JPS6341151B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6341151B2 JPS6341151B2 JP56196510A JP19651081A JPS6341151B2 JP S6341151 B2 JPS6341151 B2 JP S6341151B2 JP 56196510 A JP56196510 A JP 56196510A JP 19651081 A JP19651081 A JP 19651081A JP S6341151 B2 JPS6341151 B2 JP S6341151B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- negative pressure
- magnetic head
- slider
- disk
- head slider
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘツドスライダーに関し、特に電
子計算機の大容量記憶装置として使用される磁気
ヘツドスライダーの製造方法に関する。
子計算機の大容量記憶装置として使用される磁気
ヘツドスライダーの製造方法に関する。
従来、磁気デイスク装置においては、磁気デイ
スク盤静止時には磁気ヘツドスライダが荷重ばね
によつて磁気デイスク盤上に押し付けられてお
り、磁気デイスク盤が回転すると磁気ヘツドスラ
イダと磁気デイスク盤の間に微少な空気膜が形成
され磁気ヘツドスライダが浮上するいわゆるCSS
方式（コンタクトスタートストツプ方式）が用い
られている。磁気ヘツドスライダの浮上量は低い
程磁気ヘツド特性上好ましく、現在広く実用化さ
れている磁気デイスク装置においては約0.5μｍ程
度であり、将来さらに高密度化する場合にはより
低い浮上量が必要となる。
スク盤静止時には磁気ヘツドスライダが荷重ばね
によつて磁気デイスク盤上に押し付けられてお
り、磁気デイスク盤が回転すると磁気ヘツドスラ
イダと磁気デイスク盤の間に微少な空気膜が形成
され磁気ヘツドスライダが浮上するいわゆるCSS
方式（コンタクトスタートストツプ方式）が用い
られている。磁気ヘツドスライダの浮上量は低い
程磁気ヘツド特性上好ましく、現在広く実用化さ
れている磁気デイスク装置においては約0.5μｍ程
度であり、将来さらに高密度化する場合にはより
低い浮上量が必要となる。
磁気ヘツドスライダの浮上量を下げる方法の一
つとしては前記荷重ばねの荷重を増す方法があ
る。しかしこの方法では磁気デイスク盤静止時に
磁気ヘツドスライダが磁気デイスク盤に強く押し
付けられるため、磁気ヘツドスライダと磁気デイ
スク盤の密着が生じやすく、磁気デイスク盤の回
転起動時に磁気ヘツドスライダおよび磁気デイス
ク盤の損傷が生じやすいという欠点がある。
つとしては前記荷重ばねの荷重を増す方法があ
る。しかしこの方法では磁気デイスク盤静止時に
磁気ヘツドスライダが磁気デイスク盤に強く押し
付けられるため、磁気ヘツドスライダと磁気デイ
スク盤の密着が生じやすく、磁気デイスク盤の回
転起動時に磁気ヘツドスライダおよび磁気デイス
ク盤の損傷が生じやすいという欠点がある。
上記問題点を解決する方法としては、負圧利用
磁気ヘツドスライダ（以下負圧スライダと略す
る）を用いる方法がある。第１図は負圧スライダ
を磁気デイスク盤に対向する浮揚面から見た平面
図で、磁気ヘツド１は磁気デイスク盤から信号を
読み出し電磁変換を行なう。
磁気ヘツドスライダ（以下負圧スライダと略す
る）を用いる方法がある。第１図は負圧スライダ
を磁気デイスク盤に対向する浮揚面から見た平面
図で、磁気ヘツド１は磁気デイスク盤から信号を
読み出し電磁変換を行なう。
この磁気ヘツド１は第２図ａに示す負圧スライ
ダにおける第１図の断面ｂ−b′および断面ａ−
a′に沿つて加わる圧力分布（第２図ｂ，ｃ）のも
とで浮力作用が生ずる。第２図ｂに示すようにサ
イドレール２に加わる圧力は従来の磁気ヘツドス
ライダと同様に大気圧より高く、スライダに浮揚
力を発生させる。しかし第２図ｃに示すようにク
ロスレール３を通る断面ａ−a′に沿つての圧力分
布は大気圧より低くなるいわゆる負圧部分７を持
つ。負圧部分の発生により負圧スライダは磁気デ
イスク盤への吸着力を受ける。この吸着力は荷重
ばねの押し付け力を補充するため、荷重ばねの押
し付け力を小さくしても磁気ヘツドスライダの浮
上量を下げることができる。
ダにおける第１図の断面ｂ−b′および断面ａ−
a′に沿つて加わる圧力分布（第２図ｂ，ｃ）のも
とで浮力作用が生ずる。第２図ｂに示すようにサ
イドレール２に加わる圧力は従来の磁気ヘツドス
ライダと同様に大気圧より高く、スライダに浮揚
力を発生させる。しかし第２図ｃに示すようにク
ロスレール３を通る断面ａ−a′に沿つての圧力分
布は大気圧より低くなるいわゆる負圧部分７を持
つ。負圧部分の発生により負圧スライダは磁気デ
イスク盤への吸着力を受ける。この吸着力は荷重
ばねの押し付け力を補充するため、荷重ばねの押
し付け力を小さくしても磁気ヘツドスライダの浮
上量を下げることができる。
ところで、負圧スライダの負圧発生部分４の深
