JPS6358796B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6358796B2 JPS6358796B2 JP4993684A JP4993684A JPS6358796B2 JP S6358796 B2 JPS6358796 B2 JP S6358796B2 JP 4993684 A JP4993684 A JP 4993684A JP 4993684 A JP4993684 A JP 4993684A JP S6358796 B2 JPS6358796 B2 JP S6358796B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic body
- alkali
- ceramic
- roughening
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 32
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N tetrasodium;silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の属する技術分野）
本発明はセラミツク体の表面粗化法に関する。
（従来技術とその問題点）
従来セラミツク体の表面粗化法としては、フツ
酸、濃リン酸等を加熱し、その中にセラミツク体
を浸漬する方法、又は苛性ソーダを加熱溶融した
融液中にセラミツク体を浸漬する方法がある。し
かし前述の酸による粗化法では主としてセラミツ
クスの結晶粒子間のガラス相のみを選択的にエツ
チングして粗化するものであり、セラミツクス全
体を均質に粗化することはできない。苛性ソーダ
の融液による粗化は、セラミツクスの結晶粒子及
びガラス相を共にエツチングして粗化することが
できるが、セラミツク体の表面層のみを浅く粗化
したい場合、本発明者らの実験によればエツチン
グ時間は数10秒程度と短く作業性が悪い。詳しく
はコントロールしずらい。さらに粗化に用いられ
る融液の温度は400℃以上と高温であるため直接
セラミツク体を融液に浸漬すると熱衝撃によりセ
ラミツク体にクラツクや割れが発生する欠点があ
つた。
酸、濃リン酸等を加熱し、その中にセラミツク体
を浸漬する方法、又は苛性ソーダを加熱溶融した
融液中にセラミツク体を浸漬する方法がある。し
かし前述の酸による粗化法では主としてセラミツ
クスの結晶粒子間のガラス相のみを選択的にエツ
チングして粗化するものであり、セラミツクス全
体を均質に粗化することはできない。苛性ソーダ
の融液による粗化は、セラミツクスの結晶粒子及
びガラス相を共にエツチングして粗化することが
できるが、セラミツク体の表面層のみを浅く粗化
したい場合、本発明者らの実験によればエツチン
グ時間は数10秒程度と短く作業性が悪い。詳しく
はコントロールしずらい。さらに粗化に用いられ
る融液の温度は400℃以上と高温であるため直接
セラミツク体を融液に浸漬すると熱衝撃によりセ
ラミツク体にクラツクや割れが発生する欠点があ
つた。
上記の欠点を解消するためにセラミツク体をア
ルカリ水溶液に浸漬して表面にアルカリを付着さ
せ、それを乾燥した後加熱してアルカリを溶融さ
せセラミツク体をエツチングして粗化する方法が
ある。しかしこの方法では乾燥したアルカリが凝
集し易いため、セラミツク体の表面が塊状状態を
形成し易く、その結果アルカリが不均一に集合し
て残つたり、セラミツク体に対するアルカリ水溶
液の濡れ性の問題からセラミツク体表面における
アルカリの絶対量が不足したり端部と中央部でア
ルカリの絶対付着量が異なつたりしてセラミツク
体表面に均質な粗化が達成できない欠点があるこ
とがわかつた。
ルカリ水溶液に浸漬して表面にアルカリを付着さ
せ、それを乾燥した後加熱してアルカリを溶融さ
せセラミツク体をエツチングして粗化する方法が
ある。しかしこの方法では乾燥したアルカリが凝
集し易いため、セラミツク体の表面が塊状状態を
形成し易く、その結果アルカリが不均一に集合し
て残つたり、セラミツク体に対するアルカリ水溶
液の濡れ性の問題からセラミツク体表面における
アルカリの絶対量が不足したり端部と中央部でア
ルカリの絶対付着量が異なつたりしてセラミツク
体表面に均質な粗化が達成できない欠点があるこ
とがわかつた。
（発明の目的）
本発明は上記した欠点のないセラミツク体の表
面粗化法を提供することを目的とするものであ
る。
面粗化法を提供することを目的とするものであ
る。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは上記の欠点について種々検討した
ところ、セラミツク体を網の間に介在させアルカ
リ水溶液に浸漬してアルカリを付着させ、その後
アルカリの融点以上の温度で加熱処理したとこ
ろ、セラミツク体表面を均質に粗化できることを
確認した。
ところ、セラミツク体を網の間に介在させアルカ
リ水溶液に浸漬してアルカリを付着させ、その後
アルカリの融点以上の温度で加熱処理したとこ
ろ、セラミツク体表面を均質に粗化できることを
確認した。
（発明の構成）
本発明はセラミツク体を網の間に介在させアル
カリ水溶液に浸漬してアルカリを付着させ、その
後アルカリの融点以上の温度で加熱処理するセラ
ミツク体の表面粗化法に関する。
カリ水溶液に浸漬してアルカリを付着させ、その
後アルカリの融点以上の温度で加熱処理するセラ
ミツク体の表面粗化法に関する。
なお本発明において網は大きい番手（メツシ
ユ）の方が線径が細く、開口部のワイヤー間隔も
狭くできるのでアルカリ溶液を均質に保持するの
に適しているが、小さな番手の網でもアルカリ溶
液中に溶媒と良く濡れる無機、有機の微粉を添加
すれば微粉との間でメニスカスによりアルカリ溶
液を保持することができる。従つて本発明におい
ては網の番手については特に制限はない。
ユ）の方が線径が細く、開口部のワイヤー間隔も
狭くできるのでアルカリ溶液を均質に保持するの
に適しているが、小さな番手の網でもアルカリ溶
液中に溶媒と良く濡れる無機、有機の微粉を添加
すれば微粉との間でメニスカスによりアルカリ溶
液を保持することができる。従つて本発明におい
ては網の番手については特に制限はない。
網の材質についても特に制限はないが、価格的
に何回でも再利用のできるステンレス、ニツケル
等の金属ワイヤーを用いることが好ましい。
に何回でも再利用のできるステンレス、ニツケル
等の金属ワイヤーを用いることが好ましい。
アルカリ溶液の濃度、加熱処理温度、加熱処理
時間は、所望する粗化状態によつて異なるため任
意に決定するが、ただし加熱処理温度については
使用するアルカリの融点以上の温度で加熱処理す
ることが必要であり、アルカリの融点以下の温度
ではアルカリが溶融せずセラミツク体をエツチン
グして粗化することができない。
時間は、所望する粗化状態によつて異なるため任
意に決定するが、ただし加熱処理温度については
使用するアルカリの融点以上の温度で加熱処理す
ることが必要であり、アルカリの融点以下の温度
ではアルカリが溶融せずセラミツク体をエツチン
グして粗化することができない。
アルカリ水溶液としては苛性ソーダ、水酸化カ
リウム、オルソ硅酸ナトリウム等の水溶液が用い
られる。
リウム、オルソ硅酸ナトリウム等の水溶液が用い
られる。
本発明では上記の工程の他に加熱処理した後必
要に応じ塩酸水溶液に浸漬して表面を中和するよ
うにしてもよい。
要に応じ塩酸水溶液に浸漬して表面を中和するよ
うにしてもよい。
（実施例）
以下実施例により本発明を説明する。
アルミナ含有率96重量％、寸法20×20mm、厚さ
１mmのセラミツク基板の上下面に200番（200メツ
シユ）のステンレスの網を配した後セラミツク基
板をしつかりと固定し、これを濃度50％の苛性ソ
ーダ水溶液に５分間浸漬し、その後90℃で１時間
熱風乾燥した。次に20℃／分の昇温速度で600℃
まで加熱し、600℃で20分間保持した後室温まで
自然冷却した。この後流水にて10分間水洗し、つ
いで濃度10％の塩酸水溶液に３分間浸漬し、さら
に前記と同様に流水にて10分間水洗した後ステン
レスの網を外し、セラミツク基板を90℃で１時間
熱風乾燥した。乾燥後セラミツク基板をSEMで
観察したところ、セラミツク基板は全面に均質に
粗化された。
１mmのセラミツク基板の上下面に200番（200メツ
シユ）のステンレスの網を配した後セラミツク基
板をしつかりと固定し、これを濃度50％の苛性ソ
ーダ水溶液に５分間浸漬し、その後90℃で１時間
熱風乾燥した。次に20℃／分の昇温速度で600℃
まで加熱し、600℃で20分間保持した後室温まで
自然冷却した。この後流水にて10分間水洗し、つ
いで濃度10％の塩酸水溶液に３分間浸漬し、さら
に前記と同様に流水にて10分間水洗した後ステン
レスの網を外し、セラミツク基板を90℃で１時間
熱風乾燥した。乾燥後セラミツク基板をSEMで
観察したところ、セラミツク基板は全面に均質に
粗化された。
（発明の効果）
本発明はセラミツク体を網の間に介在させアル
カリ水溶液に浸漬してアルカリを付着させ、その
後アルカリの融点以上の温度で加熱処理するの
で、セラミツク体の表面を均質に粗化することが
できる。
カリ水溶液に浸漬してアルカリを付着させ、その
後アルカリの融点以上の温度で加熱処理するの
で、セラミツク体の表面を均質に粗化することが
できる。
Claims (1)
- １ セラミツク体を網の間に介在させアルカリ水
溶液に浸漬してアルカリを付着させ、その後アル
カリの融点以上の温度で加熱処理することを特徴
とするセラミツク体の表面粗化法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4993684A JPS60195080A (ja) | 1984-03-15 | 1984-03-15 | セラミツク体の表面粗化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4993684A JPS60195080A (ja) | 1984-03-15 | 1984-03-15 | セラミツク体の表面粗化法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60195080A JPS60195080A (ja) | 1985-10-03 |
| JPS6358796B2 true JPS6358796B2 (ja) | 1988-11-16 |
Family
ID=12844905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4993684A Granted JPS60195080A (ja) | 1984-03-15 | 1984-03-15 | セラミツク体の表面粗化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60195080A (ja) |
-
1984
- 1984-03-15 JP JP4993684A patent/JPS60195080A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60195080A (ja) | 1985-10-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4259409A (en) | Electroless plating process for glass or ceramic bodies and product | |
| US3690921A (en) | Method for strongly adhering a metal film on ceramic substrates | |
| US4913784A (en) | Process for metallizing a ceramic substrate | |
| KR20180101202A (ko) | 금속/세라믹 회로 기판 제조 방법 | |
| US4766017A (en) | Process for the adhesive metallization of ceramic materials | |
| JPS624441A (ja) | コ−ジエライト質セラミツクハニカム構造触媒体の製造方法 | |
| US2968578A (en) | Chemical nickel plating on ceramic material | |
| JPS6358796B2 (ja) | ||
| JPH039074B2 (ja) | ||
| JPH0726205B2 (ja) | 窒化アルミセラミック配線基板の製法 | |
| JPH1111928A (ja) | シリカゲル作製方法および除湿用素子の作製方法 | |
| CN100348777C (zh) | SiC陶瓷颗粒表面镀钨方法 | |
| JPH10168577A (ja) | 成形回路部品などのめっき部品の製法 | |
| JP3495874B2 (ja) | 除湿用素子の製造方法 | |
| RU2272004C1 (ru) | Способ упрочнения изделий из стеклокристаллического материала бета-сподуменового состава путем ионного обмена | |
| JPS58130546A (ja) | 炭化珪素質基板およびその製造方法 | |
| JPH0297686A (ja) | ホウロウ基板の製造方法 | |
| JPS6335484A (ja) | セラミツクスの表面粗化法 | |
| JP2004277204A (ja) | ガラスコートおよびその製造方法 | |
| JP2010235397A (ja) | 施釉製品、その製造方法、銀検出方法及び銀回収方法 | |
| JPS6335481A (ja) | セラミツク配線基板の製法 | |
| JPH0369191B2 (ja) | ||
| JPS61141686A (ja) | セラミツクスの表面粗化法 | |
| JPS63100169A (ja) | 耐ビルドアツプ性の優れた熱処理炉ハ−スロ−ル | |
| JPS60176934A (ja) | ガラスの製造方法 |