JPS6344211B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6344211B2 JPS6344211B2 JP56070991A JP7099181A JPS6344211B2 JP S6344211 B2 JPS6344211 B2 JP S6344211B2 JP 56070991 A JP56070991 A JP 56070991A JP 7099181 A JP7099181 A JP 7099181A JP S6344211 B2 JPS6344211 B2 JP S6344211B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- source lamp
- polymer
- light
- intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/132—Overhead projectors, i.e. capable of projecting hand-writing or drawing during action
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S353/00—Optics: image projectors
- Y10S353/04—Opaque
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はオーバヘツドプロジエクタのための光
源ランプ制御装置に係る。
源ランプ制御装置に係る。
オーバヘツドプロジエクタは簡便な拡大投影装
置として現在広く使用されている。現在一般に使
用されているオーバヘツドプロジエクトは、言わ
ば透過式のオーバヘツドプロジエクタと称されて
よいものであり、フレネルレンズよりなるパネル
がその下方に配置された光源ランプより照射さ
れ、該フレネルレンズにて集光され該フレネルレ
ンズ上に載置された原稿を透過した光が該フレネ
ルレンズの上方に配置された投影レンズと偏向鏡
を含む投影ヘツドによつてほぼ90゜方向転換され、
それより前方に隔置して配置されたスクリーン上
に投影されるようになつている。かかる透過式の
オーバヘツドプロジエクタとは別に、反射式のオ
ーバヘツドプロジエクタも又知られている。反射
式のオーバヘツドプロジエクタは、フレネルレン
ズと反射鏡の重合体と、前記重合体へ向けて光線
を投射する光源ランプと前記光源ランプより発射
され前記重合体にて反射集光された光線を屈折投
影する投影レンズと偏向鏡とを含み前記重合体の
上方に配置された投影ヘツドとを有する構造のも
のである。かかる反射式のオーバヘツドプロジエ
クタは、前記重合体より下に何らの構造体を必要
とせず、その全体構造が透過式のオーバヘツドプ
ロジエクタに比して簡単で且軽量であるという利
点を有するが、これまで反射性能のよいフレネル
レンズと反射鏡の重合体が得られなかつたことか
ら広く使用されるに至らなかつたものである。
置として現在広く使用されている。現在一般に使
用されているオーバヘツドプロジエクトは、言わ
ば透過式のオーバヘツドプロジエクタと称されて
よいものであり、フレネルレンズよりなるパネル
がその下方に配置された光源ランプより照射さ
れ、該フレネルレンズにて集光され該フレネルレ
ンズ上に載置された原稿を透過した光が該フレネ
ルレンズの上方に配置された投影レンズと偏向鏡
を含む投影ヘツドによつてほぼ90゜方向転換され、
それより前方に隔置して配置されたスクリーン上
に投影されるようになつている。かかる透過式の
オーバヘツドプロジエクタとは別に、反射式のオ
ーバヘツドプロジエクタも又知られている。反射
式のオーバヘツドプロジエクタは、フレネルレン
ズと反射鏡の重合体と、前記重合体へ向けて光線
を投射する光源ランプと前記光源ランプより発射
され前記重合体にて反射集光された光線を屈折投
影する投影レンズと偏向鏡とを含み前記重合体の
上方に配置された投影ヘツドとを有する構造のも
のである。かかる反射式のオーバヘツドプロジエ
クタは、前記重合体より下に何らの構造体を必要
とせず、その全体構造が透過式のオーバヘツドプ
ロジエクタに比して簡単で且軽量であるという利
点を有するが、これまで反射性能のよいフレネル
レンズと反射鏡の重合体が得られなかつたことか
ら広く使用されるに至らなかつたものである。
