JPS6352578B2 - - Google Patents
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- JPS6352578B2 JPS6352578B2 JP58058943A JP5894383A JPS6352578B2 JP S6352578 B2 JPS6352578 B2 JP S6352578B2 JP 58058943 A JP58058943 A JP 58058943A JP 5894383 A JP5894383 A JP 5894383A JP S6352578 B2 JPS6352578 B2 JP S6352578B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は透明フイルムまたはシートに関し、詳
細には耐湿性、耐熱性、ヤング率および可撓性の
各項目共良好な性能を示す透明フイルムまたはシ
ートに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a transparent film or sheet, and more particularly to a transparent film or sheet that exhibits good performance in terms of moisture resistance, heat resistance, Young's modulus, and flexibility.
従来よりガラスを基板とするパネルが種々の装
置、機器に応用されているが、この様なパネルで
は、ガラスの機械的強度という制約がある為、現
在要望されている様なパネルの薄膜化には対応す
ることができず、又生産性向上にとつて不可欠の
連続生産(膜の長尺化)には不向きであるという
欠陥もある。この他衝撃に対する脆さが改めて指
摘されており、プラスチツクフイルム(又はシー
ト)を基板とするパネルに注目が集まつている。 Panels with glass as a substrate have traditionally been applied to various devices and equipment, but such panels are limited by the mechanical strength of the glass, so it is difficult to make the panels thinner as currently required. It also has the disadvantage that it is not suitable for continuous production (lengthening of membranes), which is essential for improving productivity. In addition, the vulnerability to impact has once again been pointed out, and panels using plastic films (or sheets) as substrates are attracting attention.
しかるにこの様なパネルを用いる場合には、新
たに下記の様な問題点があることが分つた。 However, when using such a panel, it has been found that the following new problems arise.
(1) パターン形成時に接触する有機薬品や、製品
段階で封入する液晶の影響を受けた場合、化学
的安定性が低いので劣化し易い。(1) Due to its low chemical stability, it easily deteriorates if it is affected by organic chemicals that come into contact with it during pattern formation or liquid crystal that is sealed in the product stage.
(2) 耐湿性が低い。(2) Low moisture resistance.
(3) 可撓性がなお不充分であり、また腰が無いの
でパネル組立て時の作業性が悪い。(3) Flexibility is still insufficient and there is no stiffness, so workability during panel assembly is poor.
(4) 薄膜化はできるものの、パネルの反り、曲
り、ギヤツプ不均一等の問題を生じ易い。(4) Although it is possible to make the film thinner, problems such as panel warping, bending, and uneven gaps are likely to occur.
(5) 偏光板の取り付けに当つて加熱により発泡し
易い粘着剤を用いるので、熱によつて気泡を発
生することがある。(5) When attaching the polarizing plate, an adhesive that easily foams when heated is used, so air bubbles may be generated by the heat.
(6) 耐熱寸法安定性が不充分である。(6) Insufficient heat resistance and dimensional stability.
本発明はこの様な問題点に着目しつつ、プラス
チツクフイルムを基板とすることによる効果を更
に顕著に発揮し得る様な技術の確立を目指してな
されたものであつて、たとえば液晶表示装置用パ
ネルの製造に当つて種々の態様で適応できる様な
透明フイルムまたはシートの提供を目的とするも
のである。 The present invention has been made with the aim of establishing a technology that can more significantly exhibit the effects of using a plastic film as a substrate, while paying attention to such problems. The object of the present invention is to provide a transparent film or sheet that can be applied in various ways in the production of.
即ち本発明の透明フイルムまたはシートとは、
熱変形温度が80℃以上の合成樹脂材で形成され、
レターデーシヨン値が30mμ以下であつて、かつ
熱変形温度が80℃以上である硬化皮膜で保護され
てなるものであり、以下各構成要素及び具体的実
施例を挙げて本発明の構成及び作用効果を明らか
にする。 That is, the transparent film or sheet of the present invention is
Made of synthetic resin material with a heat distortion temperature of 80℃ or higher,
It is protected by a cured film that has a retardation value of 30 mμ or less and a heat distortion temperature of 80°C or more.The structure and operation of the present invention will be described below with reference to each component and specific examples. Reveal the effects.
本発明のフイルム(又はシート)は耐熱寸法安
定性が優れていることが必要で熱変形温度が80℃
以上でなければならず、より好ましいのは130℃
以上である。即ち熱変形温度が80℃未満である
と、後の硬化皮膜の形成や、本発明フイルムを
種々に応用する際、たとえば導電層の形成や封止
剤処理段階で熱変形するので不都合である。又本
発明で用いる透明フイルムはレターデーシヨン値
(R値)が30mμ以下でなければならない。R値と
は、フイルムの厚さdと、該フイルムに対して垂
直方向の2つの屈析率の差の絶対値|n1−n2|と
の積で表わされる。 The film (or sheet) of the present invention must have excellent heat resistance and dimensional stability, with a heat distortion temperature of 80°C.
Must be above 130℃, more preferably 130℃
That's all. That is, if the thermal deformation temperature is less than 80°C, it is disadvantageous that the film will be thermally deformed during the subsequent formation of a cured film or various applications of the film of the present invention, such as during the formation of a conductive layer or the treatment with a sealant. Further, the transparent film used in the present invention must have a retardation value (R value) of 30 mμ or less. The R value is expressed as the product of the film thickness d and the absolute value |n 1 -n 2 | of the difference in two refractive indices in the direction perpendicular to the film.
