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JPS63422B2 - - Google Patents
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JPS63422B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS63422B2
JPS63422B2 JP10206979A JP10206979A JPS63422B2 JP S63422 B2 JPS63422 B2 JP S63422B2 JP 10206979 A JP10206979 A JP 10206979A JP 10206979 A JP10206979 A JP 10206979A JP S63422 B2 JPS63422 B2 JP S63422B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
reaction
hydrogen gas
water
catalytic hydrogenation
Prior art date
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Expired
Application number
JP10206979A
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English (en)
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JPS5626836A (en
Inventor
Kazuhisa Nakajima
Kazuaki Gogi
Toshio Yamamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd filed Critical Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPS5626836A publication Critical patent/JPS5626836A/ja
Publication of JPS63422B2 publication Critical patent/JPS63422B2/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は抗生物質修飾剤あるいは消炎鎮痛剤の
中間体として有用なフエニル酢酸類、特に4−ヒ
ドロキシフエニル酢酸又はそのアルキルエステル
の新規な製造方法に関するものである。 4−ヒドロキシフエニル酢酸類を製造する方法
として、P−ヒドロキシベンズアルデヒド法、P
−ヒドロキシアセトフエノン法、P−ヒドロキシ
フエニルマロン酸エステル法等が文献に記載され
ているが、原料が高価であつたり、目的物の収率
が低いこと等の理由で工業的には必ずしも満足出
来ない。 しかるに本発明者等はかかる問題を解決し工業
的有利に4−ヒドロキシフエニル酢酸等のフエニ
ル酢酸類を製造することを目的として鋭意研究を
重ねた結果、一般式
【式】〔ここでX;ハロ ゲン、R1、R2;水素又は低級アルキル基、Y;
OHをそれぞれ示す。以下同様〕で表わされるハ
ロゲン置換フエニル酢酸誘導体特に3−クロロ−
4−ヒドロキシマンデル酸の低級カルボン酸およ
び又は低級アルコール溶液中に水素ガスを導入し
ながら接触水素化反応を行ない、水素ガスの吸収
が実質上平衡に達した時点で系中に水を添加し、
更に接触水素化反応を継続する場合収率良く一般
【式】〔R1、R2は前記 と同様〕で表わされるフエニル酢酸類特に4−ヒ
ドロキシフエニル酢酸が得られるという新規な事
実を見出し本発明を完成するに到つた。 本発明においては、接触水素化反応という簡単
な操作で、ベンゼン核の脱ハロゲン化、α−位炭
素の水素化とが円滑に進行し、目的とするフエニ
ル酢酸類が容易に得られる点に特徴があり、かか
る技術内容は従来全く知られていない新規なもの
である。 本発明のかかる反応は、反応の前半においては
低級カルボン酸溶媒(特に酢酸溶媒)又は低級ア
ルコール溶媒(特にメタノール、エタノール溶
媒)又は両者の混合溶媒を使用し、水素ガスの吸
収が実質上平衡に達した時点から以降即ち反応の
後半において系内に水を添加して低級カルボン酸
−水、低級アルコール−水、又は低級カルボン酸
−低級アルコール−水混合溶媒中で反応を継続す
ることによつて効率良く実施されるのである。低
級カルボン酸又は低級アルコール又は両者の混合
物以外の溶媒を使用しても反応がほとんどおこら
ないかあるいは極めて長い反応時間が必要であ
り、実用性に乏しい。更に反応の途中で水を添加
しないと反応が中間体でとまり目的物の収率が低
下する恐れがある。 水の添加時期は水素ガスの吸収が実質上平衡に
なつた時点付近に行なうことが必要である。即ち
反応を開始すると水素ガスの吸収が進行し、通
常、原料と等モルにあたる理論量付近までガス吸
収がある。この水素ガス吸収理論量付近ではガス
の吸収が非常に緩慢になるので見掛け上ほとんど
吸収が認められないか又は極くわずかな吸収しか
示さなくなる。この時点に水を添加する。該平衡
時点以前のあまりにも早い時期に水を添加するこ
とは目的物の収率の面で、又平衡時点を過ぎてあ
まりに遅れて水を添加することは反応時間を長く
する欠点がありいずれも実用的に不利である。 かかる水素ガスの吸収が平衡に達する時点と
