JPS6364000B2 - - Google Patents
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- JPS6364000B2 JPS6364000B2 JP1554981A JP1554981A JPS6364000B2 JP S6364000 B2 JPS6364000 B2 JP S6364000B2 JP 1554981 A JP1554981 A JP 1554981A JP 1554981 A JP1554981 A JP 1554981A JP S6364000 B2 JPS6364000 B2 JP S6364000B2
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Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Compression, Expansion, Code Conversion, And Decoders (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は半導体メモリ装置特に電気的にプログ
ラム可能なタイプのMOS ROMのアドレス入力
バツフア回路に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an address input buffer circuit for semiconductor memory devices, particularly MOS ROMs of the electrically programmable type.
[従来の技術と問題点]
電気的にプログラム可能なフローテイングゲー
ト型ROM即ちEPROM装置は通常テキサスイン
スツルメント社のWallおよびMcELroyの米国特
許第4112509号および第4112544号および米国特許
第3984822号に見られるセルレイアウトを使用し
て製作される。8K、16K、32Kおよび最近は64ビ
ツトサイズのレイアウトのEPROM装置を製作す
るメーカがいくつかある。しかしながら高速およ
び低コストに対する要望が継続しているため、セ
ルサイズを低減もしくはビツト密度を増大して同
時に既存の二重レベルポリシリコンNチヤネル製
作方法とのプロセス互換性を維持する必要性が生
じてきた。ROMのアレイ密度を増大させる一つ
の古典的技術は各列即ち出力線に対して接地線を
設けるかわりに仮想接地構成を使用することであ
る。仮想接地メモリは共にテキサスインスツルメ
ント社のFisherおよびRogersの米国特許第
3934233号と、E.R.Caudelの米国特許第4021781
号に開示されている。仮想接地EPROMレイアウ
トはテキサスインスツルメント社のDavid J.
McElroyの米国特許第4151021号に開示されてい
る。フローテイングゲートEPROMのプログラミ
ングには過渡高電圧と高電流が必要であるため、
従来仮想接地装置に採用されている回路よりも厳
しい要求がデコード回路に課される。このため従
来のEPROMは各セルに別々の接点と線を使用
し、そのためチツプ上に余分な空間を必要とし
た。しかしながら仮想接地メモリの動作に必要な
別々の接地選定および列選定機能を使用する場
合、採用する列デコードは専用接地型メモリ装置
とは違つた複雑性を有する。大型高速装置のこの
列および接地選定アドレツシングは行アドレツシ
ングと共にデコード回路に新しい条件を課するも
のである。EPROM装置の低電力動作という顧客
の要求により、通常のスタンバイ動作モードとは
違つたパワーダウンモードを設ける必要性が生じ
た。パワーダウンモードにおいてEPROM装置は
アドレスに応答しないが、パワーダウンモードが
終る時には正規アクセスが許される前に過度に長
い期間があつてはならない。これらの制約および
対立する条件内で改良型EPROMが設計されてい
る。BACKGROUND OF THE INVENTION Electrically programmable floating gate ROM or EPROM devices are generally described in US Pat. Nos. 4,112,509 and 4,112,544 and US Pat. Produced using the cell layout seen. There are several manufacturers that produce EPROM devices in 8K, 16K, 32K, and recently 64-bit size layouts. However, the continuing desire for high speed and low cost has created a need to reduce cell size or increase bit density while maintaining process compatibility with existing dual-level polysilicon N-channel fabrication methods. Ta. One classic technique for increasing the array density of ROMs is to use a virtual ground configuration instead of providing a ground line for each column or output line. Virtual ground memory is described in the Fisher and Rogers patents, both of Texas Instruments.
3934233 and ERCaudel U.S. Patent No. 4021781
Disclosed in the issue. The virtual ground EPROM layout was developed by Texas Instruments' David J.
Disclosed in McElroy US Pat. No. 4,151,021. Because programming floating gate EPROMs requires transient high voltages and high currents,
More stringent requirements are placed on the decoding circuit than circuits conventionally employed in virtual grounding devices. Traditional EPROMs therefore used separate contacts and wires for each cell, thus requiring extra space on the chip. However, with the separate ground selection and column selection functions required for virtual ground memory operation, the column decoding employed has different complexities than dedicated ground memory devices. This column and ground selection addressing of large high speed devices, along with row addressing, imposes new requirements on the decoding circuitry. Customer demands for low power operation of EPROM devices have created a need to provide a power down mode distinct from the normal standby mode of operation. Although the EPROM device does not respond to addresses in power-down mode, there should not be an unduly long period of time before normal access is allowed when power-down mode is exited. Improved EPROMs have been designed within these constraints and conflicting conditions.
本発明の目的は低電力消費もしくはパワーダウ
ン操作が可能で電気的にプログラム可能な改良型
メモリ装置を提供することである。 It is an object of the present invention to provide an improved electrically programmable memory device with low power consumption or power-down operation.
[問題点を解決するための手段および実施例の説
明]
本発明の一実施例においてフローテイングゲー
ト型メモリの行列を有する電気的にプログラム可
能なメモリアレイはセルの列間に交互に出力線と
接地線を有し、仮想接地構成を提供している。行
はアドレス入力の一部分により選定され、列は他
部分により選定される。選定列の一方側の出力線
が励起され、他方側の接地線が励起される。差動
センス増幅器が選定出力線上の電圧および基準電
圧に応答する。デコーダの行選定機能に必要なト
ランジスタ数は各アドレスビツト対に対して1対
4の選定を行うプリデコーダを採用し、次にこれ
ら選定出力の一つを使用してNマルチプレクサを
起動させ、他の全てをデコーダの入力として使用
しN出力をマルチプレクサの入力として使用する
ことにより大幅に低減される。DESCRIPTION OF MEANS AND EMBODIMENTS FOR SOLVING PROBLEMS In one embodiment of the invention, an electrically programmable memory array having rows and columns of floating gate memories has output lines alternating between columns of cells. It has a ground wire and provides a virtual ground configuration. Rows are selected by one part of the address input, columns by other parts. The output wire on one side of the selected column is energized and the ground wire on the other side is energized. A differential sense amplifier is responsive to the voltage on the selected output line and the reference voltage. The number of transistors required for the row selection function of the decoder is determined by employing a predecoder that performs a 1-to-4 selection for each address bit pair, and then using one of these selection outputs to activate the N multiplexer and the other. is significantly reduced by using all of the N outputs as decoder inputs and the N outputs as multiplexer inputs.
プリデコーダは各アドレスビツトに対して2対
の真および相補アドレス電圧を受信するAND/
OR回路であり、各対は論理的に同じであるが低
しきい値トランジスタにより分離されているアド
レス電圧を含んでいる。プリデコード回路は各対
の高い方を使用してAND/OR回路の入力トラン
ジスタをVCCと出力ノード間で駆動させ、各対の
低い方を使用してAND/OR回路の入力トランジ
スタを出力ノードと接地間で駆動させることによ
りスピードアツプされる。前者の入力トランジス
タは後者よりも低い容量ローデイングを有してい
る。 The predecoder receives two pairs of true and complementary address voltages for each address bit.
An OR circuit, each pair containing address voltages that are logically the same but separated by a low threshold transistor. The predecode circuit uses the high end of each pair to drive the input transistors of the AND/OR circuit between V CC and the output node, and the low end of each pair to drive the input transistors of the AND/OR circuit between the output node. The speed is increased by driving between the ground and ground. The former input transistor has a lower capacitive loading than the latter.
第1図に本発明の特徴を使用したメモリシステ
ムのブロツク図を示す。本発明はさまざまなタイ
プおよびサイズのメモリ装置に使用できるが、こ
こに示す実施例は8×16×256に仕切られた32K
即ち32768ビツトを有するNチヤネルフローテイ
ングゲート型の電気的にプログラム可能なROM
即ちEPROMである。商用実施例では更に列デコ
ーデイングを設けて8×8×256の替りに8×32
×64に仕切られた16ビツト装置を規定し、32Kビ
ツトは8×32×128に仕切られ64Kビツト装置は
8×32×256に仕切られており、図示する実施例
は行デコード回路の利点を示すために選定されて
いる。第1図においてセルアレイ10は256行128
列に配置された32768個のフローテイングゲート
メモリセルを含んでおり、列は10−1から10
−8の8個の別々のセル群に分割されている。各
群は別々の入力/出力端子11を有している。8
個のアドレス入力端子12に加えられる8ビツト
行アドレスはデコーダされて256本の行線13の
一本のみを起動させる。セルアレイは仮想接地型
であり一本の接地線のみが10−1から10−8
の各群の接地に接続されており、隣接する列線が
各群の選定されたセルの出力として使用される。
4端子14により集積回路装置へ加えられる4ビ
ツト列アドレスは、8個の別々の選定回路15に
よりデコーダされて10−1から10−8の各群
内の9本の接地線の中の1本を選定し、8個の
別々の選定回路16により8本の出力列線の中の
1本を選定する。10−1から10−8の各群の
差動センス増幅器17は選定セルに対するデータ
ビツトを感知して端子11の一つに出力を加え読
取り動作を行い、プログラム動作のためには回路
17内の入力バツフアおよび選定回路16により
各群内の選定ビツトへ端子11上のデータビツト
が加えられる。 FIG. 1 shows a block diagram of a memory system employing features of the present invention. Although the invention can be used with various types and sizes of memory devices, the embodiment shown here is a 32K memory device partitioned into 8x16x256 partitions.
i.e. N-channel floating gate electrically programmable ROM with 32768 bits.
In other words, it is EPROM. In a commercial implementation, column decoding is further provided to provide 8x32 instead of 8x8x256.
Defining a 16-bit device partitioned into x64 partitions, a 32K-bit device partitioned into 8 x 32 x 128, and a 64K-bit device partitioned into 8 x 32 x 256, the illustrated embodiment takes advantage of the row decoding circuitry. selected to show. In FIG. 1, the cell array 10 has 256 rows and 128 rows.
Contains 32,768 floating gate memory cells arranged in columns, where the columns are 10-1 to 10
-8 separate cell groups. Each group has a separate input/output terminal 11. 8
An 8-bit row address applied to each address input terminal 12 is decoded to activate only one of the 256 row lines 13. The cell array is a virtual ground type, with only one ground wire from 10-1 to 10-8.
are connected to ground for each group, and adjacent column lines are used as outputs for selected cells in each group.
The 4-bit string address applied to the integrated circuit device by 4 terminals 14 is decoded by eight separate selection circuits 15 to one of the nine ground wires in each group from 10-1 to 10-8. is selected, and one of the eight output column lines is selected by eight separate selection circuits 16. Differential sense amplifiers 17 in each group from 10-1 to 10-8 sense the data bit for the selected cell and apply an output to one of the terminals 11 for a read operation, and for a program operation, the differential sense amplifiers 17 in the circuit 17 An input buffer and selection circuit 16 adds the data bits on terminal 11 to the selected bits within each group.
実施例の集積回路装置は8個のデータ端子およ
び12個のアドレス端子の他に5個の端子を有して
いる。端子18により一つの+5V供給電圧Vccが
印加され、接地即ちVssが端子19に印加される。
およそ+25Vのプログラミング電圧Vppが端子2
0へ印加される。チツプ選定指令が端子21
へ印加されパワーダウン/プログラム指令PD/
PGMが端子22へ印加される。後者の3個の
Vpp、およびPD/は制御回路23へ接続
されており、それは制御電圧を発生してシステム
の動作モードを定める。 The integrated circuit device of the embodiment has 5 terminals in addition to 8 data terminals and 12 address terminals. One +5 V supply voltage V cc is applied by terminal 18 and ground or V ss is applied to terminal 19 .