しかし最近反射性能のよいフレネルレンズと反
射鏡の重合体が得られるようになつたことから、
反射式オーバヘツドプロジエクタの有用性が再確
認されてきている。しかし反射式オーバヘツドプ
ロジエクタについては、かなり高い光強度を有す
る光線を照射する光源ランプがフレネルレンズと
反射鏡の重合体の上方に位置しており、オーバヘ
ツドプロジエクタの操作に当つてかかる光源ラン
プより発射される高強度の光線が人の手に照射さ
れ、手に火傷を生ぜしめるという危険がある。
射鏡の重合体が得られるようになつたことから、
反射式オーバヘツドプロジエクタの有用性が再確
認されてきている。しかし反射式オーバヘツドプ
ロジエクタについては、かなり高い光強度を有す
る光線を照射する光源ランプがフレネルレンズと
反射鏡の重合体の上方に位置しており、オーバヘ
ツドプロジエクタの操作に当つてかかる光源ラン
プより発射される高強度の光線が人の手に照射さ
れ、手に火傷を生ぜしめるという危険がある。
本発明は、反射式オーバヘツドプロジエクタに
於ける上述の如き問題に対処し、この点に関する
オーバヘツドプロジエクタの安全性を高める装置
を提供することを目的としている。
於ける上述の如き問題に対処し、この点に関する
オーバヘツドプロジエクタの安全性を高める装置
を提供することを目的としている。
かかる目的は、本発明によれば、フレネルレン
ズと反射鏡の重合体と、前記重合体へ向けて光線
を投射する光源ランプと前記光源ランプより発射
され前記重合体にて反射集光された光線を屈折投
影する投影レンズと偏向鏡とを含み前記重合体の
上方に配置された投影ヘツドとを有するオーバヘ
ツドプロジエクタのための光源ランプ制御装置に
して、前記光源ランプより発射された光線を受光
すべく前記重合体の近傍に配置され受光光線の強
度に応じて変化する電気特性を有する感光要素
と、前記感光要素が受光する光線の強度が所定値
以下に低下したことが該感光要素により感知され
たとき前記光源ランプへ供給する電力量を実質的
に低減する電気制御回路とを有していることを特
徴とする光源ランプ制御装置によつて達成され
る。
ズと反射鏡の重合体と、前記重合体へ向けて光線
を投射する光源ランプと前記光源ランプより発射
され前記重合体にて反射集光された光線を屈折投
影する投影レンズと偏向鏡とを含み前記重合体の
上方に配置された投影ヘツドとを有するオーバヘ
ツドプロジエクタのための光源ランプ制御装置に
して、前記光源ランプより発射された光線を受光
すべく前記重合体の近傍に配置され受光光線の強
度に応じて変化する電気特性を有する感光要素
と、前記感光要素が受光する光線の強度が所定値
以下に低下したことが該感光要素により感知され
たとき前記光源ランプへ供給する電力量を実質的
に低減する電気制御回路とを有していることを特
徴とする光源ランプ制御装置によつて達成され
る。
かかる光源ランプ制御装置が設けられるときに
は、人の手が光源ランプの発射する高強度の光線
を受ける位置にもたらされると、該手により該光
線が遮断されることにより前記感光要素が受光す
る光線の強度が大きく低下するので、それが所定
値以下に低下したことが該感光要素によつて感知
された時には、光源ランプへ供給される電力量を
低減し、光源ランプが発する光線の強度を下げ、
光線によつて手に火傷を生ずる危険を防ぐことが
できる。
は、人の手が光源ランプの発射する高強度の光線
を受ける位置にもたらされると、該手により該光
線が遮断されることにより前記感光要素が受光す
る光線の強度が大きく低下するので、それが所定
値以下に低下したことが該感光要素によつて感知
された時には、光源ランプへ供給される電力量を
低減し、光源ランプが発する光線の強度を下げ、
光線によつて手に火傷を生ずる危険を防ぐことが
できる。
以下に添付の図を参照して本発明を実施例につ
いて詳細に説明する。
いて詳細に説明する。
第1図は本発明による光源ランプ制御装置を組
込んだ反射式オーバヘツドプロジエクタの一つの
実施例を示す概略図である。図に於て、1はオー
バヘツドプロジエクタの基盤であり、該基盤上に
フレネルレンズと反射鏡の重合体2が設けられて
いる。重合体2の上方には支柱3によつて投影ヘ
ツド4が支持されている。投影ヘツド4内には重
合体2へ向けて光線を投射する光源ランプ5と、
該光源ランプより発射され重合体2にて反射集光
された光線を屈折投影する投影レンズ6と、該投
影レンズを通つて投射される光線をほぼ90゜偏向
