JPS638416B2 - - Google Patents
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- JPS638416B2 JPS638416B2 JP54049584A JP4958479A JPS638416B2 JP S638416 B2 JPS638416 B2 JP S638416B2 JP 54049584 A JP54049584 A JP 54049584A JP 4958479 A JP4958479 A JP 4958479A JP S638416 B2 JPS638416 B2 JP S638416B2
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- moisture
- frequency dielectric
- dry
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- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N5/00—Analysing materials by weighing, e.g. weighing small particles separated from a gas or liquid
- G01N5/04—Analysing materials by weighing, e.g. weighing small particles separated from a gas or liquid by removing a component, e.g. by evaporation, and weighing the remainder
- G01N5/045—Analysing materials by weighing, e.g. weighing small particles separated from a gas or liquid by removing a component, e.g. by evaporation, and weighing the remainder for determining moisture content
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は水分を含む汚泥等の水分測定方法とそ
の装置に関するものである。
の装置に関するものである。
水分測定方法としては、絶乾法、Kafl
Fischer法、ガス圧法、電気的方法、関係湿度測
定法、水素原子検出法、赤外線吸収法等があり、
各種の水分計が開発段階にある。一般には絶乾法
（重量法）に依る水分測定方法が採用されている。
すなわち、物質中の水分測定に際し、乾燥炉、あ
るいは、赤外線を用いて乾燥し物質中に含まれる
水分を完全に蒸発、除去し、絶乾状態とする事に
依り、乾燥前後の物質の重量減少割合から水分を
測定しているが、、乾燥炉、あるいは赤外線に依
る乾燥方法ではニクロム線等の発熱体により、乾
燥炉内部の雰囲気温度を高め、その輻射熱を利用
して、加熱乾燥する方法、あるいは赤外線ランプ
から放射される熱線により、加熱乾燥する方法で
あり、いずれも被測定物は、外部から内部へと
徐々に加熱乾燥される。その為熱効率が非常に悪
く高含水率の被測定物から水分を完全に蒸発、除
去し絶乾状態とするには乾燥炉による乾燥の場合
４〜５時間、赤外線を用いた場合でも１時間以上
の乾燥時間を要し、水分測定に際しては長時間の
測定時間を要している。即ち絶乾法による水分測
定は正確な反面、長時間を要するという欠点があ
る。したがつて例えば汚泥等の乾燥においては、
汚泥等の連続混練し固化する技術が開発されてい
ても適時に汚泥の水分含有量を把握することがで
きないため汚泥の固化剤を技術的、経済的に最適
化して供給することが困難な問題となつている。
以上の問題点に対して実願昭52−105828号（実開
昭54−33183号）の考案は被測定物の加熱に高周
波を用いている。処が該考案では被測定物が絶乾
状態となるまでは尚かなりの時間を要するもので
あり、測定に要する時間もそれだけかゝる欠点が
ある。
Fischer法、ガス圧法、電気的方法、関係湿度測
定法、水素原子検出法、赤外線吸収法等があり、
各種の水分計が開発段階にある。一般には絶乾法
（重量法）に依る水分測定方法が採用されている。
すなわち、物質中の水分測定に際し、乾燥炉、あ
るいは、赤外線を用いて乾燥し物質中に含まれる
水分を完全に蒸発、除去し、絶乾状態とする事に
依り、乾燥前後の物質の重量減少割合から水分を
測定しているが、、乾燥炉、あるいは赤外線に依
る乾燥方法ではニクロム線等の発熱体により、乾
燥炉内部の雰囲気温度を高め、その輻射熱を利用
して、加熱乾燥する方法、あるいは赤外線ランプ
から放射される熱線により、加熱乾燥する方法で
あり、いずれも被測定物は、外部から内部へと
徐々に加熱乾燥される。その為熱効率が非常に悪
く高含水率の被測定物から水分を完全に蒸発、除
去し絶乾状態とするには乾燥炉による乾燥の場合
４〜５時間、赤外線を用いた場合でも１時間以上
の乾燥時間を要し、水分測定に際しては長時間の
測定時間を要している。即ち絶乾法による水分測
