JPS6367178B2 - - Google Patents
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- JPS6367178B2 JPS6367178B2 JP56046612A JP4661281A JPS6367178B2 JP S6367178 B2 JPS6367178 B2 JP S6367178B2 JP 56046612 A JP56046612 A JP 56046612A JP 4661281 A JP4661281 A JP 4661281A JP S6367178 B2 JPS6367178 B2 JP S6367178B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はネガテイブに作用する露出されたジア
ゾニウム塩重縮合生成物を基礎とする複写材料の
現像に好適である現像液に関する。
ゾニウム塩重縮合生成物を基礎とする複写材料の
現像に好適である現像液に関する。
前記タイプの複写材料は印刷版及びフオトレジ
ストの製造に適用するのに有利であり、これは層
支持体及びネガテイブに作用する感光性複写層か
らなる。
ストの製造に適用するのに有利であり、これは層
支持体及びネガテイブに作用する感光性複写層か
らなる。
この層支持体としては亜鉛、クロム、銅、黄
銅、スチール又はアルミニウムのような金属及び
プラスチツク膜、紙等を場合により適当な予備処
理後に使用する。
銅、スチール又はアルミニウムのような金属及び
プラスチツク膜、紙等を場合により適当な予備処
理後に使用する。
好適な複写層は水不溶性ジアゾニウム塩重縮合
生成物及び結合剤として水不溶性の、特に弱酸性
又はアルカリ性水溶液中ですらも不溶性の樹脂を
基礎とするものである。
生成物及び結合剤として水不溶性の、特に弱酸性
又はアルカリ性水溶液中ですらも不溶性の樹脂を
基礎とするものである。
露出されたこの種の複写材料の現像液は通常有
機溶剤の添加を必要とする。しかしながら、通常
有機溶剤を50重量%以下含有する現像液は露出し
ていない層部分を本当の溶解に導びかず、単にこ
の範囲が支持体から多少大きな薄片の形で分離す
るだけである。十分過剰量の現像液を用いて、手
で複写層を現像するならばはつきりと現像された
像が通常得られる;しかしこの場合、高価な有機
溶剤含有現像液の消費量は高く、かつ現像液の除
去又は再処理は付加的な作業及び費用を必要とす
る。
機溶剤の添加を必要とする。しかしながら、通常
有機溶剤を50重量%以下含有する現像液は露出し
ていない層部分を本当の溶解に導びかず、単にこ
の範囲が支持体から多少大きな薄片の形で分離す
るだけである。十分過剰量の現像液を用いて、手
で複写層を現像するならばはつきりと現像された
像が通常得られる;しかしこの場合、高価な有機
溶剤含有現像液の消費量は高く、かつ現像液の除
去又は再処理は付加的な作業及び費用を必要とす
る。
もし現像を連続法で行なうならば、比較的短か
い時間の後に現像液中に分散した層の不溶性成分
が装置中に、時には現像するための版上にすら沈
殿し、こうしてこの版を使用できないものとする
ので、前記種類の強力印刷版の現像において特に
困難が現われた。
い時間の後に現像液中に分散した層の不溶性成分
が装置中に、時には現像するための版上にすら沈
殿し、こうしてこの版を使用できないものとする
ので、前記種類の強力印刷版の現像において特に
困難が現われた。
従つて、高濃度の有機溶剤を含有する現像液
(例えば、少なくとも50%)を前記タイプの複写
層の現像に使用した(西ドイツ国特許公開第
2024244号公報、例57参照)。しかし、有機溶剤の
そのように高い含有量においてすら、多量の水不
溶性結合剤を含有する層の場合には複写層からの
不溶性固体の残分が現像液中に分散して残留す
る。現像液に比較的多量の湿潤剤を加えることに
より完全でかつ安定な分散液及びくつきりした現
像が得られるが、それにもかかわらず前記例中に
詳説した種類の現像液は過剰の泡を立てるのでこ
の現像液を自動現像装置に適用することは不可能
である。
(例えば、少なくとも50%)を前記タイプの複写
層の現像に使用した(西ドイツ国特許公開第
2024244号公報、例57参照)。しかし、有機溶剤の
そのように高い含有量においてすら、多量の水不
溶性結合剤を含有する層の場合には複写層からの
不溶性固体の残分が現像液中に分散して残留す
る。現像液に比較的多量の湿潤剤を加えることに
より完全でかつ安定な分散液及びくつきりした現
像が得られるが、それにもかかわらず前記例中に
詳説した種類の現像液は過剰の泡を立てるのでこ
の現像液を自動現像装置に適用することは不可能
である。
他の種類の層にとつて、わずかな比率の水を有
すか又は全く水を有さない現像液が記載されてい
る(西ドイツ国特許公告第2012390号公報参照)、