The programming voltage V pp of approximately +25 V is applied to terminal 2.
Applied to 0. Chip selection command is sent to terminal 21
Power down/Program command PD/
PGM is applied to terminal 22. the latter three
Vpp , and PD/ are connected to a control circuit 23, which generates control voltages to define the mode of operation of the system.
読取りモードにおいてVppとPD/は論理
0でありはアクテイブロー、論理0である。
これらの状態を第2図a〜第2図eの左側に示
す。第2図aに示すようにがローであり第2
図d第2図cに示すようにVppとPD/がロ
ーであれば、端子12,14上の12個のアドレス
ビツトA0−A11が第2図bの時刻24におい
て有効となる時アレイ10内の8ビツトが選定さ
れ(10−1から10−8の各群で1ビツトず
つ)、第2図eに示すようにこれらの8ビツトは
端子11上に生じる。 In read mode, V pp and PD/ are logic 0 and active low, logic 0.
These conditions are shown on the left side of FIGS. 2a-2e. As shown in Figure 2a, is low and the second
If Vpp and PD/ are low as shown in FIG. 8 bits are selected (one bit in each group from 10-1 to 10-8) and these 8 bits appear on terminal 11 as shown in FIG. 2e.
もう一つの状態はスタンバイモードであり、論
理1においてがハイであることを除けば全て
の入力は読取モードの場合と同様である。ここで
チツプは読取り状態であるが第2図bの中央に示
すようにアドレスが生じてもそのように選定され
ず、第2図eのデータアウトは生じない。 The other state is standby mode, where all inputs are the same as in read mode except that at logic 1 is high. The chip is now in a read state, but even if an address occurs, as shown in the center of FIG. 2b, it is not so selected, and the data out of FIG. 2e does not occur.
第2図cの右側に示すようにPD/入力が
論理1である時パワーダウン動作モードが生じ
る。第2図dに示すようにVppはローでありは
ローともハイともなり得る、即ち注意を要しない
状態である。アドレスが発生すれば出力は生じな
い。 A power-down mode of operation occurs when the PD/input is a logic 1, as shown on the right side of FIG. 2c. As shown in FIG. 2d, V pp is low and can be both low and high, ie, it is a state that does not require attention. If the address occurs, no output occurs.
第2′図d(左側)に示すようにVpp入力が+
25Vであり、第2′図eに示すようPD/が
アクテイブローであり、第2′図aに示すように
CSがアクテイブローである時プログラミング動
作モードが生じる。この状態において端子12に
加えられる行アドレスは一本の行線13上にハイ
電圧(Vpp−Vt)を生じる(他は全てロー)。第
2′図bに示すように発生する端子14上の列ア
ドレスは各群の8列の中の1列を選定する。第
2′図eに示す時間中に端子11の各々に0が存
在するか1が存在するかにより、10−1から1
0−8群内の8個の各選定ビツトの選定列線へハ
イ電圧Vpp−Vtもしくはロー電圧が印加される。
この状態により8個の選定ビツトのフローテイン
グゲートは端子11上のデータ入力に応じて充電
されたりされなかつたりする。 As shown in Figure 2'd (left side), the V pp input is +
25V, PD/ is active low as shown in Figure 2'e, and PD/ is active low as shown in Figure 2'a.
A programming mode of operation occurs when CS is active low. In this state, a row address applied to terminal 12 produces a high voltage (V pp -V t ) on one row line 13 (all others low). The column address generated on terminal 14 as shown in FIG. 2'b selects one of the eight columns in each group. 10-1 to 1, depending on whether a 0 or a 1 is present at each terminal 11 during the time shown in Figure 2'e.
A high voltage V pp -V t or a low voltage is applied to the selected column line of each of the eight selected bits in groups 0-8.
This condition causes the floating gates of the eight selected bits to be charged or uncharged depending on the data input on terminal 11.
VppがハイであるとおよびPD/のいず
れもローであるときだけでプログラムモードが生
じる。第2′図の右側に示すように他の全ての状
態はプログラム抑止モードを発生する。第2′図
aもしくは第2′図cに示すように入力もしく
はPD/の一方もしくは両方がハイであると
抑止モードが存在する。ここで端子12および1
4上に生じているアドレスもしくは端子11上に
存在するデータと無関係に、チツプはパワーダウ
ンモードとなつている。 Program mode occurs only when Vpp is high and PD/ are both low. All other conditions generate a program inhibit mode as shown on the right side of FIG. 2'. The inhibit mode exists when either or both inputs or PD/ are high as shown in Figure 2'a or Figure 2'c. Here terminals 12 and 1
Regardless of the address occurring on terminal 4 or the data present on terminal 11, the chip is in power down mode.
第1図のシステム内の行選定回路はプリデコー
ドおよびマルチプレクス性能を含んでおり、それ
が重要な利点を提供する。端子12上の8個の各
行アドレスビツトA0−A7は8個のバツフア回
路30の中の一つへ加えられ、その夫々がA2か
らA7ビツトのプリデコーダ32もしくはA0と
A1の行分割デコーダ33へ行く線31上のアド
レスおよび相補電圧Aおよびを発生する。3個
のプリデコーダ32は6個のアドレスビツトA2
からA7に使用され、これらの各回路は64中1行
デコーダ35の入力である線34上へ4出力を発
生する。デコーダ35は64本の出力線36を有
し、所与のアドレスA2−A7に対してその中の
1本のみがハイであり他の全てはローである。線
36は64個の4中1選定回路37へ別々に印加さ
れ、その各々が4個の出力13を有しそれらはア
レイ10の行線であり10−1から10−8の8
群全部に延在している。各選定回路37は行分割
デコーダ33から4本の入力線38を受信し、ア
ドレスのA0およびA1ビツトに従つて、4本の
線13の中の1本を選定するように機能する。 The row selection circuitry in the system of FIG. 1 includes predecoding and multiplexing capabilities, which provide important advantages. Each of the eight row address bits A0-A7 on terminal 12 is applied to one of eight buffer circuits 30, each of which is applied to a pre-decoder 32 for A2 to A7 bits or to a row split decoder 33 for A0 and A1. generates address and complementary voltages A and on line 31. Three predecoders 32 input six address bits A2
to A7, each of these circuits produces four outputs on line 34 which is the input of a 1-of-64 row decoder 35. Decoder 35 has 64 output lines 36, of which only one is high and all others are low for a given address A2-A7. Lines 36 are applied separately to 64 1-of-4 selection circuits 37, each having 4 outputs 13, which are the row lines of array 10 and 8 of 10-1 to 10-8.
It extends throughout the group. Each selection circuit 37 receives four input lines 38 from the row division decoder 33 and functions to select one of the four lines 13 according to the A0 and A1 bits of the address.
2個のバツフア回路30の詳細回路図を示す第
3図において、入力端子12は2個のエンフアン
スメントトランジスタ40,41のゲートへ接続
されている。第1入力トランジスタ40はデイプ
レツシヨン負荷42を有し、ゲートがVccである
トランジスタ43を介して接地されている。第1
段の出力44は第2入力トランジスタ41および
その並列接地ゲートデイプレツシヨントランジス
タ46と同様、接地トランジスタ43を共有する
自然トランジスタ45のゲートへ接続されてい
る。こうして全てのトランジスタ40,41,4
5,46の電流はトランジスタ43を流れる。ノ
ード44は入力トランジスタ41に直列にデイプ
レツシヨントランジスタ47のゲートへも接続さ
れており、これらのトランジスタと直列な自然ト
ランジスタ48はゲート上にCE信号を有しパワ
ーダウンモードとするように働く。トランジスタ
47のソースは出力線31−1を提供し、トラ
ンジスタ41のドレーンは*出力線31−2を
提供する。入力12がハイであればトランジスタ
41はオンでありと*はローである。デイプ
レツシヨン負荷50を有するもう一つのインバー
タトランジスタ49はゲート上に*信号を受信
し、このインバータは最終段でデイプレツシヨン
負荷51のゲートを駆動する。第1インバータ4
0の出力ノード44はこの最終段においてエンフ
アンスメントトランジスタ52のゲートへ接続さ
れており、このトランジスタはパワーダウン動作
用トランジスタ46ト同様に並列接地ゲートデイ
プレツシヨンモードトランジスタ53を有してい
る。ゲート上にCEを有する自然トランジスタ5
4はトランジスタ48と同様にパワーダウン期間
中にプルダウン機能を提供する。 In FIG. 3, which shows a detailed circuit diagram of two buffer circuits 30, the input terminal 12 is connected to the gates of two enhancement transistors 40, 41. A first input transistor 40 has a depletion load 42 and is connected to ground via a transistor 43 whose gate is at Vcc . 1st
The output 44 of the stage is connected to the gate of a natural transistor 45 which shares a ground transistor 43 as well as a second input transistor 41 and its parallel ground gate depletion transistor 46 . In this way, all transistors 40, 41, 4
Currents 5 and 46 flow through transistor 43. Node 44 is also connected in series with input transistor 41 to the gate of depletion transistor 47, and in series with these transistors a natural transistor 48 has a CE signal on its gate and serves to put it into power down mode. . The source of transistor 47 provides output line 31-1 and the drain of transistor 41 provides * output line 31-2. If input 12 is high, transistor 41 is on and * is low. Another inverter transistor 49 with a depletion load 50 receives the * signal on its gate, and this inverter drives the gate of the depletion load 51 in the final stage. 1st inverter 4
0 output node 44 is connected in this final stage to the gate of an enhancement transistor 52, which has a grounded gate depletion mode transistor 53 in parallel as well as a power-down operating transistor 46. . Natural transistor with CE on the gate 5
4, like transistor 48, provides a pull-down function during power-down periods.
トランジスタ45の目的はトランジスタ43を
流れる電流を0と1入力間で平衡させることであ
り、そのためノード55上の電圧はほぼ一定とな
る。ノード55上の電圧はトランジスタ40に小
さなバツクバイアスを与え、低入力値に対する動
作はVtが低い場合でも適当なTTLマージンで十
分である。 The purpose of transistor 45 is to balance the current through transistor 43 between the 0 and 1 inputs, so the voltage on node 55 is approximately constant. The voltage on node 55 provides a small back bias to transistor 40, and operation for low input values is sufficient with reasonable TTL margin even at low Vt .
トランジスタ47,51はゲート上に前段の反
転出力を有し、標準のゲート・ソース短絡デイプ
レツシヨン負荷の場合に較べ動作がスピードアツ
プされる。こうして各ソースに接続された場合に
較べてゲートは早く立上り、トランジスタ47,
51は早くターンオンする。 Transistors 47 and 51 have the inverted outputs of the previous stage on their gates, speeding up operation compared to standard gate-source shorted depletion loads. In this way, the gates rise earlier than if they were connected to each source, and the transistors 47 and 47
51 turns on early.