定は正確な反面、長時間を要するという欠点があ
る。したがつて例えば汚泥等の乾燥においては、
汚泥等の連続混練し固化する技術が開発されてい
ても適時に汚泥の水分含有量を把握することがで
きないため汚泥の固化剤を技術的、経済的に最適
化して供給することが困難な問題となつている。
以上の問題点に対して実願昭52−105828号（実開
昭54−33183号）の考案は被測定物の加熱に高周
波を用いている。処が該考案では被測定物が絶乾
状態となるまでは尚かなりの時間を要するもので
あり、測定に要する時間もそれだけかゝる欠点が
ある。
又、特開昭51−136490号公報に示される発明は
被測定物をマイクロ波で加熱し、定間隔の時点で
被測定物の重量を測定し、重量変化零の時点で加
熱を停止できる機能を附しているが、やはりかな
りの時間を要するものであり、測定に要する時間
も同様に多くかかる欠点がある。
被測定物をマイクロ波で加熱し、定間隔の時点で
被測定物の重量を測定し、重量変化零の時点で加
熱を停止できる機能を附しているが、やはりかな
りの時間を要するものであり、測定に要する時間
も同様に多くかかる欠点がある。
本発明は測定がきわめて短時間で行われ得る絶
乾法による水分測定方法とその装置を提供するこ
とを目的とするものである。
乾法による水分測定方法とその装置を提供するこ
とを目的とするものである。
本発明は予め水分含有量の異なる被測定物とし
ての対象群の各々について絶乾状態に到るまで高
周波誘電加熱乾燥を行いつつ被測定物重量を連続
あるいは間欠連続で経過時間の計測と併せて自動
計量を行なうことにより被測定物としての対象群
の各々の時間経過に対する水分減少量の変化の関
係及び当初水分含有量を記録し、次に同加熱を行
ない被測定物が絶乾状態となる以前に時間変化に
対する水分減少量の変化を知ることにより前記被
測定物としての対象群についての時間変化に対す
る水分減少量の変化関係と比較し被測定物の水分
含有量を測定する高周波誘電乾燥水分測定法であ
る。
ての対象群の各々について絶乾状態に到るまで高
周波誘電加熱乾燥を行いつつ被測定物重量を連続
あるいは間欠連続で経過時間の計測と併せて自動
計量を行なうことにより被測定物としての対象群
の各々の時間経過に対する水分減少量の変化の関
係及び当初水分含有量を記録し、次に同加熱を行
ない被測定物が絶乾状態となる以前に時間変化に
対する水分減少量の変化を知ることにより前記被
測定物としての対象群についての時間変化に対す
る水分減少量の変化関係と比較し被測定物の水分
含有量を測定する高周波誘電乾燥水分測定法であ
る。
本発明を行う装置は上述の本発明を実行するた
め自動で水分を含む物の乾燥、測定、記録を行う
ことを可能ならしめる装置であつて、実施の態様
として高周波誘電加熱用電極の下方に回転テーブ
ルを備え回転テーブルの定位置停止装置と回転テ
ーブル装着した昇降装置と、計量装置とからな
り、計量装置の出力を変調増幅演算処理を行う制
御装置並びに表示装置、及び高周波誘電乾燥炉の
制御装置を備えたものである。
め自動で水分を含む物の乾燥、測定、記録を行う
ことを可能ならしめる装置であつて、実施の態様
として高周波誘電加熱用電極の下方に回転テーブ
ルを備え回転テーブルの定位置停止装置と回転テ
ーブル装着した昇降装置と、計量装置とからな
り、計量装置の出力を変調増幅演算処理を行う制
御装置並びに表示装置、及び高周波誘電乾燥炉の
制御装置を備えたものである。
本発明による水分測定方法についてのべる。汚
泥等の水分を測定するには乾燥状態を比較して時
間間隔をおいて前後において被測定物の重量差を
計量してその重量差が一般には零になる点を求め
て絶乾状態となし、乾燥前の被測定物重量と比較
して水分を求めることが行われている。
泥等の水分を測定するには乾燥状態を比較して時
間間隔をおいて前後において被測定物の重量差を
計量してその重量差が一般には零になる点を求め
て絶乾状態となし、乾燥前の被測定物重量と比較
して水分を求めることが行われている。
乾燥前被測定物重量をWo、乾燥後被測定物重
量をWnとすると水分は Wo−Wn／Wo×100％あるいはWo−Wn／Wn×100％ で表現される。
量をWnとすると水分は Wo−Wn／Wo×100％あるいはWo−Wn／Wn×100％ で表現される。
本発明において被測定物を高周波誘電乾燥を行
うと被測定物は内部発熱により急速に乾燥状態に
近ずく。その時間T1における被測定物の重量を
W1とし、時間T1より経過した後の時間をT2とし
てその時間T2における被測定物の重量をW2とす
ると、その経過時間に対する被測定物中の水分の
減少の割合即ち水分減少率は △Ｗ／△Ｔ＝W2−W1／T2−T1 で表わされる。絶乾状態に近ずく状態は急速に被
測定物が発熱して急速に水分が追出され次第に時
間に対する水分の蒸発量の割合が減少するが、時
間間隔が全体としては短い。従つて被測定物の計
量を行う時間間隔△Ｔは短くする必要があり、あ
るいは連続に測定して微分値dW／dTとしてとら
える必要がある。したがつて高周波誘電乾燥を行
うに際して高周波誘電乾燥炉内にて被測定物の重
量を連続あるいは短かい間隔をおいて間欠連続計
量することとなる。高周波誘電加熱炉内にて被測