これらの現像液は湿潤剤をも含有し、通常これら
は前記組成の印刷版の現像には強力すぎる。
すか又は全く水を有さない現像液が記載されてい
る(西ドイツ国特許公告第2012390号公報参照)、
これらの現像液は湿潤剤をも含有し、通常これら
は前記組成の印刷版の現像には強力すぎる。
更に、カナダ特許第1057105号明細書中に記載
されたように現像されるための印刷版に好適であ
る現像液が提示されており、これは95%までの有
機溶剤、例えばグリコール又はグリコールエーテ
ル及び湿潤剤を含有している。これらの現像液は
60〜110℃の範囲の温度で適用される(カナダ特
許第1057105号明細書、第9頁、第6〜7行及び
第17〜18行を参照)。この温度では、この現像液
を自動現像装置中で使用する場合強い起泡性を示
す。
されたように現像されるための印刷版に好適であ
る現像液が提示されており、これは95%までの有
機溶剤、例えばグリコール又はグリコールエーテ
ル及び湿潤剤を含有している。これらの現像液は
60〜110℃の範囲の温度で適用される(カナダ特
許第1057105号明細書、第9頁、第6〜7行及び
第17〜18行を参照)。この温度では、この現像液
を自動現像装置中で使用する場合強い起泡性を示
す。
従つて、本発明の課題は水不溶性ジアゾニウム
塩重縮合生成物及び水不溶性結合剤を基礎とする
感光層のための現像液で、露出していない層の完
全な溶解を確実とし、自動現像装置中での使用に
好適である現像液を供給することである。
塩重縮合生成物及び水不溶性結合剤を基礎とする
感光層のための現像液で、露出していない層の完
全な溶解を確実とし、自動現像装置中での使用に
好適である現像液を供給することである。
本発明は水不溶性結合剤及び水不溶性ジアゾニ
ウム塩重縮合生成物を含有する露出した感光性複
写材料を現像するための、主要成分としてグリコ
ールエーテル、グリコールエステル及び水より成
る現像液を基礎とする。
ウム塩重縮合生成物を含有する露出した感光性複
写材料を現像するための、主要成分としてグリコ
ールエーテル、グリコールエステル及び水より成
る現像液を基礎とする。
本発明による現像液の特徴は、これが式:
〔式中、nは1〜4の数値を表わし、mは1〜
5の数値を表わす〕の化合物30〜80%、式: 〔式中、R1及びR2は炭素原子数1〜4のアシ
ル基を表わすか、又は2個の基の1個が水素原子
を表わし、かつR3が水素原子又はメチル基であ
る〕の化合物3〜30%、1,3―ジオキソラン―
2―オン又は4―メチル―1,3―ジオキソラン
―2―オン0〜15%、多価アルコール0〜20%、
溶剤混合物中に可溶性である有機又は無機塩0〜
10%及び水5〜45%から成るということである。
ここにあげた「%」は「重量%」を表わす。
5の数値を表わす〕の化合物30〜80%、式: 〔式中、R1及びR2は炭素原子数1〜4のアシ
ル基を表わすか、又は2個の基の1個が水素原子
を表わし、かつR3が水素原子又はメチル基であ
る〕の化合物3〜30%、1,3―ジオキソラン―
2―オン又は4―メチル―1,3―ジオキソラン
―2―オン0〜15%、多価アルコール0〜20%、
溶剤混合物中に可溶性である有機又は無機塩0〜
10%及び水5〜45%から成るということである。
ここにあげた「%」は「重量%」を表わす。
本発明の現像液を用いて現像することのできる
複写材料は例えば西ドイツ国特許公開第2024244
号公報(米国特許第3867147号明細書に相応する)
中に記載されている。
複写材料は例えば西ドイツ国特許公開第2024244
号公報(米国特許第3867147号明細書に相応する)
中に記載されている。
本発明による現像液を現像機中で使用する場
合、これら現像液は現像工程中で除去される層成
分の完全な溶解を確実とし、かつ全く低沸点成分
を含有しないので、長い使用寿命を有する。現像
液の有機成分は100℃以上、特に150℃以上の沸点
を有するのが有利である。
合、これら現像液は現像工程中で除去される層成
分の完全な溶解を確実とし、かつ全く低沸点成分
を含有しないので、長い使用寿命を有する。現像
液の有機成分は100℃以上、特に150℃以上の沸点
を有するのが有利である。
本発明による現像液の主成分は式:
〔式中、n及びmは前記のものを表わす〕の化
合物である。nが1〜3の数値及びmが1〜3の
数値であるのが有利であり、特に1であるのが有
利である。グリコールエーテルは一般に溶液に対
し30〜80重量%の量で存在し、45〜60重量%であ
るのが有利である。
合物である。nが1〜3の数値及びmが1〜3の
数値であるのが有利であり、特に1であるのが有
利である。グリコールエーテルは一般に溶液に対
し30〜80重量%の量で存在し、45〜60重量%であ
るのが有利である。
溶液中に含有される別の必要な成分は式:
〔式中、R1,R2及びR3は前記のものを表わす〕