して図には示されていないスクリーンへ向けて投
射する偏向鏡7が組込まれている。かかる構成の
オーバヘツドプロジエクタに於て、重合体2上に
光透過性のフイルムに着色による画像或はフイル
ムを熱収縮せしめることにより形成されたフロス
ト画像を有する原画8が載置され、前記スクリー
ンまでの距離に応じて投影レンズ6が上下方向に
位置調整されると、原画8の画像をスクリーン上
に拡大投影することができる。
込んだ反射式オーバヘツドプロジエクタの一つの
実施例を示す概略図である。図に於て、1はオー
バヘツドプロジエクタの基盤であり、該基盤上に
フレネルレンズと反射鏡の重合体2が設けられて
いる。重合体2の上方には支柱3によつて投影ヘ
ツド4が支持されている。投影ヘツド4内には重
合体2へ向けて光線を投射する光源ランプ5と、
該光源ランプより発射され重合体2にて反射集光
された光線を屈折投影する投影レンズ6と、該投
影レンズを通つて投射される光線をほぼ90゜偏向
して図には示されていないスクリーンへ向けて投
射する偏向鏡7が組込まれている。かかる構成の
オーバヘツドプロジエクタに於て、重合体2上に
光透過性のフイルムに着色による画像或はフイル
ムを熱収縮せしめることにより形成されたフロス
ト画像を有する原画8が載置され、前記スクリー
ンまでの距離に応じて投影レンズ6が上下方向に
位置調整されると、原画8の画像をスクリーン上
に拡大投影することができる。
かかる反射式オーバヘツドプロジエクタに於て
は、その使用中にしばしば人の手が図示の如く光
源ランプ5の直ぐ下方にあつてそれより投射され
る高強度の光線を受ける位置に来るものであり、
そのようなときには手はかなりの熱を受け火傷を
生ずる危険がある。
は、その使用中にしばしば人の手が図示の如く光
源ランプ5の直ぐ下方にあつてそれより投射され
る高強度の光線を受ける位置に来るものであり、
そのようなときには手はかなりの熱を受け火傷を
生ずる危険がある。
これに対処して、本発明によれば、重合体2の
近傍には光源ランプ5より投射される光を受ける
CdSの如き光電セル9が設けられている。図示の
実施例に於ては、光電セル9は重合体2の中心部
の裏側に配置され、光源ランプ5より投射される
光を受けることができるよう重合体2には小孔1
0が設けられている。これに代えて、光電セルは
9′にて示す如く重合体2の側部に設けられても
よい。光電セル9が感知した光の強さは図にて解
図的に示された信号線11を経て電気制御回路1
2へ送られる。電気制御回路12は、光源ランプ
5が発する光線が実質的に遮られることなく光電
セル9に投射されているときには、図には解図的
に示された電力線13を経て光源ランプ5に全力
投光のための電力を供給し、又光源ランプ5より
光電セル9へ投射される光線が人の手等により遮
られることによつて光電セル9が受光する光線の
強度が所定値以下に低下したときには、電力線1
3を経て光源ランプ5へ送られる電力を実質的に
低減するように構成されている。
近傍には光源ランプ5より投射される光を受ける
CdSの如き光電セル9が設けられている。図示の
実施例に於ては、光電セル9は重合体2の中心部
の裏側に配置され、光源ランプ5より投射される
光を受けることができるよう重合体2には小孔1
0が設けられている。これに代えて、光電セルは
9′にて示す如く重合体2の側部に設けられても
よい。光電セル9が感知した光の強さは図にて解
図的に示された信号線11を経て電気制御回路1
2へ送られる。電気制御回路12は、光源ランプ
5が発する光線が実質的に遮られることなく光電
セル9に投射されているときには、図には解図的
に示された電力線13を経て光源ランプ5に全力
投光のための電力を供給し、又光源ランプ5より
光電セル9へ投射される光線が人の手等により遮
られることによつて光電セル9が受光する光線の
強度が所定値以下に低下したときには、電力線1
3を経て光源ランプ5へ送られる電力を実質的に
低減するように構成されている。
第2図は上述の如き作動をなす電気制御回路1
2の一つの実施例を示す回路図である。光源ラン
プ5はダイオード14とサイリスタ15を逆向き
並列に含む回路を経て交流電源16より電力を供
給されるようになつている。サイリスタ15のオ
ン・オフはダイオード17、抵抗18、トランジ
スタ19を含む回路により該トランジスタのオ
ン・オフに応じて制御されるようになつている。