R=d|n1−n2|
(但しn1は任意方向の屈折率、n2はn1方向と直
交する方向の屈折率)
このR値が30mμを越えると、パネルとしての
適正視角が狭くなると共に干渉縞が発生し、たと
えば液晶表示装置に応用した場合、その判読性が
低下する。 R = d | n 1 - n 2 | (where n 1 is the refractive index in any direction, n 2 is the refractive index in the direction orthogonal to the n 1 direction) If this R value exceeds 30 mμ, the appropriate viewing angle for the panel will be As the width becomes narrower, interference fringes occur, and when applied to, for example, a liquid crystal display device, the readability deteriorates.
この様な条件を満足するフイルムの素材となる
べき合成樹脂は非晶性のものであつて、結晶性が
あると部分的に結晶化して透明性が悪くなり、又
光学的異方性を生じてR値が高くなるという問題
に遭遇する。この様な条件を満足する樹脂は全て
本発明において利用できるが、本発明の用途を考
慮すると、先に述べた様な耐有機薬品性や耐液晶
性等の化学的安定性の優れたものであることが望
まれる。そこで本発明に利用できる合成樹脂とし
ては、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリアク
リロニトリル系樹脂、フエノキシエーテル型重合
体、フエノキシエーテル型架橋重合体、ポリフエ
ニレンオキサイド系樹脂、エポキシ系樹脂、セル
ロース系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン系共重合
体樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン
系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリアリ
ーレンエステル系樹脂等が例示されるが、本発明
において、好ましい合成樹脂は下記一般式で示さ
れるフエノキシエーテル型重合体またはフエノキ
シエーテル型架橋重合体である。 The synthetic resin that is the material for the film that satisfies these conditions is amorphous, and if it is crystalline, it will partially crystallize, resulting in poor transparency and optical anisotropy. The problem is that the R value becomes high. Any resin that satisfies these conditions can be used in the present invention, but considering the use of the present invention, resins that have excellent chemical stability such as organic chemical resistance and liquid crystal resistance as described above should be used. Something is desired. Therefore, the synthetic resins that can be used in the present invention include poly-4-methylpentene-1, polyacrylonitrile resin, phenoxy ether type polymer, phenoxy ether type crosslinked polymer, polyphenylene oxide type resin, and epoxy resin. Examples include cellulose resins, vinyl resins, styrene copolymer resins, polycarbonate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyarylene ester resins, etc., but in the present invention, preferred synthetic resins include The resin is a phenoxy ether type polymer or a phenoxy ether type crosslinked polymer represented by the following general formula.
(式中R1〜R6は、夫々水素又は炭素数1〜3
の低級アルキル基、R7は炭素数2乃至4の低級
アルキル基、mは0〜3の整数、nは20〜300の
整数を夫々意味する)
上記一般式において、R1〜R6で示される炭素
数1〜3の低級アルキル基としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル等の飽和低級アル
キルが例示され、R7で示される炭素数2乃至4
の低級アルキレン基としては、エチレン、プロピ
レン、トリメチレン、ブチレンが示される。上記
の如く示されるフエノキシエーテル型重合体はそ
れ自身公知の重合体で、一般式
(式中R1〜R7及びmは前と同じ意味)で示さ
れるビスフエノールA又はその類縁化合物に、エ
ピクロルヒドリンを縮合させて得られる。 (In the formula, R 1 to R 6 are each hydrogen or a carbon number of 1 to 3
R 7 is a lower alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, m is an integer of 0 to 3, and n is an integer of 20 to 300.) In the above general formula, R 1 to R 6 represent Examples of the lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms include saturated lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, and isopropyl, and the lower alkyl group having 2 to 4 carbon atoms represented by R 7
Examples of the lower alkylene group include ethylene, propylene, trimethylene, and butylene. The phenoxy ether type polymer shown above is a known polymer per se, and has the general formula It is obtained by condensing epichlorohydrin with bisphenol A or an analog thereof represented by the formula (wherein R 1 to R 7 and m have the same meanings as above).
上記のフエノキシエーテル型重合体は、そのま
まの化学構造を有する状態で本発明に適用しても
よいが、必要であればその活性水素部分、具体的
には水酸基の水素部分に多官性化合物を架橋反応
させた架橋重合体として本発明に利用してもよ
い。この様な多官性化合物としては、水酸基との
反応活性が高い基、例えばイソシアナト基、カル
ボキシ基、カルボキシ基における反応性誘導基
(例えばハライド、活性アミド、活性エステル、
酸無水物基等)、メルカプト基等を同一又は異な
つて2以上有する化合物、例えばトリレンジイソ
シアネート、m−フエニレンジイソシアネート、
P−フエニレンジイソシアネート、4,4′−ジフ
エニルメタンジイソシアネート等のポリイソシア
ネートおよびそれらの多価アルコール付加体;フ
エノールブロツクドトリレンジイソシアネート等
のブロツクドポリイソシアネート;アジピン酸、
酒石酸、セバシン酸、フタル酸等の多価カルボン
酸及びカルボキシ基における反応性誘導体;チオ
グリコール等のメルカプト置換有機カルボン酸;
等の他、エピクロルヒドリン、チオ硫酸ナトリウ
ム、メラミン−ホルムアルデヒド、フエノール樹
脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂等を用いること
もできる。 The above phenoxy ether type polymer may be applied to the present invention with its chemical structure as it is, but if necessary, the active hydrogen moiety, specifically the hydrogen moiety of the hydroxyl group, may be polyfunctionalized. It may be used in the present invention as a crosslinked polymer obtained by subjecting a compound to a crosslinking reaction. Such polyfunctional compounds include groups that have high reaction activity with hydroxyl groups, such as isocyanato groups, carboxy groups, and reactive derivative groups in carboxyl groups (such as halides, activated amides, active esters, etc.).