のグリコールエステルである。
のグリコールエステルである。
好適なグリコールエステルは、例えばモノ酢酸
グリコール及びジ酢酸グリコール、プロピオン酸
グリコール又はモノ酢酸プロパンジオールであ
る。モノ酢酸グリコール及びジ酢酸グリコールは
有利である。グリコールエステルは溶液中に3〜
30重量%の量、有利に10〜20重量%の量で含有さ
れるのがよい。
グリコール及びジ酢酸グリコール、プロピオン酸
グリコール又はモノ酢酸プロパンジオールであ
る。モノ酢酸グリコール及びジ酢酸グリコールは
有利である。グリコールエステルは溶液中に3〜
30重量%の量、有利に10〜20重量%の量で含有さ
れるのがよい。
更に添加物として、ジオキソラン誘導体、例え
ば、1,3―ジオキソラン―2―オン及び4―メ
チル―1,3―ジオキソラン―2―オンを15重量
%まで、有利に8重量%まで溶液に加えるのが良
い。
ば、1,3―ジオキソラン―2―オン及び4―メ
チル―1,3―ジオキソラン―2―オンを15重量
%まで、有利に8重量%まで溶液に加えるのが良
い。
更に、より高い分子量のアルコール及びグリコ
ールエーテル、例えばテトラヒドロフルフリルア
ルコール、ベンジルアルコール、3―メトキシ―
ブタノール、ジアセトンアルコール、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノフエニルエーテル及びジエチレングリコ
ールジメチルエーテルが付加溶剤として使用する
のに好適である。
ールエーテル、例えばテトラヒドロフルフリルア
ルコール、ベンジルアルコール、3―メトキシ―
ブタノール、ジアセトンアルコール、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノフエニルエーテル及びジエチレングリコ
ールジメチルエーテルが付加溶剤として使用する
のに好適である。
可塑化作用を有する多価アルコール、例えば、
グリセロール、エチレングリコール又はプロピレ
ングリコールを0〜20重量%、有利に3〜15重量
%の量で加えることは可能である。
グリセロール、エチレングリコール又はプロピレ
ングリコールを0〜20重量%、有利に3〜15重量
%の量で加えることは可能である。
現像溶液は付加的に無機又は有機塩、例えば、
安息香酸アンモニウム又は酒石酸ナトリウム、硝
酸リチウム、硝酸ストロンチウム又は硫酸マグネ
シウムを全量で0〜10重量%で含有してよい。
安息香酸アンモニウム又は酒石酸ナトリウム、硝
酸リチウム、硝酸ストロンチウム又は硫酸マグネ
シウムを全量で0〜10重量%で含有してよい。
一般に、本明細書の現像液は2〜12、有利に約
6〜8のPH範囲であり、アルカリ性の範囲では前
記塩の1つで調節し、酸の範囲は有利に有機酸で
調節する。
6〜8のPH範囲であり、アルカリ性の範囲では前
記塩の1つで調節し、酸の範囲は有利に有機酸で
調節する。
低沸点成分は本発明による現像液中に含まれな
い。5〜45重量%、有利に15〜28重量%の量で存
在する水は通常最も低い沸点を有する成分であ
る。
い。5〜45重量%、有利に15〜28重量%の量で存
在する水は通常最も低い沸点を有する成分であ
る。
従つて、使用中に現像液は僅かな組成の変化を
受けるだけであり、機械中での使用寿命は比較的
長い。
受けるだけであり、機械中での使用寿命は比較的
長い。
その他にこの現像液の利点は湿潤剤の添加を必
要としないことである。それは室温で十分に作用
するが、所望であればわずかに高めた温度、例え
ば40℃で過度に強力になることなしに適用するこ
ともできる。通常の適用温度で、不快な臭いはほ
とんど放出されない。
要としないことである。それは室温で十分に作用
するが、所望であればわずかに高めた温度、例え
ば40℃で過度に強力になることなしに適用するこ
ともできる。通常の適用温度で、不快な臭いはほ
とんど放出されない。
次に実施例につき本発明を詳細に説明する。他
に記載のない限り、「%」及び「部」はそれぞれ
「重量%」及び「重量部」を表わす。
に記載のない限り、「%」及び「部」はそれぞれ
「重量%」及び「重量部」を表わす。
例 1
研摩剤懸濁液でブラツシングすることにより表
面をザラザラにしたアルミ箔をポリビニルホスホ
ン酸0.3%を含有する60℃の水浴中に1分間浸漬
し、次いで乾燥た。このようにして処理した箔を エチレングリコールモノメチルエーテル
60.0部、 テトラヒドロフラン 20.0部、 ジメチルホルムアミド 10.0部及び 酢酸ブチル 10.0部 中の 85%燐酸中で3―メトキシ―ジフエニルアミン
―4―ジアゾニウムスルフエート1モル及び4,
4′―ビス―メトキシメチルジフエニルエーテル
1モルから製造し、メシチレンスルホネートとし
て単離した重縮合生成物 0.7部、 85%燐酸 3.4部及び 融点70℃及びエポキシ当量459を有するエポキ
