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JPS6366436B2 - - Google Patents
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JPS6366436B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6366436B2
JPS6366436B2 JP5726582A JP5726582A JPS6366436B2 JP S6366436 B2 JPS6366436 B2 JP S6366436B2 JP 5726582 A JP5726582 A JP 5726582A JP 5726582 A JP5726582 A JP 5726582A JP S6366436 B2 JPS6366436 B2 JP S6366436B2
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JP
Japan
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optical
substrate
wavelength
integrated
multiplexer
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Application number
JP5726582A
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Japanese (ja)
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JPS58175884A (en
Inventor
Masaru Nakamura
Takeshi Koseki
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar

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  • Physics & Mathematics (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は相互に波長の異なる複数の光の出力強
度偏差の小さい集積化された多波長集積化光源に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an integrated multi-wavelength light source in which output intensity deviation of a plurality of lights having mutually different wavelengths is small.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

波長多重化技術は、光フアイバの有効利用と柔
軟性および自由度に富んだ光通信システムを構成
する上で大きな役割りを果す。この光の波長多重
化通信システムは、第1図に例示するように、中
心波長をλ1、λ2と異にする2つの光源1,2から
発せられた光信号を合波器3にて合波し、これを
光フアイバ・ケーブル4を介して伝送し、分波器
5により上記波長λ1、λ2別に光信号を分波して受
光器6,7にてそれぞれ受信するものである。従
つて波長の異なつた2つの光を信号伝搬媒体とし
て2系統の光信号通信を同時に行うことが可能と
なる。このような波長多重化通信を行う場合、通
信効率の点から上記光の波長間隔をできる限り狭
くして、例えば10Å程度に定めて多くの光を多重
化することが望まれている。
Wavelength multiplexing technology plays a major role in making effective use of optical fibers and constructing optical communication systems that are highly flexible and flexible. In this optical wavelength multiplexing communication system, as illustrated in FIG . The optical signals are multiplexed and transmitted via an optical fiber cable 4, and the optical signals are separated into wavelengths λ 1 and λ 2 by a demultiplexer 5 and received by optical receivers 6 and 7, respectively. . Therefore, it is possible to simultaneously perform two systems of optical signal communication using two lights of different wavelengths as signal propagation media. When performing such wavelength multiplexed communication, it is desired to multiplex a large amount of light by making the wavelength interval of the light as narrow as possible, for example, about 10 Å, from the viewpoint of communication efficiency.

さて、光源として用いられる半導体発光素子の
発光波長を変える場合、従来一般にその組成を変
えることによつて行われている。例えばAlGaAs
系の半導体レーザの場合、第2図に示すように
AlとGaとの構成比を1%程度変化させることに
よつて、そのバンドギヤツプを約0.01eV変化さ
せ、これにより波長にして約70Åの変化を与える
ことができる。ところが、このようにして組成を
変えて発光波長を異ならせた複数の半導体レーザ
を同一基板上に集積化形成することは、特にこれ
らの半導体レーザを近接させて形成することは、
その製造上極めて困難である。
Now, when changing the emission wavelength of a semiconductor light emitting device used as a light source, it has conventionally been generally done by changing its composition. For example, AlGaAs
In the case of a system semiconductor laser, as shown in Figure 2,
By changing the composition ratio of Al and Ga by about 1%, the band gap can be changed by about 0.01 eV, which can give a change in wavelength of about 70 Å. However, it is difficult to integrate multiple semiconductor lasers with different compositions and different emission wavelengths on the same substrate, especially to form these semiconductor lasers in close proximity.
It is extremely difficult to manufacture.

