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JPS6348159B2 - - Google Patents
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JPS6348159B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6348159B2
JPS6348159B2 JP10516583A JP10516583A JPS6348159B2 JP S6348159 B2 JPS6348159 B2 JP S6348159B2 JP 10516583 A JP10516583 A JP 10516583A JP 10516583 A JP10516583 A JP 10516583A JP S6348159 B2 JPS6348159 B2 JP S6348159B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
groove
width
opening
short
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP10516583A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59230295A (ja
Inventor
Tatsuji Isono
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP58105165A priority Critical patent/JPS59230295A/ja
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Granted legal-status Critical Current

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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は高周波加熱装置の電波シールに関する
ものである。 従来例の構成とその問題点 電波シール装置としては数多く提案されてお
り、実用的に利用されているものに“チヨーク方
式”がある。さらにこの“チヨーク方式”のチヨ
ーク溝長手方向への電波伝搬に対策を施こした先
行技術もある。しかしこれらはチヨーク溝を有し
ていること、チヨーク溝開孔部からチヨーク溝終
端部までの実効的な深さが用いる電波の周波数に
対して四分の一波長であることに特徴がある。 即ち、チヨーク溝の特性インピーダンスをZo、
溝の深さlとし、終端部を短絡したときに、チヨ
ーク溝開孔部でのインピーダンスZinは、in=
jZotan(2πl/λo)となる。但しλoは自由空間波長、 チヨーク方式では溝の深さlをλo/4と選ぶこ
とで|Zin|=Zotan(π/2)∞を達成するとい
う原理に基づいている。チヨーク溝内を誘電体
(比誘電率εr)で充填すると、電波波長λ′はλ′=
λo/√に圧縮される。この場合、溝の深さl′は
l′≒l/√と短かくなる。しかし、l′=l′/4
とす ることに変りはない。 従つてチヨーク方式においては、チヨーク溝の
深さが実質的に四分の一波長よりも小さくでき
ず、小型化の限界がある。第1、第2図に従来の
構成例を示す。 発明の目的 本発明では、電波シール用の溝を用いる点では
チヨーク方式と類似点があるが、チヨーク溝と区
別するために小型溝と呼ぶ。本発明は、小型溝の
深さを実質的に四分の一波長よりも小さく構成す
ることを目的とする。 発明の構成 小型化は、小形溝の深さ方向に溝の特性インピ
ーダンスを変えることにより達成できる。 制限条件は、小型溝の開孔部特性インピーダン
スが溝の終端部特性インピーダンスよりも小さい
ことと、溝の幅と深さがともに実質的電波波長の
四分の一よりも小さいことである。 以下第3〜4図を用いて特性インピーダンスに
ついて説明する。第3図は平行線路の斜視図であ
り、線路幅をa、線路間隙をb、誘電媒質の比誘
電率をεvとしている。 この場合の特性インピーダンスZoは周知の如
く、
【式】(k:比例定数)となる。 従がつて特性インピーダンスZoは、線路幅a
を広くすること、線路間隙bをせまくすること、
比誘電率εvを大きくすることで小さな値にでき
る。第4図にはドアの構成例を示す。この場合ド
ア1に設けたx方向にのびる壁面2,3と幅a、
ピツチpの導線路群4により溝幅bなる溝5を構
成している。この場合は接地面に相当する壁面に
対し、導線路群4が配された電波伝搬系として作
用するが、個々の線路に対して特性インピーダン