シ樹脂を塩酸と反応させることにより得られた反
応生成物 3.0部 の溶液で被覆し、次いで乾燥させた。得られた感
光材料を像に関して露光し、次の組成の溶液で現
像した: プロピレングリコールモノメチルエーテル
60部、 グリセロール 10部、 酢酸グリコール(モノアセテート50%及びジア
セテート50%からなる混合物) 5部、 安息香酸ナトリウム 5部及び 水 20部。
面をザラザラにしたアルミ箔をポリビニルホスホ
ン酸0.3%を含有する60℃の水浴中に1分間浸漬
し、次いで乾燥た。このようにして処理した箔を エチレングリコールモノメチルエーテル
60.0部、 テトラヒドロフラン 20.0部、 ジメチルホルムアミド 10.0部及び 酢酸ブチル 10.0部 中の 85%燐酸中で3―メトキシ―ジフエニルアミン
―4―ジアゾニウムスルフエート1モル及び4,
4′―ビス―メトキシメチルジフエニルエーテル
1モルから製造し、メシチレンスルホネートとし
て単離した重縮合生成物 0.7部、 85%燐酸 3.4部及び 融点70℃及びエポキシ当量459を有するエポキ
シ樹脂を塩酸と反応させることにより得られた反
応生成物 3.0部 の溶液で被覆し、次いで乾燥させた。得られた感
光材料を像に関して露光し、次の組成の溶液で現
像した: プロピレングリコールモノメチルエーテル
60部、 グリセロール 10部、 酢酸グリコール(モノアセテート50%及びジア
セテート50%からなる混合物) 5部、 安息香酸ナトリウム 5部及び 水 20部。
完全な映像が得られた。
例 2
電気分解により表面をザラザラとし、陽極酸化
したアルミニウム箔を例1に記載したようにポリ
ビニルホスホン酸で後処理し、これを次の溶液で
被覆し: エチレングリコールモノメチルエーテル
57部、 テトラヒドロフラン 30部及び 酢酸ブチル 8部 中の ポリビニルホルマール 1.6部 85%燐酸中40℃で製造し、メシチレンスルホネ
ートとして単離された、3―メトキシ―ジフエニ
ルアミン―4―ジアゾニウムスルフエート 1モ
ル及び4,4′―ビス―メトキシメチルジフエニル
エーテル1モルの重縮合物 0.5部 燐酸 0.05部 ホスタパームブルー( Hostapermblau)
0.3部、 次いで乾燥させた。このようにして得られた平
版印刷版を原図の下で露光し、 プロピレングリコールモノメチルエーテル
50部、 酢酸グリコール(モノアセテート及びジアセテ
ートの1:1の比からなる混合物) 15部、 1,3―ジオキソラン―2―オン 0.5部、 安息香酸アンモニウム 1部、 グリセロール 10部及び 水 23.5部 の溶液で現像した。
したアルミニウム箔を例1に記載したようにポリ
ビニルホスホン酸で後処理し、これを次の溶液で
被覆し: エチレングリコールモノメチルエーテル
57部、 テトラヒドロフラン 30部及び 酢酸ブチル 8部 中の ポリビニルホルマール 1.6部 85%燐酸中40℃で製造し、メシチレンスルホネ
ートとして単離された、3―メトキシ―ジフエニ
ルアミン―4―ジアゾニウムスルフエート 1モ
ル及び4,4′―ビス―メトキシメチルジフエニル
エーテル1モルの重縮合物 0.5部 燐酸 0.05部 ホスタパームブルー( Hostapermblau)
0.3部、 次いで乾燥させた。このようにして得られた平
版印刷版を原図の下で露光し、 プロピレングリコールモノメチルエーテル
50部、 酢酸グリコール(モノアセテート及びジアセテ
ートの1:1の比からなる混合物) 15部、 1,3―ジオキソラン―2―オン 0.5部、 安息香酸アンモニウム 1部、 グリセロール 10部及び 水 23.5部 の溶液で現像した。
映像はハツキリと完全に現像され、層の不溶解
の部分で形成されるしみは観察されなかつた。
の部分で形成されるしみは観察されなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 露出した水不溶性結合剤及び水不溶性ジアゾ
ニウム塩重縮合生成物から成る感光性複写層を現
像するための、主成分がグリコールエーテル、グ
リコールエステル及び水から成る現像溶液におい
て、これが 式: 〔式中、nは1〜4の数値を表わし、mは1〜
5の数値を表わす〕の化合物30〜80%、 式: 〔式中、R1及びR2は炭素原子数1〜4のアシ
ル基を表わすか又は2個の基の1個が水素原子を
表わし、かつR3が水素原子又はメチル基である)
の化合物3〜30%,1,3―ジオキソラン―2―
オン又は4―メチル―1,3―ジオキソラン―2
―オン0〜15%、多価アルコール0〜20%、溶剤
混合物中に可溶性である有機又は無機塩0〜10%
及び水5〜45%を含有することを特徴とする露出
した感光性複写層の現像用現像液。 2 PH範囲が12〜2の間である特許請求の範囲第
1項記載の現像液。 3 有機酸のアルカリ塩又はアンモニウム塩0.5
