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JPS6367178B2 - - Google Patents
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JPS6367178B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6367178B2
JPS6367178B2 JP56046612A JP4661281A JPS6367178B2 JP S6367178 B2 JPS6367178 B2 JP S6367178B2 JP 56046612 A JP56046612 A JP 56046612A JP 4661281 A JP4661281 A JP 4661281A JP S6367178 B2 JPS6367178 B2 JP S6367178B2
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JP
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water
formula
insoluble
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dioxolane
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JP56046612A
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JPS56153341A (en
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Sheru Rooni
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication date
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Publication of JPS6367178B2 publication Critical patent/JPS6367178B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Medical Uses (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)
  • Media Introduction/Drainage Providing Device (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Undergarments, Swaddling Clothes, Handkerchiefs Or Underwear Materials (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はネガテイブに作用する露出されたジア
ゾニウム塩重縮合生成物を基礎とする複写材料の
現像に好適である現像液に関する。
前記タイプの複写材料は印刷版及びフオトレジ
ストの製造に適用するのに有利であり、これは層
支持体及びネガテイブに作用する感光性複写層か
らなる。
この層支持体としては亜鉛、クロム、銅、黄
銅、スチール又はアルミニウムのような金属及び
プラスチツク膜、紙等を場合により適当な予備処
理後に使用する。
好適な複写層は水不溶性ジアゾニウム塩重縮合
生成物及び結合剤として水不溶性の、特に弱酸性
又はアルカリ性水溶液中ですらも不溶性の樹脂を
基礎とするものである。
露出されたこの種の複写材料の現像液は通常有
機溶剤の添加を必要とする。しかしながら、通常
有機溶剤を50重量%以下含有する現像液は露出し
ていない層部分を本当の溶解に導びかず、単にこ
の範囲が支持体から多少大きな薄片の形で分離す
るだけである。十分過剰量の現像液を用いて、手
で複写層を現像するならばはつきりと現像された
像が通常得られる;しかしこの場合、高価な有機
溶剤含有現像液の消費量は高く、かつ現像液の除
去又は再処理は付加的な作業及び費用を必要とす
る。
もし現像を連続法で行なうならば、比較的短か
い時間の後に現像液中に分散した層の不溶性成分
が装置中に、時には現像するための版上にすら沈
殿し、こうしてこの版を使用できないものとする
ので、前記種類の強力印刷版の現像において特に
困難が現われた。
従つて、高濃度の有機溶剤を含有する現像液
(例えば、少なくとも50%)を前記タイプの複写
層の現像に使用した(西ドイツ国特許公開第
2024244号公報、例57参照)。しかし、有機溶剤の
そのように高い含有量においてすら、多量の水不
溶性結合剤を含有する層の場合には複写層からの
不溶性固体の残分が現像液中に分散して残留す
る。現像液に比較的多量の湿潤剤を加えることに
より完全でかつ安定な分散液及びくつきりした現
像が得られるが、それにもかかわらず前記例中に
詳説した種類の現像液は過剰の泡を立てるのでこ
の現像液を自動現像装置に適用することは不可能
である。
他の種類の層にとつて、わずかな比率の水を有