即ちこの場合、トランジスタ19がオフ(遮断)
の状態にあり、サイリスタ15の制御端子に所定
の電圧が作用しているときには、サイリスタ15
は導通しているが、トランジスタ19がオン(導
通)の状態となり、サイリスタ15の制御端子に
かかる電圧が零となつたときには、サイリスタ1
5は遮断されるようになつている。
2の一つの実施例を示す回路図である。光源ラン
プ5はダイオード14とサイリスタ15を逆向き
並列に含む回路を経て交流電源16より電力を供
給されるようになつている。サイリスタ15のオ
ン・オフはダイオード17、抵抗18、トランジ
スタ19を含む回路により該トランジスタのオ
ン・オフに応じて制御されるようになつている。
即ちこの場合、トランジスタ19がオフ(遮断)
の状態にあり、サイリスタ15の制御端子に所定
の電圧が作用しているときには、サイリスタ15
は導通しているが、トランジスタ19がオン(導
通)の状態となり、サイリスタ15の制御端子に
かかる電圧が零となつたときには、サイリスタ1
5は遮断されるようになつている。
トランジスタ19のオン・オフはツエナダイオ
ード20と光電セル9とを含む回路により制御さ
れるようになつている。CdSの如き光電セルは、
それが受ける光の強度が低下するに従つてその抵
抗値を増大させる如き電気特性を有する。従つて
この回路に対する直流電源を構成するツエナダイ
オード21とコンデンサ22、その電圧を調節す
る抵抗23の値が適当に設計され、且可変抵抗2
4の抵抗値が適宜調節されるときには、光電セル
9の抵抗値が所定値を越えて増大したときツエナ
ダイオード20を導通させ、トランジスタ19を
オンさせることができる。
ード20と光電セル9とを含む回路により制御さ
れるようになつている。CdSの如き光電セルは、
それが受ける光の強度が低下するに従つてその抵
抗値を増大させる如き電気特性を有する。従つて
この回路に対する直流電源を構成するツエナダイ
オード21とコンデンサ22、その電圧を調節す
る抵抗23の値が適当に設計され、且可変抵抗2
4の抵抗値が適宜調節されるときには、光電セル
9の抵抗値が所定値を越えて増大したときツエナ
ダイオード20を導通させ、トランジスタ19を
オンさせることができる。
第3図は種々の状態に於て光電セル9が受ける
光の強度を相対的に示すグラフである。ここで光
の強度sはトランジスタ19がオン・オフされる
境界をなす光の強度のしきい値であり、即ち光電
セル9が受ける光の強度がs以上であればトラン
ジスタ19はオフの状態にあり、光電セル9が受
ける光の強度がs以下であるときにはトランジス
タ19はオンの状態となる。Aは光源ランプ5よ
り発射された光線が途中で手等により遮られるこ
となく光電セル9に達する場合であり、この場合
に光電セル9が受ける光の強度はaであるとす
る。トランジスタ19がオフの状態にあるときに
はサイリスタ15は導通状態にあり、従つて光源
ランプ5は第4図に示す如く交流電源15が発す
る交流の正負何れの電圧部分に於ても電流を与え
られ、全力点灯される。このとき光電セル9が受
ける光の強度がaである。
光の強度を相対的に示すグラフである。ここで光
の強度sはトランジスタ19がオン・オフされる
境界をなす光の強度のしきい値であり、即ち光電
セル9が受ける光の強度がs以上であればトラン
ジスタ19はオフの状態にあり、光電セル9が受
ける光の強度がs以下であるときにはトランジス
タ19はオンの状態となる。Aは光源ランプ5よ
り発射された光線が途中で手等により遮られるこ
となく光電セル9に達する場合であり、この場合
に光電セル9が受ける光の強度はaであるとす
る。トランジスタ19がオフの状態にあるときに
はサイリスタ15は導通状態にあり、従つて光源
ランプ5は第4図に示す如く交流電源15が発す
る交流の正負何れの電圧部分に於ても電流を与え
られ、全力点灯される。このとき光電セル9が受
ける光の強度がaである。
かかる状態で光源ランプ5の下方に手が差込ま
れ、光源ランプ5より光電セル9に照射される光
が遮られると、光電セル9が受ける光の強度はし
きい値s以下のbの値に低下する。この状態がB
の状態である。光電セル9が受ける光の強度がし
きい値s以下に低下することにより、トランジス
タ19がオンし、サイリスタ15が遮断状態とな
り、光源ランプ5へ供給される電力は第5図に示
す如く交流電圧の正波の部分のみとなり、光源ラ
ンプ5へ供給される電力はこの場合半減され、そ