これに対して組成の均一な基板上に回折格子を
形成し、その格子定数を変化させることによつて
発光波長を可変させた半導体レーザがある。この
半導体レーザは、所謂DFB(分布帰還)やDBR
(分布ブラツグ反射)技術を利用したもので、例
えば第3図に示すように半導体レーザ8のレーザ
活性層9の近傍に凹凸状の回折格子10を形成し
て分布的な光共振器を構成した構造を有するもの
である。このような構造の半導体レーザの発光波
長はその組成に依存することなく、前記回折格子
10の凹凸サイズだけによつて決定され、波長精
度が高いという利点を有している。従つて、集積
化波長多重光源として適していると考えられる。
On the other hand, there is a semiconductor laser in which a diffraction grating is formed on a substrate with a uniform composition and the emission wavelength is varied by changing the lattice constant. This semiconductor laser uses so-called DFB (distributed feedback) and DBR.
(distributed blurred reflection) technology, for example, as shown in FIG. 3, an uneven diffraction grating 10 is formed near the laser active layer 9 of a semiconductor laser 8 to construct a distributed optical resonator. It has a structure. The emission wavelength of a semiconductor laser having such a structure is determined only by the size of the unevenness of the diffraction grating 10 without depending on its composition, and has the advantage of high wavelength accuracy. Therefore, it is considered suitable as an integrated wavelength multiplexed light source.

ところが、その発振機構を考慮すると同時集積
された各半導体レーザの発光出力強度の偏差が大
きいと云う問題を有している。即ち、第4図aに
p型活性層を有するGaAlAs半導体レーザの利得
特性を、上記活性層に注入される少数キヤリア
(電子)濃度nをパラメータとして示すように、
その中心利得は注入キヤリアに比例して増大す
る。このとき、上記半導体レーザが発振する場合
には、上記利得が例えば自由キヤリア吸収、散乱
損失、反射損失等の種々の損失より上回ることが
必要である。一般的なGaAlAs半導体において発
振國値を与える利得係数は約300cm-1であり、第
4図aに示す特性から明らかなように注入キヤリ
アを2.0×1018cm-3とした場合、約100Åの範囲で
レーザ発振光を得ることができる。従つて波長間
隔10Åで約10波の光を多重発光する光源を形成す
ることが可能となる。然し乍ら、このようにして
得られる各波長の発振閾値電流値が第4図bに示
すように異なつており、同一電流値で駆動した場
合、出力強度偏差を有すると云う問題がある。即
ち、短波長側より波長をλ1、λ2〜λ10としたとき、
中心近傍の波長λ5、λ6の出力強度が高く、両端の
波長側で出力強度が低くなると云う問題がある。
However, when considering the oscillation mechanism, there is a problem in that there is a large deviation in the emission output intensity of each simultaneously integrated semiconductor laser. That is, as shown in FIG. 4a, the gain characteristics of a GaAlAs semiconductor laser having a p-type active layer are shown using the minority carrier (electron) concentration n injected into the active layer as a parameter.
Its center gain increases in proportion to the injected carrier. At this time, when the semiconductor laser oscillates, the gain needs to exceed various losses such as free carrier absorption, scattering loss, and reflection loss. The gain coefficient that gives the oscillation value in a general GaAlAs semiconductor is about 300 cm -1 , and as is clear from the characteristics shown in Figure 4a, when the injection carrier is 2.0 × 10 18 cm -3 , the gain coefficient of about 100 Å Laser oscillation light can be obtained within the range. Therefore, it is possible to form a light source that multiplexes approximately 10 waves of light with a wavelength interval of 10 Å. However, there is a problem in that the oscillation threshold current values for each wavelength obtained in this manner are different as shown in FIG. 4b, and that when driven with the same current value, there is an output intensity deviation. That is, when the wavelengths are λ 1 , λ 2 to λ 10 from the short wavelength side,
There is a problem in that the output intensity at the wavelengths λ 5 and λ 6 near the center is high, and the output intensity is low at the wavelengths at both ends.