定物が計量された計量値は記録又は表示される必
要がある。そのために被測定物の計量装置は重量
を電気信号に変えるものであり高周波誘電乾燥炉
の外部にて演算処理して記録表示されることとな
る。
うと被測定物は内部発熱により急速に乾燥状態に
近ずく。その時間T1における被測定物の重量を
W1とし、時間T1より経過した後の時間をT2とし
てその時間T2における被測定物の重量をW2とす
ると、その経過時間に対する被測定物中の水分の
減少の割合即ち水分減少率は △Ｗ／△Ｔ＝W2−W1／T2−T1 で表わされる。絶乾状態に近ずく状態は急速に被
測定物が発熱して急速に水分が追出され次第に時
間に対する水分の蒸発量の割合が減少するが、時
間間隔が全体としては短い。従つて被測定物の計
量を行う時間間隔△Ｔは短くする必要があり、あ
るいは連続に測定して微分値dW／dTとしてとら
える必要がある。したがつて高周波誘電乾燥を行
うに際して高周波誘電乾燥炉内にて被測定物の重
量を連続あるいは短かい間隔をおいて間欠連続計
量することとなる。高周波誘電加熱炉内にて被測
定物が計量された計量値は記録又は表示される必
要がある。そのために被測定物の計量装置は重量
を電気信号に変えるものであり高周波誘電乾燥炉
の外部にて演算処理して記録表示されることとな
る。
本発明による水分測定において横軸に時間を竪
軸に被測定物中の水分の重量をとりその水分変化
を曲線で表わしたとき、その曲線は被測定物の性
状に応じた特性を示すこととなる。逆に本発明に
おいて被測定物の性状が予め判明しているときは
時間間隔に対する水分の変化の微分値の変化の割
合d2W／dT2を求めることにより絶乾状態を待た
ないで被測定物の水分含有量を知ることができる
こととなる。
軸に被測定物中の水分の重量をとりその水分変化
を曲線で表わしたとき、その曲線は被測定物の性
状に応じた特性を示すこととなる。逆に本発明に
おいて被測定物の性状が予め判明しているときは
時間間隔に対する水分の変化の微分値の変化の割
合d2W／dT2を求めることにより絶乾状態を待た
ないで被測定物の水分含有量を知ることができる
こととなる。
高周波誘電乾燥炉中を真空あるいは減圧して蒸
気圧を下げるようにすると被測定物の乾燥はより
急速に行われ得る。
気圧を下げるようにすると被測定物の乾燥はより
急速に行われ得る。
次に本発明による水分測定の一実験例について
のべると、使用された本発明の高周波誘電乾燥炉
は工業用割当周波数2450MHz、実効出力600W、
400W、200W三種切換のものであつてこれをもつ
て下水汚泥を乾燥測定し、従来の赤外線あるいは
電熱による乾燥炉と比較するに絶乾状態に到るま
での時間は1/10〜1/30に短縮され、測定値を統計
処理した処によつてみても測定精度は従来の方法
と差異が認められない。
のべると、使用された本発明の高周波誘電乾燥炉
は工業用割当周波数2450MHz、実効出力600W、
400W、200W三種切換のものであつてこれをもつ
て下水汚泥を乾燥測定し、従来の赤外線あるいは
電熱による乾燥炉と比較するに絶乾状態に到るま
での時間は1/10〜1/30に短縮され、測定値を統計
処理した処によつてみても測定精度は従来の方法
と差異が認められない。
次に被測定物の試料重量を変化させてその乾燥
特性をみるに広い範囲にわたつて絶乾状態になる
までの時間がほぼ等しい即ち高周波乾燥炉の出力
を600Wとして被測定物の試料重量を５ｇ、10ｇ、
30ｇ、50ｇと変化させた場合その絶乾状態に到る
までの時間の差は試料重量５ｇと50ｇにおいて最
大約20％であり、従つて試料重量は標準的採取量
の幅が大きく、適度に容器に納めるだけでよい。
特性をみるに広い範囲にわたつて絶乾状態になる
までの時間がほぼ等しい即ち高周波乾燥炉の出力
を600Wとして被測定物の試料重量を５ｇ、10ｇ、
30ｇ、50ｇと変化させた場合その絶乾状態に到る
までの時間の差は試料重量５ｇと50ｇにおいて最
大約20％であり、従つて試料重量は標準的採取量
の幅が大きく、適度に容器に納めるだけでよい。
同条件下で同重量の被測定物試料の形状を直径
16φ、50φ、60φの３種の円筒形に変化させた被
測定物の絶乾状態に到るまでの時間を測定すると
全く同一であり、前者と後二者では乾燥特性がわ
ずかに異なることが看取される。
16φ、50φ、60φの３種の円筒形に変化させた被
測定物の絶乾状態に到るまでの時間を測定すると
全く同一であり、前者と後二者では乾燥特性がわ
ずかに異なることが看取される。
以下本発明の実施例を図面に従つて説明する。
第１図は本発明の測定装置を備えた高周波誘電乾
燥炉の略断面図である。１は高周波の電波を放射
する電極アンテナであつてマグネトロン等の高周
波発生装置１０より導かれている。その下方に撹
拌羽根２がアンテナ１を附勢時回転するように装
着されている。アンテナ１の下方には回転テーブ
ル３が上下動並びに回転割出可能に設けられてい
る。即ち電動機４の軸と回転は伝達し、軸方向移
動自在に例えばスプラインにより回転テーブル３
は取付けられており、三個所以上で回転テーブル
３が安定して支持されるように上端にローラ５を
枢着したリフト６が炉体７に固定した案内８に上
下方向滑動可能に係合している。
