JPS6357855B2 - - Google Patents
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- JPS6357855B2 JPS6357855B2 JP9570680A JP9570680A JPS6357855B2 JP S6357855 B2 JPS6357855 B2 JP S6357855B2 JP 9570680 A JP9570680 A JP 9570680A JP 9570680 A JP9570680 A JP 9570680A JP S6357855 B2 JPS6357855 B2 JP S6357855B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
本発明は磁気記録媒体、特に金属または合金磁
性薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体に関す
る。 磁気記録媒体用として強磁性薄膜が有効であ
り、旧来より注目されている。この薄膜の磁気特
性をよくするために、ベース面に対して斜めに蒸
着するいわゆる斜め蒸着により長さ方向の保磁力
を向上させることが知られている（特公昭41−
19389）。この方法は、高保磁力化には有効である
が、ポリエチレンテレフタレートのベースのよう
に、基板を十分加熱できないような場合には製造
工程上、付着面積（強磁性金属粒子がベース上に
接着した面積）を大きくできないこともあつて、
薄膜の密度が大きくできず、接着強度の弱さに代
表される膜構造の欠陥があることが大きな欠点と
なり、実用に支障のあることがわかつた。 一方、入射角（ベース面に立てた法線から測つ
た入射粒子の角度）を小さくして作成した薄膜
は、厚み方向に柱状の長さ方向が向くため、形状
異方性から期待される保磁力は、テープ長さ方向
に有効にならないことがわかつた。しかしこの膜
は前に蒸着された粒子により下地や蒸着層の一部
が蒸発源から見て影になるいわゆるシヤドウイン
グによる影の部分が少なくなるので、構造的には
安定した強度のある膜が得られる特長がある。斜
め蒸着した磁性薄膜は、上述のように構造的に弱
いものであるから、その表面に何らかの保護膜を
付着させることによりその欠点を補なう試みもな
されている。しかしこの方法では製造工程が増え
るばかりでなく磁気的な影響も考慮しなければな
らないので、実用性には問題が残る。 これに対し本発明者らは斜め蒸着とそれにつづ
く垂直に近い蒸着とを行なうことにより、磁気特
性、付着強度共に優れた強磁性薄膜を得るにいた
つた。本発明によつて得られる薄膜の概要は第１
図に示される。図示のように基板１に１層目の強
磁性層２を第２図に示すように入射角７が45゜以
上の斜め蒸着によつて形成し、次いで２層目の強
磁性層３を１層目より低い入射角（30゜以下）で
形成したもので構成される。２及び３の強磁性層
の厚さは特に限定する必要はなく、磁性特性等を
考慮して決定することができる。 本発明のメカニズムを検討すると、斜め蒸着し
た第１の層ではシヤドウイングにより密度が小さ
くなり、いわゆる“すき間だらけ”の構造にな
る。そこへ低入射角で粒子が飛来してそのすき間
へ入りこむことになる。そのようにして全体の膜
として強い構造を持つようになると理解される。 以下に実施例を示し、本発明の効果について具
体的に説明する。 実施例 １ 第３図は本実施例の実験に用いた真空蒸着装置
蒸着部の概略図である。図示の全系は図示しない
真空槽内に収容されており、磁気記録媒体のベー
スまたはテープ状の基板となるポリエチレンテレ
フタレートのベースＢは、送り出しロール８に巻
かれており、そこからガイドローラ１１の周り、
次いで時計方向に回転している大径回転ドラム１
０の周面、ガイドローラ１１を経て、巻取りロー
ル９へ巻取られるようになつている。冷水を通し
た回転ドラム１０の下面側即ちベースＢが通過す
る側の下方には、蒸着すべきコバルトとニツケル
の重量比４：１の合金Ｍを収めた外部が熱される
試料るつぼ１５が配置され、また回転ドラム１０
とるつぼ１５との間にはマスク１４が介在され
る。マスクには細長いスリツト（ベースＢの幅方
向に延びる）ａ，ｂが形成されており、スリツト
ａは図の１２の位置へ入射角70度で合金蒸気を差
向け、一方スリツトｂは図の１３の位置へ20度の
角度で合金蒸気を差向けるように定められてい
る。この図で回転ドラム１０の直径は25cm、そし
て点１２はるつぼ１５から30cmの高さのところに
あつた。上記の系を運転してベースＢを矢印の方
向へ40cm／分の速度で走行させ、一方１２の部分
で蒸着速さ2000Å／分となるように蒸発源１５を
電子線で加熱した。また系の圧力は５×105Torr
であつた。このような条件のもとで、２つのスリ
ツトａ，ｂのうち、ｂを閉じて作つたサンプルを
サンプル１、２つのスリツトを開いて作成したサ
ンプルをサンプル２とする。この両者の違いを表
１に示したが、磁気特性のうち保磁力Hcと角形
比φr／φｍに大きな差はないが、接着強度がサ
ンプル２では大幅に改善されているのがわかる。 実施例 ２ 第４図は本実施例の実験に用いた真空蒸着装置
の概略図である。真空槽は図示されていない。磁
気記録体のベース即ちテープ状基板となるポリエ
チレンテレフタレートのベースＢは、送り出しロ
ール１７、ガイドローラ１９，１９を経て巻取り
ロール１８へと巻取られるようになつており、ま
た実施例１で述べたと同様なスリツトａ，ｂを有
するマスク２２及び実施例１と同様な磁性合金Ｍ
を収容したるつぼ２３を配置している。ロール１
７，１８、ガイドローラ１９，１９の位置関係を
調整すると共に、マスク２２の位置を調整するこ
とにより、合金蒸気が２０のところでベースＢの
面に80度の入射角で被着し、２１のところで20度
の入射角で被着するように定めた。上記の系を実
施例１と同じベース駆動速さ、蒸着速度、圧力で
作動させて磁気記録媒体を作成した。このとき、
スリツトｂを閉じて作成したサンプル３と、ａ，
ｂ共に開いて作成したサンプル４の違いが同じく
表１に示されている。この場合にも、磁気特性を
損うことなく接着強度に著しい改善が見られ、本
発明の効果が確認された。
性薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体に関す
る。 磁気記録媒体用として強磁性薄膜が有効であ
り、旧来より注目されている。この薄膜の磁気特
性をよくするために、ベース面に対して斜めに蒸
着するいわゆる斜め蒸着により長さ方向の保磁力
を向上させることが知られている（特公昭41−
19389）。この方法は、高保磁力化には有効である
が、ポリエチレンテレフタレートのベースのよう
に、基板を十分加熱できないような場合には製造
工程上、付着面積（強磁性金属粒子がベース上に
接着した面積）を大きくできないこともあつて、
薄膜の密度が大きくできず、接着強度の弱さに代
表される膜構造の欠陥があることが大きな欠点と
なり、実用に支障のあることがわかつた。 一方、入射角（ベース面に立てた法線から測つ
た入射粒子の角度）を小さくして作成した薄膜
は、厚み方向に柱状の長さ方向が向くため、形状
異方性から期待される保磁力は、テープ長さ方向
に有効にならないことがわかつた。しかしこの膜
は前に蒸着された粒子により下地や蒸着層の一部
が蒸発源から見て影になるいわゆるシヤドウイン
グによる影の部分が少なくなるので、構造的には
安定した強度のある膜が得られる特長がある。斜
め蒸着した磁性薄膜は、上述のように構造的に弱
いものであるから、その表面に何らかの保護膜を
付着させることによりその欠点を補なう試みもな
されている。しかしこの方法では製造工程が増え
るばかりでなく磁気的な影響も考慮しなければな
らないので、実用性には問題が残る。 これに対し本発明者らは斜め蒸着とそれにつづ
く垂直に近い蒸着とを行なうことにより、磁気特
性、付着強度共に優れた強磁性薄膜を得るにいた
つた。本発明によつて得られる薄膜の概要は第１
図に示される。図示のように基板１に１層目の強
磁性層２を第２図に示すように入射角７が45゜以
上の斜め蒸着によつて形成し、次いで２層目の強
磁性層３を１層目より低い入射角（30゜以下）で
形成したもので構成される。２及び３の強磁性層
の厚さは特に限定する必要はなく、磁性特性等を
考慮して決定することができる。 本発明のメカニズムを検討すると、斜め蒸着し
た第１の層ではシヤドウイングにより密度が小さ
くなり、いわゆる“すき間だらけ”の構造にな
る。そこへ低入射角で粒子が飛来してそのすき間
へ入りこむことになる。そのようにして全体の膜
として強い構造を持つようになると理解される。 以下に実施例を示し、本発明の効果について具
体的に説明する。 実施例 １ 第３図は本実施例の実験に用いた真空蒸着装置
蒸着部の概略図である。図示の全系は図示しない
真空槽内に収容されており、磁気記録媒体のベー
スまたはテープ状の基板となるポリエチレンテレ
フタレートのベースＢは、送り出しロール８に巻
かれており、そこからガイドローラ１１の周り、
次いで時計方向に回転している大径回転ドラム１
０の周面、ガイドローラ１１を経て、巻取りロー
ル９へ巻取られるようになつている。冷水を通し
た回転ドラム１０の下面側即ちベースＢが通過す
る側の下方には、蒸着すべきコバルトとニツケル
の重量比４：１の合金Ｍを収めた外部が熱される
試料るつぼ１５が配置され、また回転ドラム１０
とるつぼ１５との間にはマスク１４が介在され
る。マスクには細長いスリツト（ベースＢの幅方
向に延びる）ａ，ｂが形成されており、スリツト
ａは図の１２の位置へ入射角70度で合金蒸気を差
向け、一方スリツトｂは図の１３の位置へ20度の
角度で合金蒸気を差向けるように定められてい
る。この図で回転ドラム１０の直径は25cm、そし
て点１２はるつぼ１５から30cmの高さのところに
あつた。上記の系を運転してベースＢを矢印の方
向へ40cm／分の速度で走行させ、一方１２の部分
で蒸着速さ2000Å／分となるように蒸発源１５を
電子線で加熱した。また系の圧力は５×105Torr
であつた。このような条件のもとで、２つのスリ
ツトａ，ｂのうち、ｂを閉じて作つたサンプルを
サンプル１、２つのスリツトを開いて作成したサ
ンプルをサンプル２とする。この両者の違いを表
１に示したが、磁気特性のうち保磁力Hcと角形
比φr／φｍに大きな差はないが、接着強度がサ
ンプル２では大幅に改善されているのがわかる。 実施例 ２ 第４図は本実施例の実験に用いた真空蒸着装置
の概略図である。真空槽は図示されていない。磁
気記録体のベース即ちテープ状基板となるポリエ
チレンテレフタレートのベースＢは、送り出しロ
ール１７、ガイドローラ１９，１９を経て巻取り
ロール１８へと巻取られるようになつており、ま
た実施例１で述べたと同様なスリツトａ，ｂを有
するマスク２２及び実施例１と同様な磁性合金Ｍ
を収容したるつぼ２３を配置している。ロール１
７，１８、ガイドローラ１９，１９の位置関係を
調整すると共に、マスク２２の位置を調整するこ
とにより、合金蒸気が２０のところでベースＢの
面に80度の入射角で被着し、２１のところで20度
の入射角で被着するように定めた。上記の系を実
施例１と同じベース駆動速さ、蒸着速度、圧力で
作動させて磁気記録媒体を作成した。このとき、
スリツトｂを閉じて作成したサンプル３と、ａ，
ｂ共に開いて作成したサンプル４の違いが同じく
表１に示されている。この場合にも、磁気特性を
損うことなく接着強度に著しい改善が見られ、本
発明の効果が確認された。
【表】
なお、Hc、φr、φr／φｍはVSMを用い最大
印加磁界5000Gで測定した。φrは長さ20cm、幅
3.8mmのサンプルの残留磁束である。接着強度は
テンシロンにより同じ幅のサンプルを用いて測定
した値である。
印加磁界5000Gで測定した。φrは長さ20cm、幅
3.8mmのサンプルの残留磁束である。接着強度は
テンシロンにより同じ幅のサンプルを用いて測定
した値である。
第１図は本発明の磁気記録媒体の磁性薄膜の断
面図、第２図はベースの方向と磁性金属粒子の入
射方向の関係を示す図、第３図は本発明の第１実
施例による磁気記録媒体の製造装置を示す正面
図、及び第４図は本発明の第２実施例による磁気
記録媒体の製造装置を示す正面図である。
面図、第２図はベースの方向と磁性金属粒子の入
射方向の関係を示す図、第３図は本発明の第１実
施例による磁気記録媒体の製造装置を示す正面
図、及び第４図は本発明の第２実施例による磁気
記録媒体の製造装置を示す正面図である。
Claims (1)
- １ テープ状基板上に設けたコバルト、ニツケ
ル、鉄又はこれらの合金の蒸着膜より成る水平記
録型薄膜磁気記録媒体において、前記蒸着膜は強
磁性金属又は合金粒子の成長方向が基板面の垂線
に対して45度以上である第１磁性層と、その上に
形成された強磁性金属又は合金粒子の成長方向が
基板面の垂線に対して30度以下である第２磁性層
とより成つていることを特徴とする水平記録型磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9570680A JPS5720919A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | Magnetic recording medium and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9570680A JPS5720919A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | Magnetic recording medium and its manufacture |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5720919A JPS5720919A (en) | 1982-02-03 |
| JPS6357855B2 true JPS6357855B2 (ja) | 1988-11-14 |
Family
ID=14144944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9570680A Granted JPS5720919A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | Magnetic recording medium and its manufacture |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5720919A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58211328A (ja) * | 1982-06-03 | 1983-12-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59119532A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59119531A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59119534A (ja) * | 1982-12-26 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59198526A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59198524A (ja) * | 1983-04-25 | 1984-11-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59207031A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-11-24 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPS59207030A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-11-24 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
-
1980
- 1980-07-15 JP JP9570680A patent/JPS5720919A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5720919A (en) | 1982-02-03 |
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