一方、このようなして得られた波長の異なる光
を合波する光合波器についても、従来より種種開
発されている。しかし、上記集積化された複数の
半導体レーザと共に光合波器を集積化して小型化
を図る場合、挿入損失の均一化を図ること等の
種々の問題が生じる。第5図はLiNbO3結晶基板
11上にTiを拡散して光導波路12を形成した
光導波路型の光合波器を示すものであり、導波路
寸法は約5〜10μm、導波路厚2〜3μm、導波路
間隔を500μm程度とした構造を有し、全体として
1cm角程度の大きさを有する。ところが、このよ
うに集積化された小型の合波器にあつては、従
来、個別部品を用いて構成された合波器において
は問題となることがなかつた導波路の曲りによる
伝搬光の放射損失が大きな問題となる。このこと
は複数の入力ポートと出力ポートとの間のそれぞ
れの光伝搬損失が異なることを意味する。
On the other hand, various types of optical multiplexers for multiplexing the thus obtained lights of different wavelengths have been developed. However, when an optical multiplexer is integrated with the plurality of integrated semiconductor lasers to achieve miniaturization, various problems arise, such as the need to equalize insertion loss. FIG. 5 shows an optical waveguide type optical multiplexer in which an optical waveguide 12 is formed by diffusing Ti on a LiNbO 3 crystal substrate 11, and the waveguide dimensions are approximately 5 to 10 μm and the waveguide thickness is 2 to 3 μm. It has a structure in which the waveguide spacing is about 500 μm, and the overall size is about 1 cm square. However, in such a small integrated multiplexer, radiation of propagating light due to waveguide bending has not been a problem in conventional multiplexers constructed using individual components. Losses become a big problem. This means that the optical propagation losses between the plurality of input ports and the output ports are different.

このように集積化された小型の波長多重集積化
光源を得ようとする場合、上述したように複数の
半導体レーザが出力する波長の異なつた光の出力
強度偏差の問題や、合波器の入出力ポート間の光
伝搬損失の異なり等の問題があつた。この為、波
長多重化通信に用いられる波長多重化光源として
の実用性に問題があつた。
When trying to obtain a compact wavelength-multiplexing integrated light source that is integrated in this way, there are problems with the output intensity deviation of the light of different wavelengths output by multiple semiconductor lasers, as described above, and the input of the multiplexer. There were problems such as differences in optical propagation loss between output ports. For this reason, there was a problem in its practicality as a wavelength multiplexed light source used in wavelength multiplexed communications.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、このような事情を考慮してなされた
もので、その目的とするところは、波長多重化し
て出力する相互に波長の異なる光の出力光強度偏
差を小さく抑えた小型形状の実用性の高い多波長
集積化光源を提供することにある。
The present invention has been made in consideration of these circumstances, and its purpose is to achieve practicality in a compact form that suppresses the deviation in output light intensity of lights of different wavelengths that are wavelength-multiplexed and output. The objective of the present invention is to provide a multi-wavelength integrated light source with high performance.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、回折格子の分布定数を変えて発光波
長を異ならせた複数の半導体レーザの出力光強度
の偏差および光合波器のポート間の光伝搬損失の
差がその構造に依存していることを利用し、出力
光強度の高い波長の光を出力する半導体レーザ
と、光合波器の損失の大なる入力ポートとを光結
合し、逆に出力光強度の低い光を出力する半導体
レーザと光合波器の損失の小さい入力ポートとを
光結合することによつて、複数の半導体レーザと
合波器の入力ポートとをそれぞれ対応づけて光結
合することによつて総合的に合波出力における各
波長光の出力偏差を抑えるようにしたものであ
る。
The present invention provides that the deviation in the output light intensity of a plurality of semiconductor lasers whose emission wavelengths are different by changing the distribution constant of the diffraction grating and the difference in optical propagation loss between ports of an optical multiplexer depend on the structure thereof. The semiconductor laser that outputs light at a wavelength with high output light intensity is optically coupled to the input port of the optical multiplexer, which has a large loss, and conversely, the semiconductor laser that outputs light with low output light intensity is optically coupled. By optically coupling the input ports of the multiplexer with low loss, and by optically coupling the multiple semiconductor lasers and the input ports of the multiplexer in correspondence with each other, each of the multiplexed outputs can be This is designed to suppress the output deviation of wavelength light.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