スZoは
【式】(k′:比例定数)となり 平行線の場合と殆んど同様の関係が保たれる。 次に第5〜8図を用いて本発明の原理説明をす
る。 第5図は小型溝を2,3、n個のインピーダン
ス変化させた例をa,b,cに示している。特性
インピーダンスZioの区間が長さliあり、インピ
ーダンス変化点から溝終端側をみたインピーダン
スがZiで、溝開孔部から溝終端側をみたインピー
ダンスがZinoとなる。 具体的には溝を2分割した(a)の場合 Z2=jZ20tanβl2≡jx2以下βはβ= 2〓〓p (b)の場合 Z3=jZ30tanβl3 Z2=Z20Z3+jZ20tanβl2/Z20+jZ3tanβl2≡jx3 (c)の場合 Zn=jZnotanβlo Zn−1=Z(n−1)oZn+jZ(n−1)otanβl(n
−1)…… Zn−1=Z(n−1)oZn+jZ(n−1)otanβl(n
−1)…… Z(n−1)o+jZntanβl(n−1)……但し(Z10
Z20……<Z30) Z2=Z20Z3+jZ20tanβl2/Z20+jZ2tanβl2≡jXn となる。 従がつて小型溝開孔からみたインピーダンスは
n個の不連続特性インピーダンスの場合に Zino=Z10Z2+jZ10tanβl1/Z10+JZ2tanβl1 =jZ10xn+Z10tanβl1/Z10−xntanβl1 となる。上式はZ10xntanβl1が等しくなれば|
Zino|=∞にできることを意味する。即ち、Z10
=xntanβl1が溝開孔部でのインピーダンスを大き
くする要件になることがわかる。 λo=122.4mm(f=2450MHz)λo/4=30.8mm の例でa図の2個不連続、b図の3個不連続の場
合について、Z10≒xotanβl1の条件を満たす。 l1、l2、(l3)、ltotalの組合せを開孔部特性インピ
ーダンスZ10と終端部特性インピーダンスZ20また
はZ30の比を1対2として計算すると次の如くな
る。
【表】
【表】
【表】 (単位mm)
この結果は次のことを意味する。 (1) 特性インピーダンスをZ10<Z20又はZ10<Z20
<Z30とすることにより溝の深さl(total)が
四分の1波長よりも小さくできる。 (2) 溝の深さの寸法圧縮率は開孔部特性インピー
ダンスZ10と終端部特性インピーダンスZopによ
りほとんど決まり、特性インピーダンスの変化
数nにほとんど左右されない。 上記説明はZ20/Z10=Z30/Z10=2の場合であ
るが、第6図には、2分割の場合に寸法l1とl2
比を1〜5まで変化させたときの特性インピーダ
ンス比と、チヨーク溝深さに対し小型溝深さが寸
法圧縮された圧縮比の関係を示している。特性イ
ンピーダンスの選定を工夫すればチヨーク溝の十
分の一以下にもできることをこのグラブは示す。 第7図には寸法l1を12mmとしたとき、寸法l2
パラメータに開孔部特性インピーダンス絶対値を
プロツトしたもので、寸法l2が24mmと25mmのとこ
ろで極大値をとることを示している。 第8図には電波漏洩実測値を示す。この結果も
l2寸法が23.5mmと24.5mmの間で最小値を示してお
り、これは次のことを意味するものである。 (1) 小型溝の開孔部インピーダンスの絶対値を大
きくすることが、電波漏洩量を少なくする。 (2) 小型溝の開孔部インピーダンスを大きくする
溝の深さ寸法(l1、l2)は計算値と実側値が精
度よく合致すること。 (3) チヨーク溝の深さにくらべて確実に小型化が
できることである。 次に本発明の構成について説明する。 本発明は電子レンジの本体又はドアの少くとも
一方に、溝開口部と短絡終端部を持つ第1の溝と
第2の溝を設け、溝の長手方向に周期的に切込部
を有する導体板によつて2つの溝に分割する構成
とし、溝の幅と深さを実質的に使用波長の四分の
一より小さくするとともに、第1の溝および第2
の溝のそれぞれの開口部と短絡終端部の特性イン
ピーダンスの比をほぼ等しくして電波シールを行
なう構成にした事を特徴としている。 実施例の説明 以下、図面に基づき一実施例を説明する。 第9図は電波シール部の断面図、第10図は導
体板の斜視図、第11図は導体板の他の変形例斜
視図である。 第9図、第10図において、1は加熱室、2は
加熱室1の開口周辺部を覆うドアで、加熱室1の
本体金属板3に当接して開閉自在に装着されてい
る。4はドア2にスポツト溶接などで固定された
断面逆S字状の導体板で、ドア2の両側壁面との
間に2つの溝M1,M2を構成し、溝M1,M2開口
部幅b11,b21と短絡終端部幅b12,b2
2との寸法をb11,b21<b12,b22と
し、導線幅a11とa12との寸法関係をa11
>a12として、溝M1,M2の幅bと深さdを実
質的に使用波長の四分の一より小さくするととも