(acid anhydride group, etc.), mercapto group, etc., such as tolylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate,
Polyisocyanates such as P-phenylene diisocyanate and 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and their polyhydric alcohol adducts; blocked polyisocyanates such as phenol blocked tolylene diisocyanate; adipic acid,
Polycarboxylic acids and reactive derivatives at the carboxy group such as tartaric acid, sebacic acid, phthalic acid; mercapto-substituted organic carboxylic acids such as thioglycol;
In addition to the above, epichlorohydrin, sodium thiosulfate, melamine-formaldehyde, phenol resin, urea-formaldehyde resin, etc. can also be used.
これらの合成樹脂は、通常の湿式製膜法、乾式
製膜法、溶融製膜法によつてフイルム状又はシー
ト状に成形されるが、膜の光学的等方性を考慮す
ると、乾式製膜法が最適である。フイルムの厚み
は、通常5〜1000μ、好ましくは20〜200μであ
る。即ち5μ未満であると偏光素膜に対する積層
作業が困難になり、1000μを越えるとロール状に
巻取ることが困難であり、長尺化による生産性の
向上効果が得られず、無理にロール状に巻取る
と、製品パネルとした時にカール乃至反りを生じ
ることがある。 These synthetic resins are formed into films or sheets by the usual wet film forming method, dry film forming method, and melt film forming method, but considering the optical isotropy of the film, dry film forming law is optimal. The thickness of the film is usually 5-1000μ, preferably 20-200μ. In other words, if it is less than 5μ, it will be difficult to stack the polarizing element film, and if it exceeds 1000μ, it will be difficult to wind it into a roll, and the effect of improving productivity by making it longer will not be obtained, and it will be difficult to roll it. If it is rolled up too much, it may curl or warp when it is made into a product panel.
本発明においては、前記フイルムの少なくとも
片面に硬化性樹脂および/または単量体を塗布或
は含浸させた後で硬化させて、熱変形温度が80℃
以上である実質的に光学的等方性の複合膜形成す
る。これによつて耐有機薬品性や耐液晶性が得ら
れ、更に耐熱性、耐透湿性、導電層の密着性等の
諸性能が向上する。硬化性樹脂や単量体の種類、
重合開始剤、硬化触媒、上記フイルムへの塗布若
しくは含浸法、上記フイルムへの接着性改善処理
法、硬化方法、硬化被膜厚さ等については一切制
限されないが、本発明において前記硬化性樹脂お
よび/または単量体は、前記合成樹脂材の特性を
生かすため、熱変形温度が80℃以上である硬化皮
膜を形成し得るものでなければならず、たとえば
アクリル樹脂、前記一般式で示したようなフエノ
キシエーテル型架橋重合体、エポキシ樹脂、メラ
ミン樹脂、尿素樹脂、フエノール樹脂、ウレタン
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、又
好ましい硬化性単量体の例としては、分子中に少
なくとも3個以上のアクリロイルオキシ基また
は/およびメタアクリロイルオキシ基を含有する
化合物(以下、多官能(メタ)アクリロイルオキ
シ基含有化合物という)を主成分とする多官能不
飽和単量体または/およびその初期ラジカル反応
物を主成分とする組成物を示すことができる。特
に好ましいのは、分子中に少なくとも、3個以上
の(メタ)アクリロイルオキシ基を含有する多官
能不飽和単量体を、全不飽和単量体に対して50重
量%以上好ましくは70重量%、特に好ましくは90
重量%以上含有する、不飽和単量体混合物又は/
およびその初期ラジカル反応物から成る組成物で
ある。 In the present invention, at least one side of the film is coated with or impregnated with a curable resin and/or a monomer, and then cured so that the heat distortion temperature is 80°C.
Thus, a substantially optically isotropic composite film is formed. This provides organic chemical resistance and liquid crystal resistance, and further improves various performances such as heat resistance, moisture permeation resistance, and adhesion of the conductive layer. Types of curable resins and monomers,
There are no restrictions on the polymerization initiator, the curing catalyst, the coating or impregnating method on the film, the adhesion improvement treatment method on the film, the curing method, the thickness of the cured film, etc., but in the present invention, the curable resin and/or Alternatively, in order to take advantage of the characteristics of the synthetic resin material, the monomer must be able to form a cured film with a heat distortion temperature of 80°C or higher, such as acrylic resin, as shown in the general formula above, etc. Examples of preferred curable monomers include phenoxy ether type crosslinked polymers, epoxy resins, melamine resins, urea resins, phenol resins, urethane resins, and unsaturated polyester resins. A polyfunctional unsaturated monomer or/and its initial radical whose main component is a compound containing three or more acryloyloxy groups and/or methacryloyloxy groups (hereinafter referred to as polyfunctional (meth)acryloyloxy group-containing compound) It can refer to a composition based on a reactant. Particularly preferably, the polyfunctional unsaturated monomer containing at least three or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule is 50% by weight or more, preferably 70% by weight based on the total unsaturated monomers. , particularly preferably 90
Unsaturated monomer mixture containing at least % by weight or/
and its initial radical reactant.