従つて本発明によれば、波長の異なる光の出力
強度偏差を合波器のポート間における損失差を利
用して効果的に相殺し、これによつて合波出力の
強度偏差を簡易に抑制してその小型集積化を図る
ことができる。これ故、波長多重化通信における
光源装置として絶大なる効果を奏し、その実用的
利点は絶大である。
Therefore, according to the present invention, the output intensity deviation of lights of different wavelengths can be effectively canceled by using the loss difference between the ports of the multiplexer, and thereby the intensity deviation of the combined output can be easily suppressed. By doing so, it is possible to achieve miniaturization and integration. Therefore, it is extremely effective as a light source device in wavelength multiplexed communication, and its practical advantages are enormous.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、図面を参照して本発明の実施例につき説
明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第6図は第1の実施例を示す概略構成図であ
り、21は複数の半導体レーザ22a,22b〜
22nを形成してなる第1の基板、23は光導波
路からなる光合波器を形成した第2の基板を示し
ている。半導体レーザ22a,22b〜22n
は、例えばGaAlAs基板21上に組成を同じくし
て形成され、DBR型の回折格子24を設けて相
互に発光波長を異ならせて同時集積化された構造
を有する。これらの各半導体レーザ22a,22
b〜22nの発光波長間隔は、前記DBR型の回
折格子24の分布定数を変えることにより10Åに
設定されている。尚、これらの半導体レーザ22
a,22b〜22nは、光発振方向を揃えて並列
的に近接配置されている。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing the first embodiment, and 21 is a plurality of semiconductor lasers 22a, 22b--
A first substrate 22n is formed, and 23 is a second substrate formed with an optical multiplexer consisting of an optical waveguide. Semiconductor lasers 22a, 22b to 22n
They have a structure in which they are formed with the same composition on, for example, a GaAlAs substrate 21, are provided with a DBR type diffraction grating 24, and are simultaneously integrated with different emission wavelengths. Each of these semiconductor lasers 22a, 22
The emission wavelength interval from b to 22n is set to 10 Å by changing the distribution constant of the DBR type diffraction grating 24. Note that these semiconductor lasers 22
a, 22b to 22n are arranged close to each other in parallel with the light oscillation directions aligned.

一方、光合波器23は、その基板である
LiNbO3結晶上にTiを拡散して光導波路25を形
成したものであり、前記第5図に示した如き構造
を有している。この光合波器23は、前記各半導
体レーザ22a,22b〜22nより出力された
波長の異なる光を、その入力ポートよりそれぞれ
入力し、これを合波合成(多重化)して出力ポー
トより出力するものである。
On the other hand, the optical multiplexer 23 is its substrate.
The optical waveguide 25 is formed by diffusing Ti on a LiNbO 3 crystal, and has a structure as shown in FIG. 5 above. This optical multiplexer 23 inputs the lights of different wavelengths outputted from each of the semiconductor lasers 22a, 22b to 22n through its input ports, multiplexes them, and outputs them from its output port. It is something.