第１図は本発明の測定装置を備えた高周波誘電乾
燥炉の略断面図である。１は高周波の電波を放射
する電極アンテナであつてマグネトロン等の高周
波発生装置１０より導かれている。その下方に撹
拌羽根２がアンテナ１を附勢時回転するように装
着されている。アンテナ１の下方には回転テーブ
ル３が上下動並びに回転割出可能に設けられてい
る。即ち電動機４の軸と回転は伝達し、軸方向移
動自在に例えばスプラインにより回転テーブル３
は取付けられており、三個所以上で回転テーブル
３が安定して支持されるように上端にローラ５を
枢着したリフト６が炉体７に固定した案内８に上
下方向滑動可能に係合している。
リフト６は互に横架材９により結合され、横架
材９はリフトシリンダ１１のロツド端に固定され
ている。ローラ５の軸心は回転テーブル３の半径
方向を向いている。
材９はリフトシリンダ１１のロツド端に固定され
ている。ローラ５の軸心は回転テーブル３の半径
方向を向いている。
電動機４は回転割出し可能なパルスモータ、ス
テツピングモータ等であるか、あるいは電動機４
が連続回転のみ可能な回転機である場合は回転テ
ーブル３にドツグを設け該ドツクと係合するマイ
クロスイツチを固設する。一般にはドツグを回転
テーブル３の停止数だけ回転テーブル３の円周分
割した位置に取付けるが、ドツグは１個としてマ
イクロスイツチを円周等分割して複数個設けても
よい（何れも図示せず）。回転テーブル３にはそ
の割出数に応じて円周を等分割して孔１２があけ
られ、孔１２には容器１３が孔１２に出入り自在
に嵌入している。容器１３は上部にフランジを有
しフランジ下は孔１２にわずかにすきまを残して
嵌入する円筒でありその下方は該円筒より小なる
円筒となつている。回転テーブル３が下降位置で
容器１３と回転テーブル３との接触が絶たれる位
置に計量装置１４の受皿１５が位置し受皿１５の
下方は連結杆１６により検出部１７に結合されて
いる。計量装置１４は検出部１７が連結杆１６を
介して容器１３の内容物を計量するものでその計
量値は電気信号に変換され出力されるようになつ
ている。
テツピングモータ等であるか、あるいは電動機４
が連続回転のみ可能な回転機である場合は回転テ
ーブル３にドツグを設け該ドツクと係合するマイ
クロスイツチを固設する。一般にはドツグを回転
テーブル３の停止数だけ回転テーブル３の円周分
割した位置に取付けるが、ドツグは１個としてマ
イクロスイツチを円周等分割して複数個設けても
よい（何れも図示せず）。回転テーブル３にはそ
の割出数に応じて円周を等分割して孔１２があけ
られ、孔１２には容器１３が孔１２に出入り自在
に嵌入している。容器１３は上部にフランジを有
しフランジ下は孔１２にわずかにすきまを残して
嵌入する円筒でありその下方は該円筒より小なる
円筒となつている。回転テーブル３が下降位置で
容器１３と回転テーブル３との接触が絶たれる位
置に計量装置１４の受皿１５が位置し受皿１５の
下方は連結杆１６により検出部１７に結合されて
いる。計量装置１４は検出部１７が連結杆１６を
介して容器１３の内容物を計量するものでその計
量値は電気信号に変換され出力されるようになつ
ている。
以上の各装置、部品は開閉可能な扉（図示せ
ず）を備えた密閉した炉体７に納められていて炉
体７は中間を隔壁１８により仕切られている。該
扉は開放時に容器１３の着脱可能な程度の開口を
必要とする。炉体７はその扉と共に高周波の電波
が人体に有害な作用を及ぼさない構造となつてい
る。もつともこれらが遠隔操作を行うものである
ときには炉体７はその点に関しては必要としな
い。又図示しないが炉体７内を真空あるいは減圧
する真空ポンプを備えるときはより効果的に測定
時間を短縮することが可能となる。
ず）を備えた密閉した炉体７に納められていて炉
体７は中間を隔壁１８により仕切られている。該
扉は開放時に容器１３の着脱可能な程度の開口を
必要とする。炉体７はその扉と共に高周波の電波
が人体に有害な作用を及ぼさない構造となつてい
る。もつともこれらが遠隔操作を行うものである
ときには炉体７はその点に関しては必要としな
い。又図示しないが炉体７内を真空あるいは減圧
する真空ポンプを備えるときはより効果的に測定
時間を短縮することが可能となる。
第２図は第１図における高周波誘電乾燥炉の制
御回路を示すブロツク線図である。検出部１７よ
り送られた電気信号は変調増幅回路１９にて変調
増幅され記憶演算装置２１に送られクロツクパル
スと共に記憶され、時間変化に対する計量値の変
化の微分値が計算されその時間における水分の減
少量と減少割合が判明するようになつている。２
２は記録表示装置でデジタルリードアウト及び印
字装置等である。記憶演算装置２１は又はその指
示により高周波制御装置２３を介して高周波発生
装置１０の附勢消勢を行うようになつている。機
器制御装置２４は電動機４、リフトシリンダ１１
の制御回路とそれらの電力回路を含み、リフトシ
リンダ１１が油圧シリンダである場合は図示しな
いが油圧タンク及び電磁弁等の制御と電力供給を
行う装置である。２５は電源である。
御回路を示すブロツク線図である。検出部１７よ
り送られた電気信号は変調増幅回路１９にて変調
増幅され記憶演算装置２１に送られクロツクパル
スと共に記憶され、時間変化に対する計量値の変