に、b11≒b12,b21≒b22として、第
1の溝M1および第2の溝M2のそれぞれの開口部
と短絡終端部の特性インピーダンスの比をほぼ等
しくして、二重に電波シールを行なう構成となつ
ている。5は溝M1,M2の開口部をカバーする溝
カバーである。又、ドア2の小型化により必然的
に溝M1,M2の開口部幅b11,b21の寸法が
小さくなり、この間での導体板4のスポツト溶接
などによるドア2への固定が困難になるため、導
体板4の導線幅a11との隙間c11を少くとも
5mm以上とることにより、この間でのスポツト溶
接などが可能となる。Pは導線幅方向のピツチで
ある。 第11図は第10図の導体板4の変形例の導体
板B6で、長さa13+長さ14≒長さa12になるよう
に寸法をとることにより、実質的に第10図の導
体板4と同じ効果を有するものである。 発明の効果 (1) 本質的に溝の深さを四分の一波長より小さく
でき、電波シール部の小型化ができる。 (2) 一つの導体板で、ほぼ同等のシール効果を有
する2つの電波シール溝を構成でき、二重シー
ルによる、より確実な電波シール効果が得られ
る。 (3) 極めて簡単な構成で著しいシール効果が得ら
れ、大巾なコスト低減ができる。 (4) 導線間の隙間を5mm以上とることにより、シ
ール部が小型化されても、導体板のスポツトな
どによる固定が容易にできる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図はチヨーク溝の従来例を示す要
部断面図、第3図は本発明の原理を説明するため
の平行線路を示す図、第4図は本発明の原理を説
明するための変形平行線路による溝の構成例を示
す一部断面斜視図、第5図a,b,c、第6図、
第7図、第8図は本発明の原理を説明するための
図、第9図は本発明の一実施例である高周波加熱
装置の電波シール部の断面図、第10図は第9図
の導体板の一部断面斜視図、第11図は第10図
の導体板の他の例を示す一部断面斜視図である。 1……加熱室、2……ドア、3……本体金属
板、4……導体板、5……溝カバー、6……導体
板B、M1,M2……溝、b11,b21……溝開
口部幅、b12,b22……溝短絡終端部幅、a
11……開口部導線幅、a12……短絡終端部導
線幅。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 本体の加熱室開口部を覆うドアを開閉自在に
    設け、前記本体とドアが対向する部分の少なくと
    も一方に溝開口部と短絡終端部を持つ第1の溝と
    第2の溝とを平行に設け、溝の長手方向に周期的
    に切込み部を有する導体板によつて上記第1の溝
    と第2の溝を分割する構成とし、第1の溝および
    第2の溝のそれぞれの溝開口部の溝幅が、短絡終
    端部の溝幅よりも小さく、溝開口部の導線幅が短
    絡終端部の導線幅よりも大きくなるように導体板
    で構成し、溝の幅と深さを実質的に使用波長の四
    分の一より小さくするとともに第1の溝および第
    2の溝のそれぞれの開口部と短絡終端部の特性イ
    ンピーダンスの比をほぼ等しくした電波シール構
    造を有する高周波加熱装置。 2 溝の長手方向に周期的に切込み部を有する導
    体板の切込み部の幅寸法を5mm以上に設け、前記
    切込み部でスポツト溶接或はカシメなどにより導
    体板をドアに固定する構成とした特許請求の範囲
    第1項記載の高周波加熱装置。
JP58105165A 1983-06-13 1983-06-13 高周波加熱装置 Granted JPS59230295A (ja)

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JP58105165A JPS59230295A (ja) 1983-06-13 1983-06-13 高周波加熱装置

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JPS59230295A JPS59230295A (ja) 1984-12-24
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JPH01311222A (ja) * 1988-06-09 1989-12-15 Chino Corp パルス発生装置

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JPH01311222A (ja) * 1988-06-09 1989-12-15 Chino Corp パルス発生装置

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