しかして、各半導体レーザ22a,22b〜2
2nと合波器23の各入力ポートとの光学的結合
は次のようにして行われている。今、10波の光の
波長を短波長側よりλ1、λ2〜λ10としたとき、こ
れらに対して光強度の大なるものより順に順位を
設定する。一方、光合波器23にあつては光伝搬
損失の大なる特性を有する入力ポート側より順に
順位を設定する。そしてこれらの順位に従つて半
導体レーザ22a,22b〜22nと入力ポート
とを相互に対応付けして両者を光学的に結合す
る。つまり、この場合には波長λ5、λ6の光を出力
する半導体レーザを光合波器23の最外側に位置
する入力ポートにそれぞれ対向して設ける。そし
て、内側に内つて、波長λ4、λ7の光を出力する半
導体レーザ、波長λ3、λ8の光を出力する半導体レ
ーザと云うように順に入力ポートに対向させて配
置する。従つて最内側の入力ポートには波長λ1
λ10の光を出力する半導体レーザが対向配置され
ることになる。尚、このような各半導体レーザ2
2a,22b〜22nの発光波長設定は、前述し
たようにDBR型回折格子24の分布定数を可変
設定することにより定められる。また、ここでは
半導体レーザ22a〜22nと光合波器23と
は、別の基板にそれぞれ形成し、これを近接配置
して上述した光学的結合を行つた例を示している
が、これらを一枚の基板上に同時集積して形成す
ることも勿論可能である。
Therefore, each semiconductor laser 22a, 22b-2
Optical coupling between 2n and each input port of the multiplexer 23 is performed as follows. Now, assuming that the wavelengths of the 10 waves of light are λ 1 , λ 2 to λ 10 from the shortest wavelength side, these are ranked in descending order of light intensity. On the other hand, for the optical multiplexer 23, the ranking is set in order from the input port side having the characteristic of large optical propagation loss. Then, according to these orders, the semiconductor lasers 22a, 22b to 22n and the input ports are associated with each other and optically coupled. That is, in this case, semiconductor lasers that output light with wavelengths λ 5 and λ 6 are provided facing the outermost input ports of the optical multiplexer 23, respectively. Inside, semiconductor lasers that output light with wavelengths λ 4 and λ 7 and semiconductor lasers that output light with wavelengths λ 3 and λ 8 are arranged facing the input port in this order. Therefore, the innermost input port has the wavelength λ 1 ,
Semiconductor lasers that output light with a wavelength of λ 10 will be placed facing each other. Incidentally, each semiconductor laser 2 like this
The emission wavelength setting of 2a, 22b to 22n is determined by variably setting the distribution constant of the DBR type diffraction grating 24, as described above. Furthermore, here, an example is shown in which the semiconductor lasers 22a to 22n and the optical multiplexer 23 are formed on separate substrates, and placed close to each other to perform the above-mentioned optical coupling. Of course, it is also possible to simultaneously integrate and form them on the same substrate.

かくして、このように構成された多波長集積化
光源によれば、出力強度偏差を以つて各半導体レ
ーザ22a,22b〜22nよりそれぞれ出力さ
れた波長を異にする光は、損失特性の異なる入力
ポートからそれぞれ入力されて合波多重化される
ことになる。しかも出力強度の高い波長光に対し
て大きな損失が与えられるようになつている。従
つて合波多重化された出力における各波長の光強
度が平均化され、その強度偏差が効果的に抑制さ
れることになる。
Thus, according to the multi-wavelength integrated light source configured in this way, the light having different wavelengths outputted from each of the semiconductor lasers 22a, 22b to 22n with output intensity deviation is transmitted to input ports having different loss characteristics. The signals are inputted from each other and multiplexed. Moreover, a large loss is caused to wavelength light with high output intensity. Therefore, the light intensity of each wavelength in the multiplexed output is averaged, and the intensity deviation is effectively suppressed.

これ故、波長多重化通信における集積化光源と
して非常に有用である。しかも集積化による小型
化を容易に図ることができ実用的利点も多大であ
る等の効果を奏する。
Therefore, it is very useful as an integrated light source in wavelength multiplexed communications. Moreover, it can be easily miniaturized through integration, and has many practical advantages.