すか又は全く水を有さない現像液が記載されてい
る(西ドイツ国特許公告第2012390号公報参照)、
これらの現像液は湿潤剤をも含有し、通常これら
は前記組成の印刷版の現像には強力すぎる。
更に、カナダ特許第1057105号明細書中に記載
されたように現像されるための印刷版に好適であ
る現像液が提示されており、これは95%までの有
機溶剤、例えばグリコール又はグリコールエーテ
ル及び湿潤剤を含有している。これらの現像液は
60〜110℃の範囲の温度で適用される(カナダ特
許第1057105号明細書、第9頁、第6〜7行及び
第17〜18行を参照)。この温度では、この現像液
を自動現像装置中で使用する場合強い起泡性を示
す。
従つて、本発明の課題は水不溶性ジアゾニウム
塩重縮合生成物及び水不溶性結合剤を基礎とする
感光層のための現像液で、露出していない層の完
全な溶解を確実とし、自動現像装置中での使用に
好適である現像液を供給することである。
本発明は水不溶性結合剤及び水不溶性ジアゾニ
ウム塩重縮合生成物を含有する露出した感光性複
写材料を現像するための、主要成分としてグリコ
ールエーテル、グリコールエステル及び水より成
る現像液を基礎とする。
本発明による現像液の特徴は、これが式: 〔式中、nは1〜4の数値を表わし、mは1〜
5の数値を表わす〕の化合物30〜80%、式: 〔式中、R1及びR2は炭素原子数1〜4のアシ
ル基を表わすか、又は2個の基の1個が水素原子
を表わし、かつR3が水素原子又はメチル基であ
る〕の化合物3〜30%、1,3―ジオキソラン―
2―オン又は4―メチル―1,3―ジオキソラン
―2―オン0〜15%、多価アルコール0〜20%、
溶剤混合物中に可溶性である有機又は無機塩0〜
10%及び水5〜45%から成るということである。
ここにあげた「%」は「重量%」を表わす。
本発明の現像液を用いて現像することのできる
複写材料は例えば西ドイツ国特許公開第2024244
号公報(米国特許第3867147号明細書に相応する)
中に記載されている。
本発明による現像液を現像機中で使用する場
合、これら現像液は現像工程中で除去される層成
分の完全な溶解を確実とし、かつ全く低沸点成分
を含有しないので、長い使用寿命を有する。現像
液の有機成分は100℃以上、特に150℃以上の沸点
を有するのが有利である。
本発明による現像液の主成分は式: 〔式中、n及びmは前記のものを表わす〕の化
合物である。nが1〜3の数値及びmが1〜3の
数値であるのが有利であり、特に1であるのが有
利である。グリコールエーテルは一般に溶液に対
し30〜80重量%の量で存在し、45〜60重量%であ
るのが有利である。
溶液中に含有される別の必要な成分は式: 〔式中、R1,R2及びR3は前記のものを表わす〕
のグリコールエステルである。
好適なグリコールエステルは、例えばモノ酢酸
グリコール及びジ酢酸グリコール、プロピオン酸
グリコール又はモノ酢酸プロパンジオールであ
る。モノ酢酸グリコール及びジ酢酸グリコールは
有利である。グリコールエステルは溶液中に3〜
30重量%の量、有利に10〜20重量%の量で含有さ
れるのがよい。
更に添加物として、ジオキソラン誘導体、例え
ば、1,3―ジオキソラン―2―オン及び4―メ
チル―1,3―ジオキソラン―2―オンを15重量
%まで、有利に8重量%まで溶液に加えるのが良
い。
更に、より高い分子量のアルコール及びグリコ
ールエーテル、例えばテトラヒドロフルフリルア
ルコール、ベンジルアルコール、3―メトキシ―
ブタノール、ジアセトンアルコール、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノフエニルエーテル及びジエチレングリコ
ールジメチルエーテルが付加溶剤として使用する
のに好適である。
可塑化作用を有する多価アルコール、例えば、
グリセロール、エチレングリコール又はプロピレ
ングリコールを0〜20重量%、有利に3〜15重量
%の量で加えることは可能である。
現像溶液は付加的に無機又は有機塩、例えば、
安息香酸アンモニウム又は酒石酸ナトリウム、硝
酸リチウム、硝酸ストロンチウム又は硫酸マグネ
シウムを全量で0〜10重量%で含有してよい。
一般に、本明細書の現像液は2〜12、有利に約
6〜8のPH範囲であり、アルカリ性の範囲では前
記塩の1つで調節し、酸の範囲は有利に有機酸で
調節する。
低沸点成分は本発明による現像液中に含まれな
い。5〜45重量%、有利に15〜28重量%の量で存
在する水は通常最も低い沸点を有する成分であ
る。
従つて、使用中に現像液は僅かな組成の変化を
受けるだけであり、機械中での使用寿命は比較的
長い。
その他にこの現像液の利点は湿潤剤の添加を必
要としないことである。それは室温で十分に作用
するが、所望であればわずかに高めた温度、例え
ば40℃で過度に強力になることなしに適用するこ
ともできる。通常の適用温度で、不快な臭いはほ
とんど放出されない。
次に実施例につき本発明を詳細に説明する。他
に記載のない限り、「%」及び「部」はそれぞれ
「重量%」及び「重量部」を表わす。
例 1 研摩剤懸濁液でブラツシングすることにより表
面をザラザラにしたアルミ箔をポリビニルホスホ
ン酸0.3%を含有する60℃の水浴中に1分間浸漬