化の微分値が計算されその時間における水分の減
少量と減少割合が判明するようになつている。２
２は記録表示装置でデジタルリードアウト及び印
字装置等である。記憶演算装置２１は又はその指
示により高周波制御装置２３を介して高周波発生
装置１０の附勢消勢を行うようになつている。機
器制御装置２４は電動機４、リフトシリンダ１１
の制御回路とそれらの電力回路を含み、リフトシ
リンダ１１が油圧シリンダである場合は図示しな
いが油圧タンク及び電磁弁等の制御と電力供給を
行う装置である。２５は電源である。
次に高周波誘電乾燥炉による水分測定について
のべる。
のべる。
被測定物は試料として採取され容器１３に納め
る。測定が被測定物中の水分のみを求めるときは
容器１３には被測定物の試料を例えば10ｇをめや
すとして大体量投入するだけでよく、被測定物の
乾燥特性を知るかあるいは被測定物の乾燥特性が
予め判明していて被測定物中の水分を速かに知り
たいときは正確に被測定物試料を秤量し容器１３
にほゞ一定形に保つて納めることになる。
る。測定が被測定物中の水分のみを求めるときは
容器１３には被測定物の試料を例えば10ｇをめや
すとして大体量投入するだけでよく、被測定物の
乾燥特性を知るかあるいは被測定物の乾燥特性が
予め判明していて被測定物中の水分を速かに知り
たいときは正確に被測定物試料を秤量し容器１３
にほゞ一定形に保つて納めることになる。
炉体７の扉を開いて回転テーブル３の孔１２に
被測定物を入れた容器１３を夫々差込む。次に扉
を閉じて始動ボタンを押すとリフトシリンダ１１
のロツド端は下降して、横架材９を介してリフト
６は下りローラ５に重力により追従して回転テー
ブル３は下降する。容器１３は回転テーブル１３
より離れて受皿１５に乗り秤量されその信号は検
出部１７にて電気信号に変換され、変調増幅回路
１９を介して記憶演算装置２１に記憶され必要に
より記録表示装置２２により記録表示される。続
いて記憶演算装置２１より機器制御装置２４に信
号は送られ、リフトシリンダ１１のロツドは上昇
して横架材９を介してリフト６は上昇し回転テー
ブル３はローラ５を介して持上げられ上昇端に達
すると検出部１７の電気信号の消勢を受けて変調
増幅回路１９、記憶演算装置２１を介して機器制
御装置２４により電動機４は回転割出しを行ない
回転テーブル３は割出される。その際ローラ５が
回転し乍ら回転テーブル３を支承する。次に容器
１３が受皿１５の上方に来ると回転テーブル３は
停止して下降し前記計量動作と同じ作用の後上昇
し、以下動作をくり返して各割出位置で各容器１
３は被測定物と共に計量される。
被測定物を入れた容器１３を夫々差込む。次に扉
を閉じて始動ボタンを押すとリフトシリンダ１１
のロツド端は下降して、横架材９を介してリフト
６は下りローラ５に重力により追従して回転テー
ブル３は下降する。容器１３は回転テーブル１３
より離れて受皿１５に乗り秤量されその信号は検
出部１７にて電気信号に変換され、変調増幅回路
１９を介して記憶演算装置２１に記憶され必要に
より記録表示装置２２により記録表示される。続
いて記憶演算装置２１より機器制御装置２４に信
号は送られ、リフトシリンダ１１のロツドは上昇
して横架材９を介してリフト６は上昇し回転テー
ブル３はローラ５を介して持上げられ上昇端に達
すると検出部１７の電気信号の消勢を受けて変調
増幅回路１９、記憶演算装置２１を介して機器制
御装置２４により電動機４は回転割出しを行ない
回転テーブル３は割出される。その際ローラ５が
回転し乍ら回転テーブル３を支承する。次に容器
１３が受皿１５の上方に来ると回転テーブル３は
停止して下降し前記計量動作と同じ作用の後上昇
し、以下動作をくり返して各割出位置で各容器１
３は被測定物と共に計量される。
以上の動作により各被測定物の当初の水分を含
んだまゝの重量が計量記憶され、必要により記録
表示される。これらの被測定物を最初に計量する
動作は、予め一定量の試料として被測定物が容器
に投入されているときは省略可能である。これが
終ると記憶演算装置２１より高周波制御装置２３
に信号は送られ高周波発生装置１０のアンテナ１
より高周波の電波が発射される。同時に撹拌羽根
２は回転し、記憶演算装置２１より機器制御装置
２４を介して電動機４は附勢され連続回転し、回
転テーブル３は回転する。被測定物は高周波誘電
作用により発熱し乾燥が行われる。一定時間の
後、記憶演算装置２１よりの信号により機器制御
装置２４を介して電動機４は消勢され、回転テー
ブル３は割出位置にて停止し、リフトシリンダ１
１のロツドは下り回転テーブル３は下降して、容
器１３は受皿１５上に乗り計量され、計量値は検
出部１７にて電気信号として出力され、変調増幅
回路１９により変調増幅され、記憶演算装置２１
に送られた信号は記憶演算され、必要により記録
表示装置２２に送られた信号によりその時点の水
分の減少量、減少割合が記録表示される。該演算
終了後に機器制御装置２４に信号は送られ、機器
制御装置２４によりリフトシリンダ１１は上方に
向つて附勢され、そのロツド端は横架材９を介し
てリフト６を上昇せしめてローラ５を介して回転
テーブル３は持上げられ、容器１３は孔１２に収
納され容器１３と受皿１５の縁は切れる。検出部