パワーダウン動作においてトランジスタ48,
54は第2図gに示すCE入力によりターンオフ
される。制御回路はPD/からCEを発生し
この電圧はPD/と相補的である。トランジ
スタ48,54がオフであるとパワーダウンモー
ド中にとAは共にハイとなり、A*と*はロー
となる。トランジスタ46,53の機能はパワー
ダウン中に漏洩により出力*とA*をローに保持
することである。アクテイブ読取モードにおいて
CEはハイでありトランジスタ48,54は完全
に導通し、そのためと*はAとA*と同様に同
じ論理状態となる。 In power down operation transistor 48,
54 is turned off by the CE input shown in FIG. 2g. The control circuit generates CE from PD/, and this voltage is complementary to PD/. When transistors 48 and 54 are off, and A are both high and A * and * are low during power down mode. The function of transistors 46 and 53 is to hold output * and A * low by leakage during power down. In active reading mode
CE is high and transistors 48 and 54 are fully conductive, so that and * are at the same logic state as are A and A * .
第4図に3個のプリデコーダ32の中の1個を
示す。この回路は4組の並列、低しきい値自然ト
ランジスタ対56を有し、それらはゲート上に
A、、B、出力を有している。これら4個の
並列対はゲート上にA*と*を有する4個の自然
トランジスタと直列である。トランジスタ対57
はゲート上に*とBを有するエンハンスメント
トランジスタ58を介して接地されている。4個
の出力34はトランジスタ56,57間のノード
59において取り出される。全てのA*およびB*
信号はノード59以下であり、AおよびB信号は
ノード59以上である。これはパワーダウン動作
において有利である。 FIG. 4 shows one of the three predecoders 32. The circuit has four parallel, low-threshold natural transistor pairs 56, which have outputs A, B, on their gates. These four parallel pairs are in series with four natural transistors with A * and * on their gates. transistor pair 57
is grounded through an enhancement transistor 58 having * and B on its gate. Four outputs 34 are taken at node 59 between transistors 56 and 57. All A * and B *
The signals are below node 59 and the A and B signals are above node 59. This is advantageous in power down operation.
第4a図に行分割デコーダ33と共にA0およ
びA1ビツト用入力バツフア30を示す。パワー
ダウン機能が使用されていないためにトランジス
タ48,54は存在せず且つデイプレツシヨント
ランジスタ46,53が省かれていることを除け
ば入力バツフア回路は第3図のものと同様であ
る。A*もしくはB*出力は発生しない。 The input buffer 30 for the A0 and A1 bits is shown in FIG. 4a along with the row splitting decoder 33. The input buffer circuit is similar to that of FIG. 3 except that transistors 48 and 54 are not present and depletion transistors 46 and 53 are omitted since the power down function is not used. No A * or B * output occurs.
行分割デコーダ33はトランジスタ60を有す
る4個のNOR回路を含んでおり、A0およびA
1アドレスビツト用バツフア30からA、、
B、出力対31に夫々接続されている。各
NOR回路はデイプレツシヨン負荷61を有しイ
ンバータ段62とプツシユプルトランジスタ対6
3,64を有するプツシユプル出力回路により4
個の出力38の中の1個を発生する。 The row division decoder 33 includes four NOR circuits having transistors 60, A0 and A0.
1 address bit buffer 30 to A...
B and output pair 31, respectively. each
The NOR circuit has a depletion load 61, an inverter stage 62 and a pair of push-pull transistors 6.
4 by push-pull output circuit with 3,64
outputs 38.
第5図に4中1デコーダ37および行線にプロ
グラミング電圧Vppを加える回路と共に64中1デ
コーダ35を示す。3組の4線34はデコーダに
沿つて延在しており64個のNOR回路内の3個の
トランジスタ65のゲートへ入力を供給する。3
組の各線の1入力の異なる組合が各NOR回路で
使用されており、線34上の所与のコードに対し
て1個のみが選定される。3個の並列トランジス
タがゲート上にCEを有し且つデイプレツシヨン
負荷67を有するパワーダウン制御トランジスタ
66と直列に接続されている。パワーダウンモー
ドにおいてCEはローであり且つトランジスタ6
6はオフであるため、出力はハイとなり3×64即
ち192個のトランジスタ65のいずれにも電流は
流れない。正規モードにおいてCEはハイであり、
自然即ち低しきい値トランジスタであるため降下
は非常に小さい。選定NOR回路に対し3個のト
ランジスタの全ゲートがローであり、線36はハ
イである。また他の全てに対して少くとも1個の
ゲート入力がハイであり線36はローである。線
36がローであるとデコーダ37内のインバータ
68は4個のトランジスタ69のゲートへハイ出
力を発生し、このデコーダ37の4本の行線13
の全てをローに維持する。ハイである1本の線3
6に対して1組の4個のトランジスタ70がター
ンオンされ4線38を4本の行線13へ接続す
る。これら4線38の中の1本のみがハイである
ため、256本の行線13の中の1本のみがハイと
なる。ゲート上にVccを有するデイプレツシヨン
トランジスタ71はプログラミング中に存在する
高電圧がドライバトランジスタ69を破壊するの
を防止するように働き、これらの装置71はドレ
ーン上にハイ電圧を有してターンオフする。 FIG. 5 shows a 1-in-64 decoder 35 along with a 1-in-4 decoder 37 and circuitry for applying programming voltage V pp to the row lines. Three sets of four wires 34 extend along the decoder and provide inputs to the gates of three transistors 65 in the 64 NOR circuits. 3
Different combinations of one input on each line of the set are used in each NOR circuit, and only one is selected for a given code on line 34. Three parallel transistors are connected in series with a power down control transistor 66 having CE on its gate and a depletion load 67. In power-down mode CE is low and transistor 6
Since transistor 65 is off, the output becomes high and no current flows through any of the 3×64, or 192, transistors 65. In normal mode, CE is high,
Since it is a natural or low threshold transistor, the drop is very small. All gates of the three transistors are low for the selected NOR circuit and line 36 is high. Also, for all others, at least one gate input is high and line 36 is low. When line 36 is low, inverter 68 in decoder 37 produces a high output to the gates of four transistors 69, which cause the four row lines 13 of this decoder 37 to
keep everything low. One line that is high 3
6, a set of four transistors 70 are turned on to connect four lines 38 to four row lines 13. Since only one of these four lines 38 is high, only one of the 256 row lines 13 is high. Depression transistors 71 with Vcc on their gates serve to prevent the high voltages present during programming from destroying the driver transistors 69, and these devices 71 have a high voltage on their drains. Turn off.
プログラミングのためには256本の行線の中の
選定された1本がVpp付近とされ残りはローとさ
れる。Vpp入力20は数組の3個の直列トランジ
スタ72,73,74を介して各行線13へ接続
されている。Vpp、およびPD/から得ら
れるVPR指令は全トランジスタ72のゲートへ
接続されており、そのためとPD/がロ
ーでVppがハイである場合のみプログラミングが
可能であり、他の全ての状態においてVPRはロ
ーでトランジスタ72はオフとなる。トランジス
タ73,74は全ておよび−4Vのしきい値を有
する非調整デイプレツシヨン装置である。直列組
合せの効果は論理1にある1線13をVppに引き
上げることであり、他の全てに対してトランジス
タ69はオンであるためVssのままである。 For programming, a selected one of the 256 row lines is set near V pp and the rest are set low. The Vpp input 20 is connected to each row line 13 via several sets of three series transistors 72, 73, 74. V pp , and the VPR command derived from PD/ is connected to the gates of all transistors 72 and is therefore programmable only when PD/ is low and V pp is high, and in all other states. VPR is low and transistor 72 is turned off. Transistors 73 and 74 are all unregulated depletion devices with thresholds of -4V. The effect of the series combination is to pull the 1 line 13, which is at logic 1, to Vpp , and for everything else it remains at Vss because transistor 69 is on.
第3図、第4図および第5図の行デコーダ回路
はいくつかの有利な特徴を有している。アドレス
バツフア30において最も遅い出力A(もしくは
B)はアドレス入力端子12からの2個の反転の
みでありそのため速度は良好である。また第2入
力トランジスタ47を使用して正への入力移行の
応答がスピードアツプされる。別々のAとA*、
Aと*等の出力を供給することによりバツフア
を最小電力状態でパワーダウンとすることができ
同時にプリデコーダ32をゼロ電力状態とするこ
とができる。プリデコーダ32を行デコーダ35
と共に使用することによりNOR回路に使用する
ドライバ装置65の数を半減することができ、次
に4本の各行線13に1個のNOR回路を使用し
て所要のドライバを更に2個減らすことができ
る。こうして256中1デコーダは各々が3個のト
ランジスタ65を有する64個のNOR回路のみを
必要とする。各々が8個の入力トランジスタの標
準256個のNOR回路に較べて装置のローデイング
数の低減は非常に望ましい。行分割即ちマルチプ
レクスデコーダ33はプツシユプル出力段63,
64を採用した2個の入力トランジスタ60を有
する簡単なNOR回路を使用して駆動を改良して
いる。行デコーダ35は3入力NOR回路であり、
各NOR回路にもう一つのトランジスタ6があつ
てゲートはCEに接続されてパワーダウン制御を
行いパワーダウンに対してCEはローである。 The row decoder circuits of FIGS. 3, 4, and 5 have several advantageous features. The slowest output A (or B) in the address buffer 30 is only two inversions from the address input terminal 12, so the speed is good. The second input transistor 47 is also used to speed up the response of positive input transitions. separate A and A * ,
By supplying outputs such as A and * , the buffer can be powered down to a minimum power state and at the same time the predecoder 32 can be brought to a zero power state. The pre-decoder 32 is connected to the row decoder 35
By using this together, the number of driver devices 65 used for the NOR circuit can be halved, and then one NOR circuit can be used for each of the four row lines 13 to further reduce the number of required drivers by two. can. Thus, a 1 in 256 decoder requires only 64 NOR circuits, each with 3 transistors 65. The reduction in device loading compared to standard 256 NOR circuits of 8 input transistors each is highly desirable. The row split or multiplex decoder 33 includes a push-pull output stage 63,
A simple NOR circuit with two input transistors 60 employing 64 is used to improve the drive. The row decoder 35 is a 3-input NOR circuit,
Each NOR circuit has another transistor 6 whose gate is connected to CE for power down control and CE is low for power down.
第1図において列選定回路は4入力バツフア3
0を含んでおり、それはA0およびA1アドレス
ビツトに使用する入力バツフアと同じである。線
75上の4個のバツフアからの8個のアドレスお
よび相補出力は9中1デコーダ76へ加えられ、
該デコーダは接地選定回路15への9本の出力線
77の中の1本を励起する。こうして出力列線が
選定される前に10−1から10−8の各群内の
9本の接地線の中の1本が最初に選定される。線
77はまた列選定デコーダ78の入力でもあり、
このデコーダは2本の線70上のA8および8
を入力として使用してハイである9本の線77の
中の1本の両側の一方を選定する。線79上の8
中1出力は列選定器16へ接続されている。 In Figure 1, the column selection circuit is a 4-input buffer 3.
0, which is the same input buffer used for the A0 and A1 address bits. The eight address and complementary outputs from the four buffers on line 75 are applied to a 1 of 9 decoder 76;
The decoder energizes one of nine output lines 77 to ground selection circuit 15. Thus, one of the nine ground wires in each group 10-1 through 10-8 is first selected before the output column line is selected. Line 77 is also an input to column select decoder 78;
This decoder is connected to A8 and 8 on two lines 70.
is used as input to select either side of one of the nine lines 77 that is high. 8 on line 79
The middle 1 output is connected to the column selector 16.
