と被加工物の相対位置を縮めるように進行させ
るためのパルスを発生する上記の手段は、その進
行させる速さを加工進行速度(単位時間当りの加
工体積/加工面積)以上の速さにするものである
ことを特徴とする通電加工装置。1 The relative position is moved by a drive device that applies a voltage to the machining gap where the electrode and the workpiece face each other and moves the relative position of the electrode and the workpiece by a predetermined amount for each pulse using a pulse signal. In the electrical processing apparatus that performs the control, a means for generating a pulse for advancing the electrode and the workpiece so as to reduce the relative position thereof along a desired pattern, a means for storing a pattern of output pulses according to the desired pattern, and a means for generating a pulse for advancing the electrode and the workpiece so as to shorten the relative position thereof along a desired pattern; Means for generating a pulse for moving the workpiece backward along the desired pattern so as to widen the relative position of the workpiece, means for detecting a voltage corresponding to the state of the machining gap, and comparing and determining the detected voltage with a reference voltage. means for switching and controlling the output of the pulse generating means for advancing and the output of the pulse generating means for reversing according to the output signal of the comparing means; The above-mentioned means for generating a pulse for advancing the object so as to reduce its relative position is such that the advancing speed is higher than the machining progress speed (machining volume/machining area per unit time). An electrical processing device characterized by the following.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16988479A JPS5695542A (en) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | Electrospark machining device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16988479A JPS5695542A (en) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | Electrospark machining device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5695542A JPS5695542A (en) | 1981-08-03 |
| JPS6335364B2 true JPS6335364B2 (en) | 1988-07-14 |
Family
ID=15894733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16988479A Granted JPS5695542A (en) | 1979-12-26 | 1979-12-26 | Electrospark machining device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5695542A (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4837320A (en) * | 1971-09-17 | 1973-06-01 | ||
| JPS5212595Y2 (en) * | 1974-10-15 | 1977-03-19 |
-
1979
- 1979-12-26 JP JP16988479A patent/JPS5695542A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5695542A (en) | 1981-08-03 |
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