１７の検出値が零なることが確認されると電動機
４は附勢され割出しを行ない回転テーブル３は割
出される。続いてリフトシリンダ１１は下方に附
勢され、回転テーブル３は下降して次の容器１３
は受皿１５上に乗り計量され記憶演算装置２１に
送られ必要により記録表示される。以下同様にし
て順次孔１２に納められた容器１３中の被測定物
の重量の変化が記憶され必要により記録表示され
る。回転テーブル３が一回転の割出終了後は再び
連続回転に移り更に一定時間後、回転テーブル３
に保持する容器１３中の被測定物重量は順次計測
される。同様にしてこれらがくり返される。容器
１３中の被測定物中の水分は始めよりしばらくし
て急速に水分が減少し始め次第に水分の減少の割
合が少くなつて行く。以上の過程において記憶演
算装置２１では水分の変化率△Ｗ／△Ｔが計量の
都度計算され△Ｗ／△Ｔ＝０あるいは△Ｗ／△Ｔ
≒０となると水分の含有量Wo−Wn／Woあるいは Wo−Wn／Wnが計算され記録表示され、同時に高周 波制御装置２３に信号は送られ高周波制御装置２
３により高周波発生装置１０は消勢され、アンテ
ナ１よりの高周波電波は放射されなくなる。最終
計量後は回転テーブル３は上昇して原位置に戻つ
ている。
んだまゝの重量が計量記憶され、必要により記録
表示される。これらの被測定物を最初に計量する
動作は、予め一定量の試料として被測定物が容器
に投入されているときは省略可能である。これが
終ると記憶演算装置２１より高周波制御装置２３
に信号は送られ高周波発生装置１０のアンテナ１
より高周波の電波が発射される。同時に撹拌羽根
２は回転し、記憶演算装置２１より機器制御装置
２４を介して電動機４は附勢され連続回転し、回
転テーブル３は回転する。被測定物は高周波誘電
作用により発熱し乾燥が行われる。一定時間の
後、記憶演算装置２１よりの信号により機器制御
装置２４を介して電動機４は消勢され、回転テー
ブル３は割出位置にて停止し、リフトシリンダ１
１のロツドは下り回転テーブル３は下降して、容
器１３は受皿１５上に乗り計量され、計量値は検
出部１７にて電気信号として出力され、変調増幅
回路１９により変調増幅され、記憶演算装置２１
に送られた信号は記憶演算され、必要により記録
表示装置２２に送られた信号によりその時点の水
分の減少量、減少割合が記録表示される。該演算
終了後に機器制御装置２４に信号は送られ、機器
制御装置２４によりリフトシリンダ１１は上方に
向つて附勢され、そのロツド端は横架材９を介し
てリフト６を上昇せしめてローラ５を介して回転
テーブル３は持上げられ、容器１３は孔１２に収
納され容器１３と受皿１５の縁は切れる。検出部
１７の検出値が零なることが確認されると電動機
４は附勢され割出しを行ない回転テーブル３は割
出される。続いてリフトシリンダ１１は下方に附
勢され、回転テーブル３は下降して次の容器１３
は受皿１５上に乗り計量され記憶演算装置２１に
送られ必要により記録表示される。以下同様にし
て順次孔１２に納められた容器１３中の被測定物
の重量の変化が記憶され必要により記録表示され
る。回転テーブル３が一回転の割出終了後は再び
連続回転に移り更に一定時間後、回転テーブル３
に保持する容器１３中の被測定物重量は順次計測
される。同様にしてこれらがくり返される。容器
１３中の被測定物中の水分は始めよりしばらくし
て急速に水分が減少し始め次第に水分の減少の割
合が少くなつて行く。以上の過程において記憶演
算装置２１では水分の変化率△Ｗ／△Ｔが計量の
都度計算され△Ｗ／△Ｔ＝０あるいは△Ｗ／△Ｔ
≒０となると水分の含有量Wo−Wn／Woあるいは Wo−Wn／Wnが計算され記録表示され、同時に高周 波制御装置２３に信号は送られ高周波制御装置２
３により高周波発生装置１０は消勢され、アンテ
ナ１よりの高周波電波は放射されなくなる。最終
計量後は回転テーブル３は上昇して原位置に戻つ
ている。
次に被測定物の性状は予め判明している場合は
該被測定物の乾燥の特性、即ち横軸に時間を竪軸
に水分の変化をとつた特性曲線を予め絶乾状態に
到るまでを記憶演算装置２１に記憶せしめてお
き、一定量の被測定物を容器１３に納めて孔１２
に収納し、回転テーブル３を降下させ容器１３を
受皿１５上にのせる。この状態で高周波発生装置
１０を附勢して被測定物の乾燥を行い、被測定物
は計量装置１４により連続計量され、検出部１７
より変調増幅回路１９を介して記憶演算装置２１
に送られ、時間経過に対する水分の変化が微分値
dW／dTとして計算され、記憶演算装置２１に記
憶されたデータと比較して一定範囲の微分値
dW／dTの一致をもつて絶乾状態までの水分減少
を外延計算して水分の含有量が計算される。記録
表示装置２２は印字記録装置でもよいが、オツシ
ログラフが適することになる。この場合において
は回転テーブル３は回転しない。
該被測定物の乾燥の特性、即ち横軸に時間を竪軸
に水分の変化をとつた特性曲線を予め絶乾状態に
到るまでを記憶演算装置２１に記憶せしめてお
き、一定量の被測定物を容器１３に納めて孔１２
に収納し、回転テーブル３を降下させ容器１３を
受皿１５上にのせる。この状態で高周波発生装置
１０を附勢して被測定物の乾燥を行い、被測定物
は計量装置１４により連続計量され、検出部１７
より変調増幅回路１９を介して記憶演算装置２１