線77上の仮想接地選定がデコードされ、アク
セスタイムを最小限とするために出来るだけ迅速
に得られることが重要である。線79上の列選定
を起動させるために遅延を許容することができ
る。仮想接地選定器15の動作時間は遅延を許容
できる列選定器16の動作時間よりもアクセスタ
イムに与える影響が大きい。こうして仮想接地選
定はアドレス入力A8−A11から直接デコード
されて接地選定器15の起動に使用され、次に線
77上の接地選定は列アドレスのLSB、A8と
共にデコーダ78で使用されて列選定を発生す
る。 It is important that the virtual ground selection on line 77 be decoded and obtained as quickly as possible to minimize access time. A delay may be allowed to activate column selection on line 79. The operating time of the virtual ground selector 15 has a greater influence on access time than the operating time of the column selector 16, which can tolerate delays. Thus, the virtual ground selection is decoded directly from address inputs A8-A11 and used to activate the ground selector 15, and the ground selection on line 77 is then used in decoder 78 with the LSB of the column address, A8, to select the column. Occur.
第6図にデコーダ76を詳細に示す。線75上
のバツフア30からのA8からA11のアドレス
と補数は1組の9個のNOR回路内のドライバト
ランジスタ80へのゲート入力として使用され、
NOR回路の2個を図示する。9中1を選定する
ためにNOR回路の中の7個は3個のトランジス
タ80を有し残りの2個は4個のトランジスタ8
0を有している。NOR回路はデイプレツシヨン
負荷81およびCEにより連続して駆動されるパ
ワーダウントランジスタ82を有している。出力
ノード83は1個の出力トランジスタ85を駆動
するインバータトランジスタ84と直接駆動しき
い値出力トランジスタ86を有する修正プツシユ
プル回路へ接続されている。ゲート上にCEを有
するトランジスタ87,88はパワーダウンモー
ドを提供し全ての線77がローに保持される。ト
ランジスタ89は行デコーダ内のトランジスタ7
1と同じ機能を提供する。プログラミング中に選
定された9中1線77へ高電圧を印加する回路は
第5図の行線に使用される3個の直列トランジス
タ72,73,74を含んでいる。しかしながら
この場合トランジスタ72はゲート上にVPRで
はなくVPCを有している。 FIG. 6 shows the decoder 76 in detail. The addresses and complements of A8 through A11 from buffer 30 on line 75 are used as gate inputs to driver transistors 80 in a set of nine NOR circuits;
Two NOR circuits are illustrated. In order to select 1 out of 9, 7 of the NOR circuits have 3 transistors 80 and the remaining 2 have 4 transistors 80.
It has 0. The NOR circuit has a depletion load 81 and a power down transistor 82 which is continuously driven by CE. Output node 83 is connected to a modified push-pull circuit having an inverter transistor 84 driving one output transistor 85 and a direct drive threshold output transistor 86. Transistors 87, 88 with CE on their gates provide a power down mode in which all lines 77 are held low. Transistor 89 is transistor 7 in the row decoder.
Provides the same functionality as 1. The circuit for applying a high voltage to the 1-of-9 line 77 selected during programming includes the three series transistors 72, 73, 74 used for the row lines of FIG. However, in this case transistor 72 has VPC on its gate rather than VPR.
第7図に選定器78を詳細に示す。入力トラン
ジスタ対90を有する8個の4入力および/もし
くは論理回路は9個の接地選定線77に応答し、
これら8個の論理回路の全てに共通なトランジス
タ対91は線75上のA8および8に応答す
る。各論理回路はデイプレツシヨン負荷92を有
し出力トランジスタ93を駆動する。この出力段
はデイプレツシヨン負荷94と8個全てに共通な
共通パワーダウンゲート95を有している。列選
定線79はゲート上にを有する直列トランジ
スタ96を介してこれらの出力回路に接続されて
いる。プログラミング用ハイ電圧は前と同様各線
79に接続されたトランジスタ72,73,74
を含む直列回路により発生する。トランジスタ9
6はプログラミング中にハイである線79上のハ
イ電圧を分離して、ハイ電圧がデイプレツシヨン
負荷94を介してVccへ放電されるのを防止する。 FIG. 7 shows the selector 78 in detail. eight four-input and/or logic circuits having input transistor pairs 90 are responsive to nine ground selection lines 77;
A transistor pair 91 common to all eight logic circuits is responsive to A8 and 8 on line 75. Each logic circuit has a depletion load 92 and drives an output transistor 93. This output stage has a depletion load 94 and a common power down gate 95 common to all eight. Column select line 79 is connected to these output circuits via a series transistor 96 having a gate on its gate. The high voltage for programming is connected to the transistors 72, 73, 74 connected to each line 79 as before.
Generated by a series circuit including transistor 9
6 isolates the high voltage on line 79 that is high during programming to prevent the high voltage from discharging through depletion load 94 to Vcc .
第8図においてセルアレイ10はメモリセル1
0′の行列アレイであり、その各々は制御ゲート
101、ソース102、ドレーン103およびソ
ースとドレーン間のチヤネルと制御ゲート101
との間にフローテイングゲート104を有する電
気的にプログラム可能な絶縁ゲート電界効果型ト
ランジスタである。 In FIG. 8, the cell array 10 is the memory cell 1
0' matrix array, each of which has a control gate 101, a source 102, a drain 103 and a channel between the source and drain and the control gate 101.
It is an electrically programmable insulated gate field effect transistor having a floating gate 104 between.
各行内の全てのセルの制御ゲート101が1組
の行線即ちX線13に接続されている。実施例に
はXデコード回路からの256本の線13があり、
前記したようにそれらは線12上の8ビツトX即
ち行アドレスに基いて256中1を選定する。読取
モードにおいて線13の選定された1本はハイと
なり他はローのままである。 The control gates 101 of all cells in each row are connected to a set of row lines or x-rays 13. The example has 256 lines 13 from the X decoding circuit,
As mentioned above, they select 1 out of 256 based on the 8 bits X on line 12, the row address. In the read mode, a selected one of the lines 13 goes high and the others remain low.
隣接セル10′のドレーン103はY出力線1
05へ共通接続されており、実施例では64本の線
105が仕切られていて装置から8ビツト並列出
力11を発生し、各線105は2列のセル10′
の出力を供給し、そのため各群ごとに16セルの8
群があり、各群は8本の線105を含んでいる。
線105は負荷トランジスタ121を介してVcc
へ、また8個のトランジスタ16−1〜16−8
へ接続されており、こうしてY出力線106へ接
続されている。(16セル幅の各群に1本ずつ8本
の別々の線106がある。)トランジスタ16−
1,16−2等のゲートは線79上の列選定電圧
を受信するように接続されており、それらは入力
ピン14上の4ビツト列アドレスに基いてこれら
のゲートの一つへ論理1電圧(即ちプログラミン
グ用Vpp)を加え残りをVssに保持するように作
用する。4ビツトアドレスは一群内の16中1セル
10′を選定するのに使用され、8中1線を選定
するには4ビツトYアドレスA8−A11の
MSB3ビツトA9−A11のみを必要とするが仮
想接地構成によりLSBアドレスビツトA8を必
要とする。 The drain 103 of the adjacent cell 10' is connected to the Y output line 1
05, and in the exemplary embodiment 64 lines 105 are partitioned to produce an 8-bit parallel output 11 from the device, each line 105 connecting two rows of cells 10'.
output, so that each group has 16 cells of 8
There are groups, each group containing eight lines 105.
Line 105 is connected to V cc via load transistor 121
Also, eight transistors 16-1 to 16-8
and is thus connected to the Y output line 106. (There are eight separate lines 106, one in each group of 16 cells wide.) Transistor 16-
Gates 1, 16-2, etc. are connected to receive the column select voltage on line 79, and they send a logic 1 voltage to one of these gates based on the 4-bit column address on input pin 14. (i.e., Vpp for programming) and maintains the rest at Vss . The 4-bit address is used to select 1 cell 10' out of 16 in a group, and to select 1 line out of 8, the 4-bit Y address A8-A11 is used.
Only the MSB3 bits A9-A11 are required, but the virtual ground configuration requires the LSB address bit A8.
隣接セル10′のソース102は接地線として
作用するもう1組の列線107に共通接続されて
いる。16セル10′の各群に9本の線107を必
要とする。即ちM×Nアレイに対する接地線の数
は(N/2)+1本である。各線は負荷装置10
8を介してVccに接続され、接地選定トランジス
タ15−1,15−2等を介して接地、即ちVss
に接続されている。接地選定15を形成するこれ
ら全てのトランジスタ15−1等のゲートは線7
7を介して前記選定器76へ接続されている。接
地選定76は所与のYアドレスに対して線77の
中の1本のみを励起するように作用し、そのため
トランジスタ15−1,15−2等の中の1個の
みが導通する。 The sources 102 of adjacent cells 10' are commonly connected to another set of column lines 107 which act as ground lines. Nine lines 107 are required for each group of 16 cells 10'. That is, the number of ground lines for the M×N array is (N/2)+1. Each line has a load device 10
8 to Vcc , and grounded via ground selection transistors 15-1, 15-2, etc., that is, Vss
It is connected to the. The gates of all these transistors 15-1 etc. forming the ground selection 15 are connected to line 7.
7 to the selector 76. Ground selection 76 acts to energize only one of lines 77 for a given Y address, so only one of transistors 15-1, 15-2, etc. is conductive.
第8図のセルアレイの小部分を第9図に示しそ
れは16個のセル10′と4本のXアドレス線13
とY出力線105即ち接地線107を形成する5
枚の金属片を含んでいる。第9図および、第10
A図〜第10D図の断面図に示すように、ソース
およびドレーン領域102,103はX型モート
領域の連続ウエブ内のN+拡散領域により形成さ
れ、前記モート領域は各ソースとドレーン間のチ
ヤネル領域109および金属モートを接触させる
接触領域110,111を含んでいる。金属出力
線105は接触領域110においてモートの共通
N+領域112と接触し、金属接地線107は領
域111においてモートの共通N+領域と接触す
る。各共通領域112もしくは113は夫々4個
のトランジスタ10′のソースもしくはドレーン
を形成する。セルアレイはシリコンバー114の
面内に形成されており、厚い電界酸化物15がモ
ート領域を除いてこの面の全体を被覆している。
P+チヤネル停止領域116が通常の方法で電界
酸化物の下に横たわつている。浅いN+砒素注入
領域102′,103′は制御ゲート111がフロ
ーテイングゲート104を重畳するソースおよび
ドレーン領域102,103の延在部として作用
し、急速拡散ホウ素により形成されたP領域11
7は従来のP+タンクによる有利なプログラミン
グ効率を提供する。ゲート酸化物118の薄層が
フローテイングゲートをチヤネル109から絶縁
し、酸化物薄層119がフローテイングゲートを
制御ゲート101から絶縁する。蒸着されたレベ
ル間酸化物120の薄層がX線13および制御ゲ
ート101を形成する第2レベルポリシリコンを
金属線105,107から分離する。 A small portion of the cell array of FIG. 8 is shown in FIG. 9, consisting of 16 cells 10' and four X address lines 13.
5 forming the Y output line 105 or ground line 107.