れが発する光の強度は格段に低下し、光源ランプ
5の下に手が置かれてもそれが火傷を生ずる危険
は回避される。
れ、光源ランプ5より光電セル9に照射される光
が遮られると、光電セル9が受ける光の強度はし
きい値s以下のbの値に低下する。この状態がB
の状態である。光電セル9が受ける光の強度がし
きい値s以下に低下することにより、トランジス
タ19がオンし、サイリスタ15が遮断状態とな
り、光源ランプ5へ供給される電力は第5図に示
す如く交流電圧の正波の部分のみとなり、光源ラ
ンプ5へ供給される電力はこの場合半減され、そ
れが発する光の強度は格段に低下し、光源ランプ
5の下に手が置かれてもそれが火傷を生ずる危険
は回避される。
しかしこのような交流電圧の正波の部分に於て
のみ電力を供給される状態に於て、光源ランプ5
が発する光線が手等により妨げられることなく光
電セル9に照射されたとき該光電セルが受ける光
の強度c(Cの場合)はしきい値sよりは高い値
となるようにしきい値sは設定されている。従つ
て手が光源ランプ5の下方の位置から取去られる
と、光電セル9はしきい値sよりは高い強度の光
を受けることができ、トランジスタ19は再びオ
フの状態に切換えられ、サイリスタ15はオンの
状態に復帰し、光源ランプ5は全力照射の状態に
復帰される。
のみ電力を供給される状態に於て、光源ランプ5
が発する光線が手等により妨げられることなく光
電セル9に照射されたとき該光電セルが受ける光
の強度c(Cの場合)はしきい値sよりは高い値
となるようにしきい値sは設定されている。従つ
て手が光源ランプ5の下方の位置から取去られる
と、光電セル9はしきい値sよりは高い強度の光
を受けることができ、トランジスタ19は再びオ
フの状態に切換えられ、サイリスタ15はオンの
状態に復帰し、光源ランプ5は全力照射の状態に
復帰される。
かくして、本発明によれば、手が光源ランプ5
の下方に差込まれ、もしその照射光線の強さが低
減されないときには手に火傷を生ずる危険がある
ときのみ光源ランプへ供給される電力を低減し、
それが発する光の強度を下げ、手がその位置より
取去られたときには、光源ランプを再び電力照射
状態に戻す如き光源ランプの照射強度の制御を自
動的に行うことができる。
の下方に差込まれ、もしその照射光線の強さが低
減されないときには手に火傷を生ずる危険がある
ときのみ光源ランプへ供給される電力を低減し、
それが発する光の強度を下げ、手がその位置より
取去られたときには、光源ランプを再び電力照射
状態に戻す如き光源ランプの照射強度の制御を自
動的に行うことができる。
以上に於ては交流電圧の正波と負波を選別して
光源ランプの照射強度を低減する実施例について
本発明を詳細に説明したが、本発明がかかる実施
例にのみ限られるものではなく、光源ランプの照
射強度を選択的に低減せしめる構成としては、他
の種々の構成が可能であることは当業者にとつて
明らかであろう。
光源ランプの照射強度を低減する実施例について
本発明を詳細に説明したが、本発明がかかる実施
例にのみ限られるものではなく、光源ランプの照
射強度を選択的に低減せしめる構成としては、他
の種々の構成が可能であることは当業者にとつて
明らかであろう。
第1図は本発明を組込んだ反射式オーバヘツド
プロジエクタの一つの実施例を示す概略図、第2
図本発明に組込まれる電気制御回路の一つの実施
例を示す回路図、第3図は種々の状況に於て感光
セルが受ける光の強度の変化を示すグラフ、第4
図は光源ランプが交流電圧の正負両波の部分にて
エネルギを供給される状態を示す線図、第5図は
光源ランプが交流電圧の正波の部分に於てのみ電
力を供給される状態を示す線図である。 1……基盤、2……重合体、3……支柱、4…
…投影ヘツド、5……光源ランプ、6……投影レ
ンズ、7……偏向鏡、8……原画、9,9′……
光電セル、10……小孔、11……信号線、12
……電気制御回路、13……電力線、14……ダ
イオード、15……サイリスタ、16……交流電
源、17……ダイオード、18……抵抗、19…
…トランジスタ、20,21……ツエナダイオー
ド、22……コンデンサ、23……抵抗、24…
…可変抵抗。
プロジエクタの一つの実施例を示す概略図、第2
図本発明に組込まれる電気制御回路の一つの実施
例を示す回路図、第3図は種々の状況に於て感光
セルが受ける光の強度の変化を示すグラフ、第4
図は光源ランプが交流電圧の正負両波の部分にて