〜8%を含有する特許請求の範囲第1項記載の現
像液。 4 層の露出していない部分を溶解させるために
露出した複写層をグリコールエーテル、グリコー
ルエステル、水及び場合により多価アルコール及
び塩から成る溶液で処理することにより、水不溶
性ジアゾニウム塩重縮合生成物及び水及び希アル
カリ性水溶液中に不溶性である結合剤を基礎とす
るネガテイブに作用する複写層を現像するため
に、この層を式: 〔式中nは1〜4の数値を表わし、mは1〜5
の数値を表わす〕の化合物30〜80%、 式: 〔式中、R1及びR2は炭素原子数1〜4のアシ
ル基を表わすか又は2個の基の1個が水素原子を
表わし、かつR3が水素原子又はメチル基である〕
の化合物3〜30%、1,3―ジオキソラン―2―
オン又は4―メチル―1,3―ジオキソラン―2
―オン0〜15%、多価アルコール0〜20%、溶剤
混合物中に可溶性である有機又は無機塩0〜10%
及び水5〜45%から成る溶液で処理することを特
徴とするネガテイブに作用する複写層の現像法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19803012522 DE3012522A1 (de) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56153341A JPS56153341A (en) | 1981-11-27 |
| JPS6367178B2 true JPS6367178B2 (ja) | 1988-12-23 |
Family
ID=6098913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4661281A Granted JPS56153341A (en) | 1980-03-31 | 1981-03-31 | Developer for developing exposed photosensitive copying layer and method of developing copying layer acting on negative |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4416976A (ja) |
| EP (1) | EP0037060B1 (ja) |
| JP (1) | JPS56153341A (ja) |
| AT (1) | ATE6703T1 (ja) |
| AU (1) | AU539890B2 (ja) |
| BR (1) | BR8101905A (ja) |
| CA (1) | CA1168500A (ja) |
| DE (2) | DE3012522A1 (ja) |
| FI (1) | FI66697C (ja) |
| MX (1) | MX159691A (ja) |
| ZA (1) | ZA812100B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US4786580A (en) * | 1983-12-27 | 1988-11-22 | Hoechst Celanese Corporation | Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition |
| DE3582697D1 (de) * | 1984-06-07 | 1991-06-06 | Hoechst Ag | Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung. |
| US5066561A (en) * | 1984-06-11 | 1991-11-19 | Hoechst Celanese Corporation | Method for producing and using a positive photoresist with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US4550069A (en) * | 1984-06-11 | 1985-10-29 | American Hoechst Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US5143814A (en) * | 1984-06-11 | 1992-09-01 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak and propylene glycol alkyl ether acetate |