に送られ、時間経過に対する水分の変化が微分値
dW／dTとして計算され、記憶演算装置２１に記
憶されたデータと比較して一定範囲の微分値
dW／dTの一致をもつて絶乾状態までの水分減少
を外延計算して水分の含有量が計算される。記録
表示装置２２は印字記録装置でもよいが、オツシ
ログラフが適することになる。この場合において
は回転テーブル３は回転しない。
以上の実施例では回転テーブル３がリフトシリ
ンダ１１により上下動する如くになつているが、
これは又リフトシリンダ１１をなくして回転テー
ブル３は回転割出のみを行つて計量装置１４を上
下動可能に装着してもよく、計量時容器１３は受
皿１５により持上げられることなる。
ンダ１１により上下動する如くになつているが、
これは又リフトシリンダ１１をなくして回転テー
ブル３は回転割出のみを行つて計量装置１４を上
下動可能に装着してもよく、計量時容器１３は受
皿１５により持上げられることなる。
以上のとおり、この発明によれば被測定物は急
速に乾燥するのでその水分減少率△Ｗ／△Ｔある
いは微分値dW／dTの変化は急速にとらえられ短
時間で被測定物中の水分は測定されることになり
被測定物の連続処理工程に供給される被測定物の
水分を適時に計量して連続処理工程の制御を改善
することができる。高周波誘電乾燥であるので熱
効率は極めてよく、又被測定物の重量、形状は一
定でなくともよく又その量も或る範囲において測
定時間、測定精度に関係が極めて少いので試料と
して特に一定量を採取する必要がない。又予め性
状の判明している被測定物の水分を知るにはその
試料重量を一定にしさえすればより速かに測定が
終る。
速に乾燥するのでその水分減少率△Ｗ／△Ｔある
いは微分値dW／dTの変化は急速にとらえられ短
時間で被測定物中の水分は測定されることになり
被測定物の連続処理工程に供給される被測定物の
水分を適時に計量して連続処理工程の制御を改善
することができる。高周波誘電乾燥であるので熱
効率は極めてよく、又被測定物の重量、形状は一
定でなくともよく又その量も或る範囲において測
定時間、測定精度に関係が極めて少いので試料と
して特に一定量を採取する必要がない。又予め性
状の判明している被測定物の水分を知るにはその
試料重量を一定にしさえすればより速かに測定が
終る。
高周波誘電乾燥で被測定物自体が発熱乾燥する
ためその炉体内隔壁下を通風冷却してもよく、炉
体内に重量の検出装置を備えるのが容易である。
又二種以上の水分を含む材料を混合する場合には
回転テーブルを備えた高周波誘電乾燥炉により、
夫々の材料を各容器に納めて回転テーブルに装着
することにより同時に水分を計量することもでき
る。
ためその炉体内隔壁下を通風冷却してもよく、炉
体内に重量の検出装置を備えるのが容易である。
又二種以上の水分を含む材料を混合する場合には
回転テーブルを備えた高周波誘電乾燥炉により、
夫々の材料を各容器に納めて回転テーブルに装着
することにより同時に水分を計量することもでき
る。
第１図はこの発明の高周波誘電乾燥測定装置の
略断面図、第２図は第１図の制御を示すブロツク
線図である。 １……電極アンテナ、３……回転テーブル、４
……電動機、５……ローラ、６……リフト、７…
…炉体、８……案内、９……横架材、１０……高
周波発生装置、１１……リフトシリンダ、１２…
…孔、１３……容器、１４……計量装置、１６…
…連結杆、１７……検出部、１８……隔壁、１９
……変調増幅回路、２１……記憶演算装置、２２
……記録表示装置、２３……高周波制御装置、２
４……機器制御装置。
略断面図、第２図は第１図の制御を示すブロツク
線図である。 １……電極アンテナ、３……回転テーブル、４
……電動機、５……ローラ、６……リフト、７…
…炉体、８……案内、９……横架材、１０……高
周波発生装置、１１……リフトシリンダ、１２…
…孔、１３……容器、１４……計量装置、１６…
…連結杆、１７……検出部、１８……隔壁、１９
……変調増幅回路、２１……記憶演算装置、２２
……記録表示装置、２３……高周波制御装置、２
４……機器制御装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 予め水分含有量の異なる被測定物としての対
象群の各々について絶乾状態に到るまで高周波誘
電加熱乾燥を行いつつ被測定物重量を連続あるい
は間欠連続で経過時間の計測と併せて自動計量を
行なうことにより被測定物としての対象群の各々
の時間経過に対する水分減少量の変化の関係及び
当初水分含有量を記録し、次に同加熱を行ない被
測定物が絶乾状態となる以前に時間変化に対する
水分減少量の変化を知ることにより前記被測定物
としての対象群についての時間変化に対する水分
減少量の変化関係と比較し被測定物の水分含有量
を測定する高周波誘電乾燥水分測定法。 ２ 被測定物の乾燥を真空あるいは減圧下におい
て行う特許請求の範囲第１項記載の高周波誘電乾
燥水分測定法。 ３ 計量値を電気出力に変換し、変調増幅して時
間と共に記憶させ、時間変化に対する水分減少量
の微分値を演算処理し、微分値の変化により乾燥
状態を知る回路を設けたる特許請求の範囲第１項
記載の高周波誘電乾燥水分測定法。 ４ 高周波発生装置及び炉体内に高周波誘電を行