し、次いで乾燥た。このようにして処理した箔を エチレングリコールモノメチルエーテル
60.0部、 テトラヒドロフラン 20.0部、 ジメチルホルムアミド 10.0部及び 酢酸ブチル 10.0部 中の 85%燐酸中で3―メトキシ―ジフエニルアミン
―4―ジアゾニウムスルフエート1モル及び4,
4′―ビス―メトキシメチルジフエニルエーテル
1モルから製造し、メシチレンスルホネートとし
て単離した重縮合生成物 0.7部、 85%燐酸 3.4部及び 融点70℃及びエポキシ当量459を有するエポキ
シ樹脂を塩酸と反応させることにより得られた反
応生成物 3.0部 の溶液で被覆し、次いで乾燥させた。得られた感
光材料を像に関して露光し、次の組成の溶液で現
像した: プロピレングリコールモノメチルエーテル
60部、 グリセロール 10部、 酢酸グリコール(モノアセテート50%及びジア
セテート50%からなる混合物) 5部、 安息香酸ナトリウム 5部及び 水 20部。
完全な映像が得られた。
例 2 電気分解により表面をザラザラとし、陽極酸化
したアルミニウム箔を例1に記載したようにポリ
ビニルホスホン酸で後処理し、これを次の溶液で
被覆し: エチレングリコールモノメチルエーテル
57部、 テトラヒドロフラン 30部及び 酢酸ブチル 8部 中の ポリビニルホルマール 1.6部 85%燐酸中40℃で製造し、メシチレンスルホネ
ートとして単離された、3―メトキシ―ジフエニ
ルアミン―4―ジアゾニウムスルフエート 1モ
ル及び4,4′―ビス―メトキシメチルジフエニル
エーテル1モルの重縮合物 0.5部 燐酸 0.05部 ホスタパームブルー( Hostapermblau)
0.3部、 次いで乾燥させた。このようにして得られた平
版印刷版を原図の下で露光し、 プロピレングリコールモノメチルエーテル
50部、 酢酸グリコール(モノアセテート及びジアセテ
ートの1:1の比からなる混合物) 15部、 1,3―ジオキソラン―2―オン 0.5部、 安息香酸アンモニウム 1部、 グリセロール 10部及び 水 23.5部 の溶液で現像した。
映像はハツキリと完全に現像され、層の不溶解
の部分で形成されるしみは観察されなかつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 露出した水不溶性結合剤及び水不溶性ジアゾ
    ニウム塩重縮合生成物から成る感光性複写層を現
    像するための、主成分がグリコールエーテル、グ
    リコールエステル及び水から成る現像溶液におい
    て、これが 式: 〔式中、nは1〜4の数値を表わし、mは1〜
    5の数値を表わす〕の化合物30〜80%、 式: 〔式中、R1及びR2は炭素原子数1〜4のアシ
    ル基を表わすか又は2個の基の1個が水素原子を
    表わし、かつR3が水素原子又はメチル基である)
    の化合物3〜30%,1,3―ジオキソラン―2―
    オン又は4―メチル―1,3―ジオキソラン―2
    ―オン0〜15%、多価アルコール0〜20%、溶剤
    混合物中に可溶性である有機又は無機塩0〜10%
    及び水5〜45%を含有することを特徴とする露出
    した感光性複写層の現像用現像液。 2 PH範囲が12〜2の間である特許請求の範囲第
    1項記載の現像液。 3 有機酸のアルカリ塩又はアンモニウム塩0.5
    〜8%を含有する特許請求の範囲第1項記載の現
    像液。 4 層の露出していない部分を溶解させるために
    露出した複写層をグリコールエーテル、グリコー
    ルエステル、水及び場合により多価アルコール及
    び塩から成る溶液で処理することにより、水不溶
    性ジアゾニウム塩重縮合生成物及び水及び希アル
    カリ性水溶液中に不溶性である結合剤を基礎とす
    るネガテイブに作用する複写層を現像するため
    に、この層を式: 〔式中nは1〜4の数値を表わし、mは1〜5
    の数値を表わす〕の化合物30〜80%、 式: 〔式中、R1及びR2は炭素原子数1〜4のアシ
    ル基を表わすか又は2個の基の1個が水素原子を
    表わし、かつR3が水素原子又はメチル基である〕
    の化合物3〜30%、1,3―ジオキソラン―2―
    オン又は4―メチル―1,3―ジオキソラン―2
    ―オン0〜15%、多価アルコール0〜20%、溶剤
    混合物中に可溶性である有機又は無機塩0〜10%
    及び水5〜45%から成る溶液で処理することを特
    徴とするネガテイブに作用する複写層の現像法。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4786580A (en) * 1983-12-27 1988-11-22 Hoechst Celanese Corporation Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition
DE3582697D1 (de) * 1984-06-07 1991-06-06 Hoechst Ag Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung.