Contains a piece of metal. Figures 9 and 10
As shown in the cross-sectional views of Figures A-10D, source and drain regions 102, 103 are formed by N+ diffusion regions within a continuous web of X-shaped moat regions, said moat regions being channel regions between each source and drain. 109 and contact areas 110, 111 for contacting the metal moats. Metal output wire 105 contacts the common N+ region 112 of the mote at contact region 110, and metal ground wire 107 contacts the common N+ region of the mote at region 111. Each common region 112 or 113 forms the source or drain of four transistors 10', respectively. The cell array is formed in the plane of a silicon bar 114, with a thick field oxide 15 covering the entire plane except for the moat region.
A P+ channel stop region 116 underlies the field oxide in the conventional manner. The shallow N+ arsenic implanted regions 102', 103' act as extensions of the source and drain regions 102, 103 where the control gate 111 overlaps the floating gate 104, and the P region 11 formed by rapidly diffusing boron.
7 offers advantageous programming efficiency with conventional P+ tanks. A thin layer of gate oxide 118 insulates the floating gate from channel 109 and a thin layer of oxide 119 insulates the floating gate from control gate 101 . A thin layer of deposited interlevel oxide 120 separates the second level polysilicon forming the x-rays 13 and control gate 101 from metal lines 105,107.
EPROMセル10′はおよそ+18Vの高電圧を
ドレーン103とソース102間に加え且つ選定
セルの制御ゲートをVppに保持することによりプ
ログラムされる。セルを流れるハイ電流によりゲ
ート酸化物118を通つて電子が放出されフロー
テイングゲート104を充電する。これはセルの
しきい値電圧をおよそVcc(通常+5V)の増加さ
せるように作用する。フローテイングゲート上の
電荷はいつまでも残存する。装置に紫外線を当て
てフローテイングゲート104を放電することに
より消去が行われる。 EPROM cell 10' is programmed by applying a high voltage of approximately +18V between drain 103 and source 102 and holding the control gate of the selected cell at Vpp . The high current flowing through the cell causes electrons to be emitted through gate oxide 118 and charge floating gate 104 . This acts to increase the threshold voltage of the cell by approximately Vcc (typically +5V). The charge on the floating gate remains indefinitely. Erasing is accomplished by exposing the device to ultraviolet light and discharging the floating gate 104.
適正動作を行うには選定回路とセルマトリクス
はある条件に適合しなければならない。セルのプ
ログラミングにはドレーン103上におよそ+
18Vの電圧と0.5〜3.0mAのソース・ドレーン電
流を必要とする。EPROMマトリクスセルの読取
りには15〜60μAの範囲の電流を検出する必要が
ある。 For proper operation, the selection circuit and cell matrix must meet certain conditions. To program the cell, place approximately + on drain 103.
Requires 18V voltage and 0.5-3.0mA source-drain current. Reading an EPROM matrix cell requires sensing a current in the range of 15-60 μA.
例えば第8図の回路の読取動作にはXa(行アド
レス線13の中の1本)がハイ(Vcc−Vt)でト
ランジスタ15−2と16−2は接地および列選
定器によりターンオンされる。他のトランジスタ
15,16は全てオフである。トランジスタ15
−2はこの線の負荷装置108aを引き下げトラ
ンジスタ10a′,10c′の電流を大地へ流しノー
ド111aをおよそ0.2〜0.3Vの非常に低いレベ
ルに維持するのに充分な大きさでなければならな
い。負荷108bはセル10′bがターンオフさ
れる点までノード111bを充電する必要があ
る。これによつて出力線106に接続されたセン
ス増幅器17はノード111bの容量およびそれ
を越えて充電する必要がなくなる。トランジスタ
10′のボデイ効果によりセル10′bはノード1
11b上の低電圧でターンオフする。ボデイ効果
はこれらのトランジスタの製作に使用されるチヤ
ネル内のP+領域のために大きい。 For example, for a read operation in the circuit of FIG. 8, Xa (one of the row address lines 13) is high ( Vcc - Vt ) and transistors 15-2 and 16-2 are turned on by ground and the column selector. Ru. All other transistors 15 and 16 are off. transistor 15
-2 must be large enough to pull down the load device 108a on this line, forcing the current in transistors 10a', 10c' to ground and maintaining node 111a at a very low level of approximately 0.2-0.3V. Load 108b needs to charge node 111b to the point where cell 10'b is turned off. This eliminates the need for sense amplifier 17 connected to output line 106 to charge to and beyond the capacitance of node 111b. Cell 10'b is connected to node 1 due to the body effect of transistor 10'.
Turn off at low voltage on 11b. Body effects are large due to the P+ regions in the channels used in the fabrication of these transistors.
セル10′aをプログラムするには同じトラン
ジスタ15−2,16−2が読取動作のためにタ
ーンオンされるが(他はオフ)、この場合オント
ランジスタ15−2,16−2は前記したように
トランジスタ72,73,74を有する回路で生
じた大きな正電圧Vppをゲート上に有する。トラ
ンジスタ15−2はノード111aをおよそ
0.3Vに保持し1〜3mAを通すのに充分な大きさ
でなければならない。トランジスタ16−2はド
レーン上に大きな電圧+Vppを有しノード110
a上に大きな電圧を生じる。負荷108bは再び
ノード111bを充電し、この場合セル10′b
はプログラムを行わない。ノード111b上の+
3Vの電圧はセル10′bのプログラミングを禁止
する。 To program cell 10'a, the same transistors 15-2, 16-2 are turned on for a read operation (the others are off), but in this case the ON transistors 15-2, 16-2 are turned on as described above. A circuit with transistors 72, 73, 74 has a large positive voltage V pp on its gate. Transistor 15-2 connects node 111a to approximately
It must be large enough to hold 0.3V and pass 1-3mA. Transistor 16-2 has a large voltage +V pp on its drain and node 110
produces a large voltage on a. Load 108b again charges node 111b, in this case cell 10'b
does not program. + on node 111b
A voltage of 3V inhibits programming of cell 10'b.
各列線105は負荷トランジスタ121により
Vccへ接続されており、これらの負荷トランジス
タのゲートは基準電圧Rhを有している。こうし
て列線105はインバータ回路の出力ノード12
2として働き、選定された1個のノード122は
ロードトランジスタ対選定記憶セル10′の比に
依存する電圧レベルとなる。フローテイングゲー
トが充電されたプログラムされたセルに対してト
ランジスタ10′は導通せず、線105(ノード
122)は最大電圧とされ、フローテイングゲー
トが放電された消去されたセル10′は線105
を最小電圧とする。これら両極端のおよそ中間点
は差動センス増幅器17の基準点である。各セン
ス増幅器17の1入力はノード122からY選定
トランジスタ16−1,16−2等と線106を
介したものである。他方の入力は後記する基準電
圧発生器回路からのものである。 Each column line 105 is connected by a load transistor 121.
V cc and the gates of these load transistors have a reference voltage Rh. Column line 105 is thus connected to output node 12 of the inverter circuit.
2, the selected one node 122 will be at a voltage level that depends on the ratio of the load transistor to the selected storage cell 10'. For programmed cells with floating gates charged, transistor 10' is not conducting and line 105 (node 122) is at maximum voltage; for erased cells 10' with floating gates discharged, line 105 is at maximum voltage.
Let be the minimum voltage. Approximately midway between these extremes is the reference point for differential sense amplifier 17. One input to each sense amplifier 17 is from node 122 via line 106 to Y select transistors 16-1, 16-2, etc. The other input is from the reference voltage generator circuit described below.
第11図にセルアレイの負荷121に使用する
基準電圧Rhと差動センス増幅器の電圧Vrefと基
準電圧R1を発生する回路と共にセンス増幅器1
7を示す。 FIG. 11 shows the sense amplifier 1 along with a circuit for generating the reference voltage Rh used for the load 121 of the cell array, the voltage Vref of the differential sense amplifier, and the reference voltage R1.
7 is shown.
センス増幅器17の1入力として使用される基
準電圧Vrefはセルアレイ内のトランジスタ1
0′と同様に製作されたEPROMトランジスタ1
0″および負荷トランジスタ121と同様(ただ
し中間点を生じるためにチヤネル幅は2倍)の負
荷トランジスタ121′を含む回路から供給され
る。負荷トランジスタ108′および接地トラン
ジスタ15′は“仮想接地”列線107に対して
負荷108および接地装置15−1等をシミユレ
ートする。線77′上のトランジスタ15′のゲー
トへの電圧はおよそ(Vcc−Vt)である。即ち、
線77の中の1本の線の選定電圧と同じであり、
そのため基準発生器内の線107′はアレイ内の
選定された線107と正確に同じ電圧、インピー
ダンス等を示す。トランジスタ10″はゲート上
に(トランジスタ123の発生した)電圧を有
し、それもおよそ(Vcc−Vt)であり選定された
X線13上の電圧に等しい。こうしてノード12
2′の一方側でセルアレイ内のノード122の下
の回路がシミユレートされ、動作はアレイ内のセ
ルの動作と同じであり、供給電圧の変化、温度、
エージング、しきい値電圧のプロセス変動等によ
るあらゆる変動を追跡する。負荷側においてノー
ド122′は2個の負荷装置を介してVccに接続さ
れている。負荷側でノード122′は2個のロー
ド装置を介してVccに接続されている。最初にア
レイの列線105の負荷トランジスタ121の1
個に対応して負荷トランジスタ121′を使用す
る。トランジスタ121′はゲート上にトランジ
スタ121と同じ基準電圧Rhを有している。線
124上のこの基準電圧RhはVcc=+5Vである
装置に対しておよそ4Vである。Rhはノード12
2上の電圧変化を最適化するように選定されてお
り、電圧降下は感知するに充分であるが完全な論
理レベルではない。次にゲート上に異なる基準電
圧R1を有する負荷トランジスタ125は負荷ト
ランジスタ121′と並列である。 The reference voltage Vref used as one input of the sense amplifier 17 is connected to the transistor 1 in the cell array.
EPROM transistor 1 manufactured similarly to 0'
0'' and a load transistor 121' similar to load transistor 121 (but with twice the channel width to create the midpoint). Load transistor 108' and ground transistor 15' are connected to a "virtual ground" column. Simulate a load 108 and a grounding device 15-1, etc. for line 107. The voltage to the gate of transistor 15' on line 77' is approximately ( Vcc - Vt ), i.e.
is the same as the selected voltage of one of the wires 77,
The line 107' in the reference generator therefore exhibits exactly the same voltage, impedance, etc. as the selected line 107 in the array. Transistor 10'' has a voltage on its gate (generated by transistor 123), which is also approximately ( Vcc - Vt ) and equal to the voltage on selected x-ray 13. Thus node 12
The circuit under node 122 in the cell array on one side of 2' is simulated, and the operation is the same as that of the cells in the array, with changes in supply voltage, temperature,
Track any variations due to aging, process variations in threshold voltage, etc. On the load side, node 122' is connected to Vcc via two load devices. On the load side, node 122' is connected to Vcc via two load devices. First, one of the load transistors 121 of the column line 105 of the array
A load transistor 121' is used corresponding to each one. Transistor 121' has the same reference voltage Rh on its gate as transistor 121. This reference voltage Rh on line 124 is approximately 4V for a device where Vcc = +5V. Rh is node 12
2 is chosen to optimize the voltage change on the voltage drop, which is sufficient to be sensed but not at a full logic level. A load transistor 125, which has a different reference voltage R1 on its gate, is then in parallel with load transistor 121'.