エネルギを供給される状態を示す線図、第5図は
光源ランプが交流電圧の正波の部分に於てのみ電
力を供給される状態を示す線図である。 1……基盤、2……重合体、3……支柱、4…
…投影ヘツド、5……光源ランプ、6……投影レ
ンズ、7……偏向鏡、8……原画、9,9′……
光電セル、10……小孔、11……信号線、12
……電気制御回路、13……電力線、14……ダ
イオード、15……サイリスタ、16……交流電
源、17……ダイオード、18……抵抗、19…
…トランジスタ、20,21……ツエナダイオー
ド、22……コンデンサ、23……抵抗、24…
…可変抵抗。
Claims (1)
- 1 フレネルレンズと反射鏡の重合体と、前記重
合体へ向けて光線を投射する光源ランプと前記光
源ランプより発射され前記重合体にて反射集光さ
れた光線を屈折投影する投影レンズと偏向鏡とを
含み前記重合体の上方に配置された投影ヘツドと
を有するオーバヘツドプロジエクタのための光源
ランプ制御装置にして、前記光源ランプより発射
された光線を受光すべく前記重合体の近傍に配置
され受光光線の強度に応じて変化する電気特性を
有する感光要素と、前記感光要素が受光する光線
の強度が所定値以下に低下したことが該感光要素
により感知されたとき前記光源ランプへ供給する
電力量を実質的に低減する電気制御回路とを有し
ていることを特徴とする光源ランプ制御装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56070991A JPS57185425A (en) | 1981-05-12 | 1981-05-12 | Light source lamp controller of overhead projector |
| US06/371,282 US4406530A (en) | 1981-05-12 | 1982-04-23 | Reflecting type overhead projector with automatically variable safety illumination |
| DE8282103907T DE3262114D1 (en) | 1981-05-12 | 1982-05-05 | Reflecting type overhead projector with automatically variable safety illumination |
| EP82103907A EP0064723B1 (en) | 1981-05-12 | 1982-05-05 | Reflecting type overhead projector with automatically variable safety illumination |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56070991A JPS57185425A (en) | 1981-05-12 | 1981-05-12 | Light source lamp controller of overhead projector |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57185425A JPS57185425A (en) | 1982-11-15 |
| JPS6344211B2 true JPS6344211B2 (ja) | 1988-09-02 |
Family
ID=13447512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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- 1982-05-05 DE DE8282103907T patent/DE3262114D1/de not_active Expired
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0340614U (ja) * | 1989-08-25 | 1991-04-18 |
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| EP0064723A1 (en) | 1982-11-17 |
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