ところで、各半導体レーザの出力強度の均一化
を図る場合、半導体レーザの印加電流を変化させ
たり、あるいは温度を変えたりすればよいと云う
考え方がある。然し乍ら、上記の如く集積化され
た光源の寸法は、非常に小さいものであるから、
個々の半導体レーザのそれぞれについて上記制御
を行うことは甚だ困難である。また仮り、このよ
うな制御が可能であるとしても、その制御機構が
非常に複雑になり、例えば電流値の変化が温度の
変化としても現われる。これ故、そのような制御
を行う為にはそれなりの工夫が必要となり、集積
化・小型化された多波長集積化光源のメリツトが
失われてしまう。従つて、上記のように、半導体
レーザと合波器の入力ポートとの光結合関係を、
出力強度および入力ポートの損失特性に対応付け
して定めることが極めて大きな利点を奏すると云
える。
By the way, there is a concept that in order to equalize the output intensity of each semiconductor laser, it is sufficient to change the applied current to the semiconductor laser or change the temperature. However, since the dimensions of the integrated light source as described above are very small,
It is extremely difficult to perform the above control for each individual semiconductor laser. Furthermore, even if such control were possible, the control mechanism would be extremely complicated, and for example, a change in current value would also appear as a change in temperature. Therefore, in order to perform such control, a certain degree of ingenuity is required, and the merits of the multi-wavelength integrated light source, which is integrated and miniaturized, are lost. Therefore, as mentioned above, the optical coupling relationship between the semiconductor laser and the input port of the multiplexer is
It can be said that determining the output intensity in correspondence with the loss characteristics of the input port has an extremely large advantage.

さて、第7図は本発明の別の実施例を示す図で
あり、合波器26を回折格子27を用いて構成し
た例を示すものである。この場合、出力ポートよ
り遠い側の入力ポートほど回折格子27を通過す
る回数が増え、この結果損失が増大するので、半
導体レーザ22a,22b〜22nの発光波長
を、その出力強度の高いものから順に上記出力ポ
ートから遠い方の入力ポートに対して対向付けし
て光学的結合を行わしめるようにすればよい。
Now, FIG. 7 is a diagram showing another embodiment of the present invention, and shows an example in which the multiplexer 26 is constructed using a diffraction grating 27. In this case, the farther the input port is from the output port, the more times it passes through the diffraction grating 27, and as a result, the loss increases. Optical coupling may be effected by arranging it to face the input port farther from the output port.

このようにしても前述した実施例と同様な効果
が奏せられることは云うまでもない。
Needless to say, even in this case, the same effects as in the above-mentioned embodiment can be achieved.

以上説明したように本発明によれば、波長の異
なる光を同時集積された複数の半導体レーザより
発振出力し、これを強度偏差を抑制して合波多重
化して出力することができる。しかも、小型に集
積化することができ、その構造も簡単である。従
つて波長多重通信に用いられる光源として、実用
上多大なる効果を奏する。
As described above, according to the present invention, it is possible to oscillate and output light having different wavelengths from a plurality of simultaneously integrated semiconductor lasers, and to combine and multiplex the light while suppressing intensity deviation and output the light. Moreover, it can be integrated into a small size and its structure is simple. Therefore, it has great practical effects as a light source used in wavelength division multiplexing communications.