さは数μｍ程度であり第１図のような形に機械的
に加工するのはきわめて困難である。したがつて
従来負圧スライダを製作するにはスパツタエツチ
ングあるいはイオンミリング等のドライエツチン
グ法により負圧発生部分を形成する方法が行なわ
れている。しかしドライエツチング法による負圧
発生部分の形成の工程にはマスク形成のためのマ
スク用材料蒸着、フオトエツチング等多数の工程
があり、製造方法が複雑であつた。またドライエ
ツチングに要する時間も、材料によつては数μｍ
エツチングするのに10時間以上かかる場合があり
実用的ではなかつた。またドライエツチングによ
つて磁気ヘツド１がエツチングされるのを防ぐた
め、磁気ヘツド上にマスクを施す等の必要があつ
た。
さは数μｍ程度であり第１図のような形に機械的
に加工するのはきわめて困難である。したがつて
従来負圧スライダを製作するにはスパツタエツチ
ングあるいはイオンミリング等のドライエツチン
グ法により負圧発生部分を形成する方法が行なわ
れている。しかしドライエツチング法による負圧
発生部分の形成の工程にはマスク形成のためのマ
スク用材料蒸着、フオトエツチング等多数の工程
があり、製造方法が複雑であつた。またドライエ
ツチングに要する時間も、材料によつては数μｍ
エツチングするのに10時間以上かかる場合があり
実用的ではなかつた。またドライエツチングによ
つて磁気ヘツド１がエツチングされるのを防ぐた
め、磁気ヘツド上にマスクを施す等の必要があつ
た。
本発明の目的は、簡単な工程でしかも短時間に
負圧利用ヘツドスライダを製造することができる
製造方法を提供することにある。
負圧利用ヘツドスライダを製造することができる
製造方法を提供することにある。
本発明によれば機械加工を施すことにより、磁
気記録媒体走行方向に長辺を有する長方形の浮揚
面を複数形成し、さらに該浮揚面の間に薄膜作成
技術によつて該浮揚面と同一高さもしくは該浮揚
面よりわずかに低い高さを有するクロスレール部
を作成することにより、負圧利用磁気ヘツドスラ
イダを製造する方法が得られる。
気記録媒体走行方向に長辺を有する長方形の浮揚
面を複数形成し、さらに該浮揚面の間に薄膜作成
技術によつて該浮揚面と同一高さもしくは該浮揚
面よりわずかに低い高さを有するクロスレール部
を作成することにより、負圧利用磁気ヘツドスラ
イダを製造する方法が得られる。
次に本発明の実施例について図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
第３図は本発明の一実施例を示す。
まず第３図ａに示すように複数個のスライダを
製造する。母材となる一本のブロツク８の表面に
負圧発生部となる深さ約4μｍの溝９を研削盤で
形成する。斜線で示した研削残り部はサイドレー
ル１０となり、鏡面研磨される。
製造する。母材となる一本のブロツク８の表面に
負圧発生部となる深さ約4μｍの溝９を研削盤で
形成する。斜線で示した研削残り部はサイドレー
ル１０となり、鏡面研磨される。
次に第３図ｂに示すような形のマスク１１をブ
ロツク上にのせクロスレールとなるAl2O3を蒸着
ないしスパツタリングする。マスクの外形寸法は
ブロツクの外形寸法と同一の寸法になつており、
マスク合わせは両者の外形を一致させることによ
り容易に行なうことができる。切欠き１２を通し
て溝９の一部にAl2O3薄膜が蒸着ないしスパツタ
されることによりクロスレール１３が形成され
る。Al2O3薄膜の厚さはクロスレールの欠けを防
ぐため、溝９の深さよりも若干薄い方が好まし
い。
ロツク上にのせクロスレールとなるAl2O3を蒸着
ないしスパツタリングする。マスクの外形寸法は
ブロツクの外形寸法と同一の寸法になつており、
マスク合わせは両者の外形を一致させることによ
り容易に行なうことができる。切欠き１２を通し
て溝９の一部にAl2O3薄膜が蒸着ないしスパツタ
されることによりクロスレール１３が形成され
る。Al2O3薄膜の厚さはクロスレールの欠けを防
ぐため、溝９の深さよりも若干薄い方が好まし
い。
以上のようにして加工されたブロツクを第３図
ｄのような形に切断することにより、負圧利用磁
気ヘツドスライダ１４が作製される。電磁変換を
行なう磁気ヘツド１５は第３図ｄの切断を行なう
前に通常の薄膜ヘツド製造方法で形成される。ま
た、本発明の他の実施例としては第４図ａのよう
な単純な長方形状のマスク１６を用いる方法があ
る。この方法では第４図ｂに示すようにサイドレ
ールの上にも、クロスレール形成用のAl2O3が付
着する。この出つぱつた部分１７をラツピングに
よつて取り除くことにより、負圧スライダが作成
される。
ｄのような形に切断することにより、負圧利用磁
気ヘツドスライダ１４が作製される。電磁変換を
行なう磁気ヘツド１５は第３図ｄの切断を行なう
前に通常の薄膜ヘツド製造方法で形成される。ま
た、本発明の他の実施例としては第４図ａのよう
な単純な長方形状のマスク１６を用いる方法があ
る。この方法では第４図ｂに示すようにサイドレ
ールの上にも、クロスレール形成用のAl2O3が付
着する。この出つぱつた部分１７をラツピングに
よつて取り除くことにより、負圧スライダが作成
される。
なお磁気ヘツド１５は必ずしも薄膜ヘツドであ