実施例において負荷トランジスタ121′はト
ランジスタ121の2倍の幅のチヤネルを有する
ためインピーダンスは半分である。同じ効果を達
成するもう一つの方法は1個ではなく2個のトラ
ンジスタ10″を直列にして121と同じ負荷ト
ランジスタ121′を使用することである。いず
れもノード122′にVref電圧を発生しそれは選
定トランジスタ10′に対するプログラム状態と
消去状態との間のノード122上の電圧変化の半
分である。第11a図に線127で示すように時
間126において選定X線13はハイとなる。回
路設計によりX選定電圧はVssからVccまでの全波
Vccもしくはそれよりも小さいVssから(Vcc−Vt)
までとすることができる。線128で示すように
ノード122上の電圧は選定セルがプログラムさ
れておれば(フローテイングゲート充電)トラン
ジスタ10′がターンオンしないため、線129
で示すRh電圧により定まるレベルとなる。一方
選定トランジスタ10′が消去されておれば選定
行線13上の電圧127がトランジスタ10′の
しきい値電圧を越える時間130においてノード
122は放電開始する。電圧127が増大し続け
るとトランジスタ10′を流れる電流が増加しノ
ード122上の電圧は曲線131で示すように
Rhレベルに依存するレベルで平坦になるまで増
加する。Rhが低過ぎるとノード122はずつと
接地され列線がずつと充電されなければならない
ため、それは必要以上であつて好ましくない。
Rhが高過ぎるとレベル128が高過ぎてVcc付近
となる。Vrefは(プログラムされたトランジス
タ10′に対する)電圧レベル132と(消去さ
れたトランジスタ10′に対するノード122の
最終レベルである)レベル133との間の中間レ
ベルであることが判る。 In the exemplary embodiment, load transistor 121' has a channel twice as wide as transistor 121, and thus has half the impedance. Another way to achieve the same effect is to use the same load transistor 121' as 121 with two transistors 10'' instead of one in series. Both produce a Vref voltage at node 122', which This is half the voltage change on node 122 between the programmed and erased states for select transistor 10'. At time 126, select x-ray 13 goes high, as shown by line 127 in FIG. 11a. X selection voltage is full wave from V ss to V cc
From V cc or smaller V ss (V cc −V t )
up to. As shown by line 128, the voltage on node 122 will be lower than line 129 because transistor 10' will not turn on if the selected cell is programmed (floating gate charging).
The level is determined by the Rh voltage shown in . On the other hand, if selected transistor 10' is erased, node 122 starts discharging at time 130 when voltage 127 on selected row line 13 exceeds the threshold voltage of transistor 10'. As voltage 127 continues to increase, the current through transistor 10' increases and the voltage on node 122 increases as shown by curve 131.
Increases until leveled off at levels dependent on Rh level. If Rh is too low, node 122 must be grounded and the column lines must be charged, which is unnecessary and undesirable.
If Rh is too high, level 128 will be too high and will be close to V cc . It can be seen that Vref is at an intermediate level between voltage level 132 (for programmed transistor 10') and level 133 (which is the final level at node 122 for erased transistor 10').
第2負荷トランジスタ125および基準電圧
R1の機能は装置がパワーダウンモードである時
間中に第11a図の正規レベル134よりも高い
レベルにVrefをオフセツトすることである。そ
の理由はパワーダウンモードにおいては全ての行
線13および仮想接地選定77がVssであり、そ
のため全ての列線105が最大レベルにあるため
である。パワーダウンモードを終ると選定列線1
05は選定セル10′の状態に応じて放電したり
放電しないことができる。列線105が放電しな
いと(即ち選定セル10′がプログラムされてい
ると)妥当なデータが既に線106に存在する。
選定線105が放電開始すると(即ち選定セル1
0′が消去されていると)、線105がVref値以
下となるまでセンス増幅器17の入力の線106
には妥当なデータが存在しない。R1と負荷12
5の機能はVrefを正規よりも高くすることであ
り、そのため列線105は曲線131に沿つて放
電すると早期にVrefレベル134を交差して早
期に妥当データを感知することができる。パワー
アツプ状態において負荷トランジスタ121′は
Vrefを制御し、R1はRhの直流レベルよりも小さ
い直流レベルである。こうしてパワーアツプ状態
下においてVref発生器内のトランジスタ125
はカツトオフされVrefはRhのみにより制御され
る。装置がパワーダウンモードであるとR1はRh
レベル129よりも高くなり負荷トランジスタ1
25が制御を行つてVrefは一層高くなる。パワ
ーダウンモードの終了と共にRC遅延によりR1が
一層低くなると第2負荷125はゆるやかにター
ンオフする。このゆるやかなターンオフはVref
があまりにも迅速に正規に戻るのを抑えるために
必要であるが、Vrefはアクセス時間内に正規レ
ベル134付近でなければならずそのためローか
らハイへの列線移行を感知する以降のサイクルは
異常にゆるやかであつてはならない。 Second load transistor 125 and reference voltage
The function of R1 is to offset Vref to a level above the normal level 134 of Figure 11a during the time the device is in power down mode. This is because in power down mode all row lines 13 and virtual ground selection 77 are at Vss , so all column lines 105 are at maximum level. When exiting power down mode, select column line 1
05 can be discharged or not discharged depending on the state of the selected cell 10'. If column line 105 is not discharged (ie, selected cell 10' is programmed), valid data is already present on line 106.
When the selection line 105 starts discharging (that is, the selection cell 1
0' is erased), line 106 at the input of sense amplifier 17 until line 105 is below the Vref value.
There is no valid data. R1 and load 12
The function of 5 is to make Vref higher than normal, so that when the column line 105 discharges along the curve 131, it crosses the Vref level 134 early, so that valid data can be detected early. In the power-up state, the load transistor 121'
Vref is controlled, and R1 is a DC level smaller than that of Rh. Thus, under power-up conditions, transistor 125 in the Vref generator
is cut off and Vref is controlled only by Rh. When the device is in power down mode, R1 is Rh
Load transistor 1 becomes higher than level 129
25 takes control and Vref becomes higher. Upon exiting the power down mode, the second load 125 is slowly turned off as R1 becomes lower due to the RC delay. This gradual turn-off is Vref
This is necessary to prevent Vref from returning to normal too quickly, but Vref must be around the normal level 134 within the access time, so subsequent cycles that sense the column line transition from low to high are abnormal. Don't be too lenient.
RhおよびR1の発生に使用する回路を第11図
に示す。Rhは3個のトランジスタと、デイプレ
ツシヨン負荷135と、低しきい値装置136と
エンフアンスメントトランジスタ137を有する
分割器の発生する固定レベル129である。出力
ノード124はRhレベルである。大きさの異な
る同様の1組のトランジスタ135−137が線
138上にR1レベルを発生し、パワーダウンの
ためにはトランジスタ135と並列なトランジス
タ139がターンオンしてR1の電圧を高める。
このため信号CEはローとなりトランジスタ14
0をターンオフしてノード141はデイプレツシ
ヨン負荷142によりVccとされる。MOSダイオ
ード対143は抵抗器として働き、パワーダウン
モードが存在する限りトランジスタ139のゲー
トはVcc付近に保持される。パワーダウン終了時
にCECはハイとなり、ノード141はローとな
り、トランジスタ139のゲートは抵抗器143
と、MOSコンデンサ144のRC回路の時定数に
従つて放電する。 The circuit used to generate Rh and R1 is shown in FIG. Rh is a fixed level 129 produced by a divider having three transistors, a depletion load 135, a low threshold device 136, and an enhancement transistor 137. Output node 124 is at Rh level. A similar set of differently sized transistors 135-137 develops the R1 level on line 138, and for power down, transistor 139 in parallel with transistor 135 turns on to increase the voltage on R1.
Therefore, the signal CE becomes low and the transistor 14
0 is turned off and node 141 is brought to Vcc by depletion load 142. MOS diode pair 143 acts as a resistor, keeping the gate of transistor 139 near Vcc as long as the power down mode exists. At the end of power down, CEC goes high, node 141 goes low, and the gate of transistor 139 is connected to resistor 143.
Then, the MOS capacitor 144 is discharged according to the time constant of the RC circuit.
センス増幅器17は本技術に習熟した人なら知
つている多くの差動増幅器のいずれかとすること
ができる。例えば差動増幅器回路を第11図に示
し、それをセンス増幅器として使用することがで
きる。この回路はデイプレツシヨン負荷トランジ
スタ146と共にドライバトランジスタ145の
平衡対からなつている。トランジスタ147は両
方のドライバトランジスタを接地し、ゲート上に
バイアスを有してそれを電流源として作動させ
る。1入力148は出力線106により選定列線
105上のノード122へ接続されており、他方
の入力149はノード122′即ちVref電圧に接
続されている。出力150,151は入力14
8,149上の電圧差の極性に応じてVccもしく
はVssになろうとする。通常第11図に示す回路
の数段がカスケード接続されて高利得センス増幅
器を形成する。即ち出力150,151は次段1
52の入力148,149へ接続され以下同様で
ある。最終出力11は最終段の線150もしくは
151の中の1本であり、全波論理レベルを示
す。 Sense amplifier 17 may be any of a number of differential amplifiers known to those skilled in the art. For example, a differential amplifier circuit is shown in FIG. 11, which can be used as a sense amplifier. The circuit consists of a balanced pair of driver transistors 145 along with depletion load transistors 146. Transistor 147 grounds both driver transistors and has a bias on its gate to operate it as a current source. One input 148 is connected by output line 106 to node 122 on select column line 105, and the other input 149 is connected to node 122', the Vref voltage. Outputs 150 and 151 are input 14
Depending on the polarity of the voltage difference on 8,149, it will become Vcc or Vss . Typically, several stages of the circuit shown in FIG. 11 are cascaded to form a high gain sense amplifier. In other words, outputs 150 and 151 are the next stage 1
52 inputs 148, 149, and so on. Final output 11 is one of the last lines 150 or 151 and represents a full wave logic level.
差動センス増幅器は電流ではなく電圧を感知し
ているということは重要である。ノード122も
しくは122′上の電圧は入力トランジスタ14
5のゲートのみを充電するだけでよく、この移行
以外に大きな電流ローデイングはない。こうして
異なる選定機構を使用すればY選定トランジスタ
16−2や他のデコードトランジスタには電圧降
下は生じない。 It is important to note that differential sense amplifiers sense voltage rather than current. The voltage on node 122 or 122' is the voltage on input transistor 14.
Only the gate of 5 needs to be charged and there is no significant current loading other than this transition. By using a different selection mechanism in this manner, no voltage drop occurs across Y selection transistor 16-2 or other decode transistors.
全ての線105が負荷121を介して充電され
全ての接地線107が負荷108を介して充電さ
れる。読取サイクル中に選定された列線105の
みが放電され、これらは必ずしも接地されない。
パワーダウン状態において全てのX選定線13が
接地され且つ全ての接地選定線77も接地され、
そのため列線105は放電されず直流電力は消失
しない。全ての列線105は第11a図のバイア
ス点128に保持されており、そのためパワーダ
ウン終了時にアレイのプリチヤージに遅延はな
い。パワーダウン終了時のアクセス時間は正規動
作の場合と同じでなければならない。 All wires 105 are charged through load 121 and all ground wires 107 are charged through load 108. Only selected column lines 105 are discharged during a read cycle; they are not necessarily grounded.
In the power down state, all the X selection wires 13 are grounded, and all the ground selection wires 77 are also grounded,
Therefore, the column line 105 is not discharged and DC power is not lost. All column lines 105 are held at bias point 128 in Figure 11a, so there is no delay in precharging the array at the end of power down. The access time at the end of power-down must be the same as in normal operation.