分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキ
シ基を含有する多官能不飽和単量体としては、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、トリメチロールエタントリ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ(メタ)アクリレートなどを挙げること
ができる。これらと共に使用することができる不
飽和単量体としては、分子中に2個又は1個の
(メタ)アクリロイルオキシ基を有する不飽和単
量体やその他のビニル系単量体である。上記2官
能単量体としては、1分子中の各(メタ)アクリ
ロイルオキシ基間を結合する基が100個以上の炭
素原子を含有する炭化水素残基、ポリエーテル残
基またはポリエステル残基である単量体が好まし
い。例えばエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ポリエステルジオー
ルジ(メタ)アクリレートなどがある。上記1官
能単量体としては2−ヒドロキシメチル(メタ)
アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレー
ト、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エス
テルの第4級アンモニウム塩などを利用できる。
これらは、必要により溶媒に溶解し、また反応開
始剤や触媒あるいは紫外線吸収剤、その他の安定
剤、滑剤などとともに用いることもできる。塗布
または含浸方法は、通常行われているスプレー
法、グラビヤコート法、リバースコート法、キス
コート法、マイヤーバー法、エアナイフ法、デイ
ツプ法など任意の方法でよい。硬化方法は、加熱
(通常80〜200℃、10秒〜1時間)、活性光線照射
(通常波長200〜400mμの紫外線)その他の電磁線
照射(電子線、α線など)などが利用できる。該
硬化層は、本発明で用いる前記非晶性合成樹脂フ
イルムまたはシートの少なくとも片面に1μ以上
50μ以下、好ましくは2μ以上20μ以下で形成され、
該層は、非晶性合成樹脂層の内部に入り込んでい
てもよいし、非晶性合成樹脂層と化学的に結合し
ていてもよい。硬化層が1μ以下では充分な耐薬
品性、耐液晶性、耐透湿性、耐熱性を賦与できず
又50μを越えると、可撓性、接着性の点で好まし
くない。硬化後の複合膜は熱変形温度80℃以上で
R値は30mμである。これは以下の理由による。 Examples of polyfunctional unsaturated monomers containing three or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule include pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and trimethylolpropane tri(meth)acrylate. , trimethylolethane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and the like. Unsaturated monomers that can be used together with these include unsaturated monomers having two or one (meth)acryloyloxy groups in the molecule and other vinyl monomers. The above-mentioned bifunctional monomer is a hydrocarbon residue, a polyether residue, or a polyester residue in which the group bonding between each (meth)acryloyloxy group in one molecule contains 100 or more carbon atoms. Monomers are preferred. For example, ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate
Examples include acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polytetramethylene glycol di(meth)acrylate, and polyester diol di(meth)acrylate. The above monofunctional monomer is 2-hydroxymethyl (meth)
Acrylate, glycidyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid, quaternary ammonium salts of (meth)acrylic esters, etc. can be used.
These can be dissolved in a solvent if necessary, and can also be used together with a reaction initiator, catalyst, ultraviolet absorber, other stabilizers, lubricants, and the like. The coating or impregnation method may be any commonly used method such as spray method, gravure coating method, reverse coating method, kiss coating method, Meyer bar method, air knife method, dip method, etc. As a curing method, heating (usually 80 to 200°C, 10 seconds to 1 hour), actinic ray irradiation (usually ultraviolet rays with a wavelength of 200 to 400 mμ), and other electromagnetic ray irradiation (electron beam, alpha ray, etc.) can be used. The cured layer has a thickness of 1μ or more on at least one side of the amorphous synthetic resin film or sheet used in the present invention.
Formed with a thickness of 50μ or less, preferably 2μ or more and 20μ or less,
The layer may be embedded inside the amorphous synthetic resin layer or may be chemically bonded to the amorphous synthetic resin layer. If the cured layer has a thickness of less than 1μ, sufficient chemical resistance, liquid crystal resistance, moisture permeability, and heat resistance cannot be imparted, and if it exceeds 50μ, it is unfavorable in terms of flexibility and adhesiveness. After curing, the composite film has a heat distortion temperature of 80°C or higher and an R value of 30 mμ. This is due to the following reasons.
(1) 基材フイルムは熱変形温度が80℃以上の樹脂
を使用し硬化膜として同じく熱変形温度80℃以
上の樹脂層が形成されるように選定して複合膜
としたので80℃以上の特性を有する。(1) The composite film was made by using a resin with a heat distortion temperature of 80℃ or higher for the base film, and a resin layer with a heat distortion temperature of 80℃ or higher was selected as a cured film. have characteristics.
(2) 硬化層の形成は光学的等方性を考慮して溶剤
を使用し、乾式成膜コートを行う(溶融成膜の
場合、溶融配向が生じないよう考慮)のでR値
は高まらない。(2) The cured layer is formed by dry coating using a solvent in consideration of optical isotropy (in the case of melt-forming, consideration is given to avoid melt orientation), so the R value does not increase.
かかる構成よりなる本発明透明フイルムまたは
シートは時計、電卓等のデイスプレイ、光量調整
装置、光学シヤツターグラフイツクデイスプレイ
等におけるパネル材料として利用でき、液晶表示
装置以外の用途として、電場発光体用電極、光導
電性感光体用電極、面発熱体として航空機、電
車、自動車等の窓貼り、また光選択透過性膜とし
て、太陽エネルギー集熱機、グリーンハウス、建
築物の窓貼り等に利用できる。さらに液晶表示パ
ネルに使用すると以下要約するような特長を享受
することができる。 The transparent film or sheet of the present invention having such a structure can be used as a panel material for displays such as watches and calculators, light amount adjustment devices, optical shutter graphic displays, etc. In addition to liquid crystal display devices, the transparent film or sheet of the present invention can be used as an electrode for electroluminescent material, It can be used as an electrode for a photoconductive photoreceptor, as a surface heating element for attaching windows to aircraft, trains, automobiles, etc., and as a selectively permeable film for attaching windows to solar energy collectors, greenhouses, buildings, etc. Furthermore, when used in a liquid crystal display panel, the following features can be enjoyed.