は、恐らく、ハロゲン置換フエニル酢酸誘導体の
ベンジル位の置換基が水素化分解により離脱した
中間体が主として生成している時点と考えられる
が、本発明の方法では、反応の途中で水素ガスの
吸収が実質上平衡となり見掛け上反応が中断す
る。この時点で系内に水を添加すると、再び水素
ガスの吸収がおこり反応が継続して進行するので
ある。かかる後半の反応では前記の中間体の脱ハ
ロゲン化が優勢に起つて本発明の目的物が生成さ
れるものと考えられる。 本発明において使用する原料は前記した如く一
般式
【式】で示されるハ ロゲン置換フエニル酢酸誘導体であり、X、R1
R2、YはOHを示す。これらのいずれの組合せの
化合物であつても本発明の効果に差異はないが、
3−クロロ−4−ヒドロキシマンデル酸から4−
ヒドロキシフエニル酢酸又はそのアルキルエステ
ルを製造する場合が好適に実施される。 かかる場合、3−クロロ−4−ヒドロキシマン
デル酸はグリオキシル酸とO−クロロフエノール
とを反応させて容易に調製可能であり、本発明の
方法は従来法に比べて原料の価格面、及び目的物
の収率面で利点を有しており、その有用性は極め
て高い。 本発明の方法を実施するに当つてはハロゲン置
換フエニル酢酸誘導体を低級カルボン酸溶媒又は
低級アルコール溶媒に溶解し、これに常圧又は加
圧下で水素ガスを導入して接触水素化反応を行な
う。溶媒は原料のハロゲン置換フエニル酢酸誘導
体に対して3重量倍以上好ましくは4〜7重量倍
の範囲で用いられる。又これらの溶媒は2種以上
混合して使用しても良い。該水素化反応時には触
媒としてラネーニツケル等のニツケル系触媒、パ
ラジウム・炭素等のパラジウム系触媒、又は白金
系触媒を用いることが必要である。更に本発明に
おいてはかかる反応時に強酸を共存させることが
必要であり、かかる強酸の使用も本発明の大きな
特徴である。即ち、α−位の炭素の還元について
はともかく、従来、接触水素化反応によつて核ハ
ロゲンを脱離する際には系に塩基を存在させると
脱ハロゲン反応が促進されることが周知であるに
もかかわらず、本発明においてはかかる従来の知
見とは全く逆に塩基の存在は反応を阻害し強酸の
存在下でなければ効率良く脱ハロゲン反応が進行
しないのである。 強酸としては塩酸、硫酸、オルトリン酸、ポリ
リン酸、過塩素酸、過臭素酸、臭化水素酸等の無
機酸あるいはメタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸が例示され
る。かかる強酸の中でも硫酸が好適に使用され
る。強酸はハロゲン置換フエニル酢酸誘導体1モ
ルに対し0.05〜0.5モルの範囲で用いられる。反
応温度としては30〜120℃好ましくは40〜90℃が
適当である。反応は常圧乃至加圧の何れの形式で
も水素の供給下で行われ、実用的な反応器内の水
素圧力としては2〜15Kg/cm2が選ばれる。反応が
進行するにつれ、やがて水素ガスの吸収が平衡に
達し、見掛け上反応が中断する。この時点で系中
に水を添加すると再び水素ガスの吸収が始まり反
応が進行する。水の添加量は原料のハロゲン置換
フエニル酢酸誘導体に対し0.1重量倍以上、好ま
しくは1〜10重量倍の範囲が適当であり0.1重量
倍以下では実質上反応が進行せず、一方10重量倍
以上では装置効率等の経済性の点で不利となる。
水は液状でも又加熱蒸気状でも良く任意の形態で
供給される。 水添加後の反応温度は40〜90℃の範囲が適当で
ある。 反応の開始から終りまで水素ガスの仕込み手段
に特に制限はなく、連続式、分割式等任意の方法
が採用される。反応圧力としては常圧、加圧のい
ずれでも行ない得るが2〜15Kg/cm2が好適であ
る。又、反応時間は触媒の活性、反応圧力等によ
り異なるが2時間以上は必要である。 更に本発明の方法を実施するに当り、低級カル
ボン酸、低級アルコール、水以外にこれらと相溶
性のある溶媒例えば、エステル類、アセトン、酢
酸エステル類、炭化水素類、エーテル類等を系中
に少量添加しても差支えない。 かくして反応終了後は、常法に従つて触媒成分
を除去し、反応液より4−ヒドロキシフエニル酢
酸等の目的物を溶剤抽出する。抽出液から溶媒を
除去すれば結晶状又はオイル状の目的物が得られ
る。ついで必要に応じて精製処理を実施し得る。 本発明によれば例えば4−ヒドロキシフエニル
酢酸又はそのアルキルエステルが3−クロロ−4
−ヒドロキシマンデル酸に対して70%以上の収率
で得られ、その工業的な利用価値は極めて大であ
ると言える。 次に実例を挙げて本発明の方法を更に詳しく説
明する。 実例 1 振とう式耐圧反応器中で酢酸10mlに3−クロロ
−4−ヒドロキシマンデル酸2.5gを溶解した後、
95%硫酸0.175mlを添加した。 次に5%パラジウム/炭素触媒を125mg添加し、
65℃まで昇温する。次いで水素ガス置換し水素圧
を4Kg/cm2に保ちながら63〜67℃の温度にて撹拌
下に1時間接触水素化反応を行つた。更に10mlの
水を圧入し水素圧4Kg/cm2、温度63〜67℃で4時
間接触水素化反応を継続した。 反応終了後、室温まで冷却し水素ガスをパージ
し触媒を別した。液を減圧下に濃縮して酢酸
及び水を留去し、残渣に飽和食塩水10mlを加えた
後、酢酸エチル50mlで抽出を行つた。酢酸エチル
を留去すると無色針状結晶が1.74g得られた。 得られた結晶についてガスクロマトグラム、赤
外吸収スペクトル、NMRスペクトルを測定した
ところ標品の4−ヒドロキシフエニル酢酸のそれ