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| US4692398A (en) * | 1985-10-28 | 1987-09-08 | American Hoechst Corporation | Process of using photoresist treating composition containing a mixture of a hexa-alkyl disilazane, propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US4948697A (en) * | 1985-10-28 | 1990-08-14 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist with a solvent mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US4806458A (en) * | 1985-10-28 | 1989-02-21 | Hoechst Celanese Corporation | Composition containing a mixture of hexa-alkyl disilazane and propylene glycol alkyl ether and/or propylene glycol alkyl ether acetate |
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| US4755451A (en) * | 1986-08-28 | 1988-07-05 | Sage Technology | Developer for color proofing film with an alkyl glycol derivative of cyclohexane |
| DE3715792A1 (de) * | 1987-05-12 | 1988-11-24 | Hoechst Ag | Entwickler fuer wasserlos druckende offsetplatten |
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| JPH035756A (ja) * | 1989-06-01 | 1991-01-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 水なしps版用現像液 |
| US5290665A (en) * | 1989-06-01 | 1994-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for developing PS plate requiring no dampening water wherein the developer comprises, water, a solubilizer and an ethylene glycol mono(alkyl C6 -C8) ether derivative |
| JPH0785947B2 (ja) * | 1989-08-05 | 1995-09-20 | 東洋インキ製造株式会社 | 平版印刷用湿し水 |
| JPH0418564A (ja) * | 1990-01-22 | 1992-01-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性エラストマー組成物用現像剤 |
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| JPH10186680A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-14 | Clariant Internatl Ltd | リンス液 |
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| DE1572153B2 (de) * | 1966-06-27 | 1971-07-22 | E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
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| US3867147A (en) * | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
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-
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-
1981
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