う電極を備え該電極による誘電作用を受ける位置
に被測定物の容器の保持構造を備え、その下方に
係合可能に該容器の重量の計量装置を備えたる高
周波誘電乾燥水分測定装置において、計量装置に
計量値を電気出力する検出部を備え、予め被測定
物としての対象群の各々についての高周波加熱に
よる時間変化に対する水分減少量の変化を記憶さ
れており、該電気出力を変調増幅して時間変化に
対する被測定物の水分減少量の変化を含む記憶演
算をなし、この水分減少量の変化から被測定物が
絶乾状態となる以前に被測定物の当初水分含有量
の演算を行う演算装置と該演算装置の指令により
制御される高周波制御、機器制御装置と記録表示
装置を備えたる高周波誘電乾燥水分測定装置。 ５ 上下動及び割出回転可能な回転テーブルより
なる容器の保持構造を備えた特許請求の範囲第４
項記載の高周波誘電乾燥水分測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4958479A JPS55141654A (en) | 1979-04-21 | 1979-04-21 | Moisture measuring method using high-frequency dielectric drying and its apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4958479A JPS55141654A (en) | 1979-04-21 | 1979-04-21 | Moisture measuring method using high-frequency dielectric drying and its apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55141654A JPS55141654A (en) | 1980-11-05 |
| JPS638416B2 true JPS638416B2 (ja) | 1988-02-23 |
Family
ID=12835258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4958479A Granted JPS55141654A (en) | 1979-04-21 | 1979-04-21 | Moisture measuring method using high-frequency dielectric drying and its apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55141654A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4522788A (en) * | 1982-03-05 | 1985-06-11 | Leco Corporation | Proximate analyzer |
| JPH03100439A (ja) * | 1989-09-14 | 1991-04-25 | Chubu Electric Power Co Inc | マイクロ波加熱乾燥機制御方法 |
| EP1876431B1 (de) * | 2006-07-07 | 2013-08-21 | Mettler-Toledo AG | Messgerät zur gravimetrischen Feuchtigkeitsbestimmung |
| EP1876436A1 (de) * | 2006-07-07 | 2008-01-09 | Mettler-Toledo AG | Messgerät zur gravimetrischen Feuchtigkeitsbestimmung |
| CN106769749B (zh) * | 2016-11-11 | 2023-06-02 | 济南思克测试技术有限公司 | 多杯自动循环称重水蒸气透过率测试装置 |
| JP7801917B2 (ja) * | 2022-03-14 | 2026-01-19 | 株式会社エー・アンド・デイ | サンプルの性質判定方法およびそのための水分計 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5180057A (ja) * | 1975-01-08 | 1976-07-13 | Takeshi Kawai | Kansodohanbetsusochi |
| JPS51136490A (en) * | 1975-05-22 | 1976-11-25 | Toshiba Corp | Microwave moisture meter |
| JPS5433183U (ja) * | 1977-08-09 | 1979-03-05 |
-
1979
- 1979-04-21 JP JP4958479A patent/JPS55141654A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55141654A (en) | 1980-11-05 |
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