らと一致した。4−ヒドロキシフエニル酢酸の収
率は3−クロロ−4−ヒドロキシマンデル酸に対
して92.7%であつた。 実例 2 実例1において水の使用量を5mlに変更した以
外は同例と同じ実験を行つた。4−ヒドロキシフ
エニル酢酸の収率は70.2%であつた。 実例 3 実例1と同一の反応器中でメタノール10mlに3
−クロロ−4−ヒドロキシマンデル酸2.5gを溶
解した後、95%硫酸0.215mlを添加した。次に5
%パラジウム/炭素触媒を250mg添加し、100℃ま
で昇温する。次いで水素ガス置換し水素圧を8.5
Kg/cm2に保ちながら98〜102℃の温度にて撹拌下
に24時間接触水素化反応を行つた。更に10mlの水
を圧入し水素圧8.5Kg/cm2、温度98〜102℃なる条
件下に4時間接触水素化反応を継続した。 反応終了後、室温まで冷却し水素ガスをパージ
し触媒を別した。液を減圧下に濃縮してメタ
ノール及び水を留去し、残渣に飽和食塩水10mlを
加えた後、酢酸エチル50mlで抽出を行つた。酢酸
エチルを留去すると淡褐色のオイル状物が1.7g
得られた。 得られたオイル状物についてガスクロマトグラ
ム、赤外吸収スペクトル、NMRスペクトルを測
定したところ標品の4−ヒドロキシフエニル酢
酸、4−ヒドロキシフエニル酢酸メチルのそれら
と一致した。4−ヒドロキシフエニル酢酸及び4
−ヒドロキシフエニル酢酸メチルの総合収率は3
−クロロ−4−ヒドロキシマンデル酸に対して
83.0%であつた。 実例 4 実例1と同一の反応器中で酢酸10ml及びメタノ
ール5mlに3−クロロ−4−ヒドロキシマンデル
酸2.5gを溶解した後、95%酢酸0.175mlを添加し
た。次に5%パラジウム/炭素触媒を135mg添加
し、65℃まで昇温する。次いで水素ガス置換し水
素圧を10Kg/cm2に保ちながら62〜66℃の温度にて
撹拌下に2時間接触水素化反応を行つた。更に5
mlの水を圧入し水素圧10Kg/cm2、温度62〜65℃な
る条件下に4時間接触水素化反応を継続した。 反応終了後、室温まで冷却し水素ガスをパージ
し触媒を別した。液を減圧下に濃縮して酢
酸、メタノール及び水を留去し、残渣に飽和食塩
水10mlを加えた後、酢酸エチル50mlで抽出を行つ
た。酢酸エチルを留去すると淡褐色のオイル状物
が2.3g得られた。 得られたオイル状物についてガスクロマトグラ
ム、赤外吸収スペクトル、NMRスペクトルを測
定したところ標品の4−ヒドロキシフエニル酢酸
及び4−ヒドロキシフエニル酢酸メチルのそれら
と一致した。4−ヒドロキシフエニル酢酸及び4
−ヒドロキシフエニル酢酸メチルの総合収率は3
−クロロ−4−ヒドロキシマンデル酸に対して
78.9%であつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式【式】〔ここ でX;ハロゲン、R1、R2;水素又は低級アルキ
    ル基、Y;OHをそれぞれ示す。〕で表されるハ
    ロゲン置換フエニル酢酸誘導体の低級カルボン酸
    および又は低級アルコール溶液中に、水素ガスを
    導入しながら接触水素化反応を行い、水素ガスの
    吸収が実質上平衡に達した時点で系中へ水を添加
    して更に接触水素化反応を継続することを特徴と
    する一般式【式】〔R1、 R2は前記と同様〕で表されるフエニル酢酸類の
    製造方法。 2 低級カルボン酸が酢酸であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 3 低級アルコールがメタノールであることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
JP10206979A 1979-08-09 1979-08-09 Preparation of phenylacetic acid Granted JPS5626836A (en)

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JPS5626836A JPS5626836A (en) 1981-03-16
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7325543B2 (en) 2003-08-01 2008-02-05 Asahi Glass Company, Limited Covering material for solar thermal power generating system and solar thermal power generating system formed by spreading the covering material

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7325543B2 (en) 2003-08-01 2008-02-05 Asahi Glass Company, Limited Covering material for solar thermal power generating system and solar thermal power generating system formed by spreading the covering material

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