尚、本発明は上記実施例に限定されるものでは
ない。例えば複数の光の波長間隔や波長数等は仕
様に応じて定めればよい。またDBR型の回折格
子に代えてDFB型の回折格子を用いて半導体レ
ーザを構成することができる。要するに本発明は
その要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施す
ることができる。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments. For example, the wavelength interval and the number of wavelengths of a plurality of lights may be determined according to specifications. Further, a semiconductor laser can be constructed using a DFB type diffraction grating instead of a DBR type diffraction grating. In short, the present invention can be implemented with various modifications without departing from the gist thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は波長多重通信システムの概略図、第2
図はAlGaAs半導体レーザの組成によるバンドギ
ヤツプの変化を示す図、第3図はDFB型半導体
レーザの構造を示す図、第4図a,bはAlGaAs
半導体レーザの利得特性と出力強度とを示す図、
第5図は光導波路型合波器の一例を示す図、第6
図は本発明の一実施例を示す概略構成図、第7図
は本発明の別の実施例を示す構成図である。 22a,22b〜22n…半導体レーザ、23
…光合波器、24…DBR型回折格子、25…半
導波路、26…光合波器、27…回折格子。
Figure 1 is a schematic diagram of a wavelength division multiplexing communication system, Figure 2
The figure shows the change in bandgap depending on the composition of an AlGaAs semiconductor laser, Figure 3 shows the structure of a DFB semiconductor laser, and Figure 4 a and b show AlGaAs semiconductor lasers.
A diagram showing gain characteristics and output intensity of a semiconductor laser,
Figure 5 is a diagram showing an example of an optical waveguide type multiplexer, Figure 6
The figure is a schematic block diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a block diagram showing another embodiment of the present invention. 22a, 22b to 22n... semiconductor laser, 23
...Optical multiplexer, 24... DBR type diffraction grating, 25... Half waveguide, 26... Optical multiplexer, 27... Diffraction grating.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基板上に発振波長を相互に異ならせて同時集
積して形成された同一組成からなるn個の半導体
レーザと、基板上に集積形成された前記各半導体
レーザからそれぞれ出力された発振波長を相互に
異にする光を合波する合波器を備え、該合波器は
前記各半導体レーザから出力された発振波長を相
互に異にする光をそれぞれ入力するn個の入力ポ
ートと入力した光を合波して出力する出力ポート
を有し、且つ前記n個の半導体レーザと入力ポー
トとは出力光強度の高い半導体レーザが出力ポー
トとの間の光伝播損失が高い入力ポートに順次対
応して光結合するように配置されていることを特
徴とする多波長集積化光源。 2 半導体レーザを集積形成した基板と光合波器
を集積形成した基板とは同一基板であつて、半導
体レーザと光合波器との光結合は、前記基板上に
形成された光導波路を介して行なわれるものであ
る特許請求の範囲第1項記載の多波長集積化光
源。 3 半導体レーザを集積形成した基板と、光合波
器を集積形成した基板とは、相互に近接配置され
る2つの別基板からなり、半導体レーザと光合波
器との光結合は、前記2つの別基板の対向配置さ
れた光入出力ポート間に形成される光伝播路を介
して行なわれるものである特許請求の範囲第1項
記載の多波長集積化光源。 4 光合波器は、基板上に回析格子を形成した構
造からなるものである特許請求の範囲第1項記載
の多波長集積化光源。 5 光合波器は、LiNbO3結晶基板上にTiを選択
的に拡散して光導波路を形成した構造からなるも
のである特許請求の範囲第1項記載の多波長集積
化装置。
[Scope of Claims] 1. n semiconductor lasers of the same composition formed by simultaneous integration on a substrate with different oscillation wavelengths, and respective outputs from each of the semiconductor lasers integrated on the substrate. The multiplexer is equipped with a multiplexer for multiplexing the light beams having different oscillation wavelengths, and the multiplexer has n light beams each having a different oscillation wavelength outputted from each of the semiconductor lasers. It has an input port and an output port that multiplexes and outputs the input light, and the n semiconductor lasers and the input port have a high optical propagation loss between the semiconductor laser with high output light intensity and the output port. A multi-wavelength integrated light source characterized by being arranged to optically couple input ports in sequence. 2. The substrate on which the semiconductor laser is integrated and the substrate on which the optical multiplexer is integrated are the same substrate, and optical coupling between the semiconductor laser and the optical multiplexer is performed via an optical waveguide formed on the substrate. 2. A multi-wavelength integrated light source according to claim 1. 3. The substrate on which the semiconductor laser is integrated and the substrate on which the optical multiplexer is integrated are two separate substrates that are placed close to each other, and the optical coupling between the semiconductor laser and the optical multiplexer is performed by the two separate substrates. 2. The multi-wavelength integrated light source according to claim 1, wherein the multi-wavelength integrated light source is transmitted through an optical propagation path formed between optical input/output ports arranged oppositely on the substrate. 4. The multi-wavelength integrated light source according to claim 1, wherein the optical multiplexer has a structure in which a diffraction grating is formed on a substrate. 5. The multi-wavelength integrated device according to claim 1, wherein the optical multiplexer has a structure in which an optical waveguide is formed by selectively diffusing Ti on a LiNbO 3 crystal substrate.
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