US5066561A (en) * 1984-06-11 1991-11-19 Hoechst Celanese Corporation Method for producing and using a positive photoresist with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate
US4550069A (en) * 1984-06-11 1985-10-29 American Hoechst Corporation Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate
US5143814A (en) * 1984-06-11 1992-09-01 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak and propylene glycol alkyl ether acetate
US5039594A (en) * 1985-10-28 1991-08-13 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist containing a mixture of propylene glycol alkyl ethers and propylene glycol alkyl ether acetate
US4983490A (en) * 1985-10-28 1991-01-08 Hoechst Celanese Corporation Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate
US4692398A (en) * 1985-10-28 1987-09-08 American Hoechst Corporation Process of using photoresist treating composition containing a mixture of a hexa-alkyl disilazane, propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate
US4948697A (en) * 1985-10-28 1990-08-14 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist with a solvent mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate
US4806458A (en) * 1985-10-28 1989-02-21 Hoechst Celanese Corporation Composition containing a mixture of hexa-alkyl disilazane and propylene glycol alkyl ether and/or propylene glycol alkyl ether acetate
ZA87922B (en) * 1986-02-28 1987-09-30 Macdermid Inc Photoresist stripper composition
US4714670A (en) * 1986-06-09 1987-12-22 Imperial Metal & Chemical Company Developer including an aliphatic cyclic carbonate in the oil phase emulsion
US4755451A (en) * 1986-08-28 1988-07-05 Sage Technology Developer for color proofing film with an alkyl glycol derivative of cyclohexane
DE3715792A1 (de) * 1987-05-12 1988-11-24 Hoechst Ag Entwickler fuer wasserlos druckende offsetplatten
US4822723A (en) * 1987-11-30 1989-04-18 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
JPH02253265A (ja) * 1989-03-28 1990-10-12 Nippon Zeon Co Ltd レジスト剥離剤
JPH035756A (ja) * 1989-06-01 1991-01-11 Fuji Photo Film Co Ltd 水なしps版用現像液
US5290665A (en) * 1989-06-01 1994-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for developing PS plate requiring no dampening water wherein the developer comprises, water, a solubilizer and an ethylene glycol mono(alkyl C6 -C8) ether derivative
JPH0785947B2 (ja) * 1989-08-05 1995-09-20 東洋インキ製造株式会社 平版印刷用湿し水
JPH0418564A (ja) * 1990-01-22 1992-01-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性エラストマー組成物用現像剤
EP0539881B1 (en) * 1991-10-29 1995-08-02 E.I. Du Pont De Nemours And Company Single-phase developers for lithographic printing elements
JPH10186680A (ja) * 1996-12-26 1998-07-14 Clariant Internatl Ltd リンス液

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1572153B2 (de) * 1966-06-27 1971-07-22 E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
GB1220808A (en) * 1967-05-18 1971-01-27 Howson Algraphy Ltd Processing of presensitized photolithographic printing plate
NL6918761A (ja) 1968-12-30 1970-07-02
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3867147A (en) * 1969-05-20 1975-02-18 Hoechst Co American Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same
US3682641A (en) * 1970-03-23 1972-08-08 Du Pont Photoresist developer extender baths containing polyoxyalkylene ethers and esters and process of use
US3996054A (en) * 1971-09-24 1976-12-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Color photographic developing solution
JPS5027728B2 (ja) * 1971-11-04 1975-09-10
US3891439A (en) * 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
GB1418433A (en) * 1973-02-10 1975-12-17 Ricoh Kk Developers for two-component diazotype materials
CA1057105A (en) * 1974-10-08 1979-06-26 Ferdinand J. Gajewski Developing and stripping of binder-containing presensitized coatings
JPS5217901A (en) * 1975-07-31 1977-02-10 Mitsubishi Chem Ind Developer for lithographic press plate
US4055515A (en) * 1975-12-31 1977-10-25 Borden, Inc. Developer for printing plates
JPS5587151A (en) * 1978-12-25 1980-07-01 Mitsubishi Chem Ind Ltd Developing solution composition for lithographic printing plate
US4308340A (en) * 1980-08-08 1981-12-29 American Hoechst Corporation Aqueous 2-propoxyethanol containing processing composition for lithographic printing plates

Also Published As

Publication number Publication date
DE3162577D1 (en) 1984-04-19
MX159691A (es) 1989-08-07
FI66697C (fi) 1984-11-12
CA1168500A (en) 1984-06-05
US4416976A (en) 1983-11-22
EP0037060A1 (de) 1981-10-07
JPS56153341A (en) 1981-11-27
DE3012522A1 (de) 1981-10-08
ATE6703T1 (de) 1984-03-15
AU539890B2 (en) 1984-10-18
EP0037060B1 (de) 1984-03-14
BR8101905A (pt) 1981-10-06
ZA812100B (en) 1982-04-28
AU6883181A (en) 1981-10-08
FI66697B (fi) 1984-07-31
FI810955L (fi) 1981-10-01

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