る必要はなく、バルクのフエライトからなるリン
グタイプヘツドでもかまわない。なお、クロスレ
ール１３をヘツドスライダの浮揚面よりわずかに
低い高さに形成した場合には、媒体とスライダ間
に塵等が混入した場合にクロスレールの欠けを防
ぐことができる。
る必要はなく、バルクのフエライトからなるリン
グタイプヘツドでもかまわない。なお、クロスレ
ール１３をヘツドスライダの浮揚面よりわずかに
低い高さに形成した場合には、媒体とスライダ間
に塵等が混入した場合にクロスレールの欠けを防
ぐことができる。
本発明は以上説明したように機械加工と薄膜作
成技術を併用することにより、従来のドライエツ
チング法に伴うマスク形成、磁気ヘツドのエツチ
ング防止等の複雑な工程を必要とすることのない
負圧スライダを製造する方法を提供する。
成技術を併用することにより、従来のドライエツ
チング法に伴うマスク形成、磁気ヘツドのエツチ
ング防止等の複雑な工程を必要とすることのない
負圧スライダを製造する方法を提供する。
第１図は負圧スライダを示す平面図、第２図ａ
は負圧スライダを示す側面図第２図ｂは断面ｂ−
b′に沿つての圧力分布図、第２図ｃは断面ａ−
b′に沿つての圧力分布図、第３図は本発明の一実
施例を示す図、第４図は本発明の他の実施例を示
す図である。 １…磁気ヘツド、２…サイドレール、３…クロ
スレール、４…負圧発生部分、５…磁気デイスク
盤、６…磁気デイスク盤回転方向、７…負圧部
分、８…ブロツク、９…溝、１０…サイドレー
ル、１１…マスク、１２…切欠き、１３…クロス
レール、１４…負圧スライダ、１５…磁気ヘツ
ド、１６…マスク。
は負圧スライダを示す側面図第２図ｂは断面ｂ−
b′に沿つての圧力分布図、第２図ｃは断面ａ−
b′に沿つての圧力分布図、第３図は本発明の一実
施例を示す図、第４図は本発明の他の実施例を示
す図である。 １…磁気ヘツド、２…サイドレール、３…クロ
スレール、４…負圧発生部分、５…磁気デイスク
盤、６…磁気デイスク盤回転方向、７…負圧部
分、８…ブロツク、９…溝、１０…サイドレー
ル、１１…マスク、１２…切欠き、１３…クロス
レール、１４…負圧スライダ、１５…磁気ヘツ
ド、１６…マスク。
Claims (1)
- １ スライダブロツクの浮揚面に媒体走行方向に
延びる２本のサイドレールを両側部に残して予め
定められた深さで前記媒体走行方向における前記
スライダブロツクの長さと等しい長さの溝を研削
形成する工程と、前記２本のサイドレールを前記
媒体走行方向と垂直な方向に連通させる形状のウ
インド以外の部分において前記浮揚面をマスクす
る工程と、前記ウインド部分に蒸着またはスパツ
タリングを施こしてクロスレールを形成する工程
とを有することを特徴とする負圧利用磁気ヘツド
スライダのの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19651081A JPS5898876A (ja) | 1981-12-07 | 1981-12-07 | 負圧利用磁気ヘツドスライダの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19651081A JPS5898876A (ja) | 1981-12-07 | 1981-12-07 | 負圧利用磁気ヘツドスライダの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5898876A JPS5898876A (ja) | 1983-06-11 |
| JPS6341151B2 true JPS6341151B2 (ja) | 1988-08-16 |
Family
ID=16358946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19651081A Granted JPS5898876A (ja) | 1981-12-07 | 1981-12-07 | 負圧利用磁気ヘツドスライダの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5898876A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS629572A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-17 | Mitsubishi Electric Corp | 負圧形浮動ヘツドスライダの製造方法 |
-
1981
- 1981-12-07 JP JP19651081A patent/JPS5898876A/ja active Granted
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| IBM TECHNICAL DISCLOSURE BULLETIN * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5898876A (ja) | 1983-06-11 |
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