(1) 耐熱性を発揮すると共に薄膜化が可能であ
り、液晶表示装置用パネルとして組み立てた後
で熱の影響を受けても気泡の発生やデラミネー
シヨン事故は起こさない。(1) It exhibits heat resistance and can be made into a thin film, and does not cause bubbles or delamination accidents even if it is affected by heat after being assembled as a panel for a liquid crystal display device.
(2) 耐液晶性、耐有機薬品性、耐湿性、耐熱性、
耐光性等が向上した。(2) Liquid crystal resistance, organic chemical resistance, moisture resistance, heat resistance,
Improved light resistance.
(3) パネルの超薄膜化が可能となり、視角の拡
大、表示の鮮明化、軽量化が達成され、更に大
型表示パネルの製造も可能になつた。(3) It has become possible to make panels ultra-thin, resulting in wider viewing angles, clearer displays, and lighter weight, and it has also become possible to manufacture larger display panels.
尚R値の測定に当つては、偏光顕微鏡を備えた
セナルモンコンペンセーター(日本地科学社製)
を用い、ナトリウムランプを光源とした。 When measuring the R value, use a Senarmont compensator (manufactured by Nippon Geikagaku Co., Ltd.) equipped with a polarizing microscope.
was used, and a sodium lamp was used as the light source.
次に本発明の実施例を示す。 Next, examples of the present invention will be shown.
実施例 1
ジメチルホルムアミド(100部)に下記構造式
のポリスルホン樹脂〔日産化学工業(株)社製:10
部〕
を加え、80℃に加熱撹拌して溶解した。この溶液
をガラス板上に流延し90℃の雰囲気中に約5時間
静置し厚さ83μの均一な透明フイルムを得た。こ
のフイルムの熱変形温度は175℃でありR値は
6mμであつた。一方、メチルエチルケトン(50
部)、セルソルブアセテート(50部)の混合溶液
にフエノキシ樹脂(ユニオン・カーバイド株製
Bakelite phenoxy Resin:40部)を加え撹拌溶
解したのち、ポリイソシアネート樹脂溶液(日本
ポリウレタン社製、コロネートL:酢酸エチル溶
液固形分70%,50部)を加え、撹拌溶解した。こ
の溶液を前記のポリスルホンフイルムの両面に厚
さ20μ塗布し、70℃の雰囲気で約1時間乾燥した
のち150℃で30分間熱処理して厚さ98μの透明フ
イルムを得た。得られたフイルムの熱変形温度は
175℃、R値は8mμ、可視光線透過率は87%であ
り、トルエン、シクロヘキサノンなどの有機薬品
に安定で可撓性に優れていた。Example 1 Polysulfone resin having the following structural formula [manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.: 10] was added to dimethylformamide (100 parts).
Department] was added and stirred while heating to 80°C to dissolve. This solution was cast onto a glass plate and allowed to stand in an atmosphere at 90°C for about 5 hours to obtain a uniform transparent film with a thickness of 83μ. The heat distortion temperature of this film is 175℃, and the R value is
It was 6 mμ. On the other hand, methyl ethyl ketone (50
phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) in a mixed solution of Cellsolve Acetate (50 parts) and Cellsolve Acetate (50 parts).
Bakelite phenoxy resin (40 parts) was added and dissolved with stirring, and then a polyisocyanate resin solution (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L: ethyl acetate solution solid content 70%, 50 parts) was added and dissolved with stirring. This solution was applied to a thickness of 20 μm on both sides of the polysulfone film, dried in an atmosphere of 70° C. for about 1 hour, and then heat-treated at 150° C. for 30 minutes to obtain a transparent film with a thickness of 98 μm. The heat distortion temperature of the obtained film is
At 175°C, the R value was 8 mμ, the visible light transmittance was 87%, and it was stable against organic chemicals such as toluene and cyclohexanone and had excellent flexibility.
実施例 2
1,1,2,2テトラクロルエタン(120部)
に下記構造式のポリアリレート樹脂〔ユニチカ(株)
Uポリマー:15部〕
を加え100℃に加熱撹拌して溶解した。この溶液
をガラス板上に流延し90℃の雰囲気に約6時間静
置し厚さ90μの均一な透明フイルム(Uポリマー
フイルム)を得た。Example 2 1,1,2,2 tetrachloroethane (120 parts)
Polyarylate resin with the following structural formula [Unitika Co., Ltd.]
U polymer: 15 parts] was added and stirred while heating to 100°C to dissolve. This solution was cast onto a glass plate and allowed to stand in an atmosphere at 90°C for about 6 hours to obtain a uniform transparent film (U polymer film) with a thickness of 90μ.
このフイルムの熱変形温度は170℃でありR値
は2mμであつた。 The heat distortion temperature of this film was 170°C and the R value was 2 mμ.
衝撃強度:21Kg・cm/cm
引張強度:740Kg/cm2
一方、メチルエチルケトン(60部)、セルソル
ブアセテート(40部)の混合液にフエノキシ樹脂
(ユニオン・カーバイド社製、Bakelite phenoxy
Resin:35部)を加え、撹拌溶解したのちポリイ
ソシアネート樹脂溶液(日本ポリウレタン社製、
コロネートL:酢酸エチル溶液、固形分70%、40
部)を加え撹拌溶解した。この溶液を前記のUポ
リマーフイルム(厚さ90μ)の片面に厚さ16μ塗
布し70℃の雰囲気で約2時間乾燥した後160℃、
20分間熱処理して95μの透明フイルムを得た。得
られたフイルムの熱変形温度は170℃、R値は
2mμ、可視光線透過率は89%衝撃強度は21Kg・
cm/cm、引張強度は740Kg/cm2で、トルエン、シ
クロヘキサノンに安定な腰のあるフイルムを得
た。 Impact strength: 21Kg・cm/cm Tensile strength: 740Kg/cm 2 Meanwhile, phenoxy resin (manufactured by Union Carbide, Bakelite phenoxy) was added to a mixture of methyl ethyl ketone (60 parts) and cellusolve acetate (40 parts).
Resin: 35 parts) and stir to dissolve, then polyisocyanate resin solution (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.,
Coronate L: Ethyl acetate solution, solid content 70%, 40
part) was added and dissolved with stirring. This solution was applied to a thickness of 16 μm on one side of the above-mentioned U polymer film (90 μm thick), dried in an atmosphere of 70°C for about 2 hours, and then heated at 160°C.
A 95μ transparent film was obtained by heat treatment for 20 minutes. The heat distortion temperature of the obtained film was 170℃, and the R value was
2mμ, visible light transmittance is 89%, impact strength is 21Kg.
cm/cm, the tensile strength was 740 Kg/ cm2 , and a firm film was obtained that was stable in toluene and cyclohexanone.
実施例 3
UCC社製ポリスルホン樹脂(ユーデル)20
gを1,1,2,2−テトラクロルエタン100ml
に添加し、80℃に加温撹拌して溶液を得た。この
溶液をガラス板上に流延し、80〜100℃にて乾燥
させて120μの透明フイルムを得た。該フイルム
の光学等方性を測定したところ、R値は5mμ、熱
変形温度173℃であつた。一方ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート40部、メチルセロソルブ
60部、ベンゾインエチルエーテル0.02部を入れ均
一溶液にした。この溶液の粘度は4CPSであつた。
この系を窒素雰囲気とし激しく撹拌しながら
400W高圧水銀灯で紫外線を1分間照射しその後
撹拌を18分間続けた後空気を導入して反応を停止
した。このときの溶液の粘度は10CPSであつた。
次にこの溶液にベンゾイルパーオキサイドをペン
タエリスリトールテトラアクリレートに対し3重
量%加えてコーテイング用組成物を調製した。Example 3 Polysulfone resin (Udel) 20 manufactured by UCC
g to 100ml of 1,1,2,2-tetrachloroethane
and stirred while heating to 80°C to obtain a solution. This solution was cast onto a glass plate and dried at 80 to 100°C to obtain a 120μ transparent film. When the optical isotropy of the film was measured, the R value was 5 mμ and the heat distortion temperature was 173°C. Meanwhile, 40 parts of pentaerythritol tetraacrylate, methyl cellosolve
60 parts and 0.02 part of benzoin ethyl ether were added to make a homogeneous solution. The viscosity of this solution was 4CPS.
The system is placed in a nitrogen atmosphere and is stirred vigorously.
Ultraviolet rays were irradiated for 1 minute using a 400W high-pressure mercury lamp, and stirring was continued for 18 minutes, after which air was introduced to stop the reaction. The viscosity of the solution at this time was 10 CPS.
Next, 3% by weight of benzoyl peroxide based on pentaerythritol tetraacrylate was added to this solution to prepare a coating composition.
このように調製したコーテイング用組成物溶液
を上記のポリスルホンフイルムにアプリケーター
で塗布(10μ)したのち、乾燥後130℃で7分間
熱処理して、目的の表面硬化ポリスルホンフイル
ムを得た。得られたフイルムの物性は熱変形温度
が174℃、R値が5mμ、光線透過率が82%で、ト
ルエン、シクロヘキノンなどの有機溶剤に安定で
あつた。 The coating composition solution prepared in this manner was applied (10μ) onto the above polysulfone film using an applicator, dried and then heat treated at 130°C for 7 minutes to obtain the desired surface-cured polysulfone film. The physical properties of the obtained film were a heat distortion temperature of 174°C, an R value of 5 mμ, a light transmittance of 82%, and it was stable in organic solvents such as toluene and cyclohexquinone.
実施例 4
溶融成膜したポリエーテルスルホンフイルム
(厚さ:80μ、レターデーシヨン値:12mμ)の片
面に下記表面硬化剤溶液をアプリケーターで塗布
(15μ)・乾燥後、130℃で7分間熱処理して表面
硬化ポリエーテルスルホンフイルムを得た。Example 4 The following surface hardening agent solution was applied to one side of a melt-formed polyether sulfone film (thickness: 80μ, retardation value: 12mμ) using an applicator (15μ), and after drying, it was heat-treated at 130°C for 7 minutes. A surface-cured polyether sulfone film was obtained.
ペンタエリスリトールテトラアクリレート
40重量部
ベンゾインエチルエーテル 0.02重量部
メチルセロソルブ 60重量部
ベンゾイルパーオキサイド 15重量部
得られたフイルムの熱変形温度は160℃、R値
は15mμ、平均可視光線透過率は85%、アイゾツ
ト衝撃強度は3.5Kg・cm/cm、臨界曲げ破壊巾は
3mm化学薬品による膨潤度0.1%であり、光学的
に等方性で腰があり、化学安定性および可撓性に
優れていた。 Pentaerythritol tetraacrylate
40 parts by weight Benzoin ethyl ether 0.02 parts by weight Methyl cellosolve 60 parts by weight Benzoyl peroxide 15 parts by weight The heat distortion temperature of the obtained film was 160°C, the R value was 15 mμ, the average visible light transmittance was 85%, and the Izot impact strength was It had a critical bending width of 3.5 kg/cm/cm, a swelling degree of 0.1% due to chemicals, and was optically isotropic and stiff, with excellent chemical stability and flexibility.
実施例 5
ICI社製ポリエーテルスルホン15gを塩化メチ
レン/クロロホルム(50/50重量比)混合液120
mlに溶解し、ガラス板上に流延後乾燥してフイル
ム厚100μの透明フイルムを得た。該フイルムの
光学的等方性を測定したところ、R値は2mμ、熱
変形温度は170℃であつた。一方イソブタノール
22.5部と水0.202部を100mlのビーカーに入れ、均
一に混合した。これに、N−(トリメトキシシリ
ルプロピル)エチレンジアミン1.25部を撹拌しな
がら徐々に添加し、溶解した。ついで、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン1.25部を撹
拌しながら徐々に添加し、溶液全体が均一となつ
たところで撹拌を停止し、これを栓つきガラス容
器に移し、密栓し、50℃で一昼夜熟成し、室温に
冷却後、ジプロピレングリコールモノメチルエー
テル6mlで全体を稀釈し、コーテイング用組成物
を調製した。Example 5 15 g of polyether sulfone manufactured by ICI was mixed with 120 g of methylene chloride/chloroform (50/50 weight ratio) mixture.
ml, cast on a glass plate, and dried to obtain a transparent film with a film thickness of 100 μm. When the optical isotropy of the film was measured, the R value was 2 mμ and the heat distortion temperature was 170°C. On the other hand, isobutanol
22.5 parts and 0.202 parts of water were placed in a 100 ml beaker and mixed uniformly. To this, 1.25 parts of N-(trimethoxysilylpropyl)ethylenediamine was gradually added and dissolved with stirring. Next, 1.25 parts of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was gradually added while stirring. Stirring was stopped when the entire solution became homogeneous, and the container was transferred to a glass container with a stopper, tightly sealed, and heated at 50°C. After aging for a day and night and cooling to room temperature, the whole was diluted with 6 ml of dipropylene glycol monomethyl ether to prepare a coating composition.
このようにして調製したコーテイング組成物溶
液を上記のポリエーテルスルホンフイルムにアプ
リケーターで塗布乾燥したのち、135℃で30分間
熱処理して、コート層4μの表面硬化ポリエーテ
ルスルホンフイルムを得た。このフイルムは透過
率が87%、R値は2mμで光学的等方性であり、耐
薬品性、耐液晶性の良好な膜であつた。 The thus prepared coating composition solution was applied to the above polyether sulfone film using an applicator and dried, followed by heat treatment at 135°C for 30 minutes to obtain a surface hardened polyether sulfone film with a coating layer of 4 μm. This film had a transmittance of 87%, an R value of 2 mμ, was optically isotropic, and had good chemical resistance and liquid crystal resistance.
実施例 6
ヘキサキスメトキシメチロールメラミン84.8部
と、1,4−ブタンジオール52.5部とを反応させ
てプレポリマーとし、更にエチレングリコール
1.38部を加え、13部のエチルセロソルブに溶解し
た。触媒としてパラトルエンスルホン酸3.9部を
加え、硬化液を調製した。該硬化液を溶融製膜し
たポリエーテルスルホンフイルム(フイルム厚さ
180μ、R値12mμ)に塗布乾燥後、130℃×10分の
熱処理を施し、5μの硬化層を形成し光学的等方
性、耐熱性、耐薬品性、耐液晶性の良い透明フイ
ルムを得た。Example 6 84.8 parts of hexakismethoxymethylolmelamine and 52.5 parts of 1,4-butanediol were reacted to form a prepolymer, and further ethylene glycol
1.38 parts were added and dissolved in 13 parts of ethyl cellosolve. A curing liquid was prepared by adding 3.9 parts of para-toluenesulfonic acid as a catalyst. A polyether sulfone film (film thickness:
180μ, R value 12mμ) After coating and drying, heat treatment was performed at 130℃ for 10 minutes to form a hardened layer of 5μ to obtain a transparent film with good optical isotropy, heat resistance, chemical resistance, and liquid crystal resistance. Ta.
実施例 7
ユニオンカーバイド社フエノキシ樹脂
(Bakelite)12gをジオキサン50mlに溶解した
のち、室温に冷却してトリレンジイソシアナート
2gとメチルエチルケトン50mlを添加撹拌して均
一溶液を得た。この溶液をポリエステルフイルム
上に流延して乾燥後、120℃、10分間熱処理して
フイルム厚さ150μの透明フイルムを得た。該フ
イルムの光学的等方性を測定したところ、R値は
4mμであつた。次いで該フイルムを実施例3と同
様にして硬化層を形成し、耐熱性、耐薬品性、耐
液晶性のよい透明フイルムを得た。Example 7 12 g of Union Carbide phenoxy resin (Bakelite) was dissolved in 50 ml of dioxane, then cooled to room temperature, and 2 g of tolylene diisocyanate and 50 ml of methyl ethyl ketone were added and stirred to obtain a homogeneous solution. This solution was cast onto a polyester film, dried, and then heat-treated at 120° C. for 10 minutes to obtain a transparent film with a thickness of 150 μm. When the optical isotropy of the film was measured, the R value was
It was 4 mμ. Next, a cured layer was formed on the film in the same manner as in Example 3 to obtain a transparent film with good heat resistance, chemical resistance, and liquid crystal resistance.
実施例 8
乾式法により流延成膜したポリアクリロニトリ
ルフイルム(フイルム厚さ150μ、R値は3mμ)を
用い、実施例3と同様にして透明フイルムを得
た。Example 8 A transparent film was obtained in the same manner as in Example 3 using a polyacrylonitrile film (film thickness 150μ, R value 3mμ) cast by dry method.
実施例 9
1,1,2,2テトラクロルエタン(120部)
にポリアリレート樹脂〔ユニチカ(株)Uポリマー:
15部〕を加え100℃に加熱撹拌して溶解した。こ
の溶液をガラス板上に流延し90℃の雰囲気に約6
時間静置し厚さ90μの均一な透明フイルム(Uポ
リマーフイルム)を得た。このフイルムの熱変形
温度は170℃でありR値は2mμであつた。Example 9 1,1,2,2 tetrachloroethane (120 parts)
Polyarylate resin [Unitika Co., Ltd. U Polymer:
15 parts] and heated to 100°C with stirring to dissolve. This solution was cast onto a glass plate and placed in an atmosphere of 90℃ for about 6 hours.
A uniform transparent film (U polymer film) with a thickness of 90 μm was obtained by allowing it to stand for a period of time. The heat distortion temperature of this film was 170°C, and the R value was 2 mμ.
衝撃強度:21Kg・cm/cm
引張強度:740Kg/cm2
一方ペンタエリスリトールテトラアクリレート
40部、メチルセロソルブ60部、ベンゾインエチル
エーテル0.02部を入れ均一溶液にした。この溶液
の粘度は4CPSであつた。この系を窒素雰囲気と
し激しく撹拌しながら400W高圧水銀灯で紫外線
を1分間照射しその後撹拌を18分間続けた後空気
を導入して反応を停止した。このときの溶液の粘
度は10CPSであつた。次にこの溶液にベンゾイル
パーオキサイドをペンタエリスリトールテトラア
クリレートに対し3重量%加えてコーテイング用
組成物を調製した。 Impact strength: 21Kg/cm/cm Tensile strength: 740Kg/cm 2 Pentaerythritol tetraacrylate
40 parts of methyl cellosolve, and 0.02 parts of benzoin ethyl ether were added to make a homogeneous solution. The viscosity of this solution was 4CPS. The system was placed in a nitrogen atmosphere, and ultraviolet rays were irradiated with a 400W high-pressure mercury lamp for 1 minute while stirring vigorously. After stirring was continued for 18 minutes, air was introduced to stop the reaction. The viscosity of the solution at this time was 10 CPS. Next, 3% by weight of benzoyl peroxide based on pentaerythritol tetraacrylate was added to this solution to prepare a coating composition.
この様に調製したコーテイング用組成物溶液を
上記のUポリマーフイルムにアプリケーターで塗
布(10μ)したのち、乾燥後130℃で7分間熱処
理し、熱変形温度170℃、R値2mμの表面硬化U
ポリマーフイルムを得た。 The coating composition solution prepared in this manner was applied (10μ) onto the above U polymer film using an applicator, and after drying, it was heat-treated at 130°C for 7 minutes to cure the surface of U with a heat distortion temperature of 170°C and an R value of 2mμ.
A polymer film was obtained.
Claims (1)
れ、レターデーシヨン値が30mμ以下であつて、
かつ熱変形温度が80℃以上の硬化皮膜で保護され
ていることを特徴とする透明フイルムまたはシー
ト。1 Made of synthetic resin material with a heat distortion temperature of 80℃ or higher, and a retardation value of 30mμ or lower,
A transparent film or sheet that is protected by a cured film with a heat distortion temperature of 80°C or higher.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58058943A JPS58212938A (en) | 1983-04-04 | 1983-04-04 | Transparent film or sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58058943A JPS58212938A (en) | 1983-04-04 | 1983-04-04 | Transparent film or sheet |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58212938A JPS58212938A (en) | 1983-12-10 |
| JPS6352578B2 true JPS6352578B2 (en) | 1988-10-19 |
Family
ID=13098908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58058943A Granted JPS58212938A (en) | 1983-04-04 | 1983-04-04 | Transparent film or sheet |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58212938A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100692695B1 (en) * | 2004-11-30 | 2007-03-14 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | LCD Display |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5216586A (en) * | 1975-07-30 | 1977-02-07 | Daicel Chem Ind Ltd | Surface-treated product of plastics and its preparation |
| JPS6050835B2 (en) * | 1976-03-03 | 1985-11-11 | 三菱レイヨン株式会社 | Crosslinked curable coating composition |
| JPS5921338B2 (en) * | 1976-11-11 | 1984-05-19 | 日本ペイント株式会社 | Manufacturing method of vacuum deposited product |
| JPS6057572B2 (en) * | 1978-07-24 | 1985-12-16 | 帝人株式会社 | liquid crystal display |
-
1983
- 1983-04-04 JP JP58058943A patent/JPS58212938A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58212938A (en) | 1983-12-10 |
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