飽和領域において充分に高いドレーン103お
よびゲート101電圧で作動する時のみプログラ
ムを行うことがフローテイングゲート装置10′
の特徴である。装置は線型モードではプログラム
を行わない。プログラミング電圧を仮想接地アレ
イに加える場合、プログラムされる選定装置1
0′のみが充分に高い電圧を飽和領域で受信する
ように注意しなければならない。 The floating gate device 10' can be programmed only when operating at sufficiently high drain 103 and gate 101 voltages in the saturation region.
It is a characteristic of The device does not program in linear mode. When applying a programming voltage to the virtual ground array, the selection device 1 to be programmed
Care must be taken that only 0' receives a sufficiently high voltage in the saturation region.
第12図に高電圧プログラミング制御回路の回
路図を示す。ピン20上のVppがおよそ+21Vの
ハイ電圧レベルになると5個のトランジスタ15
4で形成された分圧器がノード155上に電圧を
発生し、2個のインバータ156をスイツチして
線157上に書込みイネーブル指令WEを発生す
る。こうしてVppがローであればWEがローであ
り、VppがハイレベルであればWEはハイである。
また指令は他のインバータにより発生する。
論理回路158はピン21,22からのチツプ選
定およびパワーダウン/プログラムPD/
PGM指令と共にWE(もしくは)指令を受信
し、それに応答して線159内にプログラムイネ
ーブル指令を発生する。Vppがハイである時プ
ログラムイネーブル指令はアクテイブローであ
り、とPD/は論理0である、またピン
21,22の一方もしくは両方がハイであればプ
ログラム抑止状態が存在しはハイである。ト
ランジスタ160はゲート上にPE指令を受信し
直列負荷と共にノード161上に出力を発生する
が、それは第5図の行アドレス出力13のハイ電
圧回路に使用されるVPR指令である。こうして
PEがローであるとノード161はVpp付近となり
256本の行線13の256個の全てのトランジスタ7
2をターンオンする。またノード161は分圧器
内の4個のトランジスタ163と直列のトランジ
スタ162のゲートを駆動し、分圧器はインバー
タ164と共にトランジスタ165のゲート上に
電圧を発生してVPCを発生する。トランジスタ
165およびシヨートトランジスタ167と直列
な自然デイプレツシヨントランジスタ166はノ
ード168上に電圧を発生するが、それはが
ローの時はハイでVpp付近であり、VPRがハイで
あるため幾分遅延している。第6図および第7図
に示すように高電圧回路の接地選定および列出力
選定用の全ての線77,79の各トランジスタに
VPCが印加される。 FIG. 12 shows a circuit diagram of the high voltage programming control circuit. When V pp on pin 20 goes to a high voltage level of approximately +21V, five transistors 15
A voltage divider formed by 4 generates a voltage on node 155 which switches two inverters 156 to generate a write enable command WE on line 157. Thus, if V pp is low, WE is low, and if V pp is high, WE is high.
Also, commands are generated by other inverters.
Logic circuit 158 provides chip selection and power down/program PD/
It receives the WE (or) command along with the PGM command and generates a program enable command in line 159 in response. When Vpp is high, the program enable command is active low, and PD/ is a logic 0, and if one or both of pins 21, 22 are high, a program inhibit condition exists. Transistor 160 receives the PE command on its gate and produces an output on node 161 with a series load, which is the VPR command used in the high voltage circuit of row address output 13 of FIG. thus
When PE is low, node 161 will be near V pp
All 256 transistors 7 of 256 row lines 13
Turn on 2. Node 161 also drives the gate of transistor 162 in series with four transistors 163 in the voltage divider, which together with inverter 164 generates a voltage on the gate of transistor 165 to generate VPC. A natural depletion transistor 166 in series with transistor 165 and short transistor 167 develops a voltage on node 168 that is high near Vpp when VPR is low, and is somewhat lower because VPR is high. It's delayed. As shown in Figures 6 and 7, each transistor on all lines 77 and 79 for ground selection and column output selection of the high voltage circuit.
VPC is applied.
選定列線105にハイ電圧入力データを加える
プログラミング回路を第11図に示す。8ピン1
1の各々は8個の別々のデータインバツフア17
0の中の1個に接続されており、データインバツ
フア170は線159上のがローの時のみ作
動可能とされる。バツフア170の出力は2個の
直列負荷172,173を有するドライバトラン
ジスタ171を有するインバータ段を含む高電圧
回路により各線106に接続されており、データ
インビツトがローの時トランジスタ174,17
5のゲートにハイ電圧を発生する。これにより
Vpp電圧が線176を介して線106へ印加され
る。ハイ電圧回路内のトランジスタ177は前記
トランジスタ71と同様に働く。アレイ放電指令
ARDがハイの時トランジスタ178は線176
を接地させる。 A programming circuit that applies high voltage input data to select column line 105 is shown in FIG. 8 pin 1
1 each have 8 separate data buffers 17
0 on line 159, and data inbuffer 170 is enabled only when line 159 is low. The output of buffer 170 is connected to each line 106 by a high voltage circuit including an inverter stage having a driver transistor 171 with two series loads 172, 173, and when the data input bit is low transistors 174, 17
A high voltage is generated at the gate of 5. This results in
A Vpp voltage is applied to line 106 via line 176. Transistor 177 in the high voltage circuit operates similarly to transistor 71 described above. Array discharge command
Transistor 178 is connected to line 176 when ARD is high.
ground.
動作上プログラミング回路はプログラミングモ
ードにおいて各群内の1個のセルのみにハイ電圧
を加えるように働くが、他のモードではハイ電圧
はない。Vppはハイに保持することができるため
外部回路でこのハイ電圧を急速にスイツチさせる
必要はなく、高価な回路ではこの外部回路が必要
なため望ましくない過渡現象を生じる。装置が選
定解除されると(パワーダウンモードであると)
ノード159上の指令はハイであり、VPRと
VPCをトランジスタ160,167を介して大
地電圧に保持する。次にハイ電圧供給はロー状態
からハイ状態Vppとされ、このハイ電圧がノード
155で感知されてWEが発生する。プログラミ
ングシーケンスの継続期間中Vppはハイのままで
ある。により装置が選定され(即ちパワーア
ツプ)PD/がローとなつてWEがハイであ
ると、プログラミングモードに入りはローと
なる。VPRがハイとなる前に選定線を除く全て
の列線105および仮想接地線107はロードト
ランジスタ108,121によりVcc付近の正規
バイアスとなる。選定行線13はVccであるがこ
の線上の全てのセル10′はトリオード動作を行
つており、たとえデータインビツトがローで線1
06が線176を介してハイに充電してもプログ
ラミングは生じない。選定トランジスタ16−2
等はゲート上にVccのみを有するため線105を
Vpp付近の電圧に到達させない。ここでノード1
61上のVPR指令はデイプレツシヨン負荷を介
してVppレベルに向つて充電開始し、VPCはトラ
ンジスタ165により大地電圧に保持される。ノ
ード161上のVPRがおよそ10V以上に上昇す
るとタイミング回路162−164はVPCを解
除し始める。VPRがVppに達するのにおよそ
10μSを要し、VPRの上昇開始後VPCが変化し始
めるまでの遅延はおよそ1.5μSである。選定行線
13は選定列線105よりも早くプログラミング
電圧に到達し、そのため選定行内の全てのトラン
ジスタ10′のソース・ドレーン径路は非常に導
電性となり(フローテイングゲートが予め充電さ
れているか否かにかかわらず)、1列がハイとな
る前に平衡充電共有状態に到達する。次にVPC
がVpp付近となる時データインがロー即ち論理0
であると仮定すると、選定線79上にハイ電圧が
生じ、線106からのハイ電圧は選定線105に
到達することができる。この選定線105電圧は
Vppに向つて上昇するため、隣接する非選定列線
105および仮想接地線Vppは線13上の制御ゲ
ートのハイ電圧により引上げられる。しかしなが
ら選定セル10a′のみが充分な電圧で飽和してプ
ログラムを行い、選定セル10a′からの選定列線
105の他方側のセル10b′も飽和するが、ソー
スノード111bに大きな電圧を有するためプロ
グラムするのに充分なほど導通することができな
い。一方セル10c′のソースはノード111aに
おいてトランジスタ15−2を介して接地されて
おり、ゲートは線13を介してVppであるが、ド
レーンは負荷121を介してVcc付近であるため、
このセルはプログラムを行わない。VPRとVPC
は50mAまでのハイであるが、中間レベル酸化物
119を介してプログラミング解除する傾向があ
る。(選定ノード111aを除く)全ノード11
1の充電により所与の行内のセル10′以外でこ
の酸化物にかかる電圧はローとされるためこの傾
向は著しく低減する。プログラミング解除効果が
低減するのは1本の線107のみが接地されるた
め他のノードが充電することができ、選定セル1
0a′以外のセルのゲート対ソースもしくはドレー
ン電圧が低減するためである。選定セルが充分な
時間(多分10〜50mS)プログラミング電圧に保
持されるとPD/(即ち)電圧はハイと
なつてがハイとなり、トランジスタ160,
167をターンオンしてVPRおよびVPCがロー
となる。この点において選定列線105上のハイ
電圧を慎重に取り除かなければならない。もし記
憶セルを介して大アレイ容量が放電されると選定
されないセル内にプログラミングを生じる。この
ためブリーダトランジスタ178は選定トランジ
スタ16−2等と共通線106を介して共通線か
ら余分な電圧を除去する径路を提供する。仮想接
地線107上の余分な電圧は列線上のバイアスに
よる寄生プログラミング障害を表わさない。アレ
イ放電電圧ARDは本質的にPD/と相補的
であるが、Vppがハイの時にのみ生じるためプロ
グラム抑止動作モードで生じる。装置はプログラ
ム抑止期間中にパワーダウンとなる。 In operation, the programming circuit operates to apply a high voltage to only one cell in each group in the programming mode, but there is no high voltage in other modes. Since V pp can be held high, there is no need for external circuitry to quickly switch this high voltage, and in expensive circuits this external circuitry is necessary and creates undesirable transients. When the device is deselected (in power-down mode)
The command on node 159 is high and VPR and
VPC is held at ground voltage via transistors 160 and 167. The high voltage supply is then brought from the low state to the high state Vpp , and this high voltage is sensed at node 155 to generate WE. Vpp remains high for the duration of the programming sequence. When the device is selected (ie, powered up) and PD/ is low and WE is high, programming mode is entered low. Before VPR goes high, all column lines 105 except the select line and virtual ground line 107 are normal biased near Vcc by load transistors 108 and 121. Selected row line 13 is at Vcc , but all cells 10' on this line are in triode operation, even if the data input bit is low and line 1
No programming occurs when 06 charges high via line 176. Selection transistor 16-2
etc. has only V cc on the gate, so the line 105 is
Do not allow voltages near V pp to reach. Here node 1
The VPR command on 61 begins charging towards the Vpp level through the depletion load, and VPC is held at ground voltage by transistor 165. When VPR on node 161 rises above approximately 10V, timing circuits 162-164 begin to release VPC. Approximately for VPR to reach V pp
It takes 10 μS, and the delay from when VPR starts rising until VPC starts changing is approximately 1.5 μS. The selected row line 13 reaches the programming voltage earlier than the selected column line 105, so that the source-drain paths of all transistors 10' in the selected row are highly conductive (whether the floating gate is precharged or not). ), the balanced charge sharing state is reached before one column goes high. Then VPC
When is near V pp , data in is low or logic 0.
Assuming , a high voltage will occur on select line 79 and a high voltage from line 106 can reach select line 105. This selection line 105 voltage is
To increase towards V pp , the adjacent unselected column line 105 and virtual ground line V pp are pulled up by the high voltage of the control gate on line 13 . However, only the selected cell 10a' is saturated with sufficient voltage to perform programming, and the cell 10b' on the other side of the selected column line 105 from the selected cell 10a' is also saturated, but since it has a large voltage at the source node 111b, programming is performed. cannot conduct sufficiently to do so. On the other hand, the source of cell 10c' is grounded at node 111a via transistor 15-2, the gate is at V pp via line 13, but the drain is at near V cc via load 121;
This cell does not program. VPR and VPC
is high, up to 50 mA, but tends to deprogram through the mid-level oxide 119. All nodes 11 (excluding the selected node 111a)
This tendency is significantly reduced since a charge of 1 causes the voltage across this oxide to be low except for cells 10' in a given row. The deprogramming effect is reduced because only one wire 107 is grounded, allowing other nodes to charge and select cell 1.
This is because the gate-to-source or drain voltage of cells other than 0a' is reduced. When the selected cell is held at the programming voltage for a sufficient period of time (perhaps 10-50 mS), the PD/(i.e.) voltage goes high and transistors 160,
167 is turned on and VPR and VPC go low. At this point, the high voltage on select column line 105 must be carefully removed. If large array capacitance is discharged through the storage cells, programming will occur in unselected cells. Thus, bleeder transistor 178 provides a path for removing excess voltage from the common line through select transistor 16-2, etc., and common line 106. The extra voltage on virtual ground line 107 does not represent parasitic programming disturbances due to bias on the column lines. The array discharge voltage ARD is essentially complementary to PD/, but occurs only when Vpp is high, and thus in the program inhibit mode of operation. The device is powered down during the program inhibit period.
第1図の全てのシステムを含む半導体装置は前
記特許第4112509号もしくは第4112544号に記載し
たように2重レベルポリシリコン、Nチヤネル、
セルフアラインプロセスで作られており、二重拡
散ステツプを有利に採用して1979年9月4日付テ
キサスインスツルメントの特許出願S.N.072504
号に開示されたプログラミングエンフアンスメン
トP+領域を発生する。 A semiconductor device including the entire system of FIG. 1 is a dual level polysilicon, N-channel,
Made with a self-aligning process and advantageously employing a double diffusion step, Texas Instruments patent application SN072504 dated September 4, 1979
Generates a programming enhancement P+ region as disclosed in No.
使用するプロセスに発生された標準エンフアン
スメントモードMOSトランジスタ(第5図等の
40,41,49等)はVccを+5Vと仮定すると
およそ+0.8〜+1.0Vのしきい値電圧を有しこの
しきい値はホトレジストで保護された自然トラン
ジスタの通常のブランケツトホウ素注入の結果で
ある。自然トランジスタ45,48,54等は注
入が行われておらずおよそ+0.2〜+0.3Vのしき
い値を有し、低いソース対ドレーン電圧降下を生
じそれは図示する回路の多くの部分で有利であ
る。第3タイプのトランジスタは42,47,5
0等の標準デイプレツシヨントランジスタであ
り、標準エンフアンスメント装置に対してブラン
ケツトホウ素注入が行われているが、選定N型注
入を受入れておよそ−3.4Vのしきい値を発生す
る。第4タイプは“自然デイプレツシヨン”装置
でありホウ素注入ではなくN型注入を受入れるた
めおよそ−3.8〜−4.0Vのしきい値を有し、これ
らの装置は例えばハイ電圧回路でトランジスタ7
3,74として使用される。 Standard enhancement mode MOS transistors (40, 41, 49, etc. in Figure 5, etc.) generated in the process used have a threshold voltage of approximately +0.8 to +1.0V, assuming Vcc to be +5V. This threshold is the result of a conventional blanket boron implant of a photoresist protected native transistor. Natural transistors 45, 48, 54, etc. are unimplanted and have thresholds of approximately +0.2 to +0.3 V, resulting in low source-to-drain voltage drops, which are advantageous in many parts of the illustrated circuit. It is. The third type of transistor is 42, 47, 5
A standard depletion transistor such as 0, with a blanket boron implant for standard enhancement equipment, accepts a selected N-type implant to produce a threshold of approximately -3.4V. A fourth type is a "natural depletion" device, which has a threshold of approximately -3.8 to -4.0V to accept an N-type implant rather than a boron implant, and these devices are used, for example, in high voltage circuits to
Used as 3,74.
前記したデコーデイング回路は単にEPROMで
はなくROMや読取/書込メモリ等の他のタイプ
のメモリ装置で使用することができる。同様に入
力バツフアのみならずセンス回路とパワーダウン
の特徴も他のタイプの装置で有用である。 The decoding circuit described above can be used not only in EPROM but also in other types of memory devices such as ROM and read/write memory. Similarly, the input buffer as well as sense circuit and power down features are useful in other types of devices.
従つて本発明を実施例について説明してきたが
この説明は限定された意味で解釈されるものでは
ない。本発明の他の実施例やさまざまな修正は本
技術に習熟した人には本説明を見れば明らかであ
る。特許請求の範囲は本発明の真の範囲内に入る
このような修正や実施例を全てカバーしている。 Therefore, although the invention has been described in terms of embodiments, this description is not to be construed in a limiting sense. Other embodiments and various modifications of the invention will be apparent to those skilled in the art upon reviewing this description. The appended claims cover all such modifications and embodiments that fall within the true scope of the invention.
[発明の効果]
本発明の回路構成によればパワーダウン状態か
らトランジスタ回路が早く立上ることができる。[Effects of the Invention] According to the circuit configuration of the present invention, a transistor circuit can quickly start up from a power-down state.
第1図は本発明の特徴を使用したフローテイン
グゲートEPROM型半導体メモリ装置の電気的ブ
ロツク図、第2図および第2′図は第1図のさま
ざまな点における電圧を時間の関数として示すタ
イミング図、第3図は第1図の装置に使用する入
力バツフアの電気回路図、第4図は第1図の装置
に使用するプリデコーダ回路の電気回路図、第4
a図はA0およびA1ビツトの入力バツフア、第
5図は第1図の装置に使用する行デコーダおよび
選定回路の電気回路図、第6図は第1図の装置の
仮想接地選定に使用するデコーダの電気回路図、
第7図は第1図のシステムに使用する列選定デコ
ーダの電気回路図、第8図は第1図の装置のセル
アレイの電気回路図、第9図は第1図の装置のセ
ルアレイの物理的レイアウトを示す半導体チツプ
の小部分の拡大図、第10図A〜Dは第9図の線
A−A,B−B,C−C,D−Dに沿つた断面立
面図、第11図は第1図の装置のセンス増幅器お
よび基準電圧発生器の電気回路図、第11a図は
列線のバイアス点、第12図は高電圧プログラミ
ング制御回路の回路図である。
15…接地選定、16…列選定、17…センス
アンプおよびデータインバツフア、23…制御お
よびクロツク発生器、30…入力バツフア、32
…プリデコーダ、33…共有デコーダ、35…64
中1行デコーダ、37…マルチプレクス、76…
9中1接地選定、78…8中1列選定。
FIG. 1 is an electrical block diagram of a floating gate EPROM type semiconductor memory device using features of the present invention; FIGS. 2 and 2' are timing diagrams showing voltages at various points in FIG. 1 as a function of time; FIG. 3 is an electrical circuit diagram of the input buffer used in the device shown in FIG. 1, and FIG. 4 is an electrical circuit diagram of the predecoder circuit used in the device shown in FIG.
Figure a shows the input buffer for A0 and A1 bits, Figure 5 shows the electric circuit diagram of the row decoder and selection circuit used in the device shown in Figure 1, and Figure 6 shows the decoder used for virtual ground selection in the device shown in Figure 1. electrical circuit diagram,
7 is an electrical circuit diagram of the column selection decoder used in the system of FIG. 1, FIG. 8 is an electrical circuit diagram of the cell array of the device of FIG. 1, and FIG. 9 is a physical diagram of the cell array of the device of FIG. An enlarged view of a small part of the semiconductor chip showing the layout; FIGS. 10A to 10D are cross-sectional elevational views taken along lines A-A, B-B, CC, and D-D in FIG. 9; FIG. 11 11a is an electrical diagram of the sense amplifier and reference voltage generator of the device of FIG. 1, FIG. 11a is a schematic diagram of the column line bias points, and FIG. 12 is a circuit diagram of the high voltage programming control circuit. 15...Ground selection, 16...Column selection, 17...Sense amplifier and data buffer, 23...Control and clock generator, 30...Input buffer, 32
...Pre-decoder, 33...Shared decoder, 35...64
Middle 1 row decoder, 37...Multiplex, 76...
1st ground selection out of 9, 1st row selection out of 78...8.
Claims (1)
能動化端子を有するトランジスタ回路であつて、 (イ) ソース、ドレインおよびゲートを有し、その
ゲートが前記第1入力端子に接続されたデイプ
リーシヨンモードMOSトランジスタ、 (ロ) ソース、ドレインおよびゲートを有し、その
ゲートが前記第2入力端子に接続されたエンハ
ンスメントモードMOSトランジスタ、 (ハ) 前記デイプリーシヨンモードMOSトランジ
スタと前記エンハンスメントモードMOSトラ
ンジスタとの間に接続されパワーダウン機能を
与えるためのMOSトランジスタであつて、前
記パワーダウン機能用MOSトランジスタのド
レインは前記デイプリーシヨンモードMOSト
ランジスタのソースに接続されて出力を作り、
ソースは前記エンハンスメントモードMOSト
ランジスタのドレインに接続され、ゲートは前
記能動化端子に接続されていることを特徴とす
る前記トランジスタ回路。 2 特許請求の範囲第1項に記載のトランジスタ
回路であつて、前記パワーダウン機能用MOSト
ランジスタは、絶対値で、前記エンハンスメント
モードおよびデイプリーシヨンモードMOSトラ
ンジスタより、低い閾値を有するトランジスタ回
路。 3 特許請求の範囲第1項に記載のトランジスタ
回路であつて、前記第1および第2の入力端子に
与えられる入力信号は、相互に反転信号であるト
ランジスタ回路。[Scope of Claims] 1. A transistor circuit having a first input terminal, a second input terminal, and a circuit activation terminal, the transistor circuit having: (a) a source, a drain, and a gate, the gate of which is connected to the first input terminal; (b) an enhancement mode MOS transistor having a source, a drain, and a gate, the gate of which is connected to the second input terminal; (c) the depletion mode MOS transistor connected to the second input terminal; A MOS transistor connected between the transistor and the enhancement mode MOS transistor to provide a power-down function, the drain of the power-down function MOS transistor being connected to the source of the depletion mode MOS transistor for output. make,
The transistor circuit, wherein the source is connected to the drain of the enhancement mode MOS transistor, and the gate is connected to the activation terminal. 2. The transistor circuit according to claim 1, wherein the power-down function MOS transistor has a lower threshold in absolute value than the enhancement mode and depletion mode MOS transistors. 3. The transistor circuit according to claim 1, wherein the input signals applied to the first and second input terminals are